常用光学镀膜材料折射率

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常用光学镀膜材料折射率表

常用光学镀膜材料折射率表

电子枪
增透膜、多层膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪
多层膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪
绝缘膜
电子枪
增透膜、多层膜
电子枪、钽舟
增透膜、多层膜
电子枪、钼舟
增透膜
电子枪、钽舟、钼舟 钼舟、钽舟 电子枪、钽舟、钼舟
多层膜 紫外远红外膜、增透 膜 紫外膜
钽舟、钼舟
多层膜
钽舟、钼舟
多层膜
电子枪、钽舟、钼舟、氧化 铝
红外膜
常用光学镀膜材料折射率
折射率 1.38/500nm 1.46/500nm 1.63/550nm 1.55/550nm 2.35/500nm 2.35/500nm 2.35/500nm 2.35/500nm 2.10/500nm 1.95/500nm 2.05/500nm 2.30/550nm 1.70/500nm 2.0/550nm 1.80/500nm 2.20/550nm 1.63/500nm 1.58/500nm 1.55/500nm 1.40/10600nm 1.35/500nm 1.33/500nm 1.33/500nm 2.4/550nm 2.58/550nm
ZnO Y2O3 CeO2 CeF3 LaF3 YF3 BaF2 AlF3 Na3AlF6 Na5Al3F14 ZnS
ZnSe
规格 1.0-4.0mm颗粒 1.0-3.0mm颗粒、柱状 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm烧结颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm晶体颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒、块状 块状

光学仪器中的光学镀膜技术与性能评估考核试卷

光学仪器中的光学镀膜技术与性能评估考核试卷
D.膜层中存在缺陷
E.所有以上都是
14.光学镀膜中,以下哪些方法可以减少膜层缺陷?()
A.提高镀膜室清洁度
B.优化基片表面处理
C.控制镀膜过程中的温度
D.使用高纯度镀膜材料
E.所有以上都是
15.以下哪些材料可用于制备超低反射率的光学镀膜?()
A.硅氧化物
B.镁氟化合物
C.硅
D.铝
E.钛
16.光学镀膜性能评估中,以下哪些测试可以评估膜层的耐环境稳定性?()
2.光学镀膜的主要目的是为了增加光学元件的反射率。()
3.在光学镀膜过程中,膜层的厚度可以通过控制镀膜时间来精确控制。()
4.光学镀膜中的多层膜结构可以有效提高膜层的透光率和反射率。()
5.光学镀膜的膜层材料选择不会影响膜层的颜色。()
6.光学镀膜中的颗粒污染主要来自于镀膜材料本身。()
7.光学镀膜的性能评估中,耐腐蚀测试是衡量膜层化学性能的重要指标。(√)
A.反射膜
B.透射膜
C.滤光膜
D.磁性膜
2.下列哪种材料常用于光学镀膜中的反射膜?()
A.硅
B.钛
C.铝
D.铜
3.光学镀膜技术中,离子束溅射的优点不包括以下哪一项?()
A.镀膜质量高
B.膜层附着性强
C.成本低
D.可控性好
4.下列哪种现象是光学镀膜中的常见问题?()
A.膜层厚度均匀
B.膜层应力小
C.膜层有裂纹
D.膜层颜色一致
5.光学镀膜的性能评估中,以下哪个参数表示膜层的透光率?()
A.折射率
B.反射率
C.透射率
D.吸收率
6.下列哪种光学镀膜技术适用于制备高折射率膜层?()
A.真空蒸发镀膜

光学镀膜技术_文库

光学镀膜技术_文库
透射率 T=1-R=4n0n1/(n0+n1)2 增透膜
19
例:空气折射率是1,玻璃折射率是1.8,镀膜折射率是1.5。
光线从空气直接进入玻璃 透射率=4*1*1.8/(1+1.8) 2=91.84%;
光线从空气进入镀膜再进入玻璃透射率=【4*1*1.5/(1+1.5) 2】*【4*1.5*1.8/(1.5+1.8)2】=95.2%;
利用这种干涉现象,通过对光学零件表面薄膜的材料和厚度的 控制,人为的控制光的干涉,根据需要来实现光能的重新分配。
光学镀膜工作原理
6
光照到光学零件表面时,一部分 光发生反射,另外一部分光投射 进入光学零件。反射光的存在无 疑降低了透射光的强度,反之透 射光的存在降低了反射光的强度;
为了减少反射光或者透射光的强
作用: ➢ 增加光学系统的通透率; ➢ 减少杂散光; ➢ 提高像质;
增透➢膜增加作用距离;
18
当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质时,在 两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收,分界 面是一光学表面,光线又是垂直入射,则:
反射率 R=(n0-n1)2/(n0+n1)2
增透膜
20
单层增透膜反射率
增透膜
21
多层窄带增透:多个膜层叠加对单个波长进行反复干涉相消以使 得反射率达到最小。
增透膜
22
多层宽带增透:多个膜层叠加对不同波长的反射光都进行干涉相 消从而达到对一个宽波段的光增透。
增透膜
23
应用:所有透过型光学系统如照相机、测距仪、潜望镜、显微 镜等各种视觉观察和测量系统;
d
膜上表面和下表面的反射光线在上表面的相
位差为1个波长,干涉相长,从而使反射光

不同镀膜玻璃膜层分析方法的比较

不同镀膜玻璃膜层分析方法的比较

不同镀膜玻璃膜层分析方法的比较镀膜玻璃是指在普通玻璃表面上沉积一层或多层特定的膜层,以达到改变光学、物理和化学性能的目的。

不同的镀膜玻璃膜层有着不同的特性和应用领域。

本文将比较几种不同的镀膜玻璃膜层分析方法,包括X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、傅立叶变换红外光谱仪(FTIR)和紫外可见光谱(UV-Vis)。

X射线衍射是一种用于分析材料晶体结构的重要技术。

对于镀膜玻璃膜层的分析,X射线衍射可以提供关于晶体结构、晶体取向和晶体尺寸分布等信息。

通过X射线衍射,可以确定镀膜玻璃的晶体相和晶体形貌。

然而,X射线衍射需要单一晶体的样品,并且对于非晶态样品和多晶样品的应用相对有限。

扫描电子显微镜是一种通过扫描样品表面并检测所产生的电子信号来获得样品表面形貌和组成信息的技术。

镀膜玻璃膜层的表面形貌对其性能具有重要影响。

扫描电子显微镜可以提供镀膜玻璃膜层的表面形貌和形貌缺陷信息。

此外,通过能谱仪的连接,还可以得到元素分布信息。

然而,扫描电子显微镜不能提供关于膜层结构的信息。

傅立叶变换红外光谱仪是一种用于分析材料化学成分和分子结构的技术。

对于镀膜玻璃膜层的分析,傅立叶变换红外光谱仪可以提供关于材料中化学键的信息,以确定其化学成分和分子结构。

通过傅立叶变换红外光谱仪,可以分析不同膜层中的化学成分和它们之间的相互作用。

然而,傅立叶变换红外光谱仪无法提供关于膜层厚度、膜层形貌和晶体结构的信息。

紫外可见光谱是一种用于分析材料吸收和发射光的技术。

对于镀膜玻璃膜层的分析,紫外可见光谱可以提供关于膜层的光学性能和能带结构的信息。

通过紫外可见光谱,可以测定膜层的透射率、折射率和带隙等光学参数。

此外,紫外可见光谱还可以用于检测镀膜玻璃膜层的光敏性质和光降解情况。

然而,紫外可见光谱无法提供关于膜层的表面形貌、化学成分和晶体结构的信息。

综上所述,不同的镀膜玻璃膜层分析方法各有优势和局限性。

选择合适的分析方法取决于所需分析的性质和目的。

手机镜头常用光学塑胶zemax玻璃库的设置和材料实用简介

手机镜头常用光学塑胶zemax玻璃库的设置和材料实用简介

手机镜头常用塑胶材料简介一下内容原创,转载请注明出处1,高折射率王者“OKP-1”拥有顶尖的高折,在前一个通用的成功材料OKP4HT的基础上,改进降低了双折射,改善了脱模效果和流动性。

台湾和韩系厂都在使用,2014年上半年,才开始推大陆市场。

价格和OKP4HT差不多。

本人看好的材料。

2,经典的高折贵族“OKP4HT”塑胶材料的高折一族,稀缺的高折和较好的成型效果使其价格一直维持高昂。

双折射较差,是已经大规模实用过的材料,现在仍然在大量运用中。

3,OKP系列的奠基者“OKP4”拥有较好的双折射和成型特性,但折射率在OKP系列里偏低。

不少设计都会实用到。

4,持续改进的智者“APL5514DP,APL5514ML,APL5514CL”APEL系列的塑胶材料都拥有优秀的透过率,流动性,低双折射。

以及大约OKP系列1/3~1/4的价格优势。

所以APEL的竞争力很大,每天都有大量的APL系列塑胶被镜头厂实用。

另外DP-ML-CL持续改善的系列产品都具有相似的折射率,所以替换起来很方便。

5,黑马材料“EP5000”大阪瓦斯的EP5000从出道就针对OKP4HT,它与OKP4HT拥有极其接近的折射率。

同时拥有更好的流动性和超低的双折射,还具有比OKP4HT稍低的价格。

所以EP5000迅速抢占了OKP4HT的市场,这才逼的三井化学出OKP1。

EP5000,我做设计优选的材料。

6,内力深厚的高僧“E48R”ZEONEX的看家材料,从330R,480R一路发展起来。

低双折射,低吸水率,耐高温,不易附静电,外观容易保持。

早已经被大规模使用起来了,通常被设计在对外观要求较高的最后一片镜片。

APL系列和其有类似的价格和相差不远的折射率,可想相互替代设计,但APL 的外观效果通常没有E48R优异。

强烈推荐的材料。

7,超凡脱俗的高僧“K26R”K26R是E48R的升级版本,略微提高了折射率,继承了E48R的各种优异特性,进一步改善了成型的流动性和脱模效果。

玻璃制品光学镀膜工艺考核试卷

玻璃制品光学镀膜工艺考核试卷
C.碳化合物
D.氧化物
6.光学镀膜中的耐磨损膜主要包含以下哪些特性?()
A.高硬度
B.良好的附着性
C.良好的耐化学性
D.高透光率
7.以下哪些因素会影响光学镀膜的光谱特性?()
A.镀膜材料的选择
B.镀膜层数
C.镀膜工艺参数
D.环境温度
8.在光学镀膜工艺中,以下哪些操作可以减少镀膜中的应力?()
A.逐渐升温
B.透射膜
C.抗反射膜
D.耐磨膜
2.下列哪种材料常用于光学镀膜?()
A.铝
B.铜
C.铅
D.铁
3.光学镀膜的基本工艺不包括以下哪一项?()
A.清洗
B.烘干
C.离子束溅射
D.测量
4.以下哪种方法不适用于玻璃制品光学镀膜的制备?()
A.真空蒸发镀膜
B.离子束溅射镀膜
C.化学气相沉积
D.激光烧蚀
5.在光学镀膜中,抗反射膜一般采用什么膜系?()
A.高折射率膜
B.低折射率膜
C.均质膜
D.多层膜
6.下列哪种情况下,镀膜玻璃的反射率最低?()
A.玻璃表面光滑
B.镀膜厚度为波长的1/4
C.镀膜材料折射率等于玻璃折射率
D.镀膜材料为金属
7.光学镀膜工艺中,清洗玻璃制品的目的是什么?()
A.提高附着力
B.减少表面缺陷
C.增加透光率
D. A和B
8.在真空蒸发镀膜过程中,蒸发源的温度一般应控制在多少范围内?()
A.改善清洗工艺
B.使用预处理层
C.优化镀膜工艺参数
D.提高基片温度
18.以下哪些因素会影响光学镀膜的颜色表现?()
A.镀膜材料的选择
B.镀膜厚度

树脂镜片材料及光学镀膜

树脂镜片材料及光学镀膜

树脂镜片材料及光学镀膜随着现代科技的发展,眼镜已经成为很多人日常生活中必不可少的用品。

树脂镜片作为现代眼镜制造中的重要材料,由于其优越的性能和良好的透光性被广泛使用。

同时,为了提高镜片的光学性能,树脂镜片需要进行光学镀膜。

本文将对树脂镜片的材料和光学镀膜进行详细介绍。

树脂镜片是指由塑料树脂制成的眼镜镜片。

相对于玻璃镜片来说,树脂镜片具有重量轻、抗冲击性好以及成本较低的优点。

常见的树脂材料有聚碳酸酯、聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯等。

这些树脂材料的选择通常取决于镜片的要求以及制造商的制造工艺。

聚碳酸酯是一种常用的树脂镜片材料。

它具有良好的光学性能和物理性能,例如高透光性、耐疲劳性、抵抗撞击力等。

聚碳酸酯树脂镜片还具有较高的耐老化性能,在长时间的使用中能保持较好的透光性能。

由于聚碳酸酯树脂材料的透光性较好,它还被广泛用于高度折射率镜片的制造。

聚苯乙烯是另一种常用的树脂镜片材料。

它具有优异的光学性能、机械性能和热性能。

聚苯乙烯镜片制造工艺简单,成本低廉。

聚苯乙烯镜片适用于需要轻质材料的场合,因为它具有重量轻的特点。

聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)是一种常用的树脂镜片材料。

它具有良好的透明性和光学性能,抗冲击性也比较好。

聚甲基丙烯酸甲酯还具有较好的耐候性和耐光老化性能,因此被广泛应用于户外镜片。

在选择树脂镜片材料时,需要根据具体的使用情况和需求来选择。

例如,如果需要较高的透光性能,可以选择聚碳酸酯材料;如果需要轻质材料,可以选择聚苯乙烯材料;如果需要耐候性较好的材料,可以选择聚甲基丙烯酸甲酯材料等。

光学镀膜是对镜片表面进行特定材料的化学处理,以提高其光学性能。

树脂镜片的常见光学镀膜有防反射镀膜、硬质镀膜、抗蓝光镀膜等。

防反射镀膜是对镜片表面进行涂覆一层或多层抗反光材料的光学镀膜。

它可以有效减少镜片反射光的干扰,提高镜片透光性能。

防反射镀膜的常见颜色有绿色和蓝色。

防反射镀膜的主要作用是减少镜片表面的反射光,让人们在佩戴眼镜时更加清晰地看到事物。

光学镀膜材料的应用及工艺

光学镀膜材料的应用及工艺

光学镀膜材料的应用及工艺(一)光学镀膜材料的分类(二)1、从化学组成上,薄膜材料可分为:氧化物类:Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等氟化物类:MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等其它化合物类:ZnS、ZnSe、PbTe等金属(合金)类:Al、Cr、Ti、Ag、Al-Ti、Ni-Cr等2、从材料功能分,镀膜材料可分为:(1)光介质材料:起传输光线的作用。

这些材料以折射、反射和透射的方式改变光线的方向、强度和相位,使光线按预定要求传输,也可吸收或透过一定波长范围的光线而调整光谱成份。

(2)光功能材料:这种材料在外场(力、声、热、电、磁和光)的作用下,光学性质会发生变化,因此可作为探测、保护和能量转换的材料(如AgCl2,WO3等)。

(二)光学镀膜材料的特点从化学结构上看,固体材料(薄膜)中存在着以下键力: 1. 离子键:离子晶体中,每个离子被一定数量的异号离子所包围,离子晶体中作用力较大,所以离子键很牢固,这就决定了离子晶体具有熔点高、沸点高和硬度大、强度高的特点; 2. 共价键:主要通过同质原子贡献电子构成的极性或非极性双原子偶化学键。

共价键在气体分子结构中较为普遍,如H2,Cl2,CCl4等。

金属键中也常出现不同程度的共价键力;3. 原子键:(或金属键):原子键也十分牢固,这类键组成的化合物(Si,SiC及氮化物)也具有硬度高、强度大和熔点高的特点; 4. 分子键(或范德华键):把原子联结成分子的力相当大,而分子之间的键又十分弱(MgCl2等),因此,这类键组成的化合物具有熔点低,强度低的特点。

实际上,固体化合物中化合键的组成是组合型的,就是说一种化合物中原子或分子的结合力并不是纯粹由单一键连结的,往往是以上几种键交互作用的。

(三)由于化学键的特性,决定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特点:(1)氧化物膜料大都是双电荷(或多电荷)的离子型晶体结构,因此,决定了氧化物膜料具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度。

光学镀膜工艺指导

光学镀膜工艺指导

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使其原子或分子在基材表面沉积形成薄膜。
输标02入题
真空镀膜机主要分为蒸发镀膜和溅射镀膜两种类型, 其中蒸发镀膜是最早的镀膜技术,溅射镀膜则具有更 高的沉积速率和更均匀的膜层质量。
01
03
真空镀膜机适用于各种光学薄膜的制备,如增透膜、 反射膜、滤光片、保护膜等,广泛应用于光学仪器、
照明、显示等领域。
04
电和装饰。
介质镀层材料
MgF2镀层
具有高透光性和低折射率,常 用于红外光学镜头。
SiO2镀层
具有低折射率和化学稳定性, 常用于保护和增透膜层。
TiO2镀层
具有高折射率和优异的光学性 能,常用于增透和反射膜层。
ZrO2镀层
具有高硬度、高折射率和优异 的化学稳定性,常用于硬涂层
和光学薄膜。
特殊镀层材料
包装与运输
将合格的光学元件进行包 装,确保其在运输过程中 不受损坏。
05 光学镀膜质量检测与控制
膜层厚度检测
总结词
膜层厚度是影响光学镀膜质量的关键因素,必须进行精确检 测。
详细描述
光学镀膜的厚度需控制在一定的范围内,以确保其光学性能 的稳定。常用的膜层厚度检测方法包括干涉法、椭圆偏振法 、X射线荧光法等。这些方法可以精确测量膜层的厚度,为调 整和控制镀膜工艺提供依据。
01
02
03
抗反射涂层
通过在镜头表面形成微结 构,减少反射并提高透光 率。
多层镀膜
通过多层不同材料的叠加, 实现多种光学性能的优化 组合。
光学薄膜
在光学元件表面沉积薄层 材料,实现特定光学性能 的增强或改变。
03 光学镀膜设备

ar镀膜制程工艺

ar镀膜制程工艺

ar镀膜制程工艺AR镀膜制程工艺AR镀膜是一种广泛应用于光学领域的技术,用于减少光学元件的反射和提高透过率。

AR镀膜制程工艺是指制备具有抗反射特性的光学薄膜的过程。

本文将介绍AR镀膜的制程工艺及其相关知识。

一、AR镀膜的原理与作用AR镀膜通过在光学元件表面形成一层特定的薄膜,使得入射光的反射率降低,从而提高透过率。

其原理是通过改变光的折射率,使得光在光学元件表面与空气之间的界面上发生反射时,反射光的干涉相位与入射光的干涉相位发生相消干涉,减少了反射光的能量损失。

AR镀膜主要应用于眼镜、光学仪器、显示器、摄影镜头等光学元件上,能够提高透射率和图像的清晰度,减少眩光和反射。

在眼镜上,AR镀膜可以有效减少镜片反射,提高穿戴者的视觉体验。

二、AR镀膜的制程工艺AR镀膜的制程工艺主要包括基片准备、镀膜材料选择、膜层设计、膜层制备和膜层检测等步骤。

1. 基片准备AR镀膜的基片通常采用光学玻璃材料,需要经过清洗、抛光和去除表面缺陷等处理工艺,以确保基片表面的平整度和清洁度,为后续镀膜工艺提供良好的基础。

2. 镀膜材料选择AR镀膜的镀膜材料通常选择高折射率材料和低折射率材料。

高折射率材料用于增加光学元件与空气之间的折射率差,低折射率材料用于减少反射光的折射率,从而实现降低反射率的目的。

3. 膜层设计膜层设计是AR镀膜工艺中的关键环节。

通过合理设计多层膜层的厚度和折射率,使得入射光与膜层发生相位干涉,实现反射光的干涉相消。

常见的膜层设计方法有四分之一波长膜层和多层膜层设计。

4. 膜层制备膜层制备是AR镀膜的核心步骤。

常见的制备方法有物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和溅射等。

其中,PVD是最常用的方法之一,通过蒸发或溅射方式将镀膜材料沉积在基片表面,形成薄膜。

5. 膜层检测膜层制备完成后,需要进行膜层检测以评估其性能。

常见的检测方法有透射率测试、反射率测试和膜层结构分析等。

通过这些检测方法,可以确保膜层的质量和稳定性。

光学镜片与薄膜的反射和吸收特性

光学镜片与薄膜的反射和吸收特性

光学镜片与薄膜的反射和吸收特性光学镜片和薄膜是我们生活中常见的光学材料,它们具有特殊的反射和吸收特性。

本文将深入探讨光学镜片和薄膜的反射和吸收原理,以及它们在实际应用中的重要性。

光学镜片是通过对光线的折射和反射来实现光学成像的器件。

它由具有一定折射率的透明材料制成,其中最常用的材料是玻璃和塑料。

当光线通过镜片时,根据光的入射角度和介质折射率的不同,光线会发生折射和反射。

镜片的反射特性是指光线从镜片表面反射的能力。

根据菲涅尔公式,入射光线的反射率取决于光的极化状态、入射角度和介质的折射率。

镀膜镜片通常具有较低的反射率,因为它们通过在镜片表面涂覆一层薄膜来减少反射。

这层薄膜被称为反射膜,可以具有特定的光学性能,如选择性地反射某些波长的光线。

光学薄膜是另一种常用的光学材料,它具有多种应用,如抗反射、反射、光学滤波等。

薄膜的反射特性与镜片类似,但是薄膜通常具有更高的反射率,因为它们可以设计成具有特定的波长反射特性。

这种设计通常通过多层薄膜堆积来实现,每一层薄膜都具有不同的折射率和厚度。

这些薄膜之间的干涉和折射效应可以被精确控制,以实现所需的光学性能。

光学镜片和薄膜的反射和吸收特性对于许多实际应用非常重要。

例如,光学镜片和薄膜在光学仪器和设备中常用于对光线进行聚焦和分离。

在太阳能电池板中,薄膜被用作抗反射层,以提高太阳能的吸收效率。

此外,光学镜片和薄膜还被广泛应用于光学传感器、摄像头、激光器等领域。

在实际应用中,光学镜片和薄膜的质量和性能也是非常重要的。

高质量的镜片和薄膜应具有高透过率、低反射率和高耐用性。

为了达到这些要求,制造商通常会采用精细的制造工艺和涂覆技术。

例如,光学薄膜的制备过程需要严格控制薄膜的化学组成、厚度和干涉效应。

总之,光学镜片和薄膜的反射和吸收特性对于光学成像和光学器件的性能至关重要。

了解其原理和应用是理解光学技术的关键。

通过研究和改进光学镜片和薄膜材料的性能,我们能够开发出更先进的光学技术,应用于多个领域,如通信、医疗和科学研究等。

高折射率镀膜材料——钛酸镧

高折射率镀膜材料——钛酸镧

高折射率镀膜材料——钛酸镧当前,应用光学发展迅速,大规模、连续化镀膜生产已经得到广泛应用,数码光学、显示器等的发展对光学薄膜有大量需求。

特别是用于可见波段的各种滤光片,全球一年的需求量远远超过10亿片。

而且,随着规模化的不断发展,薄膜成本越来越受到重视。

制约光学薄膜元件的成本主要有两个因素:镀膜材料和薄膜良品率。

因此,要不断发展低成本镀膜材料制备技术,同时提高镀膜过程稳定性以提高良品率。

光学薄膜膜系都是通过交替沉积高、低折射率薄膜来实现特定光学功能。

目前,低折射率材料以二氧化硅(SiO2)为代表,性能基本稳定,成本降低空间有限。

然而高折射率材料往往价格较高,而且有些镀膜材料的性能也不是很稳定,研究表明,某些稀土化合物如钛酸镧(LaTiO3)的加入将能显著改善这种不稳定的性能,在此基础上得到高稳定的高折射率材料。

通过钛酸镧(LaTiO3)材料的单层膜和多层减反膜AR的制备,了解钛酸镧材料的薄膜性能。

首先制备的单层膜用分光光度计测定3次的薄膜在整个可见波段的折射率及消光系数,如图1,2所示。

图1 单层膜的折射率由图1可知,在整个可见波段范围内,钛酸镧(LaTiO3)材料的折射率在2.03~2.18之间,色散比较好,且3次的折射率的平均偏差为0.14,重复性比较好。

由图2可知,在整个可见波段范围内,消光系数k值在0.0005~0.0009之间,且3次薄膜的k值比较稳定。

图2 单层膜的消光系数多层减反膜AR的制备是以二氧化硅(SiO2)为低折射率材料,制备AR膜,基片为K9玻璃,重复镀3次,每次镀3片,分别放置于行星罩的上中下位置以分析薄膜的均匀性,用分光光度计测定薄膜在整个可见波段的反射率,如图3所示。

图3 多层AR膜反射率随波长的变化由图3可以看出,在波长430和650nm处反射率最低,约为0.1%,在波长550nm处,反射率9个基片薄膜的折射率差约为0.07%,表现出良好的稳定性及重复性。

钛酸镧(LaTiO3)光学镀膜材料在折射率、消光系数及多层AR膜方面均表现出良好的性能及稳定性,具有良好的推广应用前景。

光学镀膜氧化铪

光学镀膜氧化铪

光学镀膜氧化铪
光学镀膜氧化铪是一种常用的光学材料,具有良好的光学性能和化学稳定性。

它通常用于光学镀膜中,可以提高光学元件的透光率、减少反射和散射,并增强光学元件的耐磨性和耐腐蚀性。

氧化铪具有高折射率和低散射率的特点,可以用于制备高反射膜和抗反射膜。

在高反射膜中,氧化铪可以与其他材料(如二氧化硅)组成多层膜,以实现在特定波长范围内的高反射效果。

在抗反射膜中,氧化铪可以与其他材料(如二氧化硅和氮化硅)组成多层膜,以减少表面反射并提高透光率。

氧化铪也可以用于制备颜色滤光片、偏振器、分光镜等光学元件。

它的耐磨性和耐腐蚀性使得光学元件在使用过程中能够保持较好的光学性能。

需要注意的是,氧化铪的制备过程需要严格的工艺控制和高温条件,以确保其光学性能和化学稳定性。

此外,氧化铪镀膜的厚度和组成也需要根据应用需求进行调控,以达到最佳的光学效果。

光学镀膜工艺指导

光学镀膜工艺指导
光学镀膜工艺指导
汇报人:XX 2024-01-23
目录
• 光学镀膜概述 • 光学镀膜材料与特性 • 光学镀膜工艺流程 • 关键设备与技术参数 • 质量控制与检测标准 • 环境保护、安全操作规范及故障排除
01
光学镀膜概述
定义与分类
定义
光学镀膜是在光学元件表面涂覆 一层或多层薄膜,以改变其光学 性能的技术。
眼镜行业
用于制造太阳镜、偏光镜、护目 镜等,以提高镜片的透光度、减 少反射和眩光。
光通信技术
用于制造光纤通信系统中的光学 元件,如光纤连接器、光分路器 等,以提高光信号的传输效率和 稳定性。
02
光学镀膜材料与特性
常用光学镀膜材料
1 2 3
氧化物材料
如二氧化硅(SiO2)、二氧化钛(TiO2)等, 具有高透过率、低吸收等特性,常用于减反射膜 和增透膜。
03
光学镀膜工艺流程
前处理与准备工作
基片清洗
确保基片表面无尘埃、油污和其他杂 质,常采用超声波清洗、化学清洗等 方法。
基片干燥
环境准备
确保镀膜室内环境洁净,控制温度、 湿度等参数,为镀膜过程提供稳定的 环境条件。
将清洗后的基片进行干燥处理,防止 水分对镀膜过程的影响。
镀膜方法介绍
物理气相沉积(PVD)
01
利用物理方法将材料从源蒸发或溅射到基片表面,形成薄膜。
常见的方法有真空蒸发、溅射镀膜等。
化学气相沉积(CVD)
02
通过化学反应在基片表面生成薄膜。这种方法可以在较低的温
度下进行,并且生成的薄膜具有优良的性能。
溶胶-凝胶法
03
将溶胶涂抹在基片表面,通过热处理等方法使其凝胶化,形成
薄膜。这种方法适用于制备多组分氧化物薄膜等。

折射率与介电常数之间的关系

折射率与介电常数之间的关系

折射率与介电常数之间的关系1 可见光和金属间的相互作用可见光入射金属时,其能是可被金属表层吸收,而激发自由电子,使之具有较高的能态。

当电子由高能态回到较低能态时,发射光子。

金属是不透光的,故吸收现象只发生在金属的厚约100nm 的表层内,也即金属片在100nm 以下时,才是“ 透明” 的。

只有短波长的X -射线和γ -射线等能穿过一定厚度的金属。

所以,金属和可见光间的作用主要是反射,从而产生金属的光泽。

2 可见光和非金属间的作用1) 折射当光线以一定角度入射透光材料时,发生弯折的现象就是折射(Refraction ),折射指数n 的定义是:光从真空进入较致密的材料时,其速度降低。

光在真空和材料中的速度之比即为材料的折射率。

如果光从材料1 ,通过界面进入材料2 时,与界面法向所形成的入射角、折射角与材料的折射率、有下述关系:介质的折射率是永远大于1 的正数。

如空气的n=1.0003 ,固体氧化物n=1.3 ~2.7 ,硅酸盐玻璃n=1.5 ~1.9 。

不同组成、不同结构的介质,其折射率不同。

影响n 值的因素有下列四方面:a) 构成材料元素的离子半径根据Maxwell 电磁波理论,光在介质中的传播速度应为:μ 为介质的导磁率,c 为真空中的光速,ε 为介质的介电常数,由此可得:在无机材料这样的电介质中,μ =1 ,故有说明介质的折射率随其介电常数的增大而增大。

而介电常数则与介质极化有关。

由于电磁辐射和原子的电子体系的相互作用,光波被减速了。

当离子半径增大时,其介电常数也增大,因而n 也随之增大。

因此,可以用大离子得到高折射率的材料,如PbS的n=3.912 ,用小离子得到低折射率的材料,如SiCl 4 的n=1.412 。

b) 材料的结构、晶型和非晶态折射率还和离子的排列密切相关,各向同性的材料,如非晶态(无定型体)和立方晶体时,只有一个折射率(n 0 ) 。

而光进入非均质介质时,一般都要分为振动方向相互垂直、传播速度不等的两个波,它们分别有两条折射光线,构成所谓的双折射。

【精品原创】光学镜片及镀膜

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1.光学镜片参数2.聚焦镜参数3.常见镀膜类型(1)反射膜金属膜反射镜的特点a.金属膜反射镜一般反射特征曲线比较平坦,带宽,反射率高;b.金属膜反射镜的反射率不太受波长和入射角度变化的影响;c.金属膜反射镜膜表面的机械硬度不高,一般不可用通常方法擦拭,只能用包含有有机溶剂的棉棒擦拭;d.金属膜反射镜不适用于强光,激光能量大于1J/cm2时,请选用介质膜反射镜。

介质膜反射镜的特点a.介质膜反射镜是用交替重叠的多层膜的干涉原理制成;b.介质膜的反射率比较高,可接近100%(表中可见),膜的机械硬度高,耐清洁;c.介质膜反射镜与金属膜相比,其反射带宽窄,而且与入射角度密切相关;2.光学镀膜材料的技术指标注:来自中国光学光电子行业协会2008 年光学薄膜培训班培训资料3.红外光学材料及性能参数常用基板有玻璃、陶瓷、光学晶体、光学塑料、金属;其中玻璃分为普通玻璃、无色、有色玻璃、特殊玻璃等。

无色玻璃分两大类(1)光学玻璃,物理学(结构和性能)上的高度均匀性,具有特定和精确的光学常数,具有可见区高透过、无选择吸收着色等特点,分为硅酸盐、硼酸盐、磷酸盐、氟化物和硫系化合物系列。

品种繁多,主要按他们在折射率(nD)-阿贝值(VD)中的位置来分类。

传统上nD>1.60,VD>50和nD<1.60,VD>55的各类玻璃定为冕(K)玻璃,其余各类玻璃定为火石(F)玻璃。

冕玻璃一般作凸透镜,火石玻璃作凹透镜;透明性是光学玻璃的最重要的性质,透光性指光线通过一系列棱镜和透镜后,其能量部分损耗于光学零件的界面反射而另一部分为介质(玻璃)本身所吸收。

前者随玻璃折射率的增加而增加,对高折射率玻璃此值甚大,如对重燧玻璃一个表面光反射损耗约6%左右。

因此对于包含多片薄透镜的光学系统,提高透过率的主要途径在于减少透镜表面的反射损耗,如涂敷表面增透膜层等。

而对于大尺寸的光学零件如天文望远镜的物镜等,由于其厚度较大,光学系统的透过率主要决定于玻璃本身的光吸收系数。

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电子枪、钽舟、钼舟 钼舟、钽舟 电子枪、钽舟、钼舟
多层膜 紫外远红外膜、增透 膜 紫外膜
规格 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-3.0mm颗粒、柱状 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm烧结颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm晶体颗粒 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒、片状 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒 1.0-4.0mm颗粒、块状 块状
透光范围 蒸发温度 360-7000nm 2200-2300 ℃ 400-12000nm 1800-2000 ℃ 220-10000nm 2100 ℃ 300-7000nm 1900-2000 ℃ 160-8000nm 1300-1600 ℃ 200-2000nm 1800-2200 ℃ 200-5000nm 2000-2200 ℃ 800-8000nm 1200-1600 ℃ 400-12000nm 2000-2200 ℃ 400-12000nm 1800-2000 ℃ 400-12000nm 1800-2000 ℃ 400-12000nm 1700-2000 ℃ 350-7000nm 1900-2200 ℃ 230-7000nm 2300-2500 ℃ 250-7000nm 2500 ℃ 350-9000nm 1800-1900 ℃ 200-8000nm 2000 ℃ 400-16000nm 2000 ℃ 250-8000nm 2300-2500 ℃ 400-11000nm 2000 ℃ 300-5000nm 1400-1600 ℃ 220-14000nm 1450 ℃ 200-14000nm 1100 ℃ 220-15000nm 1280℃ 200-8000nm 800-1000 ℃ 200-14000nm 800-1000℃ 200-14000nm 800-1200 ℃ 400-14000nm 1000-1100 ℃ 600-15000nm 600-900 ℃
名称 JS01膜料 JS02膜料 JS03膜料 JS04膜料 氟化镁 二氧化硅 氧化铝 一氧化硅 二氧化钛 五氧化三钛 三氧化二钛 一氧化钛 五氧化二钽 氧化铪 氧化锆 氧化铌 氧化镁 氧化锌 氧化钇 氧化铈 氟化铈 氟化镧 氟化钇 氟化钡 氟化铝 冰晶石 锥冰晶石 硫化锌 硒化锌
分子式
Ti3O5
MgF2 SiO2 Al2O3 SiO TiO2 Ti3O5 Ti2O3 TiO Ta2O5 HfO2 ZrO2 Nb2O5 MgO ZnO Y2O3 CeO2 CeF3 LaF3 YF3 BaF2 AlF3 Na3AlF6 Na5Al3F14 ZnS ZnSe
钽舟、钼舟
多层膜
钽舟、钼舟
多层膜
电子枪、钽舟、钼舟、氧化 铝
红外膜
电子枪、钽舟、钼舟
红外膜、反射膜
射率
蒸发源
应用领域
电子枪、钽舟
增透膜、多层膜
电子枪、钽舟、钨舟
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电子枪
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电子枪
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增透膜、多层膜
电子枪、钽舟、钨舟
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电子枪、钽舟、钨舟
常用光学镀膜材料折射率
折射率 2.10/500nm 2.35/500nm 1.70/500nm 1.47/500nm 1.38/500nm 1.46/500nm 1.63/550nm 1.55/550nm 2.35/500nm 2.35/500nm 2.35/500nm 2.35/500nm 2.10/500nm 1.95/500nm 2.05/500nm 2.30/550nm 1.70/500nm 2.0/550nm 1.80/500nm 2.20/550nm 1.63/500nm 1.58/500nm 1.55/500nm 1.40/10600nm 1.35/500nm 1.33/500nm 1.33/500nm 2.4/550nm 2.58/550nm
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