蒋玉龙教授-半导体物理ppt-8

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半导体物理与器件ppt课件

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2.23
h h K为波数=2π/λ, λ为波长。 2mE 15 P
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.2无限深势阱(变为驻波方程) 与时间无关的波动方程为:
2 x 2m 2 E V x x 0 2 x
2.13
由于E有限,所以区域I和III 中:
课程主要内容
固体晶格结构:第一章 量子力学:第二章~第三章 半导体物理:第四章~第六章 半导体器件:第七章~第十三章

1
绪论

什么是半导体
按固体的导电能力区分,可以区分为导体、半导体和绝缘体
表1.1 导体、半导体和绝缘体的电阻率范围 材料 电阻率ρ(Ωcm) 导体 < 10-3 半导体 10-3~109 绝缘体 >109
分别求解与时间无关的波动方程、与时间有关的波 动方程可得自由空间中电子的波动方程为:
j j x, t A exp x 2mE Et B exp x 2mE Et




2.22
说明自由空间中的粒子运动表现为行波。 沿方向+x运动的粒子: x, t A exp j kx t
18
2.3薛定谔波动方程的应用

无限深势阱(前4级能量)
随着能量的增加,在任意给 定坐标值处发现粒子的概率 会渐趋一致
19
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.3阶跃势函数
入射粒子能量小于势垒时也有一定概率穿过势垒 (与经典力学不同)

20
2.3薛定谔波动方程的应用

2.3.3阶跃势函数 Ⅰ区域 21 x 2mE 2 1 x 0 2.39 2

蒋玉龙教授-半导体物理ppt-8

蒋玉龙教授-半导体物理ppt-8

χ >> 1
n0 = N D
⎡ ⎤ 2χ n0 = N D ⎢ ⎥ 2 ⎢ ⎦ ⎣ χ +4 +χ⎥
⎛ χ2 + 4 − χ ⎞ ⎟ E f = ED + kT ln⎜ ⎟ ⎜ 4χ ⎠ ⎝
(3) 过渡区 (强电离区 → 本征激发) 需要考虑本征激发部分 n0 = p0 + N D ⎯⎯ 电中性条件 n0 p0 = ni2
n0 = p0 + N D
⎛ E f − Ei ⎞ N D = n0 − p0 = 2ni sinh⎜ ⎟ ⎜ kT ⎟ ⎠ ⎝
双曲正弦函数
⎛ ND ⎞ E f = Ei + kT sinh ⎜ ⎜ 2n ⎟ ⎟ ⎝ i⎠
−1
37/54
5.4 杂质半导体中的载流子统计8
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论)
n i = 4 . 82 × 10
15
⎛ m dn m dp ⎜ ⎜ m2 0 ⎝
⎞ ⎟ ⎟ ⎠
3 4
T
3/2
Eg ⎛ exp ⎜ ⎜ − 2 kT ⎝
⎞ ⎟ ⎟ ⎠
25/54
5.3 本征半导体中的载流子统计2
5.3.1 本征载流子浓度ni
n i = 4 . 82 × 10
15
⎛ m dn m dp ⎜ ⎜ m2 0 ⎝
⎛ EC − E f N C exp⎜ ⎜ − kT ⎝ ⎞ ND = ⎟ ⎟ ED − E f ⎞ ⎠ 1 + 2 exp⎛ − ⎜ ⎟ kT ⎝ ⎠
+ n0 = n D + p0
⎛ ED − E f NC ⎛ ΔE D ⎞ − exp⎜ − ⎟ ⋅ 2 exp⎜ ⎜ 2ND kT ⎝ kT ⎠ ⎝

半导体器件物理PPT课件

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11
练习 假使面心结构的原子是刚性的小球,且面中心原子与 面顶点四个角落的原子紧密接触,试算出这些原子占此面 心立方单胞的空间比率。

12
例1-2 硅(Si)在300K时的晶格常数为5.43Å。请计算出每立方厘米体 积中硅原子数及常温下的硅原子密度。(硅的摩尔质量为 28.09g/mol)

13
29
●允带
允许电子存在的一系列准 连续的能量状态
● 禁带
禁止电子存在的一系列能 量状态
● 满带
被电子填充满的一系列准 连续的能量状态 满带不导电
● 空带
没有电子填充的一系列准 连续的能量状态 空带也不导电
图1-5 金刚石结构价电子能带图(绝对零度)
30
●导带
有电子能够参与导电的能带, 但半导体材料价电子形成的高 能级能带通常称为导带。
电子不仅可以围绕自身原子核旋转,而且可以转到另一个原子周围,即 同一个电子可以被多个原子共有,电子不再完全局限在某一个原子上, 可以由一个原子转到相邻原子,将可以在整个晶体中运动。
27
共有化运动
由于晶体中原子的周期性 排列而使电子不再为单个 原子所有的现象,称为电 子共有化。
在晶体中,不但外层价电 子的轨道有交叠,内层电 子的轨道也可能有交叠, 它们都会形成共有化运动;
杂质来源
一)制备半导体的原材料纯度不够高; 二)半导体单晶制备过程中及器件制造过程中的沾污; 三)为了半导体的性质而人为地掺入某种化学元素的原子。
40
金刚石结构的特点
原子只占晶胞体积的34%,还有66%是空隙, 这些空隙通常称为间隙位置。
杂质的填充方式
一)杂质原子位于晶格 间隙式杂质 原子间的间隙位置, 间隙式杂质/填充;

半导体物理基础知识 ppt课件

半导体物理基础知识  ppt课件
原子最外层的电子称为价电子,有几个 价电子就称它为几族元素。 若原子失去一个电子,称这个原子为正 离子,若原子得到一个电子,则成为一个带负电的 负离子。原子变成离子的过程称为电离。
ppt课件
4
1.2半导体材料硅的晶体结构
1.2.2晶体结构
固体可分为晶体和非晶体两大类。 原子无规则排列所组成的物质为非晶体。而晶 体则是由原子规则排列所组成的物质。晶体有 确定的熔点,而非晶体没有确定熔点,加热时 在某一温度范围内逐渐软化。 1.2.3单晶和多晶 在整个晶体内,原子都是周期性的 规则排列,称之为单晶。由许多取向不同的单 晶颗粒杂乱地排列在一起的固体称为多晶。
ppt课件 17
1.6半导体的导电原理
1.6半导体的导电原理
导带
E (禁带宽)
g
价带
ppt 课件 1.6-1 图
18
1.6半导体的导电原理
1.6.2产生和复合 由于热或光激发而成对地产生电子空穴对,这种过程 称为“产生”。空穴是共价键上的空位,自由电子在运动中与 空穴相遇时,自由电子就可能回到价键的空位上来,而同时消 失了一对电子和空穴,这就是“复合”。在一定温度下,又没 有光照射等外界影响时,产生和复合的载流子数相等,半导体 中将在产生和复合的基础上形成热平衡。此时,电子和空穴的 浓度保持稳定不变,但是产生和复合仍在持续的发生。 1.6.3杂质和杂质半导体 纯净的半导体材料中若含有其它元素的原子,那么, 这些其它元素的原子就称为半导体材料中的杂质原子。对硅的 导电性能有决定影响的主要是三族和五族元素原子。还有些杂 质如金,铜,镍,锰,铁等,在硅中起着复合中心的作用,影 响寿命,产生缺陷,有着许多有害的作用。
ppt课件
11
1.2半导体材料硅的晶体结构

半导体物理学ppt课件

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在电场
②当电流密度一定时, dEF/dx与载流子浓
度成反比 ③上述讨论也适用于电子子系及空穴子系
(用准费米能级取代费米能级):
J =n
dEF dx
J =p
dEF dx
35
36
★ 正向偏压下的p-n结
①势垒: ♦ 外电压主要降落
于势垒区 ♦ 加正向偏压V, 势
垒高度下降为 e(VD-V),
荷区的产生—复合作用。 P型区和N型区的电阻率都足够低,外加电压全部降落
在过渡区上。
57
准中性区的载流子运动情况
稳态时, 假设GL=0
0

DN
d 2np dx2

n p
n
......x

xp

0

DP
d 2pn dx2
边界条件:

pn
p
......x

xn
图6.4
欧姆接触边界
以及工作温度
24
③接触电势差:
♦ pn结的势垒高度—eVD 接触电势差—VD
♦ 对非简并半导体,饱和电离近似,接触 电势为:
VD

kT e
ln nn0 np0

kT e
ln
NDNA ni2
♦ VD与二边掺杂有关,
与Eg有关
25
电势
图6-8
电子势能(能带)
26
④平衡p-n结的载流子浓度分布: ♦ 当电势零点取x=-xp处,则有: EC (x) EC qV (x)
52
53
54
理想二极管方程
PN结正偏时
55
理想二极管方程
PN结反偏时

复旦大学半导体物理课件1

复旦大学半导体物理课件1

课程简介2
参考书
1. Charles Kittel,《固体物理导论》,化学工业出版社 (2005) 2. 刘恩科,朱秉升,《半导体物理学》,国防工业出版社 (2003). 3. 叶良修,《半导体物理学》,高等教育出版社(1987). 4. R. M. Warner, B. L. Grung,《Semiconductor-Device Electronics》,电子工业出版社(2002). 5. K. Seeger,《Physics of Semiconductor: An Introduction》,4th Ed. Springer-Verlag (2004). 6. 茹国平,《半导体物理讲义》(2007) 7. 陆昉,《半导体物理讲义》(2007)
K. Von Klitzing :发现量子霍耳效应 Robert B. Laughlin, Daniel C. Tsui, Horst L. Stormer: 发现分数化量子 霍耳效应
Von Klitzing, Klaus 诺贝尔 诺贝尔
1998
1985
诺贝尔物理奖得主Klaus von Klitzing 受聘我校名誉教授
半 导 体
10 -4~ 10 10
L S
绝缘体
>10 10
10-6~ 10-4
L R=ρ S
ρ
二、半导体的主要特征: 电阻率可在很大范围内变化
例子:杂质对半导体电阻率的影响
硼 / 1百 万 0.2 磷 / 1百 万

Ω cm
2x105
2x10 5
硅的纯度仍高达99.9999%
温度对半导体的影响
纯硅: T=300K ρ=2x 105 Ω cm T=320K ρ=2 x 104 Ω cm

半导体物理-第8章-半导体表面和MIS结构PPT课件

半导体物理-第8章-半导体表面和MIS结构PPT课件
[C’min + dOX ]→ NA(ND) 计算,或图8-12
求氧化层中总有效电荷面密度QOX: [dOX + NA ] → CFB VFB → QOX
.
49
8.4 Si-SiO2系统的性质
1. 二氧化硅中的可动离子 2. 二氧化硅中的固定表面电荷 3. 在硅–二氧化硅界面处的快界面态 4.二氧化硅中的陷阱电荷
空间电荷区电容——
CS
dQS dVS
则有
1 1 1 C CO CS
C 1 CO 1 CO
.
CS
29
8.3.2 理想MIS结构的低频C-V特 性
理想MIS结构:
➢ 金属的功函数与半导体相同(Vms=0)
➢ 氧化层中没有电荷存在(Qo=0)
➢ 半导体-氧化物没有界面态(Qss=0)
M
I
S
i
VG
很大cco1mis结构的电容呈现为co平带状态归一化平带电容12rorsrs上司的判断和决策在很大程度上是根据秘书的汇报作出来的汇报的内容是否真实汇报的数据是否准确汇报的用语是否恰当上司的判断和决策在很大程度上是根据秘书的汇报作出来的汇报的内容是否真实汇报的数据是否准确汇报的用语是否恰当很大cco1表面强反型高频时反型层中电子的增减跟不上频率的变化空间电荷区电容呈现的是耗尽层电容最小值rsdm上司的判断和决策在很大程度上是根据秘书的汇报作出来的汇报的内容是否真实汇报的数据是否准确汇报的用语是否恰当上司的判断和决策在很大程度上是根据秘书的汇报作出来的汇报的内容是否真实汇报的数据是否准确汇报的用语是否恰当mis结构的电容也呈现最小值不再随偏压v呈现显著变化mindmrsox上司的判断和决策在很大程度上是根据秘书的汇报作出来的汇报的内容是否真实汇报的数据是否准确汇报的用语是否恰当上司的判断和决策在很大程度上是根据秘书的汇报作出来的汇报的内容是否真实汇报的数据是否准确汇报的用语是否恰当深耗尽状态的变化十分迅速且其正向幅度大于v耗尽层宽度随偏压幅度的增大而增大深耗尽状态上司的判断和决策在很大程度上是根据秘书的汇报作出来的汇报的内容是否真实汇报的数据是否准确汇报的用语是否恰当增加d增加平带电压为了恢复半导体表面平带状态需要加的电压

(第一章)半导体物理ppt课件

(第一章)半导体物理ppt课件

下这些部分占满的能带中的电子将参与导电。由于绝缘
体的禁带宽度很大,电子从价带激发到导带需要很大能
量,所以通常温度下绝缘体中激发到导带去的电子很少,
导电性差;半导体禁带比较小(数量级为1eV),在通常
温度下有不少电子可以激发到导带中去,所以导电能力
比绝缘体要好。
最新课件
27
§1.3 半导体中电子(在外力下)的运动 及有效质量
§1.1半导体中的电子状态和能带
§1.1.2电子在周期场中的运动——能带论
⒉波函数
德布罗意假设:一切微观粒子都具有波粒二象性。 自由粒子的波长、频率、动量、能量有如下关系
Eh P h k
即:具有确定的动量和确定能量的自由粒子,相当 于频率为ν和波长为λ的平面波,二者之间的关系 如同光子与光波的关系一样。
书中(1-13)
最新课件
16
§1.1半导体中的电子状态和能带
§1.1.2电子在周期场中的运动——能带论
布洛赫曾经证明,满足式(1-13)的波函数一定具有 如下形式:
k(x)uk(x)eikx 书中(1-14)
式中k为波数,u k ( x是) 一个与晶格同周期的周期性函 数,即:
uk(x)uk(xna)
1.3.1半导体导带中E(k)与k 的关系
定性关系如图所示 定量关系必须找出E(k)函数带底附近E(k)与k的关 系
用泰勒级数展开可以近似求出极值附近的E(k)与k 的关系,以一维情况为例,设能带底位于k=0,将 E(k)在E ( kk =) 0E 附(0 近) 按(d 泰d勒)E k k 级0k 数 展1 2(开d d 2 ,E 2k )取k 0 至k2 k项2 ,得到
K=0时能量极小,所以(ddEk)k0k ,0因而

《半导体物理》教学PPT第八章

《半导体物理》教学PPT第八章
1/ 2 1/ 2
qVs exp 2k T 0
1/ 2
qVs kT 2 ns 0 exp 2k0T rs 0
np0 p p0
1/ 2
qVs (2k0T rs 0 ns )1/ 2 exp 2k T 0
(1)多数载流子堆积状态 P型半导体 VG<0
EC Ei EFs EV

Qs
Qm
特征 (1)能带向上弯曲并接近EF;(2)多子在半导体表面 积累,越接近半导体表面多子浓度越高。
(2)多数载流子耗尽状态
P型半导体
VG>0
EC Ei EFs EV

Qm xd
Qs
x
特征
(1)表面能带向下弯曲;(2)表面上的多子浓度远少 于体内,基本上耗尽,表面带负电。
一维晶体的势能函数
1 (0) 2 (0) d 1 d 2
( dx ) x 0 ( dx
) x 0
在x=0处满足的 连续性条件
x≤0区的电子波函数为:
1 [2m0 (V0 E )]2 1 ( x) A exp 1 [2m0 (V0 E)]2 x B exp
(2)表面电荷分布Qs
根据高斯定理,表面的电荷面密度为:
Qs 0 rs Es 2 0 rs k0T qVs n p 0 Qs F , k T p qLD p0 0 2
(3)表面电容Cs
Qs Cs Vs
qVs n p 0 qVs exp k T 1 p exp k T 1 0 rs p0 0 0 Cs qVs n p 0 2 LD F , k T p p0 0

半导体物理课件-PPT精品文档

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9. 半导体异质结构
接触现象
10.半导体的光学性质和光电
与发光现象
11.半导体的热电性质
12.半导体磁和压阻效应
特殊效应
13.非晶态半导体
半导体概要1
一、什么是半导体(semiconductor)?
➢ 电阻率
➢ 带隙
半导体概要2
半导体概要3
二、半导体的主要特征:
➢ 杂质对半导体电阻率的影响
➢ 温度对半导体的影响


pm
vE
0

p
2m
2
0



(
r
,
t
)

Ae


i
(
k

r

t
)


pk
Ehv

v
E

k
m0
2k 2
2m0

可以看出,对于波矢
k的运动状态,

自由电子的
E, p, v均有确定值,因

此波矢
k可以描述自由电子运动

态。
自由电子的E-k关系
1.2 半导体中的电子状态和能带5
➢ 初级晶胞(原胞):晶体中最小重复单元
一个初基晶胞是一个体积最小的晶胞
初基晶胞中的原子数目(密度)都是一样的
初基晶胞中只含有一个阵点(平行六面体的8个角隅,1/8共享)
➢ 原胞往往不能反映晶体的对称性, 晶胞一般不是最小的重复单元。其体
积(面积)可以是原胞的数倍
晶胞:a, b, c轴围成的六面体
原胞:a1,a2,a3围成的六面体
大值附近能量Ev(k)分别为:
2

[物理]半导体器件物理ppt

[物理]半导体器件物理ppt

V 0
(3) 当V > 0 且较大时,能带 E F 向下弯曲更严重.使表面Ei < EF。 在SiO2-Si的界面处形成负载流子 (电子)的堆积.
EC
Ei EF
Qm 0
x
EV
0
(b ) 耗 尽 时
qN AW
EC
Qm
np ni expEF (kTEi )
V 0
Ei EF
0
x
0
EV
qN AW
EF
xi
(c) 反 型 时
当半导体耗尽区宽度达到W时,半导体内的电荷为ρs= -qNAW,积分泊松方
程式可得距离x的函数的表面耗尽区的静电势分布:
Ψ
Ψs
1
x W
2
半导体表面 EC
表面电势Ψs为
Ψs
qNAW 2
2 s
此电势分布与单边的n+-p结相同。
q S
q
( S 0)
氧化层 xi
Eg
q B
Ei
EF
EV 半导体
当Ψs=ΨB时, ns=ps=ni ,可看作表面开始发生反型 当Ψs>ΨB时, ns > ps ,表面处于反型
表面载流子密度为:
半导体表面
ns ni ex pq(Ψk s TΨB
q S
q
( S 0)
ps ni ex p q(ΨB k T Ψs) 氧化层
xi
EC
Eg
q B
Ei
EF
EV 半导体
天津工业大学
现代半导体器件物理
MOSFET及相关器件 8
MOS二极管
对表面电势可以区分为以下几种情况: Ψs<0: 空穴积累(能带向上弯曲); Ψs =0: 平带情况; ΨB>Ψs>0:空穴耗尽(能带向下弯曲); Ψs=ΨB: 禁带中心,即ns=ps=ni(本征浓度); Ψs>ΨB: 反型(能带向下弯曲超过费米能级).

半导体物理ppt课件

半导体物理ppt课件
共有化运动的产生是由于 不同原子的相似壳层的交 叠,如图1—5所示
§1.2半导体中的电子状态和能带
§1.2.2晶体中的电子状态
2、电子共有化运动使能级分裂为能带
例如:两个原子 相距很远时,如同孤立原子,
每个能级都有两个态与之相应, 是二度简并的 能级如图1-6(a)所示
§1.2半导体中的电子状态和能带
定量理论(量子力学计算):电子在周期场中运动,其 能量不连续形成能带。
§1.2半导体中的电子状态和能带
§1.2.4电子在周期场中的运动——能带论
3、能带理论的应用 能带(energy band)包括允带和禁带。
允带(allowed band):允许电子能量存在的能量范 围。
禁带(forbidden band):不允许电子存在的能量范 围。
半导体物理
Semiconductor Physics
第一章 半导体中的电子状态
§1.1 晶体结构预备知识,半导体晶体结构 1.晶体结构的描述(有关的名词) 格点:空间(一维或多维)点阵中的点(结点) 晶列:通过任意两格点所作的(晶列上有一系列格点) 晶向:在坐标系中晶列的方向(确定晶向的方法待定)
分电子。) 价带(valence band):被价电子占据的允带(低温下
通常被价电子占满)。
§1.2半导体中的电子状态和能带
§1.2.4电子在周期场中的运动——能带论
1、自由电子的运动 晶体中电子的运动与孤立原子的电子、自由电子的运动不同: 孤立原子中的电子是在该原子的核和其它电子的势场中运动 自由电子是在恒定为零的势场中运动 晶体中的电子是在严格周期性重复排列的原子间运动,
单电子近似认为,晶体中的某一个电子是在周期性排列且固 定不动的原子核的势场以及其它大量电子的平均势场中运动, 这个势场也是周期性变化的,而且它的周期与晶格周期相同。

半导体物理 第一章正文ppt

半导体物理 第一章正文ppt
****无法做出更详细、更统一的描述
5,晶体中结点的不同排列,均是由原子核
及核外电子的相互作用特点所决定的 。
二、量子理论概述
讨论范围:
量子理论的
基本概念(观念), 基本关系式,
基本结论,
基本做法 。
量子理论的讨论对象适用对象:微观世界的随机过程
本教材、本授课中,处理问题的方法, 基本上是“半经典半量子化的(量子理 论与经典理论结合在一起使用)”,有 时又是“准经典的”,请在学习过程中 加以体会。
电子自旋角动量:
3 2
(4)轨道磁量子数
ml :
轨道角动量在z轴投影,其大小为:ml
对一个
l
ml l ,(l 1),,0,, (l 1),l
l l l
l 2 l 1
l
取值, ml 有 (2l 1) 个取值:
z
(5)自旋磁量子数
ms:
自旋角动量在z轴投影,其大小: ms 对一个s取值,
定态薛定谔方程:
2 V (r ) (r ) E (r ) 2m
2
量子理论中用波函数描述物理状态,波 函数是“几率函数”,由之可知某物理 量取某值的几率。 E为粒子能量
物理量的平均值: Q



ˆ (r )Q (r )dr
ˆ p p i, i j k (梯度算子) x y z
坐标表象:
ˆ rp L L ˆ ˆ
2 ˆ i V (r ) EH t 2m
2
H=T+V
h 2
p2/2m
物理量的量子化: 物理量的取值觃律
*
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1/ 2
斜率:ΔED/2k
n = ND
1/T
40/54
5.4 杂质半导体中的载流子统计11
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -小结 Ef ~ ND(强电离,室温)
⎛ ND ⎞ E f = EC + kT ln⎜ ⎜N ⎟ ⎟ ⎝ C⎠
np = ni2
-费米能级:反应半导体导电类型和掺杂水平
ND 高 强n型 n 型半导体 p 型半导体
思路:只要 T 确定,Ef 也随着确定,n0 和 p0 也确定.
33/54
5.4 杂质半导体中的载流子统计5
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论)
(1) 低温弱电离区
⎛ EC − E f N C exp⎜ ⎜ − kT ⎝
(p0 ≈ 0
n0 = nD+ << ND)
ND 低 ND ≈ NA 弱n型 本征 多数载流子(多子) 电子 空穴
NA 低 NA 高 弱p型 强p型 少数载流子(少子) 空穴 电子
41/54
5.4 杂质半导体中的载流子统计12
5.4.2 补偿情形
-少量受主杂质情况:ND>NA
⎛ EC − E f N C exp⎜ ⎜ − kT ⎝ ⎞ ND = ⎟ ⎟ ED − E f ⎞ ⎠ 1 + 2 exp⎛ − ⎜ ⎟ kT ⎝ ⎠
+ n0 = n D + p0
⎛ ED − E f NC ⎛ ΔE D ⎞ − exp⎜ − ⎟ ⋅ 2 exp⎜ ⎜ 2ND kT ⎝ kT ⎠ ⎝
⎛ EC − ED ⎞ exp⎜ − ⎟ 2kT ⎠ ⎝
⎛ N D NC ⎞ =⎜ ⎟ ⎝ 2 ⎠
1/ 2
⎛ ΔE D ⎞ exp⎜ − ⎟ ⎝ 2kT ⎠
34/54
5.4 杂质半导体中的载流子统计5
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论)
(2) 中等电离区 → 强电离区
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论)
一个极限 χ → 0 (低温弱电离区) 另一个极限 χ >> 1 (强电离区)
⎛ ND ⎞ E f = EC + kT ln⎜ ⎜N ⎟ ⎟ ⎝ C⎠
NC ⎛ ΔE D ⎞ 2 exp⎜ − ⎟=χ 2ND ⎝ kT ⎠
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5.4 杂质半导体中的载流子统计3
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -杂质能级的分布函数:术语定义
施主能级上的电子浓度 (未电离的施主浓度) 电离施主浓度 (向导带激发电子的浓度)
nD = N D f D ( E ) = ND ⎛ ED − E f ⎞ 1 1 + exp⎜ ⎟ 2 ⎝ kT ⎠
假定只有一种施主杂质,ED,ND,则电中性条件
+ n0 = n D + p0
导带电子浓度 总的负电荷浓度 即
⎛ EC − E f N C exp⎜ ⎜ − kT ⎝
电离施主浓度
价带空穴浓度
总的正电荷浓度
⎛ E f − EV ⎞ ND + NV exp⎜ − ⎟ ⎜ ⎟= ED − E f ⎞ kT ⎝ ⎠ 1 + 2 exp⎛ ⎜− ⎟ kT ⎠ ⎝ ⎞ ⎟ ⎟ ⎠
(4) 本征激发区 高温下 ni >> ND n0 = ni p0 = ni
Ef = EC + EV kT ⎛ NV ⎞ ⎟ + ln⎜ ⎜ 2 2 ⎝ NC ⎟ ⎠
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5.4 杂质半导体中的载流子统计9
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -小结
EC + ED kT ⎛ N D ⎞ ⎟ + Ef = ln⎜ ⎜ 2 2 ⎝ 2 NC ⎟ ⎠
N型半导体
⎛ ND ⎞ E f = EC + kT ln⎜ ⎜N ⎟ ⎟ ⎝ C⎠
⎛ ND ⎞ E f = Ei + kT sinh ⎜ ⎜ 2n ⎟ ⎟ ⎝ i⎠
−1
Ec • ED
n= p
T3 T4
+ n = nD
n = ND
E + EV kT ⎛ NV ⎞ ⎟ + Ef = C ln⎜ ⎜ 2 2 ⎝ NC ⎟ ⎠
= χ2
⎞ 1 ⎟ ⎟= ED − E f ⎞ ⎠ 1 + 2 exp⎛ ⎜− ⎟ kT ⎠ ⎝
ni2 p0 = n0
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⎛ χ2 + 4 − χ ⎞ ⎟ E f = E D + kT ln⎜ ⎟ ⎜ 4 χ ⎠ ⎝
⎡ ⎤ 2χ n0 = N D ⎢ ⎥ 2 ⎢ ⎣ χ +4 +χ⎥ ⎦
5.4 杂质半导体中的载流子统计6
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5.4 杂质半导体中的载流子统计1
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -杂质能级的分布函数:电子(或空穴)占据杂质能级的几率
↑↓ ↑ ↓ 全空 ↑ ↓ 全空
能带中的能级 ⎯⎯ 可以容纳 2 个电子
杂质能级 ⎯⎯ 可以容纳 1 个电子
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5.4 杂质半导体中的载流子统计2
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -杂质能级的分布函数 可以证明:
i
⎞ ⎟ ⎟ ⎠
3 4
T
3/2
Eg ⎛ exp ⎜ ⎜ − 2 kT ⎝
⎞ ⎟ ⎟ ⎠
本征载流子浓度ni与禁带宽度Eg T=300K Ge: Eg= 0.67eV, n = 2.4 ×1013cm−3
Si : Eg = 1.12eV, ni = 1.5×1010 cm−3 GaAs : Eg=1.43eV, ni =1.1×107 cm−3
T1 T2
Ei T
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5.4 杂质半导体中的载流子统计10
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -小结 N型半导体中的电子浓度随温度的变化关系
ln(n)
斜率:Eg/2k
⎛ Eg n = N c N v exp⎜ ⎜ −n = ⎜ D C ⎟ exp⎜ − D ⎟ ⎝ 2 ⎠ ⎝ 2kT ⎠
Nv =
2(2πmdpkT )3 / 2 h3
E
E
i
f
⎛ NV E C + EV kT ln ⎜ = + ⎜ N 2 2 ⎝ C
= E
f
⎞ ⎟ ⎟ ⎠
⎞ ⎟ ⎟ ⎠
EC Ei
=
E
C
+ EV 3 kT + 2 4
⎛ m ln ⎜ ⎜ m ⎝
dp dn
(禁带中线) mdp 和 mdn 同数量级 本征费米能级Ei基本上在禁带中线处
+ nD = N D − nD = N D [1 − f D ( E )]
=
ND ⎛ ED − E f ⎞ 1 + 2 exp⎜ − ⎟ kT ⎠ ⎝
电离受主浓度 (向价带激发空穴的浓度)
− = N A − n A = N A [1 − f A ( E )] pA
受主能级上的空穴浓度 (未电离的受主浓度)
+ n0 = n D + p0

EC + E D kT ⎛ N D ⎞ ⎟ Ef = ln⎜ + ⎜ 2 2 ⎝ 2 NC ⎟ ⎠
⎛ N D NC ⎞ n0 = ⎜ ⎟ ⎝ 2 ⎠
1/ 2
⎛ ED − E f ⎞ ⎞ ND ND exp⎜ ≈ ⎟ ⎟ ⎟ ⎜ ⎟= − E E 2 kT ⎛ ⎞ f ⎠ ⎝ ⎠ 1 + 2 exp⎜ − D ⎟ kT ⎠ ⎝ (nD+ << ND,分母>>1)
χ >> 1
n0 = N D
⎡ ⎤ 2χ n0 = N D ⎢ ⎥ 2 ⎢ ⎦ ⎣ χ +4 +χ⎥
⎛ χ2 + 4 − χ ⎞ ⎟ E f = ED + kT ln⎜ ⎟ ⎜ 4χ ⎠ ⎝
(3) 过渡区 (强电离区 → 本征激发) 需要考虑本征激发部分 n0 = p0 + N D ⎯⎯ 电中性条件 n0 p0 = ni2
第五章半导体载流子的平衡态统计分布
5.1 状态密度 5.2 费米能级和载流子的统计分布 5.3 本征半导体中的载流子统计 5.4 杂质半导体中的载流子统计 5.5 简并半导体
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5.3 本征半导体中的载流子统计1
5.3.1 本征载流子浓度ni
-热激发所产生的载流子 -没有杂质和缺陷的半导体 T = 0 K,价带全满,导带全空 T ≠ 0 K,热激发,电子从价带激发到导带(本征激发)
(1) 电子占据施主能级的几率 1 fD (E) = ⎛ ED − E f ⎞ 1 1 + exp⎜ ⎟ 2 ⎝ kT ⎠ (2) 空穴占据受主能级的几率 1 f A(E) = ⎛ E f − EA ⎞ 1 1 + exp⎜ ⎟ 2 ⎝ kT ⎠
讨论 fD (E): 1o 当 ED-Ef >> kT 时 fD(E) → 0 2o 当 Ef-ED >> kT 时 fD(E) → 1 3o 一般情况下 0 < fD(E) < 1 当 ED = Ef 时 fD(E)=2/3
n0 = p0 + N D
⎛ E f − Ei ⎞ N D = n0 − p0 = 2ni sinh⎜ ⎟ ⎜ kT ⎟ ⎠ ⎝
双曲正弦函数
⎛ ND ⎞ E f = Ei + kT sinh ⎜ ⎜ 2n ⎟ ⎟ ⎝ i⎠
−1
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5.4 杂质半导体中的载流子统计8
5.4.1 非补偿情形(单一杂质) -例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论)
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