电子封装中的铝碳化硅及其应用
铝基复合材料介绍
铝基复合材料,泛指以铝合金为基体(连续体)的复合材料,品种众多,功能各异。从 复合材料品种来分,主要分两大类:陶瓷颗粒增强铝基复合材料;纤维以及晶须增强的铝基 复合材料,当然,两者也经常混合在一起作为增强项以提供更为优异的性能。更多的时候, 是从材料功能及应用领域来分类的。下面介绍法迪公司目前提供的品种:
Alvaco 采用内部真空的薄壁球状陶瓷颗粒替代传统实心颗粒,并添加短碳纤维、短陶 瓷纤维增韧,浸渗铝合金液体后成形。材料典型特点:
1. 密度小:材料密度 1.4-1.6,典型 1.5(视其中加入的其它增强相而定),约为 铝合金的一半;
2. 机械加工性能得到大幅提升:可攻丝、可铣曲面,加工性能类似 7 系铝合金, 这是传统陶瓷颗粒增强材料无法做到的;
极限抗拉强度 曲服强 断裂伸长率
(MPa)
度(MPa)
(%)
弹性模量 (GPa)
洛氏硬 度(HRB)
10#陶瓷增强铝合金
338
303
1.2
86.2
73
20#陶瓷增强铝合金
359
338
0.4
98.6
77
注:基体合金为 ZL102,金属模铸造,T6 热处理。挤压铸造指标略高。
典型应用:
1. 用于制造刹车盘、刹车鼓、制动卡钳、缸套、悬架臂、车架、曲轴箱等结构件, 替代钢材可减重一半以上。
左图为 Alvaco 的晶相 图,球形的是氧化铝陶瓷中 空微珠,内真空。白色为铝 合金。
材料指标典型值:
抗弯强度:95MPa;
弹性模量:85GPa;
剪切模量:34GPa;
热导率:90W/mK;
热膨胀系数:8.5ppm;
电阻率:30µOhm-cm;
【精品文章】碳化硅粉体真正的高大上应用——碳化硅颗粒增强铝基复合材料
碳化硅粉体真正的高大上应用——碳化硅颗粒增强
铝基复合材料
与传统材料相比,颗粒增强金属基复合材料不仅兼有金属的高韧性、高塑性优点和增强颗粒的高硬度、高模量优点,而且材料各向同性,可采用传统的金属加工工艺进行加工。
碳化硅颗粒增强铝基复合材料的密度仅为钢的1/3,但其强度比纯铝和中碳钢都高,且还具有较高的耐磨性,可以在300℃~350℃的高温下稳定工作。
碳化硅颗粒增强铝基复合材料由碳化硅粉体和颗粒状的铝复合而成,增强颗粒在基体中的分布状态直接影响到铝基复合材料的综合性能。
能否使增强颗粒均匀分散在熔液中是能否成功制备铝基复合材料的关键,也是制备颗粒增强铝基复合材料的难点所在。
碳化硅颗粒分布的均匀与否与颗粒的大小、颗粒的密度、添加颗粒的体积分数、熔体的粘度、搅拌的方式和搅拌的速度等因素有关。
一、碳化硅增强铝基复合材料制备
1.压力铸造法。
压力铸造法制备碳化硅颗粒铝基复合材料的过程,主要包括碳化硅颗粒预制块的制备和液态铝合金在一定压力下渗入预制块中两部分。
碳化硅颗粒在复合材料中分布的均匀性由预制块中颗粒分布的均匀程度决定,并取决于预制块的制备工艺。
复合材料的孔隙率和SiCp/Al界面结合状态则与压铸工艺参数密切相关。
2.喷射共沉淀法。
喷射共沉积法具有碳化硅颗粒分布均匀、没有严重的界面反应、基体组。
颗粒增强铝基复合材料研究与应用发展
3、结构性能
通过观察复合材料的显微组织,分析碳化硅颗粒的分布情况和界面结合情况。 实验结果显示,随着碳化硅颗粒含量的增加,颗粒分布逐渐均匀,界面结合强度 也逐渐提高。Fra bibliotek结果分析
实验结果表明,碳化硅颗粒增强铝基复合材料的物理性能、化学性能和结构 性能均得到显著改善。随着碳化硅颗粒含量的增加,复合材料的密度、硬度和界 面结合强度逐渐提高,而热导率呈现先增加后减小的趋势。这些现象和结果与碳 化硅颗粒含量、分布情况以及界面结合情况密切相关。
材料选择
碳化硅颗粒增强铝基复合材料的制备方法主要包括搅拌铸造法、挤压铸造法、 粉末冶金法和喷射沉积法等。本次演示选取搅拌铸造法进行研究,具体实验过程 如下:
1、按照一定比例将铝材和碳化硅颗粒混合均匀; 2、将混合物放入坩埚中,加热至熔化;
3、搅拌熔融的混合物,确保碳化硅颗粒均匀分布; 4、浇注至预定的模具中,冷却凝固后得到碳化硅颗粒增强铝基复合材料。
然而,尽管颗粒增强铝基复合材料具有诸多优点,但在其研究与应用方面仍 存在一些问题和不足之处。首先,制备工艺复杂且成本较高,限制了其广泛应用。 其次,材料的各向异性较为明显,影响了其性能的进一步提升。此外,关于颗粒 增强铝基复合材料在复杂服役条件下的长期性能和可靠性方面仍需进一步研究和 验证。
未来,随着科学技术的不断进步和研究的深入,颗粒增强铝基复合材料将会 在更多领域得到应用和发展。为进一步提高其性能和降低成本,可以研究新的制 备工艺和优化现有工艺参数,探索新型增强颗粒和基体合金。针对其各向异性和 长期性能问题,可以开展深入的理论和实验研究,建立完善的性能评价体系,为 实际应用提供更加可靠的依据。
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3、结构设计难度大:由于碳化硅颗粒增强铝基复合材料的力学性能与传统 的金属材料存在较大差异,因此在进行结构设计时需要考虑更多的影响因素,增 加了设计的难度。
铝碳化硅
铝碳化硅(Al/SiCp)系第三代电子封装材料,这种SiC颗粒增强铝基复合材料具有的高比强度、高比模量、耐磨损及抗腐蚀性等优良的性能使得其在航空、航天、医疗、汽车等领域获得了广泛的应用前景,也使得其制备、加工以及应用成为当今世界科技发展的一个研究热点。
增强体颗粒SiC比常用的刀具如高速钢刀具和硬质合金钢刀具的硬度高, 在机械加工过程中能引起剧烈的刀具磨损, 因此,复合材料的难加工性和昂贵的加工成本限制了铝基碳化硅复合材料的广泛应用。
目前, 在进一步扩大铝基碳化硅复合材料的应用方面, 材料的切削加工是最重要的研究课题之一。
随着SiCp/Al复合材料在航空、航天等领域应用的不断增加,出现了越来越多的带有直线、曲线形状的深窄沟槽、小尺寸孔、螺纹且需要对它们进行精密加工的零件。
如何突破这种难加工材料的加工工艺方法,有效的降低其加工成本,使其得到广泛的应用,对我国国防事业有着重要意义。
基于当前世界的机械制造水平,我国有部分科研院所针对这个课题作了部分研究,人们尝试了多种加工方法:有金刚石刀具高速加工、金刚石砂轮进行高效磨削、电火花加工、激光加工、超声振动切削加工等等。
这么多的方法总而言之,各有利弊,铝碳化硅材料的加工工艺方法还处于摸索总结阶段。
我公司于2009年启动该项目,经过不断地摸索实验与总结,已经取得了一系列研究成果,促进了SiCp/Al复合材料加工技术的发展和应用。
我们认为采用金刚石刀具高速切削和采用金刚石砂轮进行高效磨削以及结合电火花加工能有效的保证设计尺寸精度要求。
但是,要有效的降低其加工成本还有很多的路要走。
其加工制造的瓶颈主要有三点:1.高精度、高转速、高效率的切削机床。
这是实现铝碳化硅复合材料高效加工的根本,是金刚石刀具高速加工及金刚石砂轮高效磨削的前提条件。
2.金刚石刀具及金刚石砂轮的制造。
如何提高金刚石刀具及金刚石砂轮的使用寿命,降低其制造成本,实际上也就决定了铝碳化硅复合材料的加工成本。
IGBT用铝基碳化硅基板制备及性能测试
导率和与芯片衬板相匹配的热膨胀系数。因此,复合 材料的概念应运而生,SiCP/Al 复合材料作为研究最 广 泛 、 市 场 前 景 最 广 阔 的 一 类 复 合 材 料 [2], 它 的 制 备 和测试研究是此类复合材料研究的重点。
1 IGBT 模块结构及失效形式分析
1.1 IGBT 模块结构 IGBT 模 块,如 图 1 的 封 装 模 块 ,其 结 构 如 图 2
然而,Al4C3 以不连续的杆状、 棱状或盘状晶体 相的形式形成于 SiC 表面,分别嵌入 SiC 和基体内; 再加上 Al4C3 是一种脆性化合物, 并且有很强的吸 水性,导致复合材料的界面结合力下降,影响其热膨 胀 系 数 、热 导 率 及 其 他 力 学 性 能[5]。
(4) 混合结合:这是一种较复杂的结合方式,实 际是界面结合通常由几种方式联合作用。
摘 要:IGBT 模块作为重要的高频大功率开关元器件, 频繁的热循环导致其层状模块结构 钎 焊 焊 层 内 产 生 热 应
力,使得焊层开裂脱落,进而引起 IGBT 模块芯片温度过高失效。 颗粒增强相金属基复合材料(SiCP/Al)基板由于其较高 的热导率和与 IGBT 封装材料相匹配的热膨胀系数,能解决 IGBT 模块这一主要失效难题。 采用预制块压力渗透法制
Abstract:As an important switch components with high power--IGBT module, the thermal stress caused by frequent thermal cycling can result in the crack of welding layer (brazing filler metal), which make IGBT chip fail because of module high temperature. SiC/Al can fully solve the IGBT module's main failure problem, for which has high thermal conductivity and has thermal expansion coefficient matching to IGBT encapsulation material. SiCP/Al basalia is produced by precast block pressure infiltration: pretreating silicon carbide particle with surface metallization, molten aluminum stays at 700 ℃ for 30 min, the mold's temperature preheats at 600℃. The thermal expansion coefficient and thermal conductivity test are in line with the requirements of IGBT basalia material's properties.
铝碳化硅导热率
铝碳化硅(Aluminum Silicon Carbide,简称AlSiC)是一种复合材料,由铝基体和碳化硅颗粒组成。
它具有优异的导热性能,是一种常用的散热材料。
铝碳化硅的导热率通常在100-200 W/m·K之间,具体数值取决于材料的制备方法和组分比例。
相比于纯铝和纯碳化硅,铝碳化硅的导热率更高,这是由于碳化硅颗粒的高导热性能和铝基体的良好导热性能相结合所致。
铝碳化硅的导热性能使其在高功率电子器件、电子封装和散热器等领域得到广泛应用。
它能够有效地将热量从热源传导到散热器,提高设备的散热效率,保持设备的稳定工作温度。
需要注意的是,铝碳化硅的导热性能受到材料的密度、颗粒尺寸和分布等因素的影响。
此外,材料的热导率还可能随着温度的变化而发生变化。
因此,在具体应用中,需要根据实际情况选择合适的铝碳化硅材料,并进行适当的热设计和散热方案。
元器件的封装材料
元器件的封装材料
元器件的封装材料有多种,包括金属、陶瓷、塑料等。
这些材料各有其特性和应用范围。
1. 金属:如铜、铝、钢、钨、镍和可伐合金等,这类材料主要用于宇航及军品元器件管壳。
2. 陶瓷:如氧化铝、碳化硅、氧化铍、玻璃陶瓷和钻石等。
陶瓷材料具有较好的气密性、电传输、热传导和机械特性,可靠性高。
不仅可作为封装材料,也多用于基板,但脆性高易受损。
3. 塑料:分为热固性聚合物和热塑性聚合物,如酚醛树脂、环氧树脂和硅胶等。
采用一定的成型技术(转移、喷射、预成型)进行封装,当前90%以
上元器件均已为塑料封装。
4. 还有一些新兴的第三代封装材料,如铝基碳化硅(AlSiC)、铝硅(AlSi)、铝金刚石(Al-Dia)和铜金刚石(Cu-Dia)等。
这些材料是金属基热管理复合材料,既有金属的性能,又有非金属(陶瓷、硅颗粒、金刚石)材料的性能。
主要特性包括高导热、高刚度、高耐磨、低膨胀、低密度和低成本等。
以上内容仅供参考,建议查阅电子封装材料相关书籍或咨询电子封装行业专家以获取更全面和准确的信息。
航空航天用电子封装材料及其发展趋势
航空航天用电子封装材料及其发展趋势陈寰贝;庞学满;胡进;程凯【摘要】随着航空航天领域的迅速发展,其应用的电子器件不断微型化、高度集成化,并且可靠性要求越来越高,其电子封装材料具有更高的热导率及与芯片热膨胀系数的匹配性,还要求其电子封装材料具有更低的密度。
BeO、AlN、Al/SiC与AlSi由于具有高热导率、低密度及与芯片材料良好的热膨胀匹配性,非常符合航空航天用电子封装材料的发展趋势,并已经逐步在取代常用的一些封装材料。
重点介绍了四种材料的性能优势,以及它们之间的性能对比与应用前景分析。
%With the rapid development of technology for aviation and aerospace, the electronic devices become smaller, more integrated, and higher reliability. Due to the particularity of aviation and aerospace ifeld, low density also required. BeO, AlN, Al/SiC and AlSi, as electronic packaging materials, have been showing extensive prospects for use in aviation and aerospace field and gradually replacing some of the commonly used packaging materials, since their high thermal conductivity, low density and thermal expansion coefifcient matching with chip. The article focuses on the performance advantages and prospect of these materials. And the performance differences among these materials are analyzed.【期刊名称】《电子与封装》【年(卷),期】2014(000)005【总页数】4页(P6-9)【关键词】电子封装;氮化铝;碳硅铝;硅铝【作者】陈寰贝;庞学满;胡进;程凯【作者单位】中国电子科技集团公司第55研究所,南京210016;中国电子科技集团公司第55研究所,南京210016;中国电子科技集团公司第55研究所,南京210016;中国电子科技集团公司第55研究所,南京210016【正文语种】中文【中图分类】TN305.941 引言当前,电子器件在航空航天领域扮演了极其重要的角色。
铝基碳化硅热膨胀系数
铝基碳化硅(AlSiC)是一种高性能材料,它结合了铝的优良导热性和碳化硅的高硬度特性。
在许多应用领域中,铝基碳化硅都表现出优异的性能,特别是在高温和高频领域。
这种材料的热膨胀系数是一个重要的物理性质,它决定了材料在不同温度下的尺寸变化。
铝基碳化硅的热膨胀系数取决于其组成成分和制备工艺。
通常情况下,铝基碳化硅的热膨胀系数在x 至y之间(具体的数值取决于具体的材料和工艺条件)。
这意味着当温度升高时,铝基碳化硅的尺寸会增加,反之亦然。
这种特性使得铝基碳化硅在高温环境下能够保持稳定的性能,并且能够适应不同的温度变化。
在电子封装和航空航天领域,铝基碳化硅的热膨胀系数尤为重要。
由于这些领域中的设备通常需要在高温环境下工作,因此材料必须具有良好的热膨胀性能以保持其结构完整性和功能稳定性。
铝基碳化硅的热膨胀系数能够满足这些要求,使得它成为这些领域中的理想材料。
总之,铝基碳化硅的热膨胀系数是一个重要的物理性质,它决定了材料在不同温度下的尺寸变化。
了解并控制这种性质对于优化铝基碳化硅的应用至关重要。
在电子封装和航空航天等领域中,铝基碳化硅的热膨胀系数能够满足高温环境下的性能要求,使其成为一种具有广泛应用前景的高性能材料。
铝碳化硅材料应用LED
随着LED制造技术的飞跃以及器件更高性能的要求,对封装材料提出了更新、更高的要求,传统材料不再适用于高功率密度器件的封装。
过去大量使用的铝、铜、可伐或半导体材料等不能达到良好的导热指标和轻便的要求,而且成本较高,已不能满足这种高功率密度的需要。
这使得电子器件热管理问题成为瓶颈。
电子器件热管理问题得不到很好的解决,会导致电子器件的热失效,从而造成封装体与芯片因受热膨胀而开裂,芯片散热性不佳而停止工作。
当两种接触材料的热膨胀系数差异达到12ppm/K时,仅100次热循环就会出现热疲劳失效,在大功率LED应用中,高亮度产品的电流量提高(电流由早期0.3A发展到目前约1A)或因其高功率(由早期1W发展到目前约可达5W)致使单位面积高热量产生。
目前光电转换效率,每100%的能源只有约20%产生光,而有80%的能源变为热能损耗,因此热量是能源最大的消耗。
但同时若不移除多余的热能,则LED 使用寿命及效能将折损。
为了保证此类设备的可靠性,就需要解决热管理这个问题。
解决这一瓶颈最好的方法就是通过改变提高封装材料的性能。
一、大功率LED照明光源需要解决的散热问题大功率LED芯片在工作时就会产生大量的热量。
如何将产生的热量散发出去,保证一定环境温度条件下能长期正常工作显得尤为重要,解决好热耗散是大功率器件封装的关键。
大功率LED照明光源需要解决的散热问题涉及以下几个环节:1、晶片PN结到外延层;2、外延层到封装基板;3、封装基板到散热器4、散热器到空气为了取得好的导热效果,提高对流散热。
LED发出的热量通过导热硅脂/焊锡传递给基板,再通导热硅脂传递给铝散热器再将热量通过辐射和对流的方式带到周围的空气中,将热量排除,形成从LED芯片通过导热硅脂和铝基板到周围空气的散热通路。
材料热传导性能的一个很重要的指标是热阻,热阻是指热量传递通道上两个参点之间的温度差与两点间热量传递速率的比值。
越短的热传导距离、越大的截面积、越高的热传导系数对热阻的降低越有利,这就要求设计合理的封装结构和选择合适的材料。
铝碳化硅产品设计及应用
铝碳化硅介绍及产品设计西安创正新材料公司是一家集研发、生产和销售为一体的高科技企业。
主要致力于第三代电子封装材料——铝碳化硅的研发、生产与销售,根据用户需求,开发了多种AlSiC产品,为微波器件、大功率器件、微电子器件等制造商提供专业的热管理材料及技术方案。
公司产品广泛应用于轨道交通、新能源汽车、航空航天、军事等领域,是新一代大功率电子器件最佳选择。
公司将持续加强与用户的交流与合作,不断满足国内外用户的市场需求,力争以先进的工艺技术、严格的质量管控、一流的性能水平、最高的性价比优势服务用户、持续为客户创造价值。
铝碳化硅介绍铝碳化硅 AlSiC (Al/SiC, SiC/Al) 是一种颗粒增强铝基复合材料,采用铝合金作为基体,SiC作为增强体,充分结合了陶瓷和金属铝的不同优势,实现了封装了轻便化、高密度化等要求。
AlSiC密度在2.95~3.1g/cm³之间,热膨胀系数(CTE)6.5~9ppm/℃,具有可调的体积分数,提高碳化硅体积分数可以使材料的热膨胀系数显著降低。
同时,铝碳化硅还具有高的热导率和比刚度,表面能够镀镍、金、银、铜,具有良好的镀覆性能。
铝碳化硅复合材料的比刚度是所有电子材料中最高的:是铝的3倍,W-Cu 和Kovar 的5倍,铜的25倍,另外铝碳化硅的抗震性好,因此是恶劣环境(震动较大,如航天、汽车等领域)下的首选材料。
铝碳化硅复合材料已成为航空航天、国防、功率模块和其他电子元器件所需求的新型封装材料。
用于航空航天微波、功率放大模块等电子器件及模块的封装壳体或底座。
与其他材料性能对比:材料成分密度(g/cm3) 热膨胀系数(10-6/K)热导率(W/mK)AlSiC Al+(50%-70%)SiC 3.05 6-9 180-240 CuW W+(10%-20%)Cu 15.6-17.0 6.5-8.3 180-200 CuMo Mo+(15%-20%)Cu 10.00 7.0-8.0 160-170 AlSi 50%Al+50Si 2.55 11.4 126 Kovar Fe+Ni 8.10 5.9 17Cu 8.96 17.8 398Al 2.70 23.6 238Si 2.30 4.2 151 GaAs 5.23 6.5 54Al2O3 3.60 6.7 17BeO 2.90 7.6 250AlN 98%purity 3.30 4.5 160-200铝碳化硅产品设计◆板类产品用 AlSiC 制成各种板类的产品,用于各类电路的热沉、基板、封盖、过渡片等,可替代目前在使用的氧化铍、氮化铝、钼片、钨铜合金及其它金属材料。
集成电路材料产品分类
集成电路材料产品分类集成电路(Integrated Circuit,IC)是由多个电子元件(如晶体管、电阻、电容)以及其它的被集成到一个芯片上的电子元件组成的器件。
集成电路的制造涉及多种材料,以下是一些常见的集成电路材料及其主要分类:硅(Silicon):单晶硅(Single Crystal Silicon):用于制造集成电路芯片的基底材料。
多晶硅(Polycrystalline Silicon):用于制造一些特殊部件,如太阳能电池等。
氧化物:二氧化硅(Silicon Dioxide):作为绝缘体用于集成电路中的绝缘层。
氧化铝(Aluminum Oxide):用于制造金属-绝缘体-金属(MIM)电容器。
金属:铝(Aluminum):用于金属导线,例如金属线与二氧化硅之间的联系。
铜(Copper):在一些高性能的集成电路中替代铝,用于导线以提高电导率。
金属合金:钨-铜合金(Tungsten-Copper Alloy):用于制造一些特殊的连接器和导线。
多层膜:多层金属(Multilayer Metal):多层金属用于连接不同层次的电路元件。
多晶硅(Polysilicon):用于制造一些特殊的电子器件,如场效应晶体管(FET)。
半导体材料:砷化镓(Gallium Arsenide):用于高频、高速电子器件。
碳化硅(Silicon Carbide):用于高温、高频、高功率应用。
氮化镓(Gallium Nitride):用于高频、高功率、高温电子器件。
有机材料:有机半导体材料:用于有机薄膜晶体管(OFET)等有机电子器件。
其他材料:玻璃(Glass):用于封装和保护集成电路。
光刻胶(Photoresist):用于光刻制程,定义集成电路的图案。
这只是集成电路材料的一小部分,实际上,集成电路制造涉及到众多材料的复杂组合和工艺。
选择不同的材料和工艺取决于集成电路的设计要求、性能目标以及应用领域。
高硅铝电子封装介绍--铸鼎工大-2018
张春伟 铸鼎工大副总 15045069318
邢大伟 铸鼎工大总经理 哈工大材料学院研究员 13804603138
典型构件加工尺寸:100´100´10mm,最小壁厚0.5mm
热 膨 胀 系 数:7~11´ 10-6/K(可调)
导 热 率: ≥ 120W/m.K
密
度:2.4~2.6g/cm3
气密性满足国军标GJB548B-1014要求(<1.0 ´ 10-9Pa.m3/s)
镀层质量,满足国标GB/T 5270-2005
11
(W·m -1·K-1)
密度/ 2.3 5.3 3.9 2.9 3.2 2.7 8.9 10.2 19.3 8.3
8.1
(g·cm -3)
半导体基体材料 (芯片级)陶瓷封装材料
纯金属
材料种类
热膨胀系数
CTE /(10-6 K-1)
热导率/ (W·m -1·K-1)
W/Cu
Mo/Cu
7.6—9.1 7.2—8.0
三、应用领域
用于雷达、微波组件管壳,大量代替可伐合金、钨铜、钼铜等。
用于微电子电路盒
微波接收器、 转换器、功率 放大器
高硅铝晶圆用于聚焦太阳能电池组
用于 射频基板
用于军用飞机的槽电阻
用于光学透镜筒体
四、铸鼎工大提供材料产品与解决方案
铸鼎工大通过独有的技术生产,提供前述的高硅铝及梯度高硅铝系列 材料。 并可配合用户进行针对具体型号件壳体的机加以及电镀、焊接的试验 与工艺摸索和定型。 亦可配合用户针对具体零件需求,设计特殊的梯度结构材料。
9
CE7 Al-Si70
7
热导率 (25℃) (W·m-1·K-1)
《电子与封装》2006年 第6卷1~12期目次索引
周亚丽 ,周
辰
倒装芯片热电极键合_ T艺研究 不锈钢压力传感器管座 电子封装中的铝碳化硅及其应用 测试系统分析方法研究 集成电路封装中的引线键合技术
贴片机视觉 对中系统
程 明生 ,陈该青 ,蒋健乾
严志 良
龙
乐
周 亚 丽 。黄 芝 花
黄玉财 ,程 秀兰 ,蔡俊荣
鲜 飞
七 (1 ) 6
谢 广超
Xi g h n u n s e gLi
P c a i ga d P ro ma c f 8 n B o dAr aS mi o d co a e s a k gn n e r n eo 0 m r a e e c n u t r sr f 9 L
(6 )
Xu -e h n , o gYa e ,i g e a e rn Z a gT n rT eJn —n Lu n l
二 (1O )
二 (1 6 )
二 (2 O )
高体积分数电子封装用铝基复合材料陛能研究
封 装树脂 与 P G 层 的关 系 K 分
修子扬 ,张强 ,武 高辉 ,等
铌 酸锂声 表面波 S MD的全 陶瓷封 装
曾 理 , 陈 文 嫒 ,谢 诗 文 ,等
维普资讯
第 6卷 , 1 第 2期
V 1 6 No 1 o . 2
. .
电 子
与
封
装
EL CTRONI E CS & P CKAGI A I NG
总 第4 4期 20 0 6年 l 2月
《 电子 与封装 》2 6年 0 0
第 6 1 1 期 目次索弓 卷 ~2
(1 6 )
电能计量专用集成电路测试方法研究
铝碳化硅加工参数
铝碳化硅加工参数
铝碳化硅(Aluminum Silicon Carbide,简称AlSiC)是一种复合材料,通常用于制造高性能的散热器、电子封装和其他需要优良导热性能的应用。
加工参数会根据具体的加工工艺和设备而有所不同,以下是一般用于铝碳化硅加工的一些建议参数:
1.切削工具:使用硬质合金刀具,通常为立铣刀、钻头或螺旋刀
具。
刀具的选择应考虑材料的硬度和磨损性能。
2.切削速度(Cutting Speed,Vc):切削速度是指刀具切削工件
的线速度。
对于铝碳化硅,建议切削速度较低,通常在50到
200米/分钟的范围内。
这有助于减小刀具磨损和提高表面质量。
3.进给速度(Feed Rate,F):进给速度是指刀具在单位时间内
沿工件表面运动的距离。
建议使用适中的进给速度,通常在0.05
到0.5毫米/刀齿。
4.切削深度:切削深度应适中,以确保切削过程的稳定性。
过大
的切削深度可能导致振动和加工表面质量下降。
5.冷却和润滑:由于铝碳化硅具有较高的导热性,适当的冷却和
润滑是关键。
可以使用切削液或空气喷射来降低加工温度,并
减小刀具磨损。
6.夹持方式:在加工过程中,确保工件夹持牢固,以防止振动和
误差。
可考虑采用合适的夹持装置,如真空吸附或机械夹紧。
7.刀具磨损监测:定期监测刀具磨损并及时更换,以保持加工质
量和效率。
请注意,这些参数仅供参考,具体的加工参数应该根据实际情况进行调整。
在进行铝碳化硅加工之前,建议与材料供应商或设备制造商联系,以获取更详细的加工建议。
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电子封装中的铝碳化硅及其应用1 引言铝碳化硅AlSiC(有的文献英文所略语写为SiCp/Al或Al/SiC、SiC/Al)是一种颗粒增强金属基复合材料,采用Al合金作基体,按设计要求,以一定形式、比例和分布状态,用SiC颗粒作增强体,构成有明显界面的多组相复合材料,兼具单一金属不具备的综合优越性能。
AlSiC研发较早,理论描述较为完善,有品种率先实现电子封装材料的规模产业化,满足半导体芯片集成度沿摩尔定律提高导致芯片发热量急剧升高、使用寿命下降以及电子封装的"轻薄微小"的发展需求。
尤其在航空航天、微波集成电路、功率模块、军用射频系统芯片等封装分析作用极为凸现,成为封装材料应用开发的重要趋势。
2 封装AlSiC特性封装金属材料用作支撑和保护半导体芯片的金属底座与外壳,混合集成电路HIC的基片、底板、外壳,构成导热性能最好,总耗散功率提高到数十瓦,全气密封性,坚固牢靠的封装结构,为芯片、HIC提供一个高可靠稳定的工作环境,具体材料性能是个首选关键问题。
在长期使用中,许多封装尺寸、外形都已经标准化、系统化,存在的主要缺陷是无法适应高性能芯片封装要求。
例如,Kovar(一种Fe-Co-Vi合金)和Invar(一种Fe-Ni合金)的CTE低,与芯片材料相近,但其K值差、密度高、刚度低,无法全面满足电子封装小型化、高密度、热量易散发的应用需求合金是由两种或两种以上的金属元素或金属与非金属元素所组成的金属材料,具有其综合的优势性能。
随之发展的Mo80 Cu20、Cu/Invar/Cu、Cu/Mo/Cu等合金在热传导方面优于Kovar,但期比重大于Kovar,仍不适合用作航空航天所需轻质的器件封装材料。
常用金属封装材料与CaAs的微波器件封装需求存在性能上的差距,使得研发一种新型轻质金属封装材料,满足航空航天用器件封装成为急需,引发相关部门调试重视。
经过近些年来的深入研究,AlSiC取得产业化进展,相继推动高硅铝合金Si/Al实用化进程,表2示出其主要性能与常用封装材料的对比。
将SiC与Al合金按一定比例和工艺结合成AlSiC后,可克服目前金属封装材料的不足,获得高K值、低CTE、高强度、低密度导电性好的封装材料。
从产业化趋势看,AlSiC可实现低成本的、无须进一步加工的净成形(net-shape)或需少量加工的近净成形制造,还能与高散热材料(金刚石、高热传导石墨等)的经济性并存集成,满足大批量倒装芯片封装、微波电路模块、光电封装所需材料的热稳定性及散温度均匀性要求,同时也是大功率晶体管、绝缘栅双极晶体管的优选封装材料,提供良好的热循环及可靠性。
3 封装AlSiC类型封装金属基复合材料的增强体有数种,SiC是其中应用最为广泛的一种,这是因为它具有优良的热性能,用作颗粒磨料技术成熟,价格相对较低;另一方面,颗粒增强体材料具有各向同性,最有利于实现净成形。
AlSiC特性主要取决于SiC 的体积分数(含量)及分布和粒度大小,以及Al合金成份。
依据两相比例或复合材料的热处理状态,可对材料热物理与力学性能进行设计,从而满足芯片封装多方面的性能要求。
其中,SiC体积分数尤为重要,实际应用时,AlSiC与芯片或陶瓷基体直接接触,要求CTE尽可能匹配,为此SiC体积百分数vol通常为50%-75%,表3示出某厂家产业化净成形AlSiC级别的详细情况。
此外,AlSiC可将多种电子封装材料并存集成,用作封装整体化,发展其他功能及用途。
研制成功将高性能、散热快的Cu基封装材料块(Cu-金刚石、Cu-石墨、Cu-BeO等)嵌入SiC预制件中,通过金属Al熔渗制作并存集成的封装基片。
在AlSiC并存集成过程中,可在最需要的部位设置这些昂贵的快速散热材料,降低成本,扩大生产规模,嵌有快速散热材料的AlSiC倒装片系统正在接受测试和评估。
另外,还可并存集成48号合金、Kovar和不锈钢等材料,此类材料或插件、引线、密封环、基片等,在熔渗之前插入SiC预成型件内,在AlSiC复合成形过程中,经济地完成并存集成,方便光电器件封装的激光连接。
采用喷射沉积技术,制备了内部组织均匀、性能优良、Si含量高达70wt%(重量百分率)的高硅铝合金SiAl封装材料,高硅铝合金CE牌号的性能如表4所示,由于其CTE与Si、GaAs该匹配,也可用于射频、微波电路的封装及航空航天电子系统中,发展为一种轻质金属封装材料。
4 封装AlSiC制备SiC颗粒与Al有良好的界面接合强度,复合后的CTE随SiC含量的变化可在一定范围内进行调节。
由此决定了产品的竞争力,相继开发出多种制备方法。
用于封装AlSiC预制件的SiC颗粒大多在1μm-80μm范围选择,要求具有低密度、低CTE,高弹性模量等特点,其热导率因纯度和制作方法的差异在80W(m·K)-200W(m·K)之间变化。
基体是强度的主要承载体,一般选用6061、6063、2124、A356等高强度Al合金,与SiC按一定比例和不同工艺结合成AlSiC,解决SiC 与Al润湿性差,高SiC含量难于机加工成型等问题,成为理想的封装材料。
制备500vol%-75vol%SiC高含量的封装用AlSiC多采用熔渗法,其实质是粉末冶金法的延伸。
它通过先制备一定密度、强度的多孔基体预制件,再渗以熔点比其低的进入填充预制件,其理论基础是在金属液润湿多孔基体时,在毛细管力作用下,金属液会沿颗粒间隙流动填充多孔预制作孔隙,脱模无须机械加工,在其表面上覆盖有一层0.13mm-0.25mm厚的完美Al合金层,按用途电镀上Ni、Au、Cd、Ag,供封装用。
熔渗法是AlSiC制备的关键,一般分为有压力渗透和无压力渗透,前者根据生产过程中压力施加的大小,方式的不同,又分为挤压熔渗、气压压力熔渗、离心熔渗铸造法等,主要特点是需要真空和高压设备,渗透时间较短,有效控制Al与SiC的界面反应,同时与精度的模具相配套,获得适用性发展。
后者是将Al合锭放置在SiC预制件上,在合金熔点以上保温,Al合金液依托毛细管力的作用自发渗入预制件中,所需设备简单,予以低成本制备,但产品的机械性能与热性能略低,对基体合金的成份有较为严格的要求,浸透需要在保护气氛中进行。
粉末冶金法对SiC体积分数可在15%-75%之间调节,SiC承载量大,但较难实现材料的一次成形。
AlSiC封装材料产业化引起国内科研院所、大学等单位的广泛重视,积极着手研发其净成形工艺,部分单位研制成功样品,为AlSiC工业化生产积累经验,离规模化生产尚有一定距离,存在成本高、SiC体积含量不高、低黏度、55%-75%高体积分浆料的制备与浆粒原位固化技术等问题。
5 封装AlSiC的应用IC产业的发展与其设计、测试、流片、封装等各环节密切相连,最终在市场应用中体现价值认同,良性循环形成量产规划,实现经济效益。
封装技术至关重要,尤其是军用产品一致采用金属封装,陶瓷封装结构,确保旗杆、模块、组件、系统的整体可靠性的金属封装气密性高,散热性好,形状可多样化,有圆形、菱形、扁平形、浅腔与深腔形等,其材料难以满足当今航空航天、舰船、雷达、电子战、精确打击、天基和海基系统对大功率、微波器件封装的需求。
按目前VLSI 电路功耗的同一方法计算,未来的SoC芯片将达到太阳表面温度,现有的设计和封装方法已不能满足功率SoC系统的需求。
AlSiC恰好首先在这一领域发挥作用,现以军用为主,进而推向其他市场。
5.1 T/R模块封装机载雷达天线安装在飞机万向支架上,采用机电方式扫描,其发展的重要转折点是从美国F-22开始应用有源电子扫描相控阵天线AESA体制,其探测距离如表5所示,研发出多种AESA系统。
例如,APG-80捷变波束雷达、多功能机头相控阵一体化航电系统、到功能综合射频系统、综合式射频传感器系统、JSF 传感器系统等,所用T/R(发/收)模块封装技术日趋成熟,每个T/R模块成本由研发初期的10万美元降至600-800美言,数年内可降至约200美元,成为机载雷达的核心部分。
几乎所有的美国参战飞机都有安装新的或更新AESA计划,使其作战效能进一步发挥,作多目标威胁环境中先敌发现、发射、杀伤,F-22机载AESA雷达可同时探测跟踪目标数分别为空中30个、地面16、探测范围为360度全周向。
AESA由数以千计的T/R模块(有的高达9000个左右)构成,在每个T/R模块内部都有用GaAs技术制作的功率发射放大器、低噪声接受放大器、T/R开关、多功能增益/相位控制等电路芯片,最终生产关键其封装技术上,因机载对其体积与重量的限制极为苛刻。
AlSiC集低热胀、高导热、轻质于一体,采用AlSiC 外壳封装T/R模块,包括S、C、X、Ku波段产品,可满足实用需求。
雷达APG-77是一部典型多功能、多工作方式雷达,其AESA直径约1m,用2000个T/R模块构成,每个T/R模块输出功率10W,移相器6位,接受噪声系数2.9dB,体积6.4cm3,重14.88g,平均故障间隔MTBF20万h,其发射功率比初期产品增加16倍,接受噪声系数降低1倍,体积重量减少83%,成本下降82%。
以1000个T/R模块构成机载AESA雷达为例,用AlSiC替代Kovar,雷达重量可减轻34kg,而热导率比Kovar提高10余倍,且提高整机可靠性MTBF达2000h以上。
试验表明,及时AESA中10%的T/R模块产生故障,对系统无显著影响,30%失效时,仍可维持基本工作性能,具有所谓的"完美降级"能力。
本世纪初,美国AlSiC年产量超过100万件,T/R模块由"砖"式封装向很薄、边长5cm或更小方块形的"瓦"式封装发展,进一步降低T/R模块的尺寸、厚度,重量以及所产生的热量。
欧洲防务公司、法、英、德联合开发机载AESA及T/R 模块技术,研制具有1200个T/R模块全尺寸样机的试验工作,俄罗斯积极着手研制第4代战斗机用AESA雷达,以色列、瑞典研制出轻型机载AESA预警雷达,机载AESA及T/R模块市场持续升温。
在国内,随着AESA产品的定型,T/R模块出现批量生产需求,其基板、壳体的生产极为关键,采用近净成形技术,研制出小批量T/R模块封装外壳样品。
用无压熔渗AlSiC制作基座替代W-Cu基座,封装微波功率器件,按GJB33A-97和GJB128A-97军标严格考核,器件的微波性能、热性能无变化,可完全满足应用要求,前者的重量只及W-Cu基座的20%,且成本仅为后者的1/3左右,有望在封装领域大量替代W-Cu,Mo-Cu等材料。
国产L波段功率器件月批量生产累计上千只,实现某型号雷达全面国产化、固态化,今后几年会持续批量生产,S、C波段功率模块怎样低成本生产,将涉及AlSiC封装材料的研发应用。