基本薄膜材料汇总
13种薄膜材料概述
13种薄膜材料介绍薄膜具有良好的韧性、防潮性和热封性能，应用非常广泛；PVDC薄膜适合包装食品，并能长时间保鲜；而水溶性PVA薄膜不必开封直接投入水中即可使用；PC薄膜无味、无毒，有类似玻璃纸的透明度和光泽，可在高温高压下蒸煮杀菌。
本文将主要介绍几种塑料薄膜的性能及其使用。
从商品生产到销售，再到使用，包装件要经过储存、装卸、运输、货架陈列以及在消费者手中存放，这个过程中即可能遇到严寒、酷暑、干燥、潮湿等恶劣的自然气候条件，也要遭受振动、冲击和挤压等各种机械破坏，甚至还有微生物和虫类的侵害。
要保证商品的质量，主要依靠包装材料来保护，所以包装材料非常重要。
塑料薄膜是最主要的软包装材料之一，塑料薄膜的种类繁多，特性各异，根据薄膜的不同特性，其用处也不同，下面介绍几种常见的塑料薄膜：聚乙烯薄膜PE薄膜使用大量最大的塑料包装薄膜，约占塑料薄膜总耗用量的40%以上。
PE薄膜虽然在外观、强度等方面并不十分理想，但它具有良好的韧性、防潮性和热封性能，且加工成型方便，价格便宜，所以应用非常广泛。
1、低密度聚乙烯薄膜。
LDPE薄膜主要采用挤出吹塑法和T模法生产的LDPE 薄膜是一种柔韧而透明的薄膜，无毒、无嗅，厚度一般在0.02～0.1㎜之间。
具有良好的耐水性、防潮性、耐旱性和化学稳定性。
大量用于食品、药品、日用品及金属制品的一般防潮包装和冷冻食品的包装。
但对于吸湿性大，防潮性要求较高的物品，则需要采用防潮性更好的薄膜和复合薄膜包装。
LDPE薄膜的透气率大、无保香性且耐油性差，不能用于易氧化食品、风味食品和含油食品的包装。
但透气性好使它能用于水果、蔬菜等新鲜物品的保鲜包装。
LDPE薄膜的热粘合性和低温热封性好，因此常用作复合薄膜的粘合层和热封层等，但由于其耐热性差，故不能用作蒸煮袋的热封层。
2、高密度聚乙烯薄膜。
HDPE薄膜是一种韧性的半透明薄膜，其外观为乳白色，表面光泽度较差。
HDPE薄膜的抗张强度、防潮性、耐热性、耐油性和化学稳定性均优于LDPE薄膜，也可以热封合，但透明性不如LDPE。
薄膜材料
薄膜材料：1、金属薄膜金属薄膜具有反射率高，截止带宽、中性好，偏振效应小的特点。
复折射率n-ik n折射率，k消光系数。
垂直入射时，R=((1-(n-ik))/(1+(n-ik))2=((1-n)2+k2)/((1+n)2+k2)倾斜入射时，下面介绍几种最常用的金属膜特性。
（1）Al唯一从紫外（0.2mm)到红外（30mm）具有很高反射率的材料，在大约波长0.85mm处反射率出现一极小值，其反射率为86％。
铝膜对基板的附着力比较强，机械强度和化学稳定性也比较好，广泛用作反射膜。
新淀积的Al膜暴露在大气中后，薄膜立即形成一层非晶的高透明Al2O3膜，短时间内氧化物迅速生长到15～20A0。
在紫外区一般采用MgF2膜作为保护膜，可见区采用SiO作为初始材料，蒸发得到以Si2O3为主的SiOx 膜作为Al保护膜。
制备条件：高纯镀的Al（99.99％）；在高真空中快速蒸发（50～100nm/s）；基板温度低于50℃。
（2）Ag银适用于可见区和红外区波段，具有很高的反射率。
可见区的反射率可以达到95％，红外区反射率99％，紫外区反射率很低。
Ag层需加保护膜，Al2O3与Ag有很高的附着力，SiOx具有极强的保护性能，所以常用结构为G|Al2O3-Ag-Al2O3-SiOx|A Al2O3膜层厚度为20～40nm，SiOx膜补足设计波长的二分之一。
制备条件：高真空、快速蒸发和低的基板温度。
（3）金Au在红外波段内具有几乎和银差不多的反射率，用作红外反射镜，金膜新蒸发时，薄层较软，大约一周后，金膜硬度趋于稳定，膜层牢固度也趋于稳定。
制备条件：高真空，蒸发速率30～50A/s，基板温度100～150℃。
需要在基板先打底，以Cr或Ti膜作底层。
常用Bi2O3，ThF4等作保护膜，以提高强度。
（4）铬CrCr膜在可见区具有很好的中性，膜层非常牢固，常用作中性衰减膜。
制备条件：真空度在1×10-2～2×10-4Pa，淀积速率95～300A/s。
《薄膜材料简介》课件
环保化
随着环保意识的提高，环保型薄膜材料的需求越来 越大，薄膜材料的环保化成为未来的重要发展方向 。
智能化
随着智能化技术的不断发展，智能化薄膜材 料的应用越来越广泛，成为薄膜材料的重要 发展方向。
面临的挑战
技术创新
溅射沉积
利用高能离子轰击靶材，使靶材 原子或分子被溅射出来，并在基 材表面凝结形成薄膜。
离子镀
利用电场将气体离子加速到基材 表面，通过离子轰击将靶材原子 或分子沉积在基材表面形成薄膜 。
化学气相沉积法
01
常温化学气相沉积
在常温下，将反应气体通过热解 、化学反应等过程在基材表面形 成薄膜。
02
热化学气相沉积
将反应气体加热至较高温度，使 其发生热解或化学反应，在基材 表面形成薄膜。
03
等离子体增强化学 气相沉积
利用等离子体激发反应气体，使 其发生化学反应并在基材表面形 成薄膜。
溶胶-凝胶法
溶液制备
将原料溶解在溶剂中，制备成均一的溶液。
凝胶化
将溶胶进行热处理或引发剂引发，使其形成 凝胶。
溶胶制备
将溶液进行水解、聚合等反应，形成溶胶。
电学特性
薄膜材料具有导电、绝缘、半导电等特性，使其在电子器件、传感器 和能源存储等领域有广泛应用。
用途
光学仪器制造
太阳能电池
利用薄膜材料的高透光性和低反射性，制 造各种光学仪器，如相机镜头、望远镜和 显微镜等。
通过在太阳能电池表面镀制特定光谱选择 吸收的薄膜材料，提高光电转换效率。
显示面板制造
柔性电子产品
能量转换膜
用于燃料电池、太阳能电池和锂电 池等。
基本薄膜材料范文
基本薄膜材料范文基本薄膜材料是一种非常薄的材料，通常厚度在纳米至微米的范围内。
它们广泛应用于电子设备、太阳能电池、可穿戴设备和医疗器械等领域。
基本薄膜材料具有很多优点，如轻质、柔韧、透明和高电导性等。
本文将介绍几种常见的基本薄膜材料。
1.氧化物薄膜材料：氧化物薄膜材料具有优异的电学、光学和磁学性质，在电子器件和能源转换领域具有广泛应用。
其中，氧化钇铈薄膜用于固态氧化物燃料电池，氧化锆薄膜用于陶瓷涂层，氧化铝薄膜用于绝缘材料。
2.碳化物薄膜材料：碳化物薄膜材料具有良好的机械性能和热传导性能，在涂层保护、陶瓷刀具和导热材料等领域有广泛应用。
其中，碳化硅薄膜用于涂层保护和光学镀膜，碳化钨薄膜用于硬质合金刀具。
3.金属薄膜材料：金属薄膜材料具有良好的导电性和热传导性，在电子器件、太阳能电池和导热界面材料等领域广泛应用。
其中，铜薄膜用于电子线路和导热材料，铝薄膜用于光学反射镜和电容器。
4.半导体薄膜材料：半导体薄膜材料具有特殊的电子能带结构和电学性质，在光电子学、光伏和集成电路等领域有广泛应用。
其中，硅薄膜用于太阳能电池和集成电路，化合物半导体薄膜材料如氮化物和磷化物用于光电子器件和激光器。
5.无机玻璃薄膜材料：无机玻璃薄膜材料具有很高的化学稳定性和光学透明性，在光学涂层、显示器件和光纤通信等领域广泛应用。
其中，氧化硅薄膜用于光学涂层和显示器件，氮化硅薄膜用于光纤通信。
6.有机薄膜材料：有机薄膜材料具有柔韧性、可塑性和可加工性等特点，在平板显示器、太阳能电池和柔性电子等领域有广泛应用。
其中，聚合物薄膜用于柔性显示器和太阳能电池，有机小分子薄膜用于有机发光二极管。
基本薄膜材料具有不同的特性和应用领域，其制备方法也存在差异。
一般来说，薄膜制备方法可分为物理气相沉积、化学气相沉积和溶液法等。
物理气相沉积包括蒸发、激光蒸发、磁控溅射和分子束外延等方法；化学气相沉积包括化学气相沉积和气相热解等方法；溶液法则包括旋涂、喷涂、浸渍和印刷等方法。
常见薄膜材料参数
A=5.654,B=0.0565
F 1
Dy2O3
2340
E
2.0(0.29μ,350℃)
1.91(0.55μ,350℃)
0.28~
FH 1
Eu2O3
2050
E
1.88(0.7μ,350℃)
0.3~
FH 1
Fe2O3
1565
E
5.1
2.72(0.55μ)
0.11(0.55μ)
0.8~
M 1
A=4.2446,B=0.13158
8×10-3(0.3μ)
1×10-3(0.6μ)
0.35~10
无定形
FH,▲,1
ThF4
1100
B(Ta,Mo)
6.32
1.5(0.55μ,35℃)
1.35(10.6μ)
5×10-4(0.5μ)
2×10-3(1μ)
1×10-4(10.6μ)
0.2~15
无定形
M,▲▲ ▲，T,1
1.62(0.55μ,300℃)
2.3×10-3(0.515μ)
8×10-3(1.06μ)
0.2~8
无定形
p=1.0
H,▲▲▲,1
AlF3
900
B
1.38(0.55μ)
0.2~>30
无定形
P=0.64(35℃)
S T小
Bi2O3
860
P(Pt)
8.3
2.45(0.55μ)
0.4~
FH 1
BiF3
727
9×10-6(0.5μ)
6×10-6(1μ)
0.11~6
结晶
P=0.72(30℃)
薄膜材料介绍课件
薄膜材料可作为组织工程的支架材料，用于再生医学领域 。
其他领域
包装行业
薄膜材料在包装行业中 广泛应用，如食品包装 、药品包装等。
装饰行业
薄膜材料可用于制造各 种装饰品，如玻璃贴膜 、汽车贴膜等。
信息存储
薄膜材料可用于高密度 信息存储，如光盘和磁 记录介质。
05
薄膜材料的发展趋势与 挑战
新材料开发
分类
根据材料类型，薄膜材料可以 分为金属薄膜、绝缘体薄膜、 半导体薄膜、聚合物薄膜等。
根据制备方法，薄膜材料可以 分为物理气相沉积薄膜、化学 气相沉积薄膜、溶胶-凝胶法薄 膜等。
根据应用领域，薄膜材料可以 分为光学薄膜、电子薄膜、生 物薄膜、能源薄膜等。
通常具有较高的透明度，允许光线透过 ，适用于各种光学应用。
薄膜材料介绍课件
contents
目录
• 薄膜材料的定义与分类 • 薄膜材料的特性与性能 • 薄膜材料的制备方法 • 薄膜材料的应用领域 • 薄膜材料的发展趋势与挑战
01
薄膜材料的定义与分类
定义
01
薄膜材料是指厚度在微米至纳米 范围内的薄层材料，通常由一种 或多种材料组成。
02
薄膜材料可以具有各种不同的性 质，如光学、电学、磁学、力学 等，这使得它们在许多领域都有 广泛的应用。
能源领域
太阳能电池
薄膜太阳能电池是一种新型的太阳能电池，其特点是薄、轻、可弯 曲。
燃料电池
薄膜材料可用于制造燃料电池的电极和隔膜。
储能电池
薄膜材料在储能电池领域也具有广泛应用，如锂离子电池的电极材料 。
生物医学领域
生物传感器
薄膜材料可用于制造生物传感器，用于检测生物分子和细 胞。
包装薄膜种类和性能资料
常见的薄膜有：PVC、CPP、OPP、CPE、ONY、PET、AL七大类。
一. PVC（聚氯乙烯）PVC（聚氯乙烯）具有不易燃性、高强度、耐气侯变化性以及优良的几何稳定性，对氧化剂、还原剂和强酸都有很强的抵抗力。
另外，因其良好的柔韧性、收缩性，加工和贴标性能良好，耐化学腐蚀能力强，牢固耐用，因此适合长期在户外使用。
PVC有优良的着墨性能，又能制成各种颜色（PVC-4淡蓝色，PVC-5白色），应用范围很广。
适用于抗水、油及化学物品等性能要求较高的标签，顶正主要使用50u的PVC作为瓶标印刷，而娃哈哈瓶标一般使用40u的PVC。
包装薄膜大多是由聚氯乙烯树脂，通过添加增塑剂、稳定剂等多种助剂经由加工塑化而成。
由于其材料特性，决定了聚氯乙烯包装薄膜使用过程中与食品接触的安全问题外，聚氯乙烯包装薄膜废弃物对生态环境同样会产生严重的不良影响。
正是基于此，国际上许多国家的环保部门已颁布相关法规禁止或限制PVC的大量使用。
此外，PVC标签材料的降解性较差，对环境保护有负面的影响。
PVC热收缩膜适用于各类产品外包装及组合包装。
该产品特点为：透明度好、收缩率强、易操作.包装后的产品能密封防潮湿、绝缘、光亮、坚固、美观。
以此作为瓶标材料在，50%收缩率最大可达--收缩自如1.加工成型过程中可以紧贴瓶子。
2.晶莹光泽--高透明度可清晰展示产品外观，增加感观意识。
3.紧密封口--焊封性能好，不易开口，尤其适用于高速自动包装。
4.坚韧抗撕--韧性好，不易脆化，耐久抗撕裂强度大。
5.集体包装--增加销售数量，提高顾客购买欲望。
应用：PVC瓶标二.流延聚丙烯薄膜（CPP）流延聚丙烯薄膜是采用流延工艺生产的聚丙烯薄膜，又可分为普通CPP和蒸煮级CPP两种，透明度极好，厚度均匀，且纵横向的性能均匀，一般用做复合薄膜的内层材料。
普通CPP 薄膜的厚度一般在25～50μm 之间，与OPP复合后透明度较好，表面光亮，手感坚挺。
这种薄膜还具有良好的热封性。
薄膜技术与材料总结
薄膜的定义采用特定的制备方法在基板表面上生长得到的一薄层固态物质。
薄膜:由物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、溶液镀膜等薄膜技术制备的薄层。
厚膜:由涂覆在基板表面的悬浮液、膏状物经干燥、煅烧而形成。
主要方法:丝网印刷、热喷涂(如: T恤印刷)1.物理气相沉积技术(PVD)是利用热蒸发、离子溅射或辉光放电等物理过程，在基体表面沉积所需薄膜的技术2.化学气相沉积技术(CVD)是利用化学反应，将气相中的物质转移到基体表面形成所需薄膜的技术3.物理与化学相结合，以技术方法区分。
例如:氧化物、氮化物的制备。
薄膜的分类电学——超导、导电、半导体、电阻、绝缘、电介质、功能薄膜光学——增透、反射、减反、光存储、红外.磁学——磁记录和磁头薄膜声学——声表面波滤波器，如ZnO、Ta热学——导热、隔热、耐热机械——硬质、润滑、耐蚀、应变化学、生物用途传感器:压力，温度，湿度，加速度，气体光电子器件:薄膜电致发光器件，代替CRT作显示器信息及计算机:磁性薄膜，光盘，磁光盘光学:反射膜，增透膜.机械工业:耐磨涂层，硬质镀层，固体润滑膜，耐腐蚀装饰、包装，镀金，锡箔纸，塑料薄膜.上镀铝太阳能电池，超导薄膜，铁电薄膜，金刚石薄膜...真空真空:低于一个大气压U当地大气压的气体状态真空的性质由压强、单位体积分子个数、气体密度等表示。
特点:压强低，分子稀薄，分子的平均自由程长。
一般用“真空度”及‘压强’两个参量来衡量真空的程度。
为什么需要真空?1.需要粒子在较长的距离做直线运动。
2.提供一个洁净的表面(供薄膜沉积)。
真空的划分粗真空105-102Pa:目的是获得压差真空吸尘器，真空过滤器，CVD低真空102- 10-1Pa:气体分子运动特征改变，电场下具有导电特征真空瓶，真空干燥器，真空注入，溅射，LPCVD高真空10-1-10-6Pa:蒸发，离子源超高真空<10-6Pa :表面分析，粒子物理理想气体状态方程：低压状态下，可用理想气体的状态方程(波义尔定律、盖吕萨克定律、查理定律)来描述，遵守麦克斯韦——玻尔兹曼分布。
薄膜材料综述
薄膜材料综述薄膜材料是一种在各种领域中具有广泛应用的材料类型。
它们通常由一层薄的材料组成，其厚度可以从纳米到几个微米不等。
由于其独特的结构，薄膜材料具有许多特殊的性质，例如高表面积、高扩散性、光学透明性和防腐蚀性等。
因此，这些材料在各种领域中都有着广泛的应用，包括光电子学、生物医药、化学加工、能源材料、环保等领域。
薄膜材料制备的方法有许多种，其中包括化学气相沉积、物理气相沉积、溅射、离子束沉积、化学溶胶-凝胶法、电沉积等多种。
每种方法都有其各自的特点和应用范围。
例如，化学气相沉积法可以制备出高质量的晶体薄膜，而电沉积法则可以制备出较为均匀的薄膜。
在光电子学领域，薄膜材料被广泛应用于太阳能电池、发光二极管、光纤和平板显示器等器件中。
比如，硅薄膜可以用于制造太阳能电池，而氧化铟锡透明导电薄膜则可以用于制造光纤。
此外，某些有机薄膜材料也可以被用于制造发光二极管。
在生物医药领域，薄膜材料可以被用于制造医疗器械、生物传感器、药物控释和组织工程等方面。
例如，聚乳酸薄膜可以用于制造生物可降解的缝合线，而聚己内酯薄膜则可以用于制造药物缓释系统。
在化学加工领域，薄膜材料可以用于表面修饰、电化学催化和分离等方面。
例如，金属薄膜可以用于催化氢气化反应，而氧化铝薄膜可以用于制造氧阱传感器。
在能源材料领域，薄膜材料具有重要的应用价值。
例如，薄膜二氧化钛可以用于制造染料敏化太阳能电池，而氧化物薄膜可以用于制造燃料电池。
在环保领域，薄膜材料可以用于水处理、废气排放和重金属清除等方面。
例如，复合膜可以用于处理废水中的有机物，而离子交换膜也可以用于处理废水中的重金属。
总之，薄膜材料在各领域中都有着广泛的应用，且其应用范围和潜力仍在不断扩大。
未来，人们可以通过不断研究和开发新的薄膜材料制备方法和应用，来实现薄膜材料在各领域中的更广阔应用和贡献。
基本薄膜材料汇总
基本薄膜材料汇总基本薄膜材料是一种表面积极大、具有一定机械强度、且相对薄的材料。
其主要特点是具有高比表面积、透明度好、透光性高、可弯曲性强等优点，在许多领域都有广泛的应用。
下面是关于基本薄膜材料的1200字以上的汇总。
1.聚合物薄膜聚合物薄膜是一种广泛应用的薄膜材料。
它具有优良的物理、化学性质，透明度高，可塑性强，且可以通过不同的制备方法制得不同特性的薄膜。
常见的聚合物薄膜有聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚酰亚胺薄膜等。
2.金属薄膜金属薄膜是用金属材料制成的一种薄膜，其具有优异的导电性、导热性能和光学特性。
金属薄膜常见的有铝薄膜、银薄膜、铜薄膜等。
金属薄膜广泛应用于电子、光电、太阳能等领域。
3.陶瓷薄膜陶瓷薄膜是用陶瓷材料制成的一种薄膜，具有优异的耐高温性、耐腐蚀性和绝缘性能。
常见的陶瓷薄膜有二氧化硅薄膜、氧化铝薄膜、氧化锆薄膜等。
陶瓷薄膜广泛应用于微电子、光电、陶瓷膜分离等领域。
4.碳薄膜碳薄膜是以碳为主要成分的一种薄膜材料，具有优异的机械性能和化学稳定性。
碳薄膜可分为石墨样碳膜、金刚石样碳膜和非晶碳膜等。
碳薄膜广泛应用于涂层材料、生物医学、光学涂层等领域。
5.有机无机复合膜有机无机复合膜是由有机物质和无机物质组成的一种薄膜材料，具有有机物质和无机物质的优良特性。
有机无机复合膜具有优异的机械性能、热稳定性和光学特性。
常见的有机无机复合膜有有机硅薄膜、有机金属薄膜等。
有机无机复合膜广泛应用于光学涂层、防护涂层等领域。
总结起来，基本薄膜材料包括聚合物薄膜、金属薄膜、陶瓷薄膜、碳薄膜和有机无机复合膜等。
这些薄膜材料具有各自的特性和应用领域，广泛应用于电子、光电、材料科学等领域。
随着科学技术的发展，薄膜材料的种类将不断增加，其应用领域也将愈加广阔。
薄膜种类及特性
第一章：薄膜种类及特性一、PP（聚丙烯薄膜）1、BOPP（双向拉伸聚丙烯薄膜）特性如下：1)BOPP薄膜无色、无嗅、无味、无毒、卫生性能好、密度在0.92g/cm2 。
2)BOPP薄膜刚性好，具有强韧性、透明度和光泽性。
3)BOPP薄膜拉伸强度高、抗冲击强度好、但抗撕裂强度低。
因此，两端不能留任何切口，否则在印刷复合时容易撕裂。
4)BOPP薄膜表面能低，涂胶或者印刷前需要进行电晕处理，有很好的印刷适应性，但有一定期限，过期后表面能也不好。
5)BOPP薄膜耐热性高，使用温度可达120℃，是通用塑料中最耐温的。
6)BOPP薄膜化学稳定性好，除强酸对它有腐蚀作用外，不溶于其他溶剂。
7)BOPP薄膜阻水性极佳，是阻水防潮最佳材料之一，吸水率<0.01%，但阻氧率极差。
8)BOPP薄膜也有不足，如积累静电，没有热封性等。
在高速运转的的生产线上需安装静电去除器。
2、消光BOPP消光BOPP的表层设计为消光（粗化）层，是外观的质感试于纸张。
消光BOPP 与BOPP薄膜相比有以下特点：1)消光层有遮光作用，表面光泽度也就大大的减少。
2)必要时消光层可有热封性。
3)消光层滑爽性好，因表面粗化具有防粘性，膜卷不易粘结。
4)消光层的拉伸强度比通用的薄膜低。
二、CPP薄膜CPP薄膜即流延聚丙烯薄膜，是一种无拉伸、非定向聚丙烯薄膜。
按原料分为均聚CPP和共聚CPP，按作用分为通用CPP，镀铝(VMCPP），蒸煮CPP(RCPP)等。
特性如下：1)CPP薄膜透明度高、平整度高，但耐油性不是很好。
2)CPP薄膜耐温性好，但易变形，可具有热封性，不易反粘。
3)CPP薄膜手感好、遮光、具有一定挺刮度，不失柔韧性，热封性好。
4)CPP薄膜防湿防潮、阻氧性都很好。
5)CPP薄膜无毒、无味、无嗅、卫生性能好，密度在0.92g/cm2。
三、BOPET薄膜双向拉伸聚酯薄膜（BOPET,简称聚酯）是PET树脂在模挤后再双向拉伸缩制得。
基本薄膜材料总汇
基本薄膜材料名称：钇（Y）三氧化二钇，（Y2O3）使用电子枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm时折射率约为1.8.用作铝保护膜其极受欢迎,特别相对于800—12000nm区域高入射角而言,可用作眼镜保护膜,且24小时暴露于湿气中.一般为颗粒状和片状.名称：二氧化铈（CeO2）使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发,在200℃的基板上蒸着二氧化铈,得到一个约为2.2的折射率,在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化,在300℃基板500nm区域折射率为2.45,在波长短过400nm时有吸收,传统方法蒸发缺乏紧密性,用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般为颗粒状,还可用一增透膜和滤光片等.名称：氧化镁(MgO)必须使用电子枪蒸发因该材料升华,坚硬耐久且有良好的紫外线(UV)穿透性,250nm时n=1.86, 190nm时n=2.06. 166nm时K值为0.1, n=2.65.可用作紫外线薄膜材料.MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm区域透过性良好,但膜层被限制在60层以内(由于膜应力)500nm时环境基板上得到n=1.70.由于大气CO2的干扰,MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层,可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜(MgO/CeO2/MgF2).名称：硫化锌(ZnS)折射率为2.35, 400—13000nm的透光范围,具有良好的应力和良好的环境耐久性,ZnS在高温蒸着时极易升华,这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层,因此需要彻底清炉,并且在最高温度下烘干,花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线(UV)对ZNS有较大的影响,由于紫外线在大气中导致15—20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO).TIO2由于它的高折射率和相对坚固性,人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域,但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TIO2, TI2O3. TIO, TI ,这些原材料氧—钛原子的模拟比率分别为:2.0, 1.67, 1.5, 1.0, 0. 后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层,比率为2的材料第一层产生一个大约2.06的折射率,后面的膜层折射率接近于2.21.比率为1.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这几种膜料都无吸收性,几乎每一个TIO2蒸着遵循一个原则:在可使用的光谱区内取得可以忽略的吸收性,这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TIO2需要使用IAD助镀,氧气输入口在挡板下面.TI3O5比其它类型的氧化物贵一些,可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些,PULKER等人指出,最后的折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的,基板温度高则得到高的折射率.例如,基板板温度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63,可是由于别的原因,高温蒸着通常是不受欢迎的,而离子助镀已成为一个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射,通常需要提供足够的氧气以避免(因为有吸收则降低透过率),但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值(LDT).TIO2的折射率与真空度和蒸发速度有很大的关系,但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题,所以在可见光和近红外线光谱中,TIO2很受到人们的欢迎.在IAD助镀TIO2时,使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV,而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些,在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%,如果离子能量超过以上数值,TIO2将有吸收.而SIO2有电子枪蒸发可以提供600EV碰撞(离子辐射)能量而没有什么不良效应.TIO2/SIO2制程中都使用300EV的驱动电压,目的是在两种材料中都使用无栅极离子源,这样避免每一层都改变驱动电压,驱动电压高低的选择取决于TIO2所允许的范围,而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围.TIO2用于防反膜,分光膜,冷光膜,滤光片,高反膜,眼镜膜,热反射镜等,黑色颗粒状和白色片状,熔点:1175℃TI2O3用于防反膜滤光片高反膜眼镜膜名称:氟化钍（ThF4）260—12000nm以上的光谱区域，是一种优秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可视光谱区N从 1.52降到1.38(1000nm区域)在短波长趋近于1.6,蒸发温度比MGF2低一些,通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去,而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收,这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性,在8000到12000NM完全没有材料可以替代.名称: 二氧化硅(SIO2)经验告诉我们,,氧离子助镀(IAD)SIO将是SIO2薄膜可再现性问题的一个解决方法,并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.SIO2薄膜如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大,,需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性,必要是需要氧气和氩气混合充气,但是这是热镀的情况,冷镀时这种性况不存在.名称: 一氧化硅(SIO)熔点较低,可用钼舟或钛舟蒸发,但需要加盖舟因为此种材料受热直接升华. 使用电子枪加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法. 制备塑料镜片时,一般第一层是SIO,可以增加膜的附着力.名称:OH-5(TIO2+ZrO2)呈褐色块状或柱状尼康公司开发之专门加TS--ェート系列抗反射材料,折射率受真空度,蒸发速率,氧气压力的影响很大,蒸镀时不加氧或加氧不充分时,制备薄膜会产生吸收现象,但是我们在实际应用时没有加氧也比较好用.名称:二氧化镐(ZrO2)ZrO2具有坚硬,结实及不均匀之特性,该薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收,其材料的纯度及为重要,纯度不够薄膜通常缺乏整体致密性,它得益于适当使用IAD 来增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均匀性.目前纯度达到99.99%基本上解决了以上的问题.SAINTY 等人成功地使用ZRO2作为铝膜和银膜的保护膜,该膜层(指ZRO2)是在室温基板上使用700EV 氩离子助镀而得到的.一般为白色柱状或块状,蒸发分子为ZRO,O2.柱状或块状较少.真空度小于2*10-5Torr 条件下蒸发可得到较稳定的折射率，真空度大于5*10-5Torr 时蒸发，薄膜折射率逐渐变小。
13种薄膜材料概述
13薄膜材料介绍该膜具有良好的韧性，耐湿性和热封性能，被广泛使用；直流电压薄膜适合包装食品，可以长时间保鲜；而水溶性聚乙烯醇无需打开密封条并将其放入水中即可直接使用该薄膜；个人电脑该膜无味，无毒，具有与玻璃纸相似的透明性和光泽度，可以在高温和高压下进行蒸煮和灭菌。
本文将主要介绍几种塑料薄膜的性能和用途。
从产品生产到销售，再到使用，包装必须在消费者手中进行存储，装卸，运输，货架展示和存储。
在此过程中，可能会遇到严酷的自然天气条件，例如严寒，高温，干燥和潮湿。
它还遭受各种机械损伤，例如振动，冲击和挤压，甚至微生物和昆虫。
为确保商品质量，主要依靠包装材料进行保护，因此包装材料非常重要。
塑料膜是最重要的软包装材料之一。
有许多不同特性的塑料薄膜。
根据胶片的不同特性，其用途也不同。
以下是一些常见的塑料薄膜：聚乙烯薄膜聚乙烯该薄膜使用了大量最大的塑料包装薄膜，约占塑料薄膜总消耗量40％以上。
聚乙烯尽管该膜在外观和强度方面不是很理想，但是它具有良好的韧性，耐湿性和热封性，并且易于加工和形成，并且价格便宜，因此被广泛使用。
1个，低密度聚乙烯薄膜。
低密度聚乙烯薄膜主要采用挤出吹塑成型方法，Ť模压生产低密度聚乙烯薄膜是柔性透明薄膜，无毒，无味，厚度一般0.02〜0.1之间。
它具有良好的耐水性，耐湿性，耐旱性和化学稳定性。
它广泛用于食品，药品，日用品和金属制品的常规防潮包装以及冷冻食品的包装。
然而，对于具有高吸湿性和高耐湿性要求的物品，包装需要具有更好的耐湿性的膜和复合膜。
低密度聚乙烯该膜具有高的透气性，没有香气滞留性和差的耐油性，并且不能用于包装易氧化食品，调味食品和油性食品。
但其良好的透气性使其适合包装水果和蔬菜等新鲜物品。
低密度聚乙烯该膜具有良好的热粘合性和低温热封性，因此常被用作复合膜的粘合层和热封层，但是由于其耐热性差，因此不能用作热封层。
蒸煮袋。
2，高密度聚乙烯薄膜。
高密度聚乙烯该膜是坚韧的半透明膜，具有乳白色外观和差的表面光泽。
薄膜电容原材料
薄膜电容是一种常见的电子元件，广泛应用于电路中作为滤波、耦合、旁路、调谐等功能。
其主要原材料包括：
1. 介电薄膜：这是薄膜电容的核心部分，常用的介电材料有聚酯（PET）、聚丙烯（PP）、聚苯硫醚（PES）、聚碳酸酯（PC）、聚乙烯（PE）和聚苯乙烯（PS）等。
这些材料具有良好的电绝缘性能、化学稳定性以及加工性能。
2. 金属化膜：为了形成电容的电极，介电薄膜的一侧或两侧会镀上一层薄薄的金属膜。
常用的金属化材料包括铝、锌、镍、铜和银等。
金属化可以通过真空蒸发、溅射或化学气相沉积等技术实现。
3. 封装材料：薄膜电容在制造过程中还需要用到封装材料来保护内部元件，防止潮湿和污染。
常用的封装材料有环氧树脂、聚氨酯和聚四氟乙烯（PTFE）等塑料。
4. 端子材料：为了使薄膜电容能够在电路中安装和连接，需要使用导电材料制作端子。
常用的端子材料包括镀锡铜线、镀镍铜片、金片和银片等。
5. 粘合剂和助焊剂：在组装过程中，可能需要使用粘合剂来固定元件，以及助焊剂来帮助焊接。
这些材料的选择取决于电容的设计和制造工艺要求。
薄膜电容的性能特点，如额定电压、容量范围、温度系数、漏电流和频率特性等，主要由所选用的原材料决定。
因此，在设计和制造薄膜电容时，需要根据应用需求选择合适的原材料和工艺参数。
薄膜基本原料介绍
薄膜基本原料介绍一、聚乙烯（PE）（一）性能及用途聚乙烯是典型的热塑性塑料，为无臭、无味、无毒的可燃性白色粉末。
成型用的聚乙烯树脂均为经挤出造粒的蜡状颗粒料，外观呈乳白色。
聚乙烯的分子量在1万~100万之间，分子量超过100万的为超高分子量聚乙烯。
分子量越高，其物理力学性能越好，但随着分子量的增高，加工性能降低。
因此，要根据使用情况选择适当的分子量和加工条件。
高分子量聚乙烯是个加工结构材料和负荷材料，而地分子量聚乙烯只适合作涂覆、上光剂、润滑剂和软化剂等。
聚乙烯的力学性在很大程度上取决于复合物的分子量、支化度和结晶度。
高密度聚乙烯的拉伸强度为20~25MPa，而低密度聚乙烯的拉伸强度只有10~12MPa。
聚乙烯的伸长率主要取决于密度，密度大，结晶度高，其蔓延性就差。
聚乙烯的电绝缘性能优异。
因为它是非绝缘材料，其介电常教及介电损耗几乎与温度、频率无关；高频性能很好，适于制造各种高频电缆和海底电缆的绝缘层。
（二）品种1．低密度聚乙烯（LDPE）(1) 性能低密度聚乙烯的密度范围为0.910~0.925g/cm³。
分子结构为主链上带有长、短不同支链的支链型分子。
在主链上每1000个碳原子中约带有50个以下的乙基、丁基或更长的支链。
与高密度和中密度聚乙烯相比，它具有较低的结晶度（55%～65%），较低的软化点（108ºC～126ºC）以及较宽的熔体指数（0.2～80g/10min）。
由于低密度聚乙烯的化学结构与石蜡烃类似，不含极性基团，所以具有良好的化学稳定性，对酸、碱和盐类水溶液具有耐腐蚀作用。
它的电性能及好，具有导电率低、介电常数低、介电损耗低以及介电强度高等特性。
但低密度聚乙烯的耐热性能较差，也不耐氧和光老化。
因此，为了提高其耐老化性能，通常要在树脂中加入抗氧剂和紫外线吸收剂等。
低密度聚乙烯具有良好的柔软性、延伸性和透明性，但机械强度低于高密度聚乙烯和线型低密度聚乙烯。
薄膜材料简介
薄膜材料简介1.薄膜材料：应用领域：材料科学、能源、信息、微电子工业等;尤其宽禁带半导体光电功能材料，已成为各国研究的重点。
研究目的：利用新材料制备具有最佳性能的器件提高生产率，降低成本;发展方向：透明导电薄膜、具有低电阻、高透射率等可作为透明导电窗口。
2.什么是透明导电膜透明导电膜(TCO)目前最主要的应用是ITO膜,还有其他AZO等，ITO 薄膜是一种半导体透明薄膜, 它是氧化铟锡英文名称的缩写。
有学者将氧化铟系列( In2O22SnO2) 也称之为ITO 薄膜。
作为透明导电电极, 要求ITO 薄膜有良好的透明性和导电性。
所以, 此类材料的禁带宽度E g 一般都大于3 eV , 其掺杂组分要偏离化学计量比。
ITO 薄膜的制备方法有蒸发、溅射、反应离子镀、化学汽相沉积、热解喷涂等, 但使用最多的是反应磁控溅射法[ 1, 2 ]。
与其它透明导电薄膜相比, ITO 薄膜具有良好的化学稳定性、热稳定性以及良好的图形加工特性。
我们发现经过铯化处理的ITO 薄膜具有光电发射效应。
其光电发射稳定, 有1. 71 ua/lm 的积分灵敏度, 寿命达千小时以上。
这种ITO 薄膜的光电发射对于研制大面积的光电器件、平板显示器件会有较大的促进作用。
3. 透明导电膜的历史1907年最早使用CdO材料为透明导电镀膜，应用在photovoltaic cells。
1940年代，以Spray Pyrolysis及CVD 方式沉积SnOx于玻璃基板上。
1970年代，以Evaporation 及Sputtering 方式沉积InOx及ITO。
1980年代，磁控溅镀﹙magnetron sputtering﹚开发，使低温沉膜制程，不论在玻璃及塑胶基板均能达到低面阻值、高透性ITO薄膜。
1990年代，具有导电性之TCO陶瓷靶材开发，使用DC 磁控溅镀ITO，使沉积制程之控制更加容易，各式TCO材料开始广泛被应用。
2000年代，主要的透明导电性应用以ITO 材料为主，磁控溅镀ITO成为市场上制程的主流。
薄膜基材名称定义
薄膜基材名称定义
申凯包装
薄膜基材名称定义
缩略语
BOPP 双向拉伸聚丙烯薄膜
TOPP 双向拉伸雾面聚丙烯薄膜,也称消光膜POPP 双向拉伸聚丙烯珠光薄膜,也称珠光膜
SOPP 双向拉伸热封聚丙烯薄膜,也称热封OPP膜 YOPP 双向拉伸镭射压花聚丙烯薄膜
MOPP 双向拉伸镀铝聚丙烯薄膜
KOPP PVDC涂布双向拉伸聚丙烯薄膜
CPP 未拉伸聚丙烯薄膜
MCPP 真空镀铝未拉伸聚丙烯薄膜
MCPP-CPP真空镀铝阴阳未拉伸聚丙烯薄膜 PET 双向拉伸聚酯薄膜
MPET 真空镀铝聚酯薄膜
MPET-PET 真空镀铝阴阳聚酯薄膜
KPET PVDC涂布双向拉伸聚酯薄膜
NY 尼龙薄膜
KNY PVDC涂布双向拉伸尼龙薄膜
PE 聚乙烯薄膜
SPE 特殊PE ，（包括聚乙烯的微生物） PET-SI 镀氧化硅聚酯薄膜
NY-SI 镀氧化硅尼龙薄膜
AL 铝箔
PAPER 纸张
EVOH 乙烯-乙烯醇共聚物薄膜
EVA 乙烯-醋酸乙烯共聚物
EAA 丙烯酸类共聚物
SURLYN 离子型丙烯酸类共聚物
P 底涂，PRIMER在材料结构中的简写 OPV 保护光油
HSL 热封胶
HOT-MELT 热熔胶
ABS （丙烯腈/丁二烯/某乙烯）共聚物 AS （丙烯腈 /某乙烯）共聚物
……。
国内外薄膜品种
国内外薄膜品种
薄膜的原材料有：聚氯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯以及其他树脂。
常用的塑料薄膜主要有:
1、低密度聚乙烯薄膜，如大棚膜、农膜、地膜、保鲜膜、食品袋等;
2、高密度聚乙烯薄膜，如超薄薄膜、手提袋、内衬袋、食品袋等;
3、聚丙烯薄膜，如双向拉伸聚丙烯薄膜、服装透明包装袋、食品透明包装袋、彩色印刷复合膜等;
4、聚氯乙烯薄膜，如自粘膜、保鲜膜、文件袋、塑料印花台布等。
薄膜种类：
PVA涂布高阻隔薄膜、双向拉伸聚丙烯薄膜（BOPP）、低密度聚乙烯薄膜（LDPE）、聚酯薄膜（PET）、尼龙薄膜（PA）、流延聚丙烯薄膜（CPP）、镀铝薄膜等。
所以薄膜由以上材料构成。
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.基本薄膜材料黃中波摘抄總結名稱：釔（Y）三氧化二釔（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率在約為1•8。
用作鋁保護膜其極受歡迎，特別相對於8000nm—12000nm區域高入射角而言。
可用作眼鏡保護膜，且24小時暴露在濕氣中。
一般為顆粒狀和片狀。
名稱：二氧化鈰（CeO2使用高密度的鎢舟皿（較早使用）蒸發，在200℃的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個約為2•2的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發生顯著變化，在300℃基板上500nm區域n =2•45，在波長短過400nm時有吸收，傳統方法蒸發缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n =2•3（550nm）的低吸收性薄膜。
一般為顆粒狀。
還可用於增透膜和濾光片等。
由于其热辐射较少,在PMMA上镀膜可以优先该材料做为高折射率材料.名稱：氧化鎂（MgO）必須使用電子槍蒸發因該材料昇華，堅硬耐久且有良好的紫外線（UV）穿透性。
250nm n =1•86，190nm n =2•06，166nm時K值為0•1，n =2•65，可能用作紫外線薄膜材料。
Mg/MgF2膜堆從200nm—400nm 區域透過性良好，但膜層被限制在60層以內（由於膜應力）500nm時環境溫度基板上得到n =1•70，而在300℃基板上得到n =1•74。
由於大氣CO2的干擾，MgO暴露表面形成一模糊的淺藍的散射表層，可成功使用傳統的MHL折射率3層AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。
名稱：硫化鋅（ZnS）折射率2•35，400—13000的透光範圍，、具有良好的應力和良好的環境耐久性，ZnS在高溫蒸著時極易昇華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層，因此需要徹底清爐並且在最高溫度下烘乾，花數小時才能把鋅的不良效果消除。
Hass等人稱紫外線（UV）對ZnS有較大影響，由於紫外線在大氣中導致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉變成氧化鋅（ZnO）。
應用：分光膜，泠光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜,据国内光学厂资深老工程师讲,常年使用用ZNS的机器基本上五年后真空腔被腐蚀殆尽.尽管如此,在一些小作坊工厂因其易蒸发,低成本等原因仍被广泛使用,名稱：氟化釷（ThF4）260nm—12000nm以上的光譜區域，是一種優秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區n從1•52降到1•38（1000nm區域）在短波長趨近於1•6，蒸發溫度比MgF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免ThF4良性顆粒火星飛濺出去，而且形成的薄膜似乎比MgF2薄膜更加堅固。
該膜在IR光譜區3000nm水帶幾乎沒有吸收，這意味著有望得到一個低的光譜移位以及更大的整體堅固性。
在8000到12000nm完全沒有材料可替代。
名稱：二氧化鈦（TiO2）TiO2由於它的高折射率和相對堅固性，人們喜歡把這種高折射率材料用於可見光和近紅外線區域，但是它本身又難以得到一個穩定的結果。
TiO2，Ti3O5，Ti2O3，TiO及Ti，這些原材料氧—鈦原子的模擬比率分別為：2•0，1•67，1•5，1•0，0，後發現比率為1•67的材料比較穩定並且大約在550nm生成一個重復性折射率為2•21的堅固的膜層，比率為2材料的第一層産生一個大約2•06的折射率，後面的膜層折射率接近2•21。
比率為1•0的材料需要7個膜層將折射率2•38降到2•21。
這幾種膜料都無吸收性，幾乎每一個TiO2蒸著都遵循一個原則是：在可使用的光譜區內取得可以忽略的吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制。
TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面。
Ti3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是有很多人認為這種材料不穩定性的風險小一些。
Pulker等人指出，最後的折射率與無吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率，例如，基板溫度為400℃時在500nm波長得到的折射為2•63，可是由於別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個普遍採用的方法其在低溫甚至在室溫時就可以得到比較高的折射率，通常需要提供足夠的氧氣以避免（因為有吸收則降低透過率），但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值（LDT）。
TiO2的折射率與真空度和蒸發速度有很大的關係，但是經過充分預熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見光和近紅外線光譜區中，TiO2很受人們的歡迎。
在IAD助鍍TiO2時，使用屏蔽柵式離子源蒸發則需要200Ev，而用無屏蔽柵式離子源蒸發時則需要333eV或者更少一些，在那裏平均能量估計大約是驅動電壓的60%，如果離子能量超過以上數值，TiO2將有吸收。
而SIO2有電子槍蒸發可以提供600eV碰撞（離子輻射）能量而沒有什麽不良效應。
TIO2/SIO2制程中都使用300eV的驅動電壓，目的是在兩種材料中都使用無柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅動電壓，驅動電壓高低的選擇取決於TIO2所允許的範圍，而蒸著速度的高低取決於完全致密且無吸收膜所允許之範圍。
TIO2用於防反射膜，分光膜，冷光膜，濾光片，高反膜，眼鏡膜，熱反射鏡等。
黑色顆粒狀和白色片狀。
熔點：1775℃TIO用於防反膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，TI2O3用於防反膜，濾光片，高反膜，眼鏡膜。
名稱：二氧化硅（SIO2）經驗告訴我們：氧離子助鍍（IAD）SIO將是SIO2薄膜可再現性問題的一個解決方法，並且能在生産環境中以一個可以接受的高速度蒸著薄膜。
SIO2薄膜如果壓力過大，薄膜將有氣孔並且易碎，相反壓力過低薄膜將有吸收並且折射率變大，需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性，必要時需要氧氣和氬氣混合充氣，但是這是熱鍍的情況，冷鍍時這種情況不存在。
SIO2用於防反膜，冷光膜，濾光片，絕緣膜，眼鏡膜，紫外膜。
無色顆粒狀，折射率穩定，放氣量少，和OS-10等高折射率材料組合製備截止膜，濾光片等。
名稱：一氧化硅（SIO）制程特性：棕褐色粉狀或細塊狀。
熔點較低，可用鉬舟或鈦舟蒸蒸日上發，但需用加蓋舟因為此種材料受熱直接昇華。
使用電子槍加熱時不能將電子束直接打在材料上而採用間接加熱法。
製備塑膠鏡片時，一般第一層是SIO，可以增加膜的附著力。
（TIO2+ZrO2）名稱：OH-5棕褐色塊狀或柱狀。
尼康公司開發之專門加TS--ユート系列抗反射材料。
折射率受真空度，蒸發速率，O2壓力的影響很大。
蒸鍍時不加氧或加氧不充分時，製備薄膜會産生吸收現象。
名稱：二氧化鎬（ZrO2）ZrO2具有堅硬，結實及不均勻之特性。
該薄膜有時需要烘乾以便除去它的吸收。
其材料的純度及為重要，純度不夠薄膜通常缺乏整體致密性，它得益於適當使用IAD來增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均勻性。
目前純度達到99•99/基本上解決以上問題。
Sainty等人成功地使用ZRO2作為鋁膜和銀膜的保護膜，該膜層（指ZrO2）是在室溫基板上使用700eV氬離子助鍍而得到的。
一般為白色柱狀或塊狀，蒸氣分子為ZrO，O2。
制程特性：白色顆粒狀，柱狀或塊狀，粉狀材料使用鎢舟或鉬舟顆粒狀，粉狀材料排雜氣量較多，柱狀或塊狀較少。
真空度小於2*10-5 Torr條件下蒸發可得到較穩定的折射率，真空度大於5*10-5 Torr 時蒸，膜折射率會稍下降。
材料連續蒸著時會産生不均質性，即開始折射率為2隨著光學厚度的增長，折射率逐漸變小。
蒸鍍時加入一定壓力的氧氣可以改善其材料之不均質性。
名稱：氟化鎂（MgF2）MGF2作為1/4波厚抗反射膜被普遍使用來作玻璃光學薄膜，它難以或者相對難以溶解，而且會大約120nm的真實紫外線到大約7000nm的中部紅外線區域裏透過性能良好。
Olsen，Mcbride 指出從至少200nm到6000nm的區域裏，2•75mm厚的單晶體，MgF2是透明的，接著波長越長吸收性開始增大，在10000nm透過率降到大約2%，雖然在8000—12000nm區域作為厚膜具有較大的吸收性，但是可以在其頂部合用一薄膜作為保護區層。
不使用IAD助鍍，其膜的硬度，耐久性及密度隨基板的溫度的改變而改變的。
在室溫中蒸鍍，MgF2膜層通常被手指擦傷，具有比較高的濕度變化。
在真空中大約n =1•32，堆積密度82%，使用300℃蒸鍍，其堆積密度將達98%，n =1•39它的膜層能通過消除裝置的擦傷測試並且溫度變化低，在室溫與300℃之間，折射率與密度的變化幾乎成正比例的。
在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300℃同等的薄膜，但是125—150eV能量蒸鍍可能是最適合的。
在塑膠上使用IAD蒸氟化鎂幾乎強制獲得合理的附著力與硬度。
經驗是MGF2不能與離子碰撞過於劇烈。
制程特性：折射率穩定，真空度和速率的變化影響小預熔不充分或蒸發電流過大易産生飛濺，造成鏡片“木”不良在擋板打開後蒸發電流不要隨意加減，易飛濺。
白色結晶顆粒，常用於抗反射膜，易吸潮。
購買時考慮其純度。
名稱：三氧化二鋁（AL2O3）普遍用作中間材料，該材料有很好的堆積密度並且在200—7000nm區域的透明帶，該制程是否需要加氧氣以試驗分析來確定，提高基板溫度可提高其折射率，在鍍膜程式不可更改情況下，以調整蒸發速率和真空度來提高其折射率。
制程特性：白色顆粒狀或塊狀，結晶顆粒狀等。
非結晶狀材料雜氣排放量高，結晶狀材料相對較少折射率受蒸著真空度和蒸發速率的影響較大，真空不好即速率低則膜折射率變低；真空度好蒸發速率較快時，膜折射率相對增大，接近1•62。
AL2O3蒸發時，會産生少量的AL分子，造成膜吸收現象，加入適當的O2時，可避免其吸收産生。
名稱：OS—10（TIO2+ZrO2）制程特性：棕褐色顆粒狀。
雜氣拜謝量大，預熔不充分或真空度›5*10-5 Torr時蒸發，其折射率會比2•3小，故必須充分預熔且蒸發真空度希望‹2*10-5 Torr.率有成反比的趨向，蒸發此種材料時宜控制衡定的蒸發速率。
材料可添加重復使用，為減少雜氣排放量，儘量避免全數使用新材料。
蒸氣中的TI和TIO和O2反應生成TIO2。
常用於製備抗反射膜和SIO2疊加製備各種規格的截止膜系和濾光片等。
名稱：鍺（Ge）稀有金屬，無毒無放射性，主要用於半導體工業，塑膠工業，紅外光學器件，航天工業，光纖通訊等。
透光範圍2000nm—14000nm，n =4甚至更大，937℃時熔化並且在電子槍中形成一種液體，然後在1400℃輕易蒸發。
用電子槍蒸發時它的密度比整體堆積密度低，而用離子助鍍或者鐳射蒸著可以得出接近於松散密度。
在Ge基板上與ThF4製備幾十層的8000—12000nm帶通濾光片，如果容室溫度太高吸收性將有重大變化，在240--280℃範圍內，在從非晶體到晶體轉變的過程中Ge有一個臨界點。