硅晶体中的平衡载流子与非平衡载流子

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硅材料基础知识

硅材料基础知识

基础课件-硅材料基础知识硅材料基础知识主要内容:一、概述二、硅的结构、分类与来源三、硅的物理性质四、硅的化学性质五、硅的物理参数及测量六、硅的应用及注意事项一、概述硅材料的基础知识,课程包括较多,有固体物理、量子力学、半导体物理、半导体化学、半导体器件工艺、半导体材料等方面的知识;内容较多,如半导体电子状态和能级、载流子的发布、导电性、非平衡载流子、P-N结、金属与半导体的接触、表面理论、光电效应、磁电效压阻效应、异质结等。

这里只介绍半导体材料的最基本的内容。

1、材料按导电性能划分,可分为:导体、绝缘体、半导体三类。

导体——容易导电的材料。

如各种金属、石墨等。

一般的,电阻率<0.2Ω·cm 绝缘体——很难导电的材料。

如橡胶、玻璃、背板、EVA、SiO2、Si3N4等。

一般的,电阻率>20000Ω·cm半导体——介于两者之间的材料。

如Si、Ge、GaAs、ZnO等,它具有一些独特的性质。

注:a、金属靠电子导电,溶液靠离子导电,半导体导电靠电子或空穴导电。

b、空穴就是电子的缺少。

2、半导体材料,按组成结构可分为:元素半导体、化合物半导体、非晶半导体、有机半导体。

3、半导体器件对材料的要求:3.1禁带宽度适中(一般0.5~1.5电子伏,硅是1.08)3.2载流子迁移率高(一般1000~5000cm2/V·s)3.3纯度高3.4电阻率要求可靠、均匀(一般0.001~100000 ,硅本征2.3×105)3.5晶体的完整性二、硅的结构、分类与来源1、硅的原子理论1.1元素周期表中,第三周期、第IVA 族元素,原子序数14,原子量28电子排布1S 22S 22P 63S 23P 2 ,化合价为+4价(+2价)1.2硅有三种同位素28Si :92.21%、29Si :4.70%、30Si :3.09%、1.3晶体结构:金刚石结构(正四面体),原子间以共价键结合。

半导体技术名词解释题

半导体技术名词解释题

半导体技术名词解释题1、半导体:半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。

2、本征半导体:本征半导体是完全不含杂质且无晶格缺陷的纯净半导体。

3、直接带隙半导体:直接带隙半导体是导带底和价带顶在k空间中处于同一位置的半导体。

4、间接带隙半导体:间接带隙半导体材料导带底和价带顶在k空间中处于不同位置。

5、极性半导体:在共价键化合物半导体中,含有离子键成分的半导体为极性半导体。

6、能带、允带、禁带:当N个原子相互靠近结合成晶体后,每个电子都要受到周围原子势场的作用,其结果是每个N度简并的能级都分裂成N个彼此相距很近的能级,这N个能级组成一个能带。

此时电子不再属于某个原子而是在晶体中做共有化运动,分裂的每个能带都称为允带,允带包含价带和导带两种。

允带间因为没有能级称为禁带。

7、半导体的导带:半导体的导带是由自由电子形成的能量空间。

即固体结构内自由运动的电子所具有的能量范围。

8、半导体的价带:价带是指半导体或绝缘体中,在0K时能被电子占满的最高能带。

9、禁带宽度:禁带宽度是指导带的最低能级和价带的最高能级之间的能。

10、带隙:带隙是导带的最低点和价带的最高点的能量之差。

11、宽禁带半导体材料:一般把禁带宽度E g≥ 2.3 eV的半导体材料归类为宽禁带半导体材料。

12、绝缘体的能带结构:绝缘体中导带和价带之间的禁带宽度比较大,价带电子难以激发并跃迁到导带上去,导带成为电子空带,而价带成为电子满带,电子在导带和价带中都不能迁移。

13、杂质能级:杂质能级是指半导体材料中的杂质使严格的周期性势场受到破坏,从而有可能产生能量在带隙中的局域化电子态,称为杂质能级。

14、替位式杂质:杂质原子进入半导体硅以后,杂质原子取代晶格原子而位于晶格点处,称为替位式杂质。

15、间隙式杂质:杂质原子进入半导体以后,杂质原子位于晶格原子间的间隙位置,称为间隙式杂质。

16、施主杂质比晶格主体原子多一个价电子的替位式杂质,它们在适当的温度下能够释放多余的价电子,从而在半导体中产生非本征自由电子并使自身电离。

半导体硅材料基础知识.1

半导体硅材料基础知识.1

微秒是10-6秒)。

所谓非平衡载流子是指当半导体中载流子的产生与复合处于平衡状态时,由于受某种外界条件的作用,如受到光线照射时而新增加的电子——空穴对,这部分新增加的载流子叫作非平衡载流子。

对于P型硅而言:新增加的电子叫作非平衡少数载流子;而新增加的空穴叫作非平衡多数载流子。

对于N型硅而言:新增加的空穴叫作非平衡少数载流子;而新增加的电子叫作非平衡多数载流子。

当光照停止后,这些非平衡载流子并不是立即全部消失,而是逐渐被复合而消失,它们存在的平均时间就叫作非平衡载流子的寿命。

非平衡载流子的寿命长短反映了半导体材料的内在质量,如晶体结构的完整性、所含杂质以及缺陷的多少,因为硅晶体的缺陷和杂质往往是非平衡载流子的复合中心。

少子寿命是一个重要的参数,用于高能粒子探测器的FZ硅的电阻率高达上万Ωcm,少子寿命上千微秒;用于IC工业的CZ硅的电阻率一般在5—30Ωcm范围内,少子寿命值多要求在100μs以上;用于晶体管的CZ硅的电阻率一般在30—100Ωcm,少子寿命也在100μs以上;而用于太阳能电池CZ硅片的电阻率在0.5—6Ωcm,少子寿命应≥10μs。

5. 氧化量:指硅材料中氧原子的浓度。

太阳能电池要求硅中氧含量<5×1018原子个数/cm3。

6. 碳含量:指硅材料中碳原子的浓度。

太阳能电池要求硅中碳含量<5×1017原子个数/cm3。

7、晶体缺陷另外:对于IC用硅片而言还要求检测:微缺陷种类及其均匀性;电阻率均匀性;氧、碳含量的均匀性;硅片的总厚度变化TTV;硅片的局部平整度LTV等等参数。

一、我公司在采购中常见的几种硅材料1.Cell:称为电池片,常常是电池片厂家外销的产品,它实际是一个单元电池。

2.Wafer:这通常指的是硅片,可能是圆片,也可能是方片。

圆片包括:硅切片,硅磨片、硅抛光片、图形片、污渍片、缺损片。

3.Ingot:常常指的是单晶硅锭,且是圆柱形的硅锭,也有用指多晶硅铸锭的。

硅的知识

硅的知识

硅在元素周期表中的序号是14,相对原子量为28,密度2.32-2.34克/厘米。

常温下是固体,熔点是1410~1414度,沸点则要2355度。

硅是IV族元素,外层有四个电子,所以,外层有五个电子的V 族元素就被称为施主元素,因为多余的那个好象是做善事一样可以共大家使用,产生导电性。

而外层只有三个电子的III族元素,则被成为受主元素,因为外面少一个电子,好象有一个空穴一样,所以周围的硅原子所带有的外层的电子老是要来填满它,这样,那个空穴就好象也会到处跑,像个正电子一样,电子和空穴就被统称为载流子。

最常被用来作为施主杂质的元素是磷,主要原因是它无毒而且比较容易得到,进行掺杂也比较容易。

最常被用来作为受主杂质的元素是硼,主要原因也和磷一样,但它比磷还有一个更加明显的优点,就是,它在硅中的分凝系数很接近于1。

----这是什么意思呢?掺杂时,要将硅和杂质一起熔化,然后拉单晶。

而单晶是从上到下逐渐生长的,所有的杂质元素在硅晶体的生长时,在硅的晶体和液体的界面上(固液界面),在固体和液体中的浓度是不同的,其在固体中的浓度与在液体中的浓度之比,就称为分凝系数。

分凝系数越接近与1,则在固体和液体中的比例一样,这样所拉出的单晶的杂质浓度就越均匀。

而分凝系数越接近于零,则在固体和液体的比例差别越大,这样,先拉出来的单晶的头部,杂质就会很少,而到单晶的底部,杂质浓度就会很大。

硼在固液界面静止情况下的分凝系数为0.8,在固液界面运动的时候,会超过0.9,所以,拉制的单晶里,从头到尾,所掺杂的硼的浓度很均匀。

而磷的分凝系数为0.36,在实际拉晶时,分凝系数可以超过0.5,虽然小了些,但在V族元素里,已经是分凝系数最大的元素了硅单晶的主要技术参数硅单晶主要技术参数有导电类型、电阻率与均匀度、非平衡载流子寿命、晶向与晶向偏离度、晶体缺陷等。

导电类型导电类型由掺入的施主或受主杂质决定。

P型单晶多掺硼,N型单晶多掺磷,外延片衬底用N型单晶掺锑或砷。

半导体复习参考精彩试题

半导体复习参考精彩试题

一、填空题1. 自由电子的能量与波数的关系式为(0222)(m k h k E =),孤立原子中的电子能量(大小为2220408n h q m E n ε-=的分立能级),晶体中的电子能量为(电子共有化运动)所形成的(准连续)的能带。

2. 温度一定时,对于一定的晶体,体积大的能带中的能级间隔(小),对于同一块晶体,当原子间距变大时,禁带宽度(变小)。

3. 玻尔兹曼分布适用于(非简并)半导体,对于能量为E 的一个量子态被电子占据的概率为()ex p()ex p()(00T k E T k E E f F B -⋅=),费米分布适用于(简并)半导体,对于能量为E 的一个量子态被电子占据的概率为()ex p(11)(0T k E E E f F -+=),当EF 满足(T k E E T k E E V F F C 0022≤-≤-或)时,必须考虑该分布。

4. 半导体材料中的(能带结构(直接复合))、(杂质和缺陷等复合中心(间接复合))、(样品形状和表面状态(表面复合))等会影响非平衡载流子的寿命,寿命值的大小反映了材料晶格的(完整性),是衡量材料的一个重要指标。

5. Si 属于(间接)带隙半导体。

导带极小值位于布里渊区的(<100>方向)上由布里渊区中心点Г到边界X 点的(0.85倍)处,导带极值附近的等能面是(长轴沿<100>方向的旋转椭球面),在简约布里渊区,共有(6)个这样的等能面。

6. Ge 属于(间接)带隙半导体。

导带极小值位于布里渊区的(<111>方向)上由布里渊区边界L 点处,导带极值附近的等能面是(长轴沿<111>方向的旋转椭球面),在简约布里渊区,共有(4)个这样的等能面。

7. GaAs 属于(直接)带隙半导体。

导带极小值位于布里渊区中心点Г处,极值附近的等能面是(球面),在简约布里渊区,共有(1)个这样的等能面。

在布里渊区的(<111>方向)边界L 点处,存在高于能谷值0.29eV 的次低能谷,简约布里渊区一共有(8)个这样的能谷。

实验光电导衰退法测量单晶硅非平衡少数载流子寿命

实验光电导衰退法测量单晶硅非平衡少数载流子寿命

应在样品与电极接触处涂以自来水,注意切勿涂到光照面上。 用弹力橡皮与样
2
品接触,旋紧螺丝,使样品紧压
在电板上。 根据被测样品的寿命值范围
选 择 光 源 : τ<10μS; 选 用 红 外 光 源:τ>10μS 选用氙灯光源。
根据被测样品的电阻率选 择电表量程开关ρ>100Ώcm 选 择“高阻”挡,ρ<100Ώ cm 选用 “低阻”挡。
同而异,因此精度稍差。
高频光电导衰退法是国际通用方法。 本实验采用这种方法来测量非平衡少子的寿命,
它的优点是样品无须切割为一定的几何形状,对样品的几何尺寸要求不太严格,测量时不
必制作欧姆电极,因此样品较少受到污染,测试方法也较为简单,缺点是仪器线路比较复
杂,受干拢也大些。
本实验的目的在于熟悉高频光电导衰退法的测量原理,熟悉测量设备, 掌握测量方法。
一、实验原理
实验的原理框图见 12-1,从图看出, 高频源提供的高频电流流经被测样品。
当氙光源或红外光
源的脉冲光照射被测样 被

品时,单晶硅光照表面以 硅

及光贯穿深度范围内将 晶
高频源 脉冲光源
产生非平衡光生载流子,
这将使得样品产生附加
光电导,使样品的总电阻
取 样
下降。当高频信号源为恒

压输出时,流过样品的高
3
打开示波器电源,再起动单
实际曲线(起始段不吻合,衰减 340% ~ 50%以后与理想曲线吻合)
e—1= 0.37
时标打点
预先做好的标准指 数衰退曲线
o
规定的τ值取数范围
t
预先规定的坐标原点
晶仪,如选用氙灯光源,这时应 听见每秒一次的触发电离声氙灯

6. 第六章 半导体中的非平衡过剩载流子

6. 第六章  半导体中的非平衡过剩载流子

上式反映,无论电子还是空穴,非平衡载流子越多, 准费米能级偏离EF就越远。
EC EFn EFn EF EFn Ei n N C exp( ) n0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T EFp EV EF EFp Ei EFp p N v exp( ) p0 exp( ) ni exp( ) k0T k0T k0T
EC EF n0 N C exp( ) k0T EF EV p0 NV exp( ) k0T
半导体处于非平衡状态时,就不再存在统一的 费米能级。
引入 导带费米能级 价带费米能级
准费米能级
电子准费米能级(EFn) 空穴准费米能级(EFp)
引入准费米能级,非平衡状态下的载流 子浓度用与平衡载流子浓度类似公式表达
6.4.1 直接复合
直接复合:导带的电子直接落入价带与空穴复合 EC 复合 EV
EC
产生 EV
由于热激发等原因,价带中的电子有一定概率跃 迁到导带中去,产生一对电子和空穴。
1 复合率和产生率 复合率R(复合速率)有如下形式 R=rnp
比例系数r称为电子-空穴复合概率(直接复合系数)。 而 产生率=G
nen pe p pe(n p )
光导开关:超宽带反隐形冲击雷达,高功率脉冲点火系
统,瞬间辐射电磁武器,电子干扰与电子对抗等军事领域
2、非平衡载流子的复合
撤除产生非平衡载流子的外部因素后(停 止光照、外加电压,辐照等),系统将从非平 衡态恢复到平衡态,即电子-空穴对成对消失 的过程,即为非平衡载流子的复合。
h Eg
△n和△p就是非平衡载流子浓度, 也 叫过剩载流子。 △n称非平衡多子, △p为非平衡少子(p型相反)。

半导体物理之名词解释

半导体物理之名词解释

1•迁移率参考答案:单位电场作用下,载流子获得的平均定向运动速度,反映了载流子在电场作用下的输运能力,是半导体物理中重要的概念和参数之一。

迁移率的表达式为:-1*m可见,有效质量和弛豫时间(散射)是影响迁移率的因素。

影响迁移率的主要因素有能带结构(载流子有效质量)、温度和各种散射机构。

- neq pei p2•过剩载流子参考答案:在非平衡状态下,载流子的分布函数和浓度将与热平衡时的情形不同。

非平衡状态下的载流子称为非平衡载流子。

将非平衡载流子浓度超过热平衡时浓度的部分,称为过剩载流子。

非平衡过剩载流子浓度:A n =n _n0,A p = p _p0,且满足电中性条件:A n =^p。

可以产生过剩载流子的外界影响包括光照(光注入)、外加电压(电注入)等。

2对于注入情形,通过光照或外加电压(如碰撞电离)产生过剩载流子:np n,对于抽取2情形,通过外加电压使得载流子浓度减小:n p:::n。

3. n型半导体、p型半导体N型半导体:也称为电子型半导体.N型半导体即自由电子浓度远大于空穴浓度的杂质半导体•在纯净的硅晶体中掺入五价元素(如磷),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了N型半导体•在N型半导体中,自由电子为多子,空穴为少子,主要靠自由电子导电•自由电子主要由杂质原子提供,空穴由热激发形成•掺入的杂质越多,多子(自由电子)的浓度就越高,导电性能就越强•P型半导体:也称为空穴型半导体P型半导体即空穴浓度远大于自由电子浓度的杂质半导体•在纯净的硅晶体中掺入三价元素(如硼),使之取代晶格中硅原子的位子,就形成P型半导体•在P型半导体中,空穴为多子,自由电子为少子,主要靠空穴导电•空穴主要由杂质原子提供自由电子由热激发形成•掺入的杂质越多,多子(空穴)的浓度就越高,导电性能就越强•4. 能带当N个原子处于孤立状态时,相距较远时,它们的能级是简并的,当N个原子相接近形成晶体时发生原子轨道的交叠并产生能级分裂现象。

半导体物理学名词解释 2

半导体物理学名词解释 2

半导体物理学名词解释1、直接复合:电子在导带与价带间直接跃迁而引起非平衡载流子的复合。

2、间接复合:指的是非平衡载流子通过复合中心的复合。

3、俄歇复合:载流子从高能级向低能级跃迁发生电子-空穴复合时,把多余的能量传给另一个载流子,使这个载流子被激发到能量更高的能级上去,当它重新跃迁回到低能级时,多余的能量常以声子的形式放出,这种复合称为俄歇复合,显然这是一种非辐射复合。

4、施主杂质:V族杂质在硅、锗中电离时,能够施放电子而产生导电电子并形成正电中心,称它们为施主杂质或n型杂质。

5、受主杂质:Ⅲ族杂质在硅、锗中能够接受电子而产生导电空穴,并形成负点中心,所以称它们为受主杂质或p型杂质。

6、多数载流子:半导体材料中有电子和空穴两种载流子。

在N 型半导体中,电子是多数载流子, 空穴是少数载流子。

在P型半导体中,空穴是多数载流子,电子是少数载流子。

7、能谷间散射:8、本征半导体:本征半导体就是没有杂质和缺陷的半导体。

9、准费米能级:半导体中的非平衡载流子,可以认为它们都处于准平衡状态(即导带所有的电子和价带所有的空穴分别处于准平衡状态)。

对于处于准平衡状态的非平衡载流子,可以近似地引入与Fermi能级相类似的物理量——准Fermi能级来分析其统计分布;当然,采用准Fermi能级这个概念,是一种近似,但确是一种较好的近似。

基于这种近似,对于导带中的非平衡电子,即可引入电子的准Fermi能级;对于价带中的非平衡空穴,即可引入空穴的准Fermi能级。

10、禁带:能带结构中能态密度为零的能量区间。

11、价带:半导体或绝缘体中,在绝对零度下能被电子沾满的最高能带。

12、导带:导带是自由电子形成的能量空间,即固体结构内自由运动的电子所具有的能量范围。

13、束缚激子:等电子陷阱俘获载流子后成为带电中心,这一中心由于库仑作用又能俘获另一种带电符号相反的载流子从而成为定域激子,称为束缚激子。

14、浅能级杂质:在半导体中、其价电子受到束缚较弱的那些杂质原子,往往就是能够提供载流子(电子或空穴)的施主、受主杂质,它们在半导体中形成的能级都比较靠近价带顶或导带底,因此称其为浅能级杂质。

半导体物理:非平衡载流子

半导体物理:非平衡载流子
所经历的特征时间。
锗:104μs
硅:103μs
砷化镓:10-8~10-9s
显然越大,非平衡载流子浓度减小得越慢
不同材料的少子寿命
不同材料的少子寿命相差很大。一般而言,直接禁带半导体的少子寿命较短,间 接禁带半导体的少子寿命较长。锗、硅、砷化镓相比,锗的少子寿命最长,硅次 之,砷化镓少子寿命最短.锗单晶中少子寿命最长可超过10 ms,而砷化镓的少子 寿命一般在ns范围。同种材料的少子寿命在不同状况下变化范围也很大。纯度和 晶格完整性特别好的硅单晶的少子寿命最长可达1ms以上,制造功率器件的区熔 硅的寿命一般在几十到几百微秒的范围,而含有微量重金属杂质或晶格缺陷的硅 ,其寿命也可降到ns量级。
t
p(t) Ce
d p(t) p(t)
dt
边界条件
p(0) (p)0
t
p(t) (p)0 e
表明光照停止后非平衡载流子浓度随时间按指数规律衰减。
非平衡载流子寿命
t
tp(t)dt te dt
t
0
0 t
p(t)dt
e dt 0
0

利用公式
e x dx
1
0
0
x n e x dx
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
n!
n1
非平衡载流子寿命 就是其平均生存时间。
t
p(t) (p)0 e
令 t
p(t) (p)0 / e 1 0.37 e
寿命定义1
寿命定义2
不同的材料,非平 衡载流子寿命不同
寿命
寿命定义3;由于外界 的干扰(光注入、电注 入等),热平衡系统进 入非平衡系统,当外干 扰去除后,非平衡系统 自发的向平衡系统恢复

半导体物理与器件 第五章非平衡载流子解读

半导体物理与器件 第五章非平衡载流子解读

D p
d 2p dx 2
p
Dn
d 2n dx 2
n
但p( x)、n( x)仍是空间x的函数
上述两个方程的解:
p(x) Aexp( x ) B exp( x )
Lp
Lp
n(x) C exp( x ) B exp( x )
Ln
Ln
Lp Dp p 空穴扩散长度 Ln Dn n 电子扩散长度
第五章非平衡载流子
5.1非平衡载流子的注入与复合 5.2 非平衡载流子的寿命 5.3准费米能级 *5.4复合理论 *5.5 陷阱效应 5.6 载流子的扩散方程 5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式 5.8 连续性方程
5.1非平衡载流子的注入与复合
过剩载流子的产生: ①光注入
光照使半导体产生非平衡载流子
光照
1
1
0
2 0
R
L S
l
s
2 0
V IR p
半导体R1
V R2>>R1
5.1非平衡载流子的注入与复合
②电注入:
二极管加正向电场,n区的 电子扩散到p区,p区的空穴 扩散到n区
p
n
P区
p n
p0 n0
p n
n区
p n
p0 p n0 n
加反向电场,少子抽取,n区空穴飘移到p区,p 区的电子飘移到n区
5.1非平衡载流子的注入与复合
光生过剩电子和过剩空穴的浓度 非平衡载流子通常指非平衡少数载流子
5.1非平衡载流子的注入与复合
非简并半导体,处于热平衡时,电子浓度n0,空穴
浓度P0
Eg
n0 p0 ni2 Nc Nve k0T
如果对半导体施加外界作用,半导体处于非平衡状

半导体硅材料复习题

半导体硅材料复习题

一填空题1.根据单晶硅的使用目的不同,单晶硅的制备工艺也不同,主要的制备工艺有两种,分别是(区域熔炼法和切克劳斯基法)。

3.在热平衡状态半导体中, 载流子的产生和复合的过程保持动态平衡,从而使载流子浓度保持定值,则处于此种状态下的载流子为(平衡载流子)。

处于非平衡状态的半导体,其载流子浓度也不再是n0和p0(此处0是下标),可以比他们多出一部分。

比平衡状态多出来的这部分载流子称为(非平衡载流子)。

4使纵向电阻率逐渐降低的效果与使电阻率逐渐升高的效果达到平衡,就会得到纵向电阻率比较均匀的晶体。

方法:(变速拉晶法,双坩埚法),()。

5多晶硅的生产方法主要包含:(SiCl4法、硅烷法、流化床法、西门子改良法)。

6硅片的主要工艺流程包括:单晶生长→整形→(切片)→晶片研磨及磨边→蚀刻→(抛光)→硅片检测→打包。

7纯净半导体Si中掺V族元素的杂质,当杂质电离时释放电子。

这种杂质称(施主杂质)8.在P型半导体的多数载流子是:(空穴)9. 总厚度变差TTV是指:(硅片厚度的最大值与最小值之差)10. .常用的半导体电阻率测量方法有:(直接法、二探针法、三探针法、四探针法、多探针。

)。

1、在晶格中,通过任意两点连一直线,则这直线上包含了无数个相同的格点,此直线称为_______晶列_____。

2、精馏是利用不同组分有不同的______沸点______,在同一温度下,各组分具有不同蒸汽压的特点进行分离的。

3、物理吸附的最大优点是其为一种_____可逆_______过程,吸附剂经脱附后可以循环使用,不必每次更换吸附剂。

4、多晶硅的定向凝固,是在凝固过程中采用强制手段,在凝固金属和未凝固体中建立起特定方向的____温度梯度________。

5、工业硅生产过程中一般要做好以下几个方面:_、观察炉子情况,及时调整配料比_、_____选择合理的炉子结构参数和电气参数___;及时捣炉,帮助沉料_和______保持料层有良好的透气性6、改良西门子法包括五个主要环节:Si HCl3的合成;SiHCl3精馏提纯;SiHCl3的氢还原;尾气的回收;Si Cl4的氢化分离7、由高纯的多晶硅生长单晶硅基本是以_____区熔法;直拉法两种物理提纯生长方法为主。

晶体硅组件电致光(EL)检测应用及缺陷分析

晶体硅组件电致光(EL)检测应用及缺陷分析

晶体硅组件电致光(EL)检测应用及缺陷分析作者:王盛强李婷婷来源:《科技创新与应用》2016年第01期摘要:面对日益严重的生态环境和传统能源短缺等危机,光伏组件制造行业迅猛发展,光伏组件质量控制环节中测试手段的不断增强,原来的外观和电性能测试已经远远不能满足行业的需求。

目前一种可以测试晶体硅太阳电池及组件潜在缺陷的方法为行业内广泛采用,文章基于电致发光(Electroluminescence)的理论,介绍利用近红外检测方法,可以检测出晶体硅太阳电池及组件中常见的隐性缺陷。

主要包括:隐裂、黑心片、花片、断栅、短路等组件缺陷,同时结合组件测试过程中发现的缺陷对造成的原因加以分析总结。

关键词:太阳能电池;组件;电致发光;缺陷分析;检测1 概述随着社会对绿色清洁能源的需求量急剧飙升,我国的组件生产量将进一步扩大,2010年中国太阳能电池产量达10673MW,占世界总额的44.7%,位居世界前列。

缺陷检测是太阳能电池组件生产制备过程中的核心步骤,因硅电池单元一般采用硅棒切割生产,在生产过程中容易受到损伤,产生虚焊、隐裂、断栅等问题,这些问题对电池的转换效率和使用寿命有着严重的影响,严重时将危害组件甚至光伏发电系统的稳定性[1]。

为了提高组件的效率及合格率,并能够针对各生产环节中产生的缺陷情况及时调整维护生产设备,需配备大量的在线缺陷检测设备。

电致发光(EL)检测由于其质量高、成本低、且能快速、准确识别出组件电池单元常见缺陷等特点,在组件封装生产环节中得到了广泛应用,该检测应用对整个光伏产业具有深刻意义和重大价值[1]。

2 电致发光(EL)测试原理在太阳能电池中,少子的扩散长度远远大于势垒宽度,因此电子和空穴通过势垒区时因复合而消失的几率很小,继续向扩散区扩散。

在正向偏压下,p-n结势垒区和扩散区注入了少数载流子。

这些非平衡少数载流子不断与多数载流子复合而发光,这就是太阳电池电致发光的基本原理[2]。

太阳能电池电致发光(Electroluminescence)测试,又称场致发光测试,简称EL测试。

硅片基础知识培训

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目录
硅片的一些基本概念 行业中单晶硅片的检验标准 行业中多晶硅片的检验标准 目前我公司产成品硅片的详细检验标准
少子寿命
2
硅片的基本概念: 硅片的基本概念:
崩边和崩点 崩边:晶体边缘或表面未贯穿晶片的局部缺损 区域,当崩边在晶片边缘产生时,其尺 周边弦长给出。 崩点:未发生在边缘处棱边上的崩边称为崩点。 崩点是同一个概念)
10
目前我公司产成品硅片的详细检验标准
B类标准
硅片表面有沾污、污迹(脱胶不干净或水纹印,手指 印)(单放); 明显线痕,线痕深度≤20um(单放); 20<TTV≤50 um(单放); 崩点深度≤0.5mm,宽度≤1 mm,,每片崩点总数≤3个 (另一面未透); 崩边边缘程度轻,深度≤0.5mm,宽度≤3cm。(另一面 未透);
头尾片(单面好) 薄厚不均(TTV相差过大) 孔透 隐裂 缺角(大于1/2)
13
少子寿命的概念
处于热平衡状态下的半导体,在一定温度下,载流子 的浓度是一定的,称为平衡载流子浓度, 如果对半导体 施加外界作用,破坏了热平衡的条件,称为非平衡状态。 比平衡状态多出来的这部分载流子称为非平衡载流子。 非平衡载流子分为非平衡多数载流子和非平衡少数载 流子, 对于n型半导体材料,多出来的电子就是非平衡 多数载流子,空穴则是非平衡少数载流子。对p型半导体 材料则相反, 产生非平衡载流子的外界作用撤除以后, 它们要逐渐衰减以致消失,最后载流子浓度恢复到平 衡时的值, 非平衡少数载流子的平均生存时间称为非平 衡少数载流子的寿命,简称少子寿命
15
U-PCD法
微波光电导衰减法(µ-PCD法)相对于其他方法,有 如下特点:-无接触、无损伤、快速测试-能够测 试较低寿命-能够测试低电阻率的样品(最低可以 测0.1ohmcm的样品)-既可以测试硅锭、硅棒, 也可以测试硅片或成品电池-样品没有经过钝化处 理就可以直接测试-既可以测试P 型材料,也可以 测试N 型材料-对测试样品的厚度没有严格的要求该方法是最受市场接受的少子寿命测试方法

半导体物理第5章非平衡载流子

半导体物理第5章非平衡载流子
* 平衡态与非平衡态间的转换过程:
热平衡态: 产生率等于复合率,△n =0; 外界作用: 非平衡态,产生率大于复合率,△n 增大; 稳定后: 稳定的非平衡态,产生率等于复合率,△n 不变; 撤销外界作用: 非平衡态,复合率大于产生率,△n 减小; 稳定后 : 初始的热平衡态(△n =0)。
2. 非平衡载流子的检验
费米能级相同的原因:
半导体处于热平衡状态,即从价带激发 到导带的电子数等于从导带跃迁回价带的电子 数,使得导带中的电子的费米能级和和价带中 空穴的费米能级产生关联,即相等。
从而使得电子和空穴的浓度满足:
np
NC
NV
exp-
Eg K0T
=n
2 i
当半导体处于非平衡态时,有附加的载流 子产生。此时电子和空穴间的激发和复合的 平衡关系被破坏,导带中的电子分布和价带 中的空穴分布不再有关联,也谈不上它们有 相同的费米能级。
可见,EF和n E的Fp 偏离的大小直接反映出 (n或p )
与 相n0差p0的程度n,i2 即反映出半导体偏离热平衡
态的程度。
若两者靠得越近,则说明非平衡态越 接近平衡态。
对于n型半导体,准费米能级偏离平衡费米能级 示意图如下图所示:
EC
EF
EFn
EFp
特点:
EV
E
n F
- EF
EF
EFp
课堂练习5 证明对于n型半导体,准费米能级偏离平衡费米能级满足
恢复平衡态 产生率=复合率
n0、p
不变
0
非平衡载流子复合过程的两种基本形式:
直接复合: 电子在导带和价带之间直接跃迁而产生复合
间接复合:
Ec
电子和空穴通过禁带的能级进行复

半导体物理与器件-第六章 半导体中的非平衡过剩载流子

半导体物理与器件-第六章 半导体中的非平衡过剩载流子

Generation rate
Recombination rate
3
6.1载流子的产生与复合 6.1.1平衡半导体
平衡态半导体的标志就是具有统一的费米能级
EF,此时的平衡载流子浓度n0和p0唯一由EF决定。
平衡态非简并半导体的n0和p0乘积为
n0p0
Nc N vexp(
Eg kT
)
ni2
质量定律
称n0p0=ni2为非简并半导体平衡态判据式。
第6章 半导体中的非平衡过剩载流子
1
第6章 半导体中的非平衡过剩载流子
6.1载流子的产生与复合 6.2过剩载流子的性质 6.3双极输运 6.4准费米能级 *6.5过剩载流子的寿命 *6.6表面效应
2
6.1载流子的产生与复合 6.1.1平衡半导体
平衡状态下产生率等于复合率
产生是电子和空穴的生成过程 复合是电子和空穴的消失过程
一般来说:n型半导体中:δn<<n0,δp<<n0。 p型半导体中:δn<<p0,δp<<p0。
小注入:过剩载流子浓度远小于平衡态时的多子浓度. 大注入:过剩载流子浓度接近或大于平衡时多子的浓度.
7
6.1载流子的产生与复合 6.1.2过剩载流子
注意:
1.非平衡载流子不满足费米-狄拉克统计分布.
(有发光现象)、把多余能量传递给晶格或者把多余能量交给其 它载流子(俄歇复合)。
15
6.1载流子的产生与复合 6.1.2过剩载流子
过剩载流子的产生与复合相关符号
16
6.2过剩载流子的性质 6.2.1连续性方程
单位时间内由x方向的粒子流产生的 空穴的净增加量
Fpx为空穴粒子的流量

半导体复习参考试题

半导体复习参考试题

一、填空题1. 自由电子的能量与波数的关系式为(0222)(m k h k E =),孤立原子中的电子能量(大小为2220408n h q m E n ε-=的分立能级),晶体中的电子能量为(电子共有化运动)所形成的(准连续)的能带。

2. 温度一定时,对于一定的晶体,体积大的能带中的能级间隔(小),对于同一块晶体,当原子间距变大时,禁带宽度(变小)。

3. 玻尔兹曼分布适用于(非简并)半导体,对于能量为E 的一个量子态被电子占据的概率为()ex p()ex p()(00T k E T k E E f F B -⋅=),费米分布适用于(简并)半导体,对于能量为E 的一个量子态被电子占据的概率为()ex p(11)(0T k E E E f F -+=),当EF 满足(T k E E T k E E V F F C 0022≤-≤-或)时,必须考虑该分布。

4. 半导体材料中的(能带结构(直接复合))、(杂质和缺陷等复合中心(间接复合))、(样品形状和表面状态(表面复合))等会影响非平衡载流子的寿命,寿命值的大小反映了材料晶格的(完整性),是衡量材料的一个重要指标。

5. Si 属于(间接)带隙半导体。

导带极小值位于布里渊区的(<100>方向)上由布里渊区中心点Г到边界X 点的(0.85倍)处,导带极值附近的等能面是(长轴沿<100>方向的旋转椭球面),在简约布里渊区,共有(6)个这样的等能面。

6. Ge 属于(间接)带隙半导体。

导带极小值位于布里渊区的(<111>方向)上由布里渊区边界L 点处,导带极值附近的等能面是(长轴沿<111>方向的旋转椭球面),在简约布里渊区,共有(4)个这样的等能面。

7. GaAs 属于(直接)带隙半导体。

导带极小值位于布里渊区中心点Г处,极值附近的等能面是(球面),在简约布里渊区,共有(1)个这样的等能面。

在布里渊区的(<111>方向)边界L 点处,存在高于能谷值0.29eV 的次低能谷,简约布里渊区一共有(8)个这样的能谷。

硅材料基本知识

硅材料基本知识

2、举例说明晶体缺陷主要类型。

晶体缺陷主要包含有以下四种,分别为:点缺陷、线缺陷、面缺陷和体缺陷点缺陷:弗伦克尔缺陷、肖特基缺陷线缺陷:位错(棱位错、刃位错、螺旋位错)面缺陷:层错(外延层错、热氧化层错)4、简述光生伏特效应。

1)用能量等于或大于禁带宽度的光子照射p-n结;2)p、n区都产生电子—空穴对,产生非平衡载流子;3)非平衡载流子破坏原来的热平衡;4)非平衡载流子在内建电场作用下,n区空穴向p区扩散,p区电子向n区扩散;5)若p-n结开路,在结的两边积累电子—空穴对,产生开路电压。

5、简述硅太阳能电池工作原理。

当拥有等于或者大于硅材料禁带宽度的光子照射到硅材料上,在价带上的电子吸收这个光子的能量,跃迁到导帶上,并且在价带上留下一个空穴。

即是在禁带两端产生了电子—空穴对。

而硅电池本身即为一个PN结,产生的电子—空穴对即是注入的非平衡载流子,在内建电场的作用下,非平衡载流子分离,产生电流并在在整个硅电池两端形成电压。

6、如何从石英砂制取硅?简要框图说明从石英到单晶硅的工艺。

工业硅制备原理:多晶硅生产工艺:法、硅烷法、流化床法、改良西门子法(、、)单晶硅的生长7、简述半导体硅中的杂质对其性能的影响.本征半导体Si、Ge等的四个价电子,与另四个原子构成四个共价键,当掺入少量的五价原子(如P、As)时,就形成了n型半导体,由量子力学知识可知,这种掺杂后多余的电子的能级在禁带中紧靠空带处,DED~10-2eV,极易形成电子导电。

则半导体中的电子变为主要载流子,在室温下,除了本征激发之外还受到杂质电离的影响,载流子浓度增加,使半导体的电导率上升;而当掺入的杂质为三价原子时(如B、Ga、In等),多余的空穴的能级在禁带中紧靠满带处,DED~10-2eV,极易形成空穴导电,空穴为其主要载流子,与N型材料类似的,在室温下,由于杂志电离效果的存在,掺杂后的半导体硅的载流子浓度增大,电导率增大。

8、以P掺入Si为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和N型半导体。

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• 可以用观察到的电压变化算出非 平衡少数载流子浓度的变化。 平衡少数载流子浓度的变化。 考虑到非平衡少数载流子在非平衡状态 的特殊作用,称其为“非平衡载流子” 的特殊作用,称其为“非平衡载流子”。
第五章 非平衡载流子
§5.1 非平衡载流子的流入与复合
§5.2 非平衡载流子的寿命 §5.3 准费米能级 §5.4 复合理论 §5.5 陷阱效应 §5.6载流子的扩散运动 载流子的扩散运动 载流子的漂移运动, §5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式
n 0 = N c exp( − Ec − E F E − EV ); p 0 = N v exp( − F ) k 0T k 0T
一定。 即,温度一定,半导体载流子浓度n0, p0一定。 温度一定,半导体载流子浓度 n0, p0 :平衡载流子浓度。非简并条件下: 平衡载流子浓度。 平衡载流子浓度 非简并条件下:
寿命
统计计算
• 设从停止光照的 = 0时刻,非平衡载流子浓度 设从停止光照的t 时刻, 时刻 开始衰减, ∆p开始衰减,其衰减速率与非平衡载流子的浓 开始衰减 度成正比,比例系数为复合的散射几率。 度成正比,比例系数为复合的散射几率。 d ∆ P (t ) ∆ P (t ) 其解为: 其解为: =− dt τ
对于半导体, 对于半导体, ∆ r = ∆ ρ· l / S,而 ,
∆r ∝ ∆σ

∆ρ =

2 σ0
• 用示波器测量半导体两端的压降,光照时引起: 用示波器测量半导体两端的压降,光照时引起:
∆V = I∆r ∝ I∆σ ∝ ∆p
结论: 结论:示波器观察到的压降变 化来源于∆ 化来源于∆p
复合率与产生率
• 单位体积内,每个电子都有一定的几率与空穴复合,用复合几率 复合几率r 复合几率 表示。r与电子的平均热运动速率相关。空穴浓度 空穴浓度P越大,复合的空 空穴浓度 电子浓度越大,复合的电子数越多;电子空穴对 穴数越多;导带的电子浓度 电子浓度 的复合与两者成正比。复合率用R表示;产生率用G表示,s为激发 几率。
非平衡的产生
• 外场:光效应、热效应、电效应、磁效应。 外场:光效应、热效应、电效应、磁效应。 • 光效应: 光效应:
•光照,光子的能量hν若大于禁带宽度 g,将有电 光照,光子的能量 ν若大于禁带宽度E 将有电 光照 子从价带跃上导带,从而产生电子-空穴对 空穴对。 子从价带跃上导带,从而产生电子 空穴对。电 子浓度增加了∆ ,同时价带中空穴浓度增加∆ 。 子浓度增加了∆n,同时价带中空穴浓度增加∆p。 •其中 ∆n = ∆p 其中
R = r ⋅n⋅ p
R = r ⋅ n2 ⋅ p1
G = s ⋅ n1 ⋅ p2
• • • • • • •
温度一定, 一定, 值一定。 温度一定,r 一定,R 值一定。 平衡时, 产生率(generate): 平衡时,n = n0, p = p0, 产生率 : G = R = r n0 p0 = r ni2 光照停止时,非平衡载流子有净复合率: 光照停止时,非平衡载流子有净复合率: 净复合率 = 复合率 – 产生率 Ud = R – G = r ( np - ni2 ) 因产生率仅与温度有关, 因产生率仅与温度有关,且为平衡时的 复合率。因此, 复合率。因此,净复合率可以由上式算 代入上式, 出。将n = n0+∆n, p = p0+ ∆p代入上式, 代入上式 得到: 得到:
∆ p (t ) = ( ∆ p ) 0 exp( − )
t
τ
(∆p)0: 初始时刻的∆p , ∆p(t):随时间变化。 ∆ 初始时刻的∆ 随时间变化。 随时间变化
•从∆p(0)至浓度为∆p/e所花的时间为 从 至浓度为∆ 所花的时间为 至浓度为
(∆p)0 τ ∆
平均生存时间: 平均生存时间:τ “平均生存时间”------寿命 平均生存时间” 平均生存时间 寿命
第五章 非平衡载流子
§5.1 非平衡载流子的流入与复合
§5.2 非平衡载流子的寿命 §5.3 准费米能级 §5.4 复合理论 §5.5 陷阱效应 §5.6载流子的扩散运动 载流子的扩散运动 载流子的漂移运动, §5.7 载流子的漂移运动,爱因斯坦关系式
§5.1 非平衡载流子的流入与复合
• 半导体中,载流子浓度与温度相关 半导体中,
电子-空穴对的复合
• 复合产生的效应
1.直接复合
•基本概念:
•产生率 单位时间、单位体积内 产生率: 产生率
产生的电子-空穴对的数目;
•复合率 单位时间、单位体积内复 合的电子-空穴对 复合率: 复合率
的数目。 •直接复合 直接复合是指导带中的电子直接落入价带与空穴复合, 直接复合 导致电子空穴对的消失; 逆过程为由于热激发等原因,价带中的电子以一定的 •其逆过程 逆过程 几率跃迁到导带上去,产生电子空穴对。
N型半导体的非平衡情况
• 基本定义 • n0+∆n: 非平衡多数载流子; 非平衡多数载流子; ∆ • p0+∆p: 非平衡少数载流子。 非平衡少数载流子。 ∆ • 在小注入的情况下,常有: p0 < ∆n < n0 在小注入的情况下,常有: • 例:1 Ωcm的n型Si: cm的n型 • n0 = 5.5×1015 cm -3 , p0 = 3.1×104 cm -3 × × • 注入浓度:∆n = ∆p = 1010 cm -3 时, 注入浓度: • n ≈ n0 不变; p = p0+ ∆p ≈ 1010 cm -3 不变; 结论:小注入时,对非平衡少数载流子影响较大。 结论:小注入时,对非平衡少数载流子影响较大。
电子准费米能级和空穴准费米能级。 数学描述?
n = N p = N
c
exp( exp(
− −
E E
c − E k 0T p F
n F
)
v
v
− E k 0T
)
• 只要是非简并条件 电子准费米能级不进入导 只要是非简并条件(电子准费米能级不进入导 带和空穴准费米能级不进入价带), 带和空穴准费米能级不进入价带 ,上述条件 总是适用。 与 总是适用。n与n0、ni和p与p0和pi的关系如下 与
n 0 p 0 = N c N v exp( − Eg k 0T ) ( 5 − 1)
热平衡条件下此式成立;反之,此式成立,为热平衡。 热平衡条件下此式成立;反之,此式成立,为热平衡。
本章重点: 本章重点:
• 如何使式 如何使式(5-1)不成立,以及不成立的规 不成立, 不成立 恢复热平衡的过程、 律、恢复热平衡的过程、及各种可能的 机理。 机理。 • 若使式 若使式(5-1)不成立,在确定的温度 下, 不成立, 不成立 在确定的温度T下 对特定的半导体材料(E 一定), 对特定的半导体材料 g一定 ,只有使 n0或p0突然发生变化,变化原因是各种外 突然发生变化, 场:
准费米能级的性质
• 非平衡载流子的浓度可以通过两个准费米能级 的大小表示出来:非平衡载流子的浓度越高, 的大小表示出来:非平衡载流子的浓度越高, 准费米能级的上下差距越大。其中, 型半导 准费米能级的上下差距越大。其中,n型半导 体的电子费米能级变化不大, 体的电子费米能级变化不大,而空穴费米能级 的变化较大。 的变化较大。 • 总之,偏离越大,不平衡情况越显著。两者形 总之,偏离越大,不平衡情况越显著。 成统一的费米能级时,说明半导体处于平衡态。 成统一的费米能级时,说明半导体处于平衡态。
n n n Ec − E F E F − Ei EF − EF n = N c exp( − ) = n0 exp( ) = ni exp( ) k 0T k 0T k 0T p p p E F − Ev Ei − E F EF − EF p = N v exp( − ) = p0 exp( ) = ni exp( ) k 0T k 0T k 0T
非平衡少数载流子的作用
• 非平衡少数载流子对电导率的影响: 非平衡少数载流子对电导率的影响:
σ 0 = n0 qµn + p0 qµ p
光照 前: 光照 后: 附加电导率: 附加电导率:
∆σ
σ = (n0 + ∆n)qµn + ( p0 + ∆p)qµ p
∆σ = σ − σ 0 = ∆nqµ n + ∆pqµ p ∆nqµn + ∆pqµ p n0 qµ n + p0 qµ p

• • • • •
热平衡是载流子的产生与复合的平衡, 热平衡是载流子的产生与复合的平衡, 温度一定时:载流子产生的速率一定, 温度一定时:载流子产生的速率一定,而复 合则与非平衡载流子的浓度有关。 合则与非平衡载流子的浓度有关。 保持平衡时: 产生率=复合率 保持平衡时: 产生率 复合率 非平衡载流子如何复合? 非平衡载流子如何复合?(本章重点) 大致上可以分为两种: (1)直接复合:电子在导带和价带之间的直接 跃迁,引起电子和空穴的直接复合; (2)间接复合:电子和空穴通过禁带的能级进 行复合,且分为体内和表面。
“ 矛盾 ? ”
•如何解决?抛弃EF ?改善 F ? 如何解决?抛弃 改善E 如何解决 •合理的解决方案:两个费米能级, EFn和EFp 合理的解决方案: 合理的解决方案 两个费米能级,
非平衡态的费米能级
• 用准费米能级描述 • 用EFn描述稳定非平衡态时的:n = n0 + ∆ n • 用EFp描述稳定非平衡态时的:p = p0 + ∆ p
相对电导率: 相对电导率:
σ0
=
µn 1 + b ∆n = ⋅ , b= b n0 µp
实验检测图: 实验检测图:
• 电路中,半导体的电阻为 , 电路中,半导体的电阻为r, 串联为电阻R, 串联为电阻 , R >> r 。外加 电压为V 电压为
I = V/(R+r),电导率σ0 电导率σ 电导率
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