光电成像原理与应用复习资料

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1、光电效应应按部位不同分为内光电效应和外光电效应,内光电效应包括(光电导)和(光伏效应)。

2、真空光电器件是一种基于(外光电)效应的器件,它包括(光电管)和(光电倍增管)。

3、光电导器件是基于半导体材料的(光电导)效应制成的,最典型的光电导器件是(光敏电阻)。

4、硅光电二极管在反偏置条件下的工作模式为(光电导),在零偏置条件下的工作模式为(光伏模式)。

5、变象管是一种能把各种(不可见)辐射图像转换成为(可见)图像的真空光电成像器件。

6、固体成像器件电荷转移通道主要有两大类,一类是(SCCD),另一类是(BCCD)。

7、光电技术室(光子技术)和(电子技术)相结合而形成的一门技术。

8、场致发光有(直流)、(交流)和结型三种形态。

9、常用的光电阴极有(正电子亲合势光电阴极)和(负电子亲合势光电阴极),正电子亲和势材料光电阴极有哪些(Ag-O-Cs,单碱锑化物,多碱锑化物)。

10、根据衬底材料的不同,硅光电二极管可分为(2DU)型和(2CU)型两种。

11、像增强器是一种能把(微弱)增强到可以使人眼直接观察的真空光电成像器件,因此也称为(微光管)。

12、光导纤维简称光纤,光纤有(纤芯)、(包层)及(外套)组成。

13、光源按光波在时间,空间上的相位特征可分为(相干)和(非相干)光源。

14、光纤的色散有材料色散、(波导色散)和(多模色散)。

15、光纤面板按传像性能分为(普通OFP)、(变放大率的锥形OFP)和(传递倒像的扭像器)。

16、光纤的数值孔径表达式为(),它是光纤的一个基本参数、它反映了光纤的(集光)能力。

17、真空光电器件是基于(外光电)效应的光电探测器,他的结构特点是有一个(真空管),其他元件都置于(真空管)。

18、根据衬底材料的不同,硅光电电池可分为(2DR)型和(2CR)型两种。

19、根据衬底材料的不同,硅光点二、三级管可分为(3DU)型和(3CU)型两种。

20、为了从数量上描述人眼对各种波长辐射能的相对敏感度,引入视见函数V(f), 视见函数有(明视见函数)和(暗视见函数)。

21、PMT有哪几部分组成?并说明店子光学系统的作用是什么?PMT的工作原理?

PMT主要由入射窗口、光电阴极、电子光学系统、电子倍增系统和阳极五个主要部分组成。

电子光学系统的主要作用有两点:

1、使光电阴极发射的光电子尽可能全部汇聚到第一倍增极上,而将其他部分的杂散热电子散射掉,提高信噪比.

2

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PMT的工作原理

1.光子透过入射窗口入射在光电阴极K上

2.光电阴极K受光照激发,表面发射光电子

3.光电子被电子光学系统加速和聚焦后入射到第一倍增极D1上,将

发射出比入射电子数更多的二次电子。入射电子经N级倍增后,

光电子数就放大N次.

4.经过倍增后的二次电子由阳极P收集起来,形成阳极光电流I p,在负载R L上产生信号电压U0。

22、PMT的倍增极结构有几种形式?个有什么特点?

鼠笼式,盒栅式,直线聚焦型,百叶窗式,近贴栅网式,微通道板式。

23、什么是二次电子?并说明二次电子发射过程的三个阶段是什么?光电子发射过程的三步骤?

答:当具有足够动能的电子轰击倍增极材料时,倍增极表面将发射新的电子。称入射的电子为一次电子,从倍增极表面发射的电子为二次电子。

二次电子发射过程的三个阶段:

1) 材料吸收一次电子的能量,激发体内电子到高能态,这些受激电子称为内二次电子;

2) 内二次电子中初速指向表面的那一部分向表面运动,在运动中因散射而损失部分能量;

3) 到达界面的内二次电子中能量大于表面势垒的电子发射到真空中,成为二次电子。

24、简述Si-PIN光电二极管的结构特点,并说明Si-PIN管的频率特性为什么比普通光电二极管好?p69

25、简述常用像增强器的类型?并指出什么是第一、第二和第三代像增强器,第四代像增强器在在第三代基础上突破的两个技术室什么?p130

1). 级联式像增强器2) 第2代像增强器(微通道板像增强器)3).第3代像增强器4).第4代像增强器

26、什么是光电子技术?光电子技术以什么为特征?

光电子技术是:光子技术与电子技术相结合而形成的一门技术。主要研究光与物质中的电子相互作用及其能量相互转

换的相关技术。以光源激光化、传输光纤化、手段电子化、现代电子学中的理论模式和电子学处理方法光学化为特征:是一门新兴的综合性交叉学科。

27、光源的光谱功率分为哪几种情况?画出每种情况对应的分布图?p29

28、荧光屏表面蒸镀铝膜的作用是什么?p127

29、从传输模式角度考虑,光纤分为哪几种?p189

根据传输模式,光纤分为单模和多模两种。

30、硅光电池最大的开路电压是多少?为什么她随温度升高二降低?p59

31、什么是负电子亲和势光电阴极?具有哪些优点?p101

32、什么是‘胖0’电荷?什么是‘胖0’工作模式?引入‘胖0’电荷的优缺点?

“胖0”电荷的引入:降低了势阱的深度;减小了信号电荷的最大存储量;

降低了CCD的动态范围;增大了器件的转移噪声。P158

33、根据物体的辐射发射率,可将物体分为哪几种类型?

34、简述黑体辐射的几个定律,并讨论其物理意义。P14

35、光电探测器特性参数有?为什么光敏电阻随光照增加而降低?P24,p91

36、CCD有哪几部分组成,并说明每部分的作用?为什么说CCD是非稳态器件?CCD能否工作,其电极间距为?p147

37、对于CCD来说电荷注入方式有电注入和光注入,什么是电注入?什么是光注入?p147,148

38、画出ZnCdTe靶的结构图,并说明每层的作用?p138

第1层:ZnSe层属于N型半导体,厚50~100nm;无光电效应,其作用是增强对短波光的吸收,提高整个可见光区的灵敏度。另外它也阻止光生空穴向成象面一边扩散,有提高灵敏度,减小暗电流的作用;

第2层:碲化锌和碲化镉的固溶体(Zn x Cd1-x Te),属于P型半导体,厚3~5μm;光电效应主要发生在该层,x值的大小对灵敏度、暗电流和光谱特性都有较大的影响,x值小,灵敏度高,体内暗电流增大,光谱特性的峰值波长向长波方面移动;

第3层:无定形三硫化二锑Sb2S3,厚100nm;其作用是减小扫描电子束的电子注入效应,减小暗电流和惰性第1层与第2层之间形成异质结;第2层与第3层之间不形成结。

39、画出CdSe靶的结构图,并说明每层的作用?p138

第1层:沉积在玻璃板上的透明的导电层SnO2,作信号电极,属N+;

第2层:是N型CdSe层,它与N+型层SnO2构成对空穴的阻挡层;CdSe层是异质结CdSe靶的基体,厚2微米;是完成光电转换的光敏层,其禁带宽度为1.7eV,具有良好的光电导特性;

第3层:亚硒酸镉(CdSeO3)层是由CdSe 氧化而成,是一层绝缘体,有利于降低暗电流,但不影响光电灵敏度;

第4层:As2S3层是靶的扫描面,是在高空状态下气湘沉积而成,呈玻璃态,厚0.2微米;是一个高阻层,禁带宽度为2.3eV,具有很高的电阻率。其作用是防止电子进入靶内,形成对电子的阻挡层,并且承担电荷的积累和储存。

40、什么是MCP?简述微通道板(MCP)的工作原理?p130

微通道板是由成千上万根直径为15~40µm、长度为0.6~1.6mm的微通道排成的二维列阵,简称MCP。

微通道板(MCP)的工作原理:

41、什么是微通道板(MCP)的自饱和效应?二代像增强器利用该效应解决了什么问题?p130

42、以p型N沟道MOS电容器为例,说明势阱存储电荷的原理。(第七章)

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