2.电沉积原理
金属电沉积理论2
金属电沉积理论2⑴.降低游离金属离子浓度,是平衡电位负移。
电位负移程度与金属络离子稳定性有关,络离子越稳定,则平衡电位负移越显著。
金属络离子稳定性由络合物不稳定常数K不表征,当电离平衡为:ML(n-km)=Mn++Lm-K不=[Mn+][Lm-]/[ML(n-km)]⑵.提高阴极还原的电化学极化。
金属络离子的界面反应历程,通常是先经过表面转化形成低配位数的表面络合物,如多核络离子或缔合离子,然后放电。
放电前配体的变换和配位数的降低涉及能量变化,导致还原所需活化能的升高,因而表现出比简单金属离子更大的电化学极化。
络合物对电化学极化的贡献取决于配体界面性质和不稳定常数两个因素。
当配体具有对电极过程起阻化作用的性质时,K不越小的配体转化所须的活化能越大,则阴极极化增大效应越显著。
如配体对电极过程起活化作用则很难通过K 不来预测阴极极化效果。
络合剂具有选择性。
根据软硬酸碱的原理,形成络合物的稳定性服从"软亲软,硬亲硬"的规律。
金属离子和配体分别当作广义碱时的软硬划分可以软硬势标镀为据。
金属的电子构型对络合物的影响较大。
满d壳层的d10类金属(如Cd,Sn,Pb,Cu,Zn,Ag等),一般只能形成活性络合物,可选用络合能力很强的络合剂。
d6,d8,d13等类金属(如Fe,Co,Ni,Cr等),与K不小的配体移形成惰性络合物而难以还原析出。
金属离子浓度提高时,界面浓度与交换电流均相应增加,一般会降低电化学极化,故无论在单盐还是络盐溶液中提高金属离子浓度,都具有减小形核率并伴随着镀层粗糙的趋势。
但浓度降低导致浓差极化增强,极限电流也随之下降。
3.游离络合剂游离酸存在于单盐溶液中,并依其含量高低可分为高酸度和低酸度两类镀液。
在高酸度镀液中,游离酸能在一定程度上提高阴极极化,并防止主盐水解或氧化,提高镀液电导率。
但游离酸浓度过高时,主盐溶解度下降,浓差极化趋势增强。
低酸度镀液中,游离酸浓度过低易引起主盐水解或发生沉淀;过高则导致大量析氢,电流效率下降。
电化学第九章金属的电沉积过程
添加剂的影响
添加剂可以改变溶液的电导率、界面张力和金属离子的还原过程,从而影响电沉 积过程。
常用的添加剂包括络合剂、缓冲剂、表面活性剂等。
温度的影响
温度可以影响电沉积过程的反应速率和产物形貌,通常随着温度的升高,电沉积速率加快。
但温度过高可能导致析出金属结构松散和溶液中气体的大量析出。
04
CATALOGUE
总结词
镀镍是一种具有优良防腐蚀性能的金属 电沉积技术,具有较低的孔隙率和较高 的硬度和耐磨性。
VS
详细描述
镀镍层呈银白色,具有良好的抗腐蚀和抗 磨损性能,广泛应用于电子、电力、石油 化工和航空航天等领域。在镀镍过程中, 应控制电流密度、电镀液成分和温度等参 数,以确保获得高质量的镀层。
镀金
总结词
镀金是一种具有优良导电性能和抗氧化性能 的金属电沉积技术,具有美观的外观和良好 的延展性。
电化学第九章金属 的电沉积过程
目录
• 电沉积过程的基本原理 • 金属电沉积的种类与特性 • 电沉积过程的影响因素 • 电沉积的应用领域 • 电沉积技术的发展趋势与展望
01
CATALOGUE
电沉积过程的基本原理
电沉积的定义
总结词
电沉积是指通过在电解液中施加电流,使金属离子还原并沉积在阴极表面上的过程。
03
CATALOGUE
电沉积过程的影响因素
金属离子的影响
金属离子浓度
金属离子浓度越高,电沉积速率越快,但过高的浓度可能导致析 出金属颗粒粗大。
络合剂
络合剂可以控制金属离子的水解和聚合,从而影响电沉积过程。
金属离子的电荷和半径
金属离电沉积过程。
流电沉积和脉冲电沉积。
电沉积的物理化学基础
金属的电沉积
金属电沉积的基本原理就是关于成核和结晶生长的问题金属的电沉积是通过电解方法,即通过在电解池阴极上金属离子的还原反应和电结晶过程在固体表面生成金属层的过程。
其目的是改变固体材料的表面性能或制取特定成分和性能的金属材料。
金属电沉积应用的领域也很广泛,通常包括电冶炼、电精炼、电铸和电镀四个方面,它的这些应用使其受到了越来越多的关注,因此,研究并掌握电沉积过程的基本规律变得尤为重要。
金属沉积的阴极历程,一般由以下几个单元步骤串联组成:(1)液相传质:溶液中的反应粒子,如金属水化离子向电极表面迁移。
(2)前置转化:迁移到电极表面附近的反应粒子发生化学转化反应,如金属水化离子水化程度降低和重排;金属络离子配位数降低等。
(3)电荷传递:反应粒子得电子,还原为吸附态金属原子。
(4)电结晶:新生的吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置(生长点)进入金属晶格生长,或与其他新生原子聚集而形成晶核并长大,从而形成晶体。
上述各个单元步骤中反应阻力最大、速度最慢的步骤则成为电沉积过程的速度控制步骤。
不同的工艺,因电沉积条件不同,其速度控制步骤也不同。
1.2 金属电沉积过程的特点电沉积过程实质上包括两个方面,即金属离子的阴极还原(析出金属原子)的过程和新生态金属原子在电极表面的结晶过程(电结晶)。
前者符合一般水溶液中阴极还原过程的基本规律,但由于电沉积过程中,电极表面不断生成新的晶体,表面状态不断变化,使得金属阴极还原过程的动力学规律复杂化;后者遵循结晶动力学的基本规律,但以金属原子的析出为前提,又受到阴极界面电场的作用。
因而二者相互依存、相互影响,造成了金属电沉积过程的复杂性和不同于其他电极过程的特点。
(1)与所有的电极过程一样,阴极过电位是电沉积过程进行的动力。
然而,在电沉积过程中,只有阴极极化达到金属析出过电位时才能发生金属离子的还原反应。
而且在电结晶过程中,在一定阴极极化下,只有达到一定的临界尺寸的晶核,才能稳定存在。
镍电沉积实验
镍电沉积实验(一)电沉积工艺条件—Hull 槽试验1.熟悉Hull槽试验的基本原理、实验操作和结果分析。
2.试验并了解添加剂糖精、苯亚磺酸钠、镍光亮剂XNF和十二烷基硫酸钠对电沉积光亮镍的影响。
电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
传统上电沉积金属的目的,一般是改变基底表面的特性,改善基底材料的外观、耐腐蚀性和耐磨损性。
现在,电沉积这一古老而又年轻的技术正日益发挥着其重要作用,已广泛应用于制备半导体、磁膜材料、催化材料、纳米材料等功能性材料和微机电加工领域中。
电沉积过程中,由外部电源提供的电流通过镀液中两个电极(阴极和阳极)形成闭合的回路。
当电解液中有电流通过时,在阴极上发生金属离子的还原反应,同时在阳极上发生金属的氧化(可溶性阳极)或溶液中某些化学物种(如水)的氧化(不溶性阳极)。
其反应可一般地表示为:阴极反应:M n++n e=M(1)副反应:2H++2e=H2(酸性镀液)(2)2H2O+2e=H2+2OH-(碱性镀液)(3)当镀液中有添加剂时,添加剂也可能在阴极上反应。
阳极反应:M–n e=M n+(可溶性阳极)(4)或2 H2O –4 e = O2+ 4 H+ (不溶性阳极,酸性) (5)镀液组成(金属离子、导电盐、配合剂及添加剂的种类和浓度)和电沉积的电流密度、镀液pH值和温度甚至镀液的搅拌形式等因素对沉积层的结构和性能都有很大的影响。
确定镀液组成和沉积条件,使我们能够电镀出具有所要求的物理-化学性质的沉积层,是电沉积研究的主要目的之一。
镍电沉积层在防护装饰性和功能性方面都有广泛的应用。
大量的金属或合金镀层如Cr、Au及其合金、Sn及其合金、枪黑色Sn-Ni合金、CdSe合金等都是在光亮的镍镀层上电沉积进行的。
在低碳钢、锌铸件上沉积镍,可保护基体材料不受腐蚀,并可通过抛光或直接电沉积光亮镍达到装饰的目的。
在被磨损的、腐蚀的或加工过度的零件上进行局部电镀镍,可对零件进行修复。
电沉积和电泳
电沉积和电泳
电沉积(Electroplating)和电泳(Electrophoresis)是两种与电化学过程相关的技术,它们用于在材料表面或液体中分离、涂覆或分析物质。
以下是它们的简要介绍:
1. 电沉积(Electroplating):
-电沉积是一种将金属沉积到另一金属表面的电化学过程,以改善外观、耐腐蚀性、导电性和其他性能。
-这个过程涉及两个电极:阳极和阴极,它们分别连接到电源,然后浸入电解液中。
-金属离子从阳极释放,然后在阴极上还原并沉积在其表面,形成均匀、致密的金属涂层。
-电沉积常用于制造金属物品,如镀金、镀银、镀镍、镀铬、镀锌等,以改善它们的外观和性能。
2. 电泳(Electrophoresis):
-电泳是一种在电场中移动带电粒子(如蛋白质、DNA片段、RNA等)的技术,通常用于分离、分析和检测生物分子。
-过程涉及将带电粒子在电场中放置在凝胶或液体介质中,然后应用电压,使粒子根据其电荷和大小在电场中移动。
-在凝胶电泳中,质子或蛋白质根据其大小和电荷在凝胶中分离开来,从而实现分析和定量。
-电泳还有各种变体,如聚丙烯酰胺凝胶电泳、琼脂糖凝胶电泳、DNA电泳等,用于不同类型的生物分子分离和分析。
总之,电沉积和电泳是两种不同的电化学过程,分别用于在材料表面涂覆金属或在生物分析中分离带电粒子。
它们在不同应用领域中具有重要作用。
污水处理中的电沉积与金属回收
该技术适用于处理各种重金属离子,如铜、镍、锌等,具有较高的回收率和较低的 成本。
该厂通过优化电沉积工艺参数,提高了金属回收率和降低能耗,取得了良好的经济 效益和环境效益。
成功案例的经验总结
针对这一问题,该厂应加强设备维护 和保养,确保设备正常运行;同时优 化电沉积工艺参数,提高金属回收率 和降低能耗。
06
结论与建议
研究结论
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04
电沉积技术可以有效回收污水 处理中的重金属,如铜、镍、
锌等,实现资源化利用。
电沉积过程中,电流密度、电 解液成分和温度等因素对金属
回收率有显著影响。
选择合适的电沉积技术
根据废水中的金属种类和浓度,选择合适的电沉积技术和电极材料, 确保较高的金属回收率和较低的能耗。
优化工艺参数
通过实验和实际运行数据,不断优化电沉积的工艺参数,如电流密度 、电解液浓度、温度等,以提高金属回收率和降低能耗。
严格控制废水质量
确保进入电沉积系统的废水质量稳定,避免因水质波动导致金属回收 率下降或设备损坏。
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开展实际应用案例研究,将电沉积技术应用于大规模污水处理工程中 ,验证其可行性和经济效益。
THANKS
感谢观看
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物理法
利用金属的物理性质差异 进行分离,如重力、磁力 等。
化学法
通过化学反应使金属离子 还原成金属单质,如电解 、沉淀等。
生物法
利用微生物或酶的生物活 性进行金属回收,如生物 吸附、生物转化等。
金属回收在污水处理中的应用
1 2 3
电化学沉积技术-概述说明以及解释
电化学沉积技术-概述说明以及解释1.引言1.1 概述电化学沉积技术是一种利用电流在电解液中将金属离子沉积在电极表面的方法。
通过在电解液中施加外加电压,在正极上氧化产生金属离子,并在负极上还原形成金属沉积物。
这种技术可以实现对物质的精确控制,得到高纯度、均匀性好的薄膜或涂层。
电化学沉积技术在多个领域有着广泛应用。
首先,在电子工业中,电化学沉积技术可以用于电子元件的制备,如光学涂层、金属线路、电极和电容器等。
其次,在材料科学中,电化学沉积技术可用于合金材料的制备、纳米材料的合成和新型材料的研究。
此外,该技术还可应用于化学分析、电化学传感器、防腐蚀层的制备以及生物医学等领域。
电化学沉积技术具有许多优势。
首先,该技术制备的薄膜或涂层具有较高的纯度和均匀性,可实现微米或纳米级别的控制。
其次,与传统物理法相比,电化学沉积技术制备的材料成本较低,生产效率较高。
此外,该技术还具有较好的可控性和可重复性,可以在不同的条件下制备出不同性能的材料。
然而,电化学沉积技术也存在一些局限性。
首先,该技术对电解液的品质要求较高,需要使用纯度较高、稳定性较好的电解液。
其次,在大面积薄膜或涂层制备时,工艺参数的控制变得更加困难,影响材料的均匀性和质量。
此外,该技术还受制于电极材料和电流密度的限制,对于某些特殊材料的沉积可能存在困难。
未来,电化学沉积技术在材料科学和工业生产中具有广阔的应用前景。
随着纳米科技的发展和需求的增加,对于高性能、高纯度材料的需求也在不断增长。
电化学沉积技术作为一种制备优质薄膜和涂层的方法,将会在新能源、电子设备、医疗器械等领域发挥重要作用。
此外,结合其与其他制备技术的组合应用,例如电化学沉积与物理气相沉积的结合,也将进一步推动该技术的发展和应用。
1.2 文章结构文章结构部分应该对整篇文章的结构进行介绍和概述。
在本文中,我们将对电化学沉积技术进行深入的探讨和分析。
文章主要分为引言、正文和结论三个部分。
在引言部分,我们将概述电化学沉积技术的基本概念和原理,并介绍本文的目的和意义。
电泳原理
电泳原理阳极电泳用水溶性树脂是一种高酸值的羧酸盐,在水中溶解后以分子和离子平衡状态存在于直流电场中,通电后,由于两极的电位差,离子定向移动,阴离子沉积在阳极表面,而阳离子在阴极表面获得电子还原成胺,它是一个电化学反应,包括电泳、电解、电沉积和电渗四个同时进行的过程。
1.电泳:在直流电压作用下,分散在介质中的带电胶体粒子在电场作用下向与其所带电荷相反的电极方面移动,叫电泳。
2.电沉积:阴离子树脂放出电子沉积在阳极表面,形成不溶水的漆膜,此过程叫电沉积。
3.电渗:电泳逆过程,当阴离子树脂在阳极上,吸附在阳极上的介质在内渗力的作用下,从阳极穿过沉积的漆膜进入漆液,称电渗。
4.电解:电流通过漆液时水便发生电解阴极放出氢气,阳极放出氧气,此过程即为电解。
电泳涂料有人说,电泳涂料可划分为三代,第一代为环氧树脂涂料,第二代为丙烯酸树脂涂料,第三代为聚氨酯涂料。
由于环氧涂料主要应用于汽车底盘,第三代主要用于阴极电泳漆,涂覆于首饰表面,故目前主要介绍第二代,即丙烯酸树脂涂料。
此树脂如一团乱麻,羧基藏于里,胺基接于外,其中最先的羧基有 70%被胺基取代,因其树脂中存在 -COONHR,使树脂成为水溶性。
铝型材表面涂覆的丙烯酸树脂多采用胺基树脂为固化剂进行交联固化,同时,涂料分子均匀性对工艺操作有很大影响,一般说,乳化越好,分子越均匀。
涂装工艺流程1 .除油:如有酸回收装置,推荐采用碱性除油,因碱性除油后,铝型材表面比较光亮,且不会与后面的碱蚀发生副作用,如用碱性除油,其主要成份是Na2 CO3 和NaOH。
2 .水洗:自来水洗去前道工序的酸或碱。
3 .蚀:加入碱蚀剂的碱蚀工序,会降低型材表面光亮度,但效果并不十分明显,主要应注意不可使槽中Al 3 含量过大,温度过高,否则易产生洗不去的花斑,涂漆烘干后呈黄色。
二道水洗:最好有喷淋或加大溢流,以保证清洗彻底。
除灰:用 HNO 3 效果较好,但要注意加强水洗(最少二道+喷淋)。
电沉积实验
镍电沉积实验摘要:电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
电沉积镍的效果与溶液中镍离子的浓度、添加剂与缓冲剂的种类和浓度、pH、温度及所使用的电流密度、搅拌情况等因素有关。
本实、电流效率η、镀层厚度验主要研究温度在65~85℃范围变化时,镍沉积量WNiL、沉积速率等一系列物理量的相关变化。
关键词:电沉积镍;电流效率;沉积速率AbstractElectrodeposition using electrolytic method on conductive substrates deposited on the surface of a layer having a desired shape and properties of the deposited metal process. Electrodeposition of nickel and nickel ion concentration in the solution, additives and buffer type and concentration, pH, temperature and the use of current density, agitation and other factors. This experiment mainly studies the temperature at 65~85 ℃range, nickel deposition W Ni, current efficiency η,deposition rate, deposit thickness L and a series of physical quantity related changes. Keywords:Electrodeposition of nickel;Current efficiency;deposition rate前言电沉积是用电解的方法在导电基底的表面上沉积一层具有所需形态和性能的金属沉积层的过程。
电泳工艺简介
电泳工艺简介
1.机理:电泳涂装过程伴随电解、电泳、电沉积、电渗四种现象。
2.电解:导电液体在通电时产生分解的现象;
3.电泳:导电介质中,带电胶体里自首电厂影响向相反电极移动的现象。
4.阴极电泳:带正电荷的胶体树脂粒子和颜料粒子移向阴极;
5.电沉积:电泳漆粒子在电极上沉积;电沉积的第一步是水的化学分解,在
阴极上形成氢气和氢氧根离子,然后阳离子即树脂和颜料与氢氧根离子反应形成不容物质产生涂膜沉积。
6.电渗:涂膜内所含的水分从涂膜中渗析出来,使涂膜脱水。
7.电极上的反应过程:
阴极:H2O→H2↑+OH-
粘合剂+H++OH-→化合物
化合物析出凝固
阳极:H2O→O2↑+H+
酸根+H+→游离酸
通过渗析系统排出
8.阳极系统:阳极附近酸根离子的富集会使电泳漆不稳定,而且会腐蚀阳极板,要及时清除。
9.阳极系统工作原理:用阳极膜将阳极板与电泳漆隔离,建立一个独立的循环系统,用去离子水将酸根离子带出。
电沉积
电沉积是指简单金属离子或络合金属离子通过电化学途径在材料表面形成金属或合金镀层的过程。
电沉积的应用范围广泛,在材料科学技术(一级学科);材料科学技术基础(二级学科);材料合成、制备与加工(二级学科);表面改性和涂层技术(二级学科)等学科中都有研究。
电沉积主要分为两个方面,分别是;(一)金属或合金从其化合物水溶液、非水溶液或熔盐中电化学沉积的过程;(二)电泳涂漆中的一个过程,在直流电场作用下带电荷的树脂粒子到达相反电极,通过放电(或得到电子)析出不溶于水的漆膜沉积在被涂物表面。
对电沉积现象的研究主要分为两个方面,分别是对电沉积形态的研究和对电沉积引起的晶格畸变的研究。
对电沉积形态的研究主要有电沉积中结晶形态控制技术[1]与合金薄层电沉积形态研究[2]等。
前者将分形几何引入到电化学中,基于DLA模型,通过将沉积粒子设置不同的沉积几率,成功模拟了射流电沉积中枝晶的可控交织生长,后者以铅锡合金为例,研究铅锡合金薄层电沉积物的形态及其形态随电解液含不同铅锡离子浓度的转变。
对电沉积引起的晶格畸变现象的研究,包括电沉积引起的位错现象与电沉积引起的孪晶现象的研究。
在电沉积过程中,不同工艺操作条件会使金属镀层产生内应力,同时产生大量位错[3]。
在电沉积的过程中也会产生孪晶。
分析表明,孪晶现象的产生会提高金属的力学能力,产生高强度金属材料[4-6]。
对电沉积的应用有电镀、电沉积塑性等。
其中,电沉积银在工业中得到了广泛的应用。
对电沉积银的研究包括对电沉积银的生长过程研究[7]、以及使用电沉积法制备新型发泡银催化剂[8]。
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电沉积理论
一.研究概况
在电化学中,金属的电化学沉积学是一种最古老的学科。在电场的作用下,金属的电沉积发生在电极和电解质溶液的界面上,沉积过程含有相的形成现象。
首先,在金属的电化学沉积实验的研究时间要追溯到19世纪,并且在引进能产生直流电的电源以后,电镀很快成为一种重要的技术。电镀被用来制造各种不同的装饰性和功能性的产品,尽管在开始的早期,电镀技术的发展和应用建立是在经验的基础上。
20世纪60年代初,Flischman和Thirsh发展了在电结晶状态下多重成核与生长的一般理论,后来Armstrong和Harrason建立和完善了电化学多重成核及
20世纪二三十年代,Max、Volmer等人对电化学结晶进行了更为广泛的基础研究。Erday-gruz和Volmer是第一次认识到过饱和度与过电位,稳态电流密度和由电荷转移引起的电结晶过电位之间的关系。
20世纪三四十年代,Finch和他的同事做了大量的关于多晶电化学沉积的实验,研究了决定结晶趋向与金属薄膜的组织结构的主要因素。在这一时期,
金属电沉积的基本原理就是关于成核和结晶生长的问题。1878年,Gibbs在他的著名的不同体系的相平衡研究中,建立了成核和结晶生长的基本原理和概念。20世纪初,Volmer、Kossel、Stransko、Kaischew、Becker和Doring用统计学和分子运动模拟改进了基本原理和概念。按照这些早期的理论,成核步骤不仅要求一个新的三维晶体成核,而且完美单晶表面的层状二维生长。对于结晶理论的一个重要改进是由Avrrami提出的结晶动力学,他认为在成核和生长过程中有成核中心的重复碰撞和相互交迭。在1949年,Frank提出在低的过饱和状态下的一个单一晶面成长会呈螺旋状生长。Cabrera和Frank等考虑到在成长过程中吸附原子的表面表面扩散作用,完善了螺旋成核机理。
第二章 金属电沉积
2 CN −
=
K 不 (0 .4 −
x) /12
=
6 . 4 × 10 − 23 mol
/L
由此可见,游离Ag+离子浓度是如此之小,以至于一 般情况下可以忽略不计。
按上面计算结果,有络合剂时的平衡电位应为:
ϕ = ϕ 0 + 0.0591/ n log x = 0.779 + 0.0591log 6.4 ×10−23 = −0.533V e
[Ag(CN)3]2Ag(NH3)2+
[Zn(NH3)2OH]2+
CCN-<0.05M时 Cd(CN)2
CCN->0.05M时 Cd(CN)3-
CCN->0.1M时 AgCN
CCN->0.2M时 Ag(CN)2-
Ag(NHLeabharlann )2+212.3 金属电结晶及电结晶过程的动力学
金属电结晶的基本概念 定义:通常把金属离子或络离子的放电并形成金属晶体的过
17
因此,在氰化物溶液中,银离子以银氰络离子形 式存在时,电极平衡电位移动了(-0.533—0.756)V= -1.289V。
从上面的例子可看出,络合物稳定常数越大,平 衡电位负移越多。而平衡电位越负,金属阴极还原 的初始析出电位也越负。
18
对于金属络离子的阴极还原过程,过去认为是 络离子总先解离成简单离子,然后简单离子再在阴 极上还原。
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
电化学原理-第九章节-金属的电沉积过程
电镀金和银广泛应用于珠宝、饰品、电子等领域,作为装饰材料 和导电材料。
金和银电镀的优缺点
金和银电镀具有高贵典雅的外观和良好的导电性,但成本较高, 且银易氧化变色。
电镀镍和钴
镍和钴的电沉积原
理
通过电解液中的镍或钴离子在阴 极上还原成金属单质,实现镍或 钴的电沉积。
应用场景
电镀镍和钴广泛应用于汽车、机 械、航空航天等领域,作为防护 涂层和耐磨涂层。
络合剂
02
03
阴离子
络合剂的存在可以稳定金属离子, 影响其在电极表面的沉积行为。
阴离子的种类和浓度也会影响金 属的电沉积过程,例如氯离子可 以促进金属的沉积。
电极的材质和表面状态
电极材质
不同电极材料的电化学性质不同,会影响金 属的沉积过程。
电极表面粗糙度
电极表面粗糙度对金属的电沉积过程有显著 影响,粗糙度越高,电沉积速率越快。
镍和钴电镀的优缺
点
镍和钴电镀具有优良的耐磨、耐 腐蚀性能,但镍易形成氢脆,钴 价格较高。
07
电沉积的未来发展
高性能电沉积材料的开发
总结词
随着科技的不断进步,高性能电沉积材料的开发已成为未来发展的重要方向。
详细描述
目前,科研人员正在研究新型的高性能电沉积材料,如纳米材料、合金材料等, 这些材料具有更高的强度、硬度、耐腐蚀性和导电性等特性,能够满足更广泛的 应用需求。
在这个过程中,电流通过电解液中的 离子传输到电极上,并在电极上还原 成金属原子,这些原子随后在电极表 面沉积形成金属层。
金属电沉积的应用
在电子制造中,金属电沉积被用 于制造导线和电路板,以及在半 导体器件上形成金属电极。
在电镀中,金属电沉积可用于将 金属涂层沉积到各种基材上,如 钢铁、铜、铝等,以提高其美观 性和耐久性。
电沉积法的原理
电沉积法的原理
电沉积法的原理
电沉积法是利用电流在液体中的电化学作用,将溶质从原液中沉积到电极上的一种技术。
简单地说,它是一种将溶质从溶液中沉积到电极上的方法。
电沉积法是一种简便、灵活、可控的沉积方式,它可以将低浓度溶质沉积到电极上,从而获得高浓度的沉积物。
电沉积法的基本原理是电化学反应。
它是通过将电解质溶液中的正负离子迁移到电极表面,从而产生电化学反应来实现沉积的。
电沉积法的流程包括:溶液准备、沉积电位设定、沉积电流设定、沉积时间设定和沉积净化。
电沉积法与其他沉积技术相比具有许多优势,它可以在短时间内实现快速沉积,沉积结构致密,晶体尺寸均匀,耐腐蚀性高,可以在短时间内实现大量沉积,并且可以控制沉积的厚度和形态。
电沉积法的应用非常广泛,可以用于制备金属薄膜、氧化物薄膜、纳米晶体薄膜等材料,也可以用于制备纳米结构、微纳米器件、芯片封装等微结构。
电沉积法是一种简便、灵活、可控的沉积方式,可以用来制备多种材料,具有广泛的应用前景。
第二章 金属电沉积
如:1 M ZnSO4 、0.2 M Pb(NO3)2 中所得镀层不 致密,结晶粗大。
2. 电化学极化较大的金属体系 当铁、钴、镍等金属从硫酸盐或氯化物中电沉积时,
它们的交换电流密度都很小。 如: 1M FeSO4 、NiSO4 中所得的镀层致密。
14
铑
高交换电流密度金属 中交换电流密度金属 低交换电流密度金属
22
自电化学暂态测量方法出现以来,采用暂态可减少浓差 极化,使电极表面变化轻微,或用液体电极撇开结晶过程, 如此,才对电结晶过程有了一个较统一的认识。目前,电结 晶的研究理论与实践仍有很大差距,而由于多种综合因素的 影响使其在解决电化学结晶的实际问题时,现有理论还不能 很好的解释。
23
2.3.1 电结晶历程
(2)电极表面溶液层中金属离子水化数降低、水化层发 生重排,使离子进一步靠近电极表面,过程表示为:
M 2+.mH2O − nH2O → M 2+.(m − n)H2O
(3) 部 分 失 水 的 离 子 直 接 吸 附 于 电 极 表 面 的 活 化 部 位,并借助于电极实现电荷转移,形成吸附于电极 表面的水化原子,过程表示为:
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
x
=
K a / a 不
A g ( CN ) + 2
第二章 金属电沉积
1
2 .1 金属离子还原的可能性
法拉第电沉积定律公式
法拉第电沉积定律公式法拉第电沉积定律是电化学领域中的重要定律,它对于理解和研究电化学反应过程中的物质沉积有着关键的作用。
先来说说这法拉第电沉积定律到底是啥。
简单来讲,它描述了通过一定电量时,电极上发生化学反应所沉积或溶解物质的质量与通过的电量成正比。
这定律包括两个部分,一个是法拉第第一定律,另一个是法拉第第二定律。
法拉第第一定律说的是,在电极上发生化学反应的物质的质量与通过的电量成正比。
比如说,咱们给一个电极通上一定量的电,如果通过的电量越多,那么在这个电极上沉积或者溶解的物质就越多。
这就好比你去超市买东西,你带的钱越多,能买到的东西就越多。
法拉第第二定律则进一步说明了,当相同的电量通过不同的电解质溶液时,在电极上沉积或溶解的不同物质的物质的量与它们的化学当量成正比。
这个有点绕,咱们打个比方。
假设你有两个不同的存钱罐,一个大一个小,但是你往里面放同样多的硬币,大存钱罐能装下的硬币数量肯定比小存钱罐多。
这就和不同物质在相同电量下的沉积或溶解情况类似。
还记得我之前带过的一个化学实验课。
那时候,学生们正准备亲自验证法拉第电沉积定律。
每个小组都兴致勃勃地摆弄着实验仪器,眼睛里满是好奇和期待。
有个小组的同学特别认真,他们仔细地调整着电流大小,记录着每一个数据的变化。
其中有个小男生,额头上都冒出了汗珠,还不停地跟同组的伙伴讨论着。
当实验结果逐渐接近理论值的时候,他们脸上露出的那种兴奋和自豪,真的让人难忘。
在实际应用中,法拉第电沉积定律可有着大用处。
比如说电镀,就是利用这个定律来控制镀层的厚度和质量。
想要镀出漂亮又均匀的金属层,就得好好掌握通过的电量和电镀液的成分。
还有电解精炼,通过精确控制电量,可以把不纯的金属变得更纯。
学习法拉第电沉积定律,不仅能帮助我们更好地理解化学中的电化学反应,还能在实际生活和工业生产中发挥大作用。
就像前面说的那些实验中的孩子们,当他们真正理解并掌握了这个定律,那种满足感和成就感是无法用言语来形容的。
2.电沉积原理
续
4。具有整平能力的镀液的特点 整平剂受扩散步骤控制 电沉积受电子转移步骤控制
第六节 镀液的整平作用 三。整平能力的测定
1。转盘电极法 δ =1.62D1/3ν 1/6ω -1/2 DL=0.62nFD2/3ν -1/6ω 1/2Co (1)D与ω 无关,D峰=D谷 ,几何整平 (2)ω ↑D↑, D峰> D谷 ,负整平 (3)ω ↑D↓, D峰< D谷 ,正整平 未考虑电流效率
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力 三。Fra bibliotek液分散能力的测量
1.
远近阴极法(称重法)
2.
K M T .P. 100 % K M 2 范围:100% ~ -100% 弯曲阴极法(测厚法)
B
T .P.
A
D
A
D
A
3
100%
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力 四。镀液的覆盖能力及测量
第三节 金属的电结晶 二、形核理论
二维平面生长理论 过电位控制晶体生长
第三节 金属的电结晶 三、螺旋位错生长理论
表面扩散步骤控制晶体生长
第三节 金属的电结晶 四、大电流时晶体的生长
电子转移步骤控制晶体生长
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力
Throw power: 使镀层在宏观轮廓面上均匀分布的能力 Cover power: 使工件的低凹处和孔腔内的表面沉积上 镀层的能力 镀层的分布与电流的分布和电流效率的 高低两方面因素有关
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力 一、电流在阴极上的分布
1、初次电流分布(无极化) I1 = V/R1 I2 = V/R2 I1 / I2 = R2 / R1 = L2 /L1 = K 只表示几何因素的影响 只适合极化很小的镀液
电沉积法的原理
电沉积法的原理
电沉积法是利用电流在电解液中的传导性,将金属离子从溶液中运送至电极表面,并以原子形式沉积在电极表面上的一种方法。
它是一种解决工业水处理、电化学制备、磁力学及有机合成等问题的有效技术。
电沉积法的原理是:当电极放入溶液中时,电解液中的金属离子会被电场吸引,然后被电流带到电极表面,在电极表面上沉积形成金属纳米粒子。
电流的强度会影响沉积的速率,而溶液的pH值也会影响沉积的速率。
如果电流强度越大,沉积速率也就越快;如果pH值越高,沉积速率也就越快。
金属电沉积理论
金属电沉积理论金属电沉积理论一.研究概况在电化学中,金属的电化学沉积学是一种最古老的学科。
在电场的作用下,金属的电沉积发生在电极和电解质溶液的界面上,沉积过程含有相的形成现象。
首先,在金属的电化学沉积实验的研究时间要追溯到19世纪,并且在引进能产生直流电的电源以后,电镀很快成为一种重要的技术。
电镀被用来制造各种不同的装饰性和功能性的产品,尽管在开始的早期,电镀技术的发展和应用建立是在经验的基础上。
金属电沉积的基本原理就是关于成核和结晶生长的问题。
1878年,Gibbs在他的著名的不同体系的相平衡研究中,建立了成核和结晶生长的基本原理和概念。
20世纪初,Volmer、Kossel、Stransko、Kaischew、Becker和Doring用统计学和分子运动模拟改进了基本原理和概念。
按照这些早期的理论,成核步骤不仅要求一个新的三维晶体成核,而且完美单晶表面的层状二维生长。
对于结晶理论的一个重要改进是由Avrrami提出的结晶动力学,他认为在成核和生长过程中有成核中心的重复碰撞和相互交迭。
在1949年,Frank提出在低的过饱和状态下的一个单一晶面成长会呈螺旋状生长。
Cabrera和Frank等考虑到在成长过程中吸附原子的表面表面扩散作用,完善了螺旋成核机理。
20世纪二三十年代,Max、Volmer等人对电化学结晶进行了更为广泛的基础研究。
Erday-gruz和Volmer是第一次认识到过饱和度与过电位,稳态电流密度和由电荷转移引起的电结晶过电位之间的关系。
20世纪三四十年代,Finch和他的同事做了大量的关于多晶电化学沉积的实验,研究了决定结晶趋向与金属薄膜的组织结构的主要因素。
在这一时期,Gorbunova还研究了底层金属与电解质溶液组成对电结晶过程的影响,并发现了由于有有机添加剂的吸附作用可能导致金属晶须的生长。
1945年,Kaischew对电结晶理论做了重大改进。
考虑到单一晶体表面上金属原子的结合和分开的频率,可利用分子运动学模拟电化学结晶过程。
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第二章 金属电沉积原理
金属离子还原的可能性 2. 获得金属镀层的可能性 影响因素 析出电位 与H+/H2 的析出电位的关系 电镀层的质量
1.
表1 金属离子电沉积的可能性
IA IIA III B IV B VB VI B VII B VIII IB IIB III A IV VA A VI A VII A
续
2。阳极溶出法
As Ar L.P. 100% As
Qs Qr L.P. 100% Qs
3。金相法
第五节 梯形槽的应用 三。梯形槽的改进
侧面开孔 带孔隔板 特那槽
第六节 镀液的整平作用 (Leveling Power)
1.
2.
可填平金属表面的微观粗糙(< 0.5mm) 由电流和金属在微观表面上的分布所决 定,又称为微观分散能力。 与宏观分散能力的差别: 峰谷等电位 扩散层沿外轮廓面的不均匀分布
第二节 金属沉积的电极过程 一、基本历程
液相传质 (电迁移,扩散,对流) 前置转换 (配位体转换,配位数、水化数降低) 电子转移 (形成吸附原子) 形成晶体 (表面扩散到生长点或形成晶核)
第二节 金属沉积的电极过程 二、金属离子放电的位置
晶面 棱边 扭结点 缺口 孔穴
二
Li
Be M g Ca Sc 红色区域:氰化物溶液中可以电沉积 红色和黄色区域:单盐水溶液中可以电沉积
B
C
N
O
F
三
Na
Al
Si
P
S
Cl
四
K
Ti
V
Cr
M n Tc
Fe
Co
Ni
Cu Zn Ga Ge
As
Se
Br
五
Rb
Sr
Y
Zr
Nb
M o
Ru Rh
Pd
Ag Cd
In
Sn
Te
Te
I
六
Cs
Ba
La
Hf
Ta
W
第二节 金属沉积的电极过程 三、电极反应与极化
1、单盐镀液中金属离子的还原 水化层的重排和水化数的降低 金属离子的还原 进入晶格
第二节 金属沉积的电极过程 三、电极反应与极化
2、络盐镀液中金属离子的还原 配位体转换 配位数降低 电子转移 进入晶格
第二节 金属沉积的电极过程 三、电极反应与极化
Re
Os
Ir
Pt
Au Hg
Tl
Pb
Bi
Po
At
第一节 电镀溶液 一、组成
1. 2. 3. 4. 5. 6.
主盐 络合物 导电盐 缓冲剂 阳极活化剂 添加剂(细化晶粒、整平、润湿等)
第一节 电镀溶液 二、类型
1、单盐镀液(水合离子) io 小,结晶细致,添加剂可起到整平和 光亮作用 io 大,结晶粗糙疏松,必须加入添加剂 才可获得结晶细致的镀层 2、铬酸镀液(Cr2O72- 和CrO42- 离子)
析出电位 基体材料的性质 析氢过电位增大 Pt,Pd,Ni,Fe,Ag,Cu,Zn,Sn,Hg,Cd,Pb 金属析出过电位增大 基体材料的表面状态
续
测量方法 1. 直角阴极法 适用于镀铬液 2. 内孔法 适用于覆盖能力好的镀液 3. 凹穴法
第五节 梯形槽的应用 一。梯形槽阴极上的电流分布
第一节 电镀溶液 二、类型
3、络合物镀液(络离子) 氰化物镀液 氢氧化物(羟基络合物)镀液 焦磷酸盐镀液 柠檬酸盐镀液 酒石酸盐镀液 (络合剂的游离量)
第一节 电镀溶液 二、类型
Zn2+,[Zn(NH3)4]2+,[Zn(CN)4]2 φo(Zn2+/Zn)= -0.763V φo{[Zn(CN)4]2-/Zn}=φo(Zn2+/Zn) (0.05916/2)lgK{[Zn(CN)4]2-}= -1.26V φo{[Zn(NH3)4]2+/Zn}= -1.03V
续
4。具有整平能力的镀液的特点 整平剂受扩散步骤控制 电沉积受电子转移步骤控制
第六节 镀液的整平作用 三。整平能力的测定
1。转盘电极法 δ =1.62D1/3ν 1/6ω -1/2 DL=0.62nFD2/3ν -1/6ω 1/2Co (1)D与ω 无关,D峰=D谷 ,几何整平 (2)ω ↑D↑, D峰> D谷 ,负整平 (3)ω ↑D↓, D峰< D谷 ,正整平 未考虑电流效率
1000mL Dk = I (3.2557-3.0451 lgL) 267mL Dk = I (5.1019-5.2401 lgL) 250mL Dk = 1.0680 I (5.1019-5.2401 lgL)
第五节 梯形槽的应用 二。梯形槽试验
电流:一般1A;光亮2A;镀铬5A 时间:5~10分 范围:0.64~8.26cm;2.5~3.5cm 也可用于计算T.P.(测量厚度)
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力 三。镀液分散能力的测量
1.
远近阴极法(称重法)
2.
K M T .P. 100 % K M 2 范围:100% ~ -100% 弯曲阴极法(测厚法)
B
T .P.
A
D
A
D
A
3
100%
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力 四。镀液的覆盖能力及测量
2、二次电流分布(有极化) ∵两个回路的电压相等(V1 = V2) ∴I1R1+(φA-φ1)=I2 R2+(φA –φ2) I1R1–φ1=I2 R2–φ2 即:φ1–φ2=I1R1–I2R2 又∵ R=L/S; I=DS ∴ φ1–φ2=D1L1–D2L2
续
L2=L1+ΔL φ1–φ2=D1L1–D2 L1 –D2ΔL Δφ=L1ΔD–D2ΔL Δφ/ΔD= L1– D2ΔL/ΔD ∴ –Δφ/ΔD + L1= D2ΔL/ΔD ∵Δφ<0 ∴–Δφ>0 ∴ L D D
3、阳极的溶解 钝化 自溶解 不溶性阳极
第三节 金属的电结晶
吸附原子到生长点并入晶格,在原有基 体金属的晶格上生长 吸附原子相互聚集形成晶核,成为新的 生长点
第三节 金属的电结晶 一、过电位在电结晶中的意义
1、过饱和度在结晶过程中的作用 结晶的必要条件 影响形核速度和晶核长大的速度 2、过电位在电结晶过程中的作用 平衡电位 过电位
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力 一、电流在阴极上的分布
1、初次电流分布(无极化) I1 = V/R1 I2 = V/R2 I1 / I2 = R2 / R1 = L2 /L1 = K 只表示几何因素的影响 只适合极化很小的镀液
第四节 电镀溶液的分散能力和覆 盖能力 一、电流在阴极上的分布
第三节 金属的电结晶 二、形核理论
二维平面生长理论 过电位控制晶体生长
第三节 金属的电结晶 三、螺旋位错生长理论
表面扩散步骤控制晶体生长
第三节 金属的电结晶 四、大电流时晶体的生长
电子转移步骤控制晶体生长
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力
Throw power: 使镀层在宏观轮廓面上均匀分布的能力 Cover power: 使工件的低凹处和孔腔内的表面沉积上 镀层的能力 镀层的分布与电流的分布和电流效率的 高低两方面因素有关
续
2。整平剂的扩散控制理论要点: 整平剂的极限扩散速度:JL=D CO /δ 峰上扩散速度快,吸附多,极化阻抗大, 电流密度小,金属沉积量少,谷中的情 况正好相反,从而起到整平作用。
续
3。整平能力实验 搅拌相当于峰;不搅拌相当于谷。 (1)无整平剂 小电流:D峰 ≈ D谷 ,几何整平 大电流:D峰 > D谷 ,负整平 (2)有整平剂 极化增大,峰上更大 D峰 < D谷 ,正整平
L1 D 1
D2
1பைடு நூலகம்
D2
1
续
令: Δφ/ΔD ﹥0 得: D1
L 1 1 D2 L1 D
影响电流二次分布的因素: Δ L↓ ↓ Δφ/ΔD ↑ L1 ↑
第四节 电镀溶液的分散能力和 覆盖能力 二。金属镀层在阴极上的分布
电流的消耗去向: 金属电沉积 析出氢气 M 1 D11 其他副反应 ∴金属镀层的分布: M 2 D22 电流效率与电流密度的关系有三种: 影响小;更均匀;更不均匀
第六节 镀液的整平作用 一。整平作用的形式
几何整平(δ峰=δ谷) 谷深有所减小 负整平(δ峰>δ谷) 谷深加深 正整平(δ峰<δ谷) 谷深减小
第六节 镀液的整平作用 二。整平作用的机理
1。整平剂的特点 强烈吸附,极化阻抗大,提高阴极过电 位; 被还原或夹杂在镀层里,峰上的消耗大 于谷中的消耗; 受扩散过程控制,峰上的吸附大于谷中 的吸附。