透射电镜TEM的应用

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透射电镜的应用

透射电镜的应用

透射电镜在材料分析上的应用1概述透射电子显微镜(缩写TEM),简称透射电镜,是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。

散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗不同的影像,影像将在放大、聚焦后在成像器件(如荧光屏、胶片、以及感光耦合组件)上显示出来。

由于电子的德布罗意波长非常短,透射电子显微镜的分辨率比光学显微镜高的很多,可以达到0.1~0.2nm,放大倍数为几万~百万倍。

因此,使用透射电子显微镜可以用于观察样品的精细结构,甚至可以用于观察仅仅一列原子的结构,比光学显微镜所能够观察到的最小的结构小数万倍。

在放大倍数较低的时候,TEM成像的对比度主要是由于材料不同的厚度和成分造成对电子的吸收不同而造成的。

而当放大率倍数较高的时候,复杂的波动作用会造成成像的亮度的不同,因此需要专业知识来对所得到的像进行分析。

通过使用TEM不同的模式,可以通过物质的化学特性、晶体方向、电子结构、样品造成的电子相移以及通常的对电子吸收对样品成像。

2应用特点通过TEM中的荧光屏,我们可以直接几乎瞬时观察到样品的图像或衍射花样。

我们可以一边观察,一边改变样品的位置及方向,从而找到我们感兴趣的区域和方向。

在得到所需图像后,可以利用相机照相的方法把图像记录下来。

现在新一代TEM也有的装备了数字记录系统,可以将图像直接记录到计算机中去,这样可以大大提高工作效率。

3.应用3 TEM的主要功能对于材料科学的研究而言,TEM已经成为了一种不可或缺的研究工具,以至于在今天,已经很难想象没有TEM的帮助,我们如何深入开展材料科学的研究工作。

下面我简单地列举TEM在材料科学研究中的6个常见用途。

(a)利用质厚衬度(又称吸收衬度)像,对样品进行一般形貌观察;(b)利用电子衍射、微区电子衍射、会聚束电子衍射物等技术对样品进行物相分析,从而确定材料的物相、晶系,甚至空间群;(c)利用高分辨电子显微术可以直接“看”到晶体中原子或原子团在特定方向上的结构投影这一特点,确定晶体结构,大于100nm物体用低压、低分辨电镜即可观察。

TEM(透射电子显微镜)

TEM(透射电子显微镜)

细胞结构解析
细胞膜结构
透射电镜图像可以清晰地展示细胞膜的精细结构,如细胞膜的厚度、 细胞器的分布等。
细胞器结构
透射电镜能够观察到细胞内的各种细胞器,如线粒体、内质网、高 尔基体等,有助于了解细胞器的形态和功能。
细胞骨架结构
透射电镜能够观察到细胞骨架的超微结构,如微管、微丝和中间纤维 等,有助于了解细胞骨架在细胞运动、分裂和分化中的作用。
TEM应用领域
01
02
03
04
生物学
研究细胞、组织和器官的超微 结构,如细胞器、细胞膜、染
色体等。
医学
用于诊断疾病,如癌症、传染 病等,以及药物研发和疫苗制
备过程中的结构分析。
地质学
观察岩石、矿物和矿物的微观 结构,研究地球科学中的各种
地质现象。
材料科学
研究金属、陶瓷、高分子等材 料的微观结构和性能,以及材
控制切片的厚度,通常在50~70纳米之间,以确 保电子束能够穿透并观察到样品的内部结构。
切片收集与处理
将切好的超薄切片收集到支持膜上,并进行染色、 染色脱水和空气干燥等处理。
染色
染色剂选择
选择适当的染色剂,如铅、铀或 铜盐,以增强样品的电子密度并
突出其结构特征。
染色时间与温度
控制染色时间和温度,以确保染色 剂与样品充分反应并达到最佳染色 效果。
清洁样品室
定期清洁样品室,保持清洁度 。
检查电子束系统
定期检查电子束系统,确保聚 焦和稳定性。
更新软件和驱动程序
及时更新TEM相关软件和驱动 程序,确保兼容性和稳定性。
定期校准
按照厂家建议,定期对TEM进 行校准,确保观察结果的准确
性。
06 TEM未来发展

透射电镜在量子点研究中的应用

透射电镜在量子点研究中的应用

透射电镜在量子点研究中的应用透射电镜在量子点研究中的应用透射电镜(transmission electron microscopy,TEM)是一种可以观察物质的微观结构和特性的强大工具。

在材料科学领域中,TEM被广泛应用于研究量子点(quantum dots)的结构、组成和性质。

下面将逐步介绍透射电镜在量子点研究中的应用。

第一步,制备量子点样品。

在进行TEM观察之前,需要制备高质量的量子点样品。

一种常见的制备方法是溶液法,通过控制反应条件和添加适当的配体,可以合成出具有单一尺寸和形状的量子点。

制备的量子点样品可以通过离心、过滤或其他方法得到固体或液体形式。

第二步,样品制备和加载。

为了在TEM中观察量子点,需要将样品制备成透明、薄片状。

常用的方法是将量子点溶液滴在碳膜或其他透明的支撑物上,然后将溶液挥发干燥,使量子点均匀分布在支撑物上。

接下来,将制备好的样品放置在TEM样品夹中,并加载到透射电镜内。

第三步,调整TEM参数。

在观察量子点之前,需要调整透射电镜的参数,以获得良好的图像质量。

首先,需要选择合适的加速电压和透射电镜放大倍数,使得量子点的细节能够清晰可见。

其次,调整透射电镜的聚焦、对齐和对比度等参数,以优化图像对比度和分辨率。

第四步,观察和分析。

完成参数调整后,可以开始观察量子点的结构和特性。

透射电镜可以提供高分辨率的图像,可以看到量子点的形状、大小和分布情况。

此外,透射电镜还可以使用电子衍射技术来确定量子点的晶体结构,通过衍射斑图可以得到晶格参数和晶体对称性等信息。

第五步,性能研究和表征。

透射电镜不仅可以观察量子点的形貌和晶体结构,还可以进行性能研究和表征。

通过透射电镜可以测量量子点的光学性质,如发光强度、荧光寿命和能带结构等。

同时,透射电镜还可以通过电子能谱分析(energy-dispersive X-ray spectroscopy,EDS)等技术,确定量子点的元素组成和原子比例。

总之,透射电镜在量子点研究中发挥着重要作用。

透射电镜金属检测方法

透射电镜金属检测方法

透射电镜金属检测方法透射电镜(Transmission Electron Microscope,简称TEM)是一种通过电子束照射样品,利用电子的透射来观察和分析材料的显微镜技术。

TEM广泛应用于材料科学、生物学、纳米技术等领域,其高分辨率和高放大倍数使其成为金属检测的重要工具之一。

透射电镜金属检测方法主要基于电子束与金属样品的相互作用。

当电子束通过金属样品时,会与金属中的原子和晶体结构发生作用,产生一系列的物理和化学效应。

通过对这些效应的观察和分析,可以获取金属样品的详细信息,如晶体结构、原子排列、晶体缺陷、晶界等。

在透射电镜金属检测中,最常用的方法是透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,简称TEM)和扫描透射电子显微镜(Scanning Transmission Electron Microscopy,简称STEM)。

这两种方法都利用了电子束的透射性质,但在观察样品的方式上有所不同。

TEM是通过透射电子显微镜来观察金属样品的微观结构。

在TEM 中,电子束通过样品后,会被透射到投影屏或CCD相机上形成透射电子图像。

通过对透射电子图像的分析,可以得到金属样品的晶体结构、晶体缺陷、原子排列等信息。

此外,TEM还可以进行能谱分析,得到元素分布和化学组成等信息。

STEM是通过扫描透射电子显微镜来观察金属样品的微观结构。

在STEM中,电子束被聚焦成很小的尺寸,然后扫描在样品上,通过测量透射电子的强度和散射电子的能量来获得样品的信息。

STEM 具有高分辨率和成像速度快的优点,适用于观察金属样品的纳米结构和界面。

透射电镜金属检测方法可以通过以下几个方面来实现。

首先,通过调节透射电镜的电子束参数,如加速电压、聚焦、透镜和光阑等,可以控制电子束的特性,从而优化金属样品的成像效果。

其次,通过透射电子显微镜和扫描透射电子显微镜的成像模式,可以观察到金属样品的微观结构和形貌。

原位透射电镜在能源中的应用

原位透射电镜在能源中的应用

原位透射电镜在能源中的应用下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成,希望大家下载以后,能够帮助大家解决实际的问题。

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透射电镜的原理和应用

透射电镜的原理和应用

透射电镜的原理和应用透射电镜(Transmission Electron Microscope,简称TEM)是一种使用电子束来对物质进行成像和分析的先进仪器。

相对于光学显微镜,透射电镜的分辨率更高,可以观察到更小尺寸的物体和更细微的细节。

下文将详细介绍透射电镜的原理和应用。

一、原理透射电镜的工作原理基于电子的波粒二象性。

当高速电子束穿过薄样品时,电子与样品原子发生散射或透射,这些散射和透射电子可以通过其中一种方式被聚焦后投射到屏幕上形成影像。

透射电镜的主要组成部分包括电子源、电子透镜系统、样品台、检测器和成像系统。

2.电子透镜系统:透射电镜中使用的电子透镜系统包括凸透镜、凹透镜和电磁透镜等,用于聚焦和控制电子束的路径。

3.样品台:样品台用于固定和支持待观察的样品。

在样品台上放置薄到几十纳米的切片样品,以便电子束能够透过。

4.检测器:透射电镜中常用的检测器包括透射电子探测器(TED)、散射电子探测器(SED)和能量散射光谱仪(EDS)等。

TED用于接收透射电子并产生明亮的影像,SED用于检测和分析散射电子的信息,EDS用于分析样品中的元素组成。

5.成像系统:透射电镜的成像系统包括投影屏幕、摄像机和电子显微图像处理设备。

通过调整电子透镜系统,可以将电子束上的信息转换成实时图像并显示在投影屏幕上。

二、应用透射电镜在材料科学、生物科学、纳米科学等领域有广泛的应用。

以下是透射电镜的几个主要应用。

1.结构表征:透射电镜可以用于观察材料的结构和形貌。

它能够提供高分辨率的图像,揭示物质的晶体结构、晶体缺陷、晶界和相界等微观结构信息。

2.成分分析:透射电镜结合能量散射光谱仪(EDS)可以分析样品中元素的组成。

EDS通过测量样品上散射电子的能量,确定样品中元素的成分和含量。

3.纳米材料研究:透射电镜可以研究和制备纳米尺寸的材料。

通过观察和测量纳米材料的形貌、尺寸和结构,可以了解纳米材料的特性和性能,并指导纳米材料的设计和合成。

透射电镜 异质结 催化

透射电镜 异质结 催化

透射电镜异质结催化透射电镜(Transmission Electron Microscope,简称TEM)是一种使用电子束而不是光束来形成样品图像的仪器。

它可以提供比光学显微镜更高的分辨率,能够观察到更小的细节和更高的放大倍数。

异质结是一种由两种或多种不同材料组成的结构,在催化领域中得到广泛应用。

本文将介绍透射电镜在观察异质结催化过程中的应用。

透射电镜可以用于观察异质结的形貌和结构。

通过调节电子束的透射方向和焦距,可以获得样品的各个角度的高分辨率图像。

这使得我们可以直观地观察到异质结的界面形貌和结晶结构,包括晶格缺陷、晶界和界面的原子排列等。

通过观察这些细节,我们可以更好地理解异质结的催化性能和反应机制。

透射电镜还可以用于分析异质结的化学成分和分布。

通过能量色散X射线光谱(EDS)技术,可以在透射电镜下同时获取样品的成分信息。

这使得我们可以定量分析异质结中各个组分的含量,并研究它们在界面区域的分布情况。

这对于理解异质结的催化活性和选择性非常重要,因为化学成分的差异可能导致不同的催化性能。

透射电镜还可以用于研究异质结界面的原子间相互作用。

通过高分辨率透射电镜(HRTEM)技术,我们可以观察到单个原子的位置和动态行为。

这有助于我们理解异质结界面的电子结构、离子扩散和反应动力学等过程。

通过研究这些微观现象,我们可以设计和优化异质结的催化性能,例如改善反应速率、提高选择性和稳定性。

透射电镜还可以结合其他表征技术,如扫描透射电镜(STEM)、电子能量损失光谱(EELS)和原子力显微镜(AFM)等,来进一步研究异质结的催化特性。

这些技术的结合可以提供更全面的样品信息,从微观到纳米尺度甚至原子尺度。

通过综合分析这些信息,我们可以更好地理解异质结的催化机制和性能,并指导催化剂的设计和合成。

透射电镜在异质结催化研究中具有重要的应用价值。

它可以为我们提供详细的样品形貌和结构信息,分析化学成分和分布,研究界面原子间的相互作用,甚至结合其他表征技术进行更深入的研究。

透射电镜的使用方法及应用

透射电镜的使用方法及应用

透射电镜的使用方法及应用
透射电镜是一种能够将电子束穿透到物质内部的高分辨率成像技术,可用于研究纳米级结构和材料的微观结构。

使用方法:
1. 样品制备:首先需要准备物质样品,制备要求与透射电子显微镜(TEM)相似,即需要制备一定的薄片或纤维,通常使用离子蚀刻等技术来制备样品。

2. 接入样品:将样品放置于透射电镜样品架上,并通过真空系统移除样品表面的气体,使样品与电子束之间的相互作用减少。

3. 选择显微镜参数:设置合适的照射电压和电流,以及透射电镜的透镜系统,以确保电子束在穿过样品时能够正确地被聚焦。

4. 数据采集:观察样品,通过检测经过样品的电子束所受到的散射,从而获得有关样品的微观结构信息。

可以使用高分辨率成像,衍射和能谱分析等技术,以获得不同的信息。

应用:
1. 纳米材料研究:透射电镜可以用于研究各种纳米材料的形状,大小和结构,
例如奈米管和纳米颗粒等。

2. 生物医学研究:透射电镜可以用于研究组织细胞等生物样品的微观结构,可以用于细胞的超高分辨率成像,包括细胞核、细胞质和细胞器等。

3. 材料科学研究:透射电镜可以用于研究材料的晶体结构、缺陷和表面形貌等重要信息,这对材料科学的研究和设计非常有用。

4. 能源材料研究:透射电镜可以用于研究各种电池、太阳能电池、燃料电池和催化剂等能源材料的结构和性能,对于能源材料的开发和利用具有重要意义。

总之,透射电镜是一个非常强大的工具,对于研究材料学,生物医学和能源材料等领域具有广泛的应用价值。

TEM的应用

TEM的应用

透射电子显微镜(TEM)分析技术在纺织化学与染整工程中的应用摘要:透射电子显微镜的分辨率为0.1~0.2nm,放大倍数高达为几万~百万倍,适用于观察超微结构,可以同时提供形貌、成分、结构信息,非常适宜于对纤维细微结构、织物整理效果等方面的研究。

文中主要针对TEM分析技术在纺织化学与染整工程领域中国内外的应用现状,围绕TEM观察纤维的微细结构、纳米颗粒在溶剂中的分散性能、改性纤维素的表征等方面进行了阐述。

此外,文章也对TEM在其他领域的最新应用和进展进行简单介绍。

关键词:透射电子显微镜纺织化学与染整应用1. TEM的原理电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样,都是利用凸透镜的放大成像原理,将人眼不能分辨的微小物体放大到人眼能分辨的尺寸,其主要是增大近处微小物体对眼睛的张角(视角大的物体在视网膜上成像大)。

所不同的是前者用电子束作光源,用电磁场作透镜。

目前,主流的透射电镜镜筒是电子枪室和由6~8级成像透镜以及观察室等组成【1】。

阴丝在灯丝加热电流作用下发射电子束,该电子束在阳极加速高压的加速下向下高速运动,经过第一聚光镜和第二聚光镜的会聚作用使电子束聚焦在样品上,透过样品的电子束再经过物镜、第一中间镜、第二中间镜和投影镜四级放大后在荧光屏上成像。

即上一透镜(如物镜)的像就是下一透镜(如中间镜)成像时的物,也就是说,上一透镜的像平面就是下一透镜的物平面,这样才能保证经过连续放大的最终像是一个清晰的像[2]。

电镜总的放大倍数是这四级放大透镜各级放大倍数的乘机,因此透射电镜有着更高的放大范围(200~1000000倍)。

由于电子束在外部磁场或电场的作用下可以发生弯曲,形成类似于可见光通过玻璃时的折射现象,所以我们就可以利用这一物理效应制造出电子束的“透镜”,从而开发出电子显微镜。

而作为透射电子显微镜(TEM)其特点在于我们是利用透过样品的电子束来成像,这一点有别于扫描电子显微镜(SEM)【3】2. TEM分析技术在纺织化学与染整工程中的应用2.1透射电子显微镜研究聚丙烯睛纤维的微观结构和缺陷曾汉民等【4】用透射电子显微镜(TE M) 研究了湿纺法所制得的高度取向的PAN 纤维织态结构内部的细节特征及其缺陷。

透射电镜用途及应用范围

透射电镜用途及应用范围

透射电镜用途及应用范围透射电镜(Transmission Electron Microscope,TEM)是一种非常重要的高分辨率显微镜,利用电子束通过样品并在光学系统下进行放大,可以实现对物质的高分辨率成像与分析。

透射电镜在材料科学、生物学、医学、纳米技术等领域有着广泛且重要的应用。

首先,透射电镜在材料科学领域有着广泛的应用。

它可以对材料的微观结构进行观察和分析,例如:晶体结构、晶粒大小和形貌,材料的相变、晶界、缺陷等。

同时,透射电镜可以通过选区电子衍射(Selected Area Electron Diffraction,SAED)技术来确定材料的晶体结构以及取向关系,提供有关晶体结构的重要信息。

此外,透射电镜还可以用于研究材料的化学成分和分布情况,通过能量色散X射线谱仪(EDX)可以提供元素成分的定量和定性分析。

其次,在生物学和医学领域,透射电镜被广泛应用于细胞和组织的观察。

透射电镜可以对细胞和器官的超微结构进行高分辨率成像,例如:细胞器、细胞膜结构和核酸蛋白质复合物等。

透射电镜能够提供有关细胞内部组织、结构和功能的详细信息,对于研究传染病病毒等微生物,以及细胞分裂、细胞凋亡等生物学现象有着重要的作用。

同时,透射电镜还在医学领域中广泛应用于病理学、药物输送系统和生物材料等研究。

此外,透射电镜在纳米技术领域也具有重要的应用价值。

纳米材料具有特殊的物理、化学、生物学性质,透射电镜可以提供对纳米材料进行形貌、结构以及活性等方面的表征。

透射电镜可以帮助研究人员观察纳米颗粒、纳米管、纳米结构的形貌、尺寸和位置,并对其成分和晶体结构进行分析。

同时,透射电镜还可以通过选区电子衍射技术来研究纳米材料的晶体结构以及纳米材料之间的界面和相互作用等。

除了上述领域,透射电镜还有许多其他的应用范围。

例如,透射电镜在能源领域可以用于观察电池、催化剂、材料的能量转换机制等;在环境科学中可以用于观察空气污染物、水中微生物等;在电子器件研究中,透射电镜可以被用来探究半导体和磁性材料的电子结构和性能。

透射电镜观察孪晶

透射电镜观察孪晶

透射电镜观察孪晶
透射电镜(TEM)是观察孪晶微观结构的重要工具,可以揭示材料的孪晶界、电子衍射模式和高分辨率下的晶体结构。

以下是使用TEM观察孪晶时可能涉及的步骤和分析方法:
1. 孪晶形貌观察:在TEM下可以直接观察到材料中的孪晶界。

孪晶是指两个晶体(或一个晶体的两部分)沿一个公共晶面构成镜面对称的位向关系。

共格孪晶界上的原子为两个晶体所共有,通常在显微镜下呈直线,界面能很低,而相对于孪晶面旋转一角度形成的非共格孪晶界,原子错排较严重,能量相对较高。

2. 电子衍射分析:通过TEM的电子衍射模式可以确定孪晶与基体之间的取向关系。

在衍射花样中,会看到两套单晶斑点的叠加,这两套斑点的相对位向反映了基体和孪晶之间存在的对称取向关系。

3. 高分辨成像:利用TEM的高分辨成像(HRTEM)功能,可以详细观察到孪晶界面的原子排列情况。

高分辨图像可以通过快速傅里叶变换(FFT)来分析,FFT的作用与选区电子衍射(SAED)一致,在HRTEM图中仍保持其孪生关系。

4. 倒易点阵的对称关系:了解正点阵中存在的孪晶关系,在相应的倒易点阵也一定会存在孪晶关系。

这意味着晶体的正、倒点阵互为倒易,如果正点阵中基体和孪晶有同名指数的晶面具有对称关系,相应的倒易矢量之间也有对称关系。

在使用TEM进行孪晶观察时,需要对样品进行精细的制备,以保证足够的透射电子能力和代表性的微观视场。

同时,操作者需要具备一定的TEM操作和分析技能,才能准确获取并解读孪晶的微观结构信息。

TEM

TEM

透射电镜的样品制备原理
• 在透射电镜中,电子束是透过样品成像的,而电 子束的穿透能力不大,这就要求将样品制成很薄 的薄膜样品。
• 电子束穿透固体样品的能力,主要取决于加速电 压和样品物质的原子序数。一般来说,加速电压 越高,样品原子序数越低,电子束可以穿透的样 品厚度越大。 • 常用的透射电镜样品制备方法有: 支持膜法、复型法、晶体薄膜法、超薄切片法
透射电子像中,有三种衬度形成机制:
• 质厚衬度,衬度取决于质量厚度和原子序数差。
• 衍射衬度,是指晶体中各部分因满足衍射条件
(布拉格方程)的程度不同而引起的衬度,他是
利用电子衍射效应来产生晶体样品像衬度的一种
方法。
• 相位衬度
二.透射电镜的优缺点
• 优点:分辨本领优于0.2-0.3nm,放大倍数几十万倍;除放 大成像外还能进行结构分析。 • 缺点:对样品要求高,制备麻烦。样品被支撑它的铜网遮 住一部分,不能进行样品欲测区域的统、 真空系统和操作 控制系统四部分 组成。 • 其中电子光学系 统是电镜的主要 组成部分,通常 称为镜筒。
工作原理
透射电镜通常采用热阴极 电子枪来获得电子束作为 照明源。热阴极发射的电 子,在阳极加速电压的作 用下,高速穿过阳极孔, 然后被聚光镜汇聚成具有 一定直径的束斑照射到样 品上。 这种具有一定能量的电子 束与样品发生作用,产生 反映样品微区的厚度、平 均原子序数、晶体结构或 位向差别的多种信息。
共析碳钢的珠光体组织。在透射电镜下,其层片特征显示的十分 清晰,甚至可以精确的测量渗碳体片及其间距的宽度。
谢谢!
三.透射电镜应用举例
• 水泥:电子衍射可以确定晶体结构、点阵常数和晶体 位向,选区电子衍射特别适用于分析那些难以分离的 微区物像的形貌结构和晶体结构。 • 陶瓷:借助透射电镜,对黏土矿物进行形态研究,可 以得出所测矿物颗粒的立体形态及结晶程度等形态学 概念。 • 金属:透射电镜在金相分析和金属断口分析方面得到 了广泛的应用。在金属断口分析方面,人们借助透射 电镜比肉眼和放大镜更深刻的认识断口的特征,揭示 断裂过程机制,研究影响断裂的各种因素,对失效分 析非常有效。在金相分析方面,利用透射电镜的高放 大倍数,可以显示光学显微镜无法分辨的显微组织细 节。

透射电镜衍射斑点分析

透射电镜衍射斑点分析

透射电镜衍射斑点分析简介透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,简称TEM)是一种通过电子束与样品相互作用,利用透射方式观察样品内部结构的高分辨率显微镜。

TEM的一个重要应用就是利用电子的衍射现象来研究样品的晶体结构。

在TEM中,电子束通过样品时会与样品中的原子相互作用,形成衍射斑点(diffraction spots)。

衍射斑点的分析可以提供许多有关样品结构的信息,包括晶格常数、晶体对称性、晶体缺陷等。

在本文中,我们将介绍透射电子显微镜衍射斑点的分析方法,包括数据采集、图像处理和衍射斑点解析。

数据采集在TEM中进行衍射斑点分析之前,首先需要采集衍射图像。

具体的数据采集方法可以根据样品和仪器的特性进行调整,但通常的步骤如下:1.确保样品准备充分,如将样品制成薄片,使电子束能够透过样品而不发生重叠散射。

2.调整TEM仪器的参数,如对准电子束、选择合适的放大倍数和调整聚焦等。

3.选择合适的衍射模式,如选区电子衍射(Selected Area ElectronDiffraction,SAED)模式或更广的场发射电子衍射(Convergent BeamElectron Diffraction,CBED)模式。

4.通过调整TEM的光学系统,将衍射斑点聚焦到相机上,并进行曝光,采集图像数据。

图像处理获得衍射图像后,接下来需要进行图像处理,以便更好地观察和分析衍射斑点。

图像处理的主要步骤包括:1.图像校正:根据TEM仪器的参数,进行图像校正,消除畸变和噪声。

2.区域选择:根据需要分析的衍射斑点和背景,选择感兴趣的区域,并进行裁剪和缩放。

3.对比度增强:通过调整图像的亮度和对比度,增强衍射斑点的清晰度。

4.噪声去除:使用滤波算法去除图像中的噪声,以便更好地观察衍射斑点。

图像处理的目的是提取出清晰、准确的衍射斑点图像,为后续的分析提供更好的数据基础。

衍射斑点解析通过合适的图像处理,可以得到清晰的衍射斑点图像。

TEM

TEM
(3)成像系统一般由物镜、中间镜和投影镜组 成。物镜的分辨本领决定了电镜的分辨本领, 中间镜和投影镜的作用是将来自物镜的图像 进一步放大。
• 成像系统补充说明:
• 由物镜、中间镜(1、2个)和投影镜(1、2个)组成。
• 成像系统的两个基本操作是将衍射花样或图像投 影到荧光屏上。
• 通过调整中间镜的透镜电流,使中间镜的物平面 与物镜的背焦面重合,可在荧光屏上得到衍射花 样。
扫描发生仪
电子束
显象管
和X-Y 记录仪
扫描线圈
数据 处理
放大器
能量选择光阑
入射光阑
探测器
电子能量 分析仪
分析电镜图像观察与记录系统 结构示意图
2.真空系统 真空系统由机械泵、油扩散泵、换向阀门、 真空测量仪奉及真空管道组成。它的作用 是排除镜筒内气体,使镜筒真空度至少要 在10-4 pa以上。如果真空度低的话,电子与 气体分子之间的碰撞引起散射而影响衬度, 还会使电子栅极与阳极间高压电离导致极 间放电,残余的气体还会腐蚀灯丝,污染 样品。



ห้องสมุดไป่ตู้





选区形貌
选区衍射斑点
• 选区衍射操作步骤:
• 为了尽可能减小选区误差,应遵循如下 操作步骤:
• 1. 插入选区光栏,套住欲分析的物相,调 整中间镜电流使选区光栏边缘清晰,此时 选区光栏平面与中间镜物平面生重合;
• 2. 调整物镜电流,使选区内物象清晰,此 时样品的一次象正好落在选区光栏平面上, 即物镜象平面,中间镜物面,光栏面三面 重合;
概述
电子衍射基本公式和相机常数 选区电子衍射 常见的几种电子衍射谱 电子衍射花样的标定
• 概述

透射电镜TEM的应用

透射电镜TEM的应用

透射电镜TEM的应⽤第三节透射电镜的应⽤⼀、复型在⾦相分析中的应⽤(⼀)钢中典型组织的观察1.珠光体奥⽒体在C曲线“⿐⼦”上部分区域分解的产物为珠光体型组织,包括珠光体、索⽒体和屈⽒体,都是铁素体与渗碳体的机械混合物,区别只是层⽚间距不同⽽已。

珠光体组织内层⽚的粗细和冷却速度、转变温度有关,冷速愈快,转变温度愈低,所形成的珠光体则越细。

由于珠光体在晶界形核,然后向晶内长⼤直⾄相遇,所以图5—21 T8,退⽕,5000×组织:珠光体在⼀个奥⽒体晶粒内有若⼲不同位向的珠光体领域。

见图5—212.贝⽒体奥⽒体在中间温度(低于珠光体转变温度,⾼于马⽒体转变温度)的转变产物为贝⽒体,贝⽒体也是铁素体和渗碳体的两相组织,但其相变机制和组织形态与珠光体不同。

随着钢的成分及转变温度的不同,贝⽒体形态有很⼤差别,⼤致可分为三类:上贝⽒体、下贝⽒体和粒状贝⽒体。

上贝⽒体是在贝⽒体转变区的较⾼温度范围内形成的。

在光镜观察时可看到⽻⽑状或单⽻⽑状特征,⼀般是沿奥⽒体晶界长出。

其中渗碳体粒⼦很难辨别。

复型图象可清晰地显⽰上贝⽒体由⼤体平⾏的铁素体条和分布于其间的断续杆状渗碳体所组成。

见图5—22。

下贝⽒体在低温范围形成,光镜下呈⿊⾊针叶状,并相互成⾓度。

复型电镜观察表明,在铁素体⽚内沉淀的细⼩碳化物有⼀定的取向,与铁素体⽚长轴成55o~60o⾓。

见图5—23 。

图5—22 GCr15,900℃奥⽒体化图5—23 GCr15,970℃奥⽒体化400℃等温7秒,7000×,组织:上贝⽒体300℃等温30秒,7000×,组织:下贝⽒体3. 马⽒体通常,奥⽒体快速冷却时得到马⽒体,其形态根据含碳量不同可分为两类:低碳马⽒体和⾼碳马⽒体,含碳量在0.2~1%时为两者的混合组织。

低碳马⽒体呈条束状排列。

同⼀领域内的马⽒体条⼤致平⾏,领域之间位向不同。

交⾓60o、90o等,因为其亚结构为⼤量位错线缠结,⼜称它为位错马⽒体,见图5—24。

完整版TEM高分辨透射电镜讲稿

完整版TEM高分辨透射电镜讲稿
射方向与晶面的夹角) ; dhkl为平行晶面组(hkl)面间距;n为整数
22
?以单相的多晶体薄膜样品为例说明。设:
薄膜内两晶粒 A和 B,其唯一差别在于晶体学位向不同。
?在入射束照射下,B 晶粒的
某(hkl)晶面组恰好与入射束 满足精确的布拉格角θB ,
衍射束
?TEM发展概述
主要内容
?TEM的结构和成像原理
?TEM的样品制备
?影响TEM分辨率的因素
?TEM的应用
一. TEM发展概述
1926年德国科学家Garbor和Busch发现用 铁壳封闭的铜线圈对电子流能折射聚焦, 既可作为电子束的透镜。 1932年德国科学家Ruska和Knoll在前面两 个发现的基础上研制出第一台TEM。
中间镜:
第一中间镜的物平面为物镜的像平面,可观察图像;第一 中间镜的物平面为物镜的焦平面,可观察电子衍射
成像过程图解:
由电子枪发射高能、高速电子束 经聚光镜聚焦后透射薄膜或粉末样品 透射电子经过成像透镜系统成像
激发荧光屏显示放大图像 专用底片/数字暗室记录带有内部结构信息的高分辨图像
透射电镜图像的解读
质厚衬度像

明场像


电子衍射图 暗场像


中心暗场像
相位衬度像(高分辨率像)
12
透射电镜的小孔径角成像:
?为了确保透射电子显微镜的高分辨本领,采用小孔径角成像。 ?小孔径角成像:是通过在物镜背焦面上沿径向插入一个小孔径的物镜
光阑来实现的,如图所示。
?这样可把散射角大于α的 电子挡掉,只允许散射角 小于α的电子通过物镜光 阑参与成像,增加了图像 的衬度。
衍射束
透射束
29

透射电子显微镜在材料科学中的应用

透射电子显微镜在材料科学中的应用

透射电子显微镜在材料科学中的应用材料科学是研究材料的性质、结构和制备方法的学科。

其中,电子显微镜在材料科学领域中有着至关重要的作用。

其原理是通过将电子束聚焦后照射在样品表面,通过对电子的散射和透射来观察样品的内部结构和表面形貌。

其中透射电子显微镜(TEM)在材料科学领域中的应用更是十分广泛。

透射电子显微镜是一种高分辨率的显微镜,它可以显微观察材料的内部结构和微观形貌。

其分辨率可达到0.1纳米以下,甚至可以观察到原子级别的结构和构型。

因此,透射电子显微镜被广泛应用于材料科学中对新材料的研究、性能改进和制备方法的研究等方面。

首先,透射电子显微镜可以用于材料的微观结构研究。

通过透射电子显微镜,我们可以观察到材料的晶体结构、氧化物的形态及其分布、合金结构、纳米材料的形态等等。

材料的晶体结构是材料科学中的一个重要参数,在新材料的研究中也是一个不可缺少的参数。

通过透射电子显微镜,可以观察到材料的晶体面、晶粒大小、晶格缺陷等参数,从而了解材料的晶体结构,有助于材料的性质改进和新材料的制备。

其次,透射电子显微镜可以用于材料的性能研究。

例如,透射电子显微镜可以用于研究各种材料的疲劳性能、塑性变形特性、应力分布等。

通过对这些性能的研究,可以了解材料的机械性能、热性能、电性能等方面的特点,为材料的性能改进提供依据。

第三,透射电子显微镜可以用于纳米材料的研究。

通过透射电子显微镜,可以观察到纳米材料的微观形态和动态过程。

例如,可以观察到纳米材料的结晶状态和缺陷、微观结构、成核和生长机制等。

同时,也可以通过透射电子显微镜来探索纳米材料与其他材料的相互作用和反应机制,如纳米材料与生物大分子、其他材料的交互作用,从而为纳米材料的性能改进提供基础。

第四,透射电子显微镜可以用于研究新型材料的制备方法。

通过透射电子显微镜,可以观察材料的制备过程中样品的结构演变情况,从而了解制备方法对材料内部结构的影响。

例如,在合金制备中,可以通过透射电子显微镜了解不同材料的混合过程,分析制备后的合金材料结构和性能变化,从而为新型材料的制备提供参考和方法。

TEM透射电镜中的电子衍射及分析实例

TEM透射电镜中的电子衍射及分析实例

TEM透射电镜中的电子衍射及分析实例TEM(透射电子显微镜)是一种利用电子束来研究物质结构的仪器。

它通过透射电子的衍射来获得高分辨率的图像,可以观察到物质的晶体结构、晶格缺陷、成分分布等信息。

下面将介绍几个常见的TEM电子衍射及分析实例。

1.晶体结构分析:TEM电子衍射可以用于确定物质的晶体结构。

例如,我们可以用TEM观察纳米颗粒的晶体结构,通过衍射斑图的形状和位置可以确定晶体的点群、空间群以及晶胞参数。

这对于研究纳米颗粒的生长机制、性能优化等具有重要意义。

2.晶格缺陷分析:晶格缺陷对材料的性质具有重要影响。

TEM电子衍射可以用于观察晶格缺陷并进行分析。

例如,通过对衍射斑图的解析,可以确定晶格缺陷的类型(例如位错、晶格错配等)、位置以及密度。

这对于研究材料的力学性能、电学性能等具有重要意义。

3.单晶取向分析:TEM电子衍射可以用于确定单晶的晶面取向。

通过选取合适的照射条件(如照射角度、光斑尺寸等),观察到的衍射斑图可以得到晶面的取向信息。

这对于材料的晶面取向控制、物理性质优化等具有重要意义。

4.晶体成分分析:TEM电子衍射可以用于确定材料的成分。

通过观察材料的纹理和衍射斑图的位置等信息,可以获得材料的成分分布。

例如,TEM电子能谱(EDS)结合电子衍射可以同时确定材料的晶体结构和成分,对于研究复杂多相体系具有重要意义。

5.界面结构研究:TEM电子衍射可以用于研究材料的界面结构。

通过选择合适的照射条件,观察到的衍射斑图可以提供界面的结构和晶面取向信息。

这对于研究界面的稳定性、反应动力学等具有重要意义。

总之,TEM电子衍射是一种非常重要的材料分析技术,它可以提供关于晶体结构、晶格缺陷、成分分布、晶面取向和界面结构等信息。

通过对衍射斑图的定性和定量分析,我们可以深入了解材料的性质和行为,为材料设计和性能优化提供指导。

这些实例只是TEM电子衍射应用的一部分,随着技术的发展,相信将会有更多更广泛的应用出现。

失效分析常用工具介绍透射电镜(TEM)TEM一般被使用来分析样品形貌

失效分析常用工具介绍透射电镜(TEM)TEM一般被使用来分析样品形貌

失效分析常用工具介绍透射电镜(TEM)TEM一般被使用来分析样品形貌(morhology),金相结构(crystallographic structure)和样品成分分析。

TEM比SEM系统能提供更高的空间分辨率,能达到纳米级的分辨率,通常使用能量为60-350keV的电子束。

与TEM需要激发二次电子或者从样品表面发射的电子束不同,TEM收集那些穿透样品的电子。

与SEM一样,TEM使用一个电子枪来产生一次电子束,通过透镜和光圈聚焦之后变为更细小的电子束。

然后用这种电子束轰击样品,有一部分电子能穿透样品表面,并被位于样品之下的探测器收集起来形成影像。

对于晶体材料,样品会引起入射电子束的衍射,会产生局部diffraction intensity variations,并能够在影像上非常清晰的显现出来。

对于无定形材料,电子在穿透这些物理和化学性质都不同的材料时,所发生的电子散射情况是不相同的,这就能形成一定的对比在影像观察到。

对于TEM分析来说最为关键的一步就是制样。

样品制作的好坏直接关系到TEM能否有效的进行观察和分析,因此,在制样方面多加努力对于分析者来说也是相当必要的工作。

扫描声学显微镜集成电路封装的可靠性在许多方面要取决于它们的机械完整性.由于不良键合、孔隙、微裂痕或层间剥离而造成的结构缺陷可能不会给电性能特性带来明显的影响,但却可能造成早期失效.C模式扫描声学显微镜(C—SAM)是进行IC封装非破坏性失效分析的极佳工具,可为关键的封装缺陷提供一个快速、全面的成象.并能确定这些缺陷在封装内的三维方位.这一C—SAM系统已经在美国马里兰州大学用于气密性(陶瓷)及非气密性(塑料)IC封装的可靠性试验。

它在塑料封装常见的生产缺陷如:封装龟裂、叶片移位、外来杂质、多孔性、钝化层龟裂、层间剥离、切断和断裂等方面表现出字串1俄歇电子(Auger Analysis )是一种针对样品表面进行分析的失效分析技术。

TEM的结构原理及其操作使用

TEM的结构原理及其操作使用




3.金属:切片、研磨、电解双喷减薄或离子减薄。
4.非金属:切片、研磨、化学减薄或离子减薄。 5. 微颗粒:在铜网或其他材质网上覆盖支持膜或微栅膜 (一般为碳膜),将经过超声波分散的颗粒悬浮液滴在或 喷在支持膜上,静置干燥。
四、透射电镜的成像原理、观察和测定

1. 成像方式 透射电镜中的入射电子透射样品时,将与样品内部原子 发生相互作用,从而改变其能量和运动方向。或者说电子 束透过样品所得到的透射电子束的强度及方向均发生变化, 由于样品各部位的组织结构不同,因而透射到荧光屏上的 各点强度时不均匀的,这种强度的不均匀分布现象就称为 衬度,所获得的电子像称为透射电子衬度。 透射电子束的强度(振幅)由于样品厚度或结构不同 (从而满足布拉格条件不同)而产生变化引起的衬度叫振 幅衬度,有质厚衬度和衍射衬度两种。 透射电子束与衍射电子束发生相互作用存在相位的变化 引起的衬度叫相位衬度,这也是高分辨电子显微像的衬度, 仅适用于很薄的晶体样品(约10nm左右)。像

2、衍射方式
(1)选区电子衍射(最常用)
通常利用选区电子衍射提供样品某个微区的晶体学信息。首先要在成像方 式时,推入位于物镜像面上的选区光阑,对样品欲产生衍射的微区进行选择并 限制其大小,精确调节光阑面与物镜像面相重合,而后转到衍射方式,拉出物 镜光阑,在荧光屏上即可获得反映样品微区晶体学特征的电子衍射花样。



(1)质厚衬度
由于样品的质量和厚度不同,各部分对入射电子发生相互作用,产 生的吸收与散射程度不同,而使得透射电子束的强度分布不同,形成 反差,其中质量厚度大的区域对入射电子散射强、致使通过物镜光阑 孔参与成像的电子减少,相应在荧光屏、底片或CCD上形成较暗的区 域。
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第三节透射电镜的应用一、复型在金相分析中的应用(一)钢中典型组织的观察1.珠光体奥氏体在C曲线“鼻子”上部分区域分解的产物为珠光体型组织,包括珠光体、索氏体和屈氏体,都是铁素体与渗碳体的机械混合物,区别只是层片间距不同而已。

珠光体组织内层片的粗细和冷却速度、转变温度有关,冷速愈快,转变温度愈低,所形成的珠光体则越细。

由于珠光体在晶界形核,然后向晶内长大直至相遇,所以图5—21 T8,退火,5000×组织:珠光体在一个奥氏体晶粒内有若干不同位向的珠光体领域。

见图5—212.贝氏体奥氏体在中间温度(低于珠光体转变温度,高于马氏体转变温度)的转变产物为贝氏体,贝氏体也是铁素体和渗碳体的两相组织,但其相变机制和组织形态与珠光体不同。

随着钢的成分及转变温度的不同,贝氏体形态有很大差别,大致可分为三类:上贝氏体、下贝氏体和粒状贝氏体。

上贝氏体是在贝氏体转变区的较高温度范围内形成的。

在光镜观察时可看到羽毛状或单羽毛状特征,一般是沿奥氏体晶界长出。

其中渗碳体粒子很难辨别。

复型图象可清晰地显示上贝氏体由大体平行的铁素体条和分布于其间的断续杆状渗碳体所组成。

见图5—22。

下贝氏体在低温范围形成,光镜下呈黑色针叶状,并相互成角度。

复型电镜观察表明,在铁素体片内沉淀的细小碳化物有一定的取向,与铁素体片长轴成55º~60º角。

见图5—23 。

图5—22 GCr15,900℃奥氏体化图5—23 GCr15,970℃奥氏体化400℃等温7秒,7000×,组织:上贝氏体300℃等温30秒,7000×,组织:下贝氏体3. 马氏体通常,奥氏体快速冷却时得到马氏体,其形态根据含碳量不同可分为两类:低碳马氏体和高碳马氏体,含碳量在0.2~1%时为两者的混合组织。

低碳马氏体呈条束状排列。

同一领域内的马氏体条大致平行,领域之间位向不同。

交角60º、90º等,因为其亚结构为大量位错线缠结,又称它为位错马氏体,见图5—24。

高碳马氏体呈针片状,片的大小不一,有一定的交角,马氏体片间往往有残余奥氏体存在,高碳马氏体的亚结构是极薄的孪晶组织,又叫孪晶型马氏体。

马氏体片中图5—24 40Mn 加热至860℃,水冷 2000× 图5—25GCr15 加热至900℃,水冷 3000×组织:板条马氏体 组织:针状马氏体还常常可以看到中脊线。

见图5—25。

(二)化学热处理渗层组织观察在电镜下观察化学热处理零件的渗层组织与测量其层深是十分有效的。

但由于复型样品边缘碳膜折迭、破碎、卷曲,往往不容易得到完整的表层复型。

为了得到较为完整的渗层复型,在制备金相试样时将表层紧紧贴夹铜片,镍片或环氧树脂,然后磨、抛光、腐蚀并将其制成复型样品。

在观察时只要找到铜或镍的复型就可找到渗层的最表层,因而能够观察从表面到心部组织变化和测量其层深。

(三)大型零件组织的复型观察大型零件出故障后,为了分析原因找出补救措施,可在现场做复型。

把零件局部抛光、腐蚀、贴AC 纸,取下复型后拿回实验室做投影喷碳,制成样品,观察组织,分析故障原因。

这种方法既方便,又不损坏零件。

二、萃取复型的应用应用萃取复型技术可观察夹杂物或第二相粒子的大小、形态、分布以及通过衍射研究它们的点阵类型和晶体结构。

在任何一种合金钢中都或多或少地存在着一些非金属夹杂物。

在外力作用下由于它们和基体之间性能上的差异,一般常在它们和基体的界面处产生很大应变,随之形成微裂纹,在材料断裂后,它们一般还保留在断口表面上,用光学显微镜无法查出小尺寸夹杂物。

用萃取复型方法萃取到断口复型上,在观察形貌的同时就可以利用电子衍射技术对它们进行物相鉴定,即定出它们的晶体结构。

这样就会很容易地把造成断裂的夹杂物大小、分布和结构查出来。

如果在透射电镜上再配合能谱仪还可查出夹杂物的成分。

作晶体取向关系分析时选区光阑内除基体之外往往有几个沉淀相同时存在,给衍射花样分析工作带来一定困难。

通过材料、工艺、热处理制度分析后可以确定存在相的类型。

用萃取复型技术分别萃取不同的沉淀相,分析沉淀相的大小、形态、分布及结构,为晶体取向关系分析工作提供信息。

三、金属薄片的典型组织观察(一)钢中典型组织的薄膜观察1.珠光体。

2.上贝氏体。

3.下贝氏体。

4.板条马氏体。

5.片状马氏体。

(二)亚结构的观察1.双相不锈钢双相不锈钢经固溶处理后为铁素体,奥氏体两相,晶体内部存在着许多缺陷,如位错、层错等。

在这块样品上可以看到位错、层错、等厚条纹、等倾条纹等许多衬度特征,以及电子衍射图样(单晶、多晶)和菊池线等。

分述如下:(1)位错晶体中位错的存在,使局部区域晶格发生崎变。

当某一组晶面与布拉格条件的偏离参量为S。

时位错线引起晶面畸变造成额外的附加偏差S′,从而造成其衬度,在明场象中,位错象为暗线(图5—26);在暗场象中,位错象为亮线。

位错象与其在晶体中的实际位置有所偏离,而且有一定的宽度,随着位错的性质、它在晶体中位置及取向等的不同,位错象出现线状、点状和锯齿状等特征。

(2)层错图5-26 材料:双相不锈钢,固溶处理层错是最简单的平面型缺陷,它发生在确定50000×,位错的平面上,层错的两边是一对不全位错。

在电镜中看到的层错象是平行的、笔直的、明暗相间的条纹。

在明场象中,条纹有对称性,边上的黑线为不全位错;在暗场象中条纹是不对称的(图5—27)。

倾斜样品台时象衬度发生变化,两个层错重叠时,若恰好使某一段层错的衬度相互抵消,出现断续的层错象,当层错满足不可见性条件时,层错象消失。

利用这一性质,可以区分出层错象和楔形晶体的等厚条纹。

明场图暗场图图5—27 不锈钢,固溶处理,层错,等厚条纹,150000×(3)等厚条纹在薄膜样品的楔形边缘处出现厚度消光条纹,它是大体上平行于薄膜边缘亮暗条纹,同一亮线或暗线所对应的样品位置具有相同的厚度,因此称为等厚条纹。

在倾斜晶界处,也会出现厚度消光条纹。

明场象暗场象中等厚条纹具有互补性。

(4)等倾条纹具有弹性形变的薄膜晶体发生弯曲,如果某一弯曲面恰好满足布拉格条件,出现衍射极大值,电镜明场象中为暗线,由于有同一晶带的许多晶面组发生较强的衍射,相应的等倾条纹呈明显的对称分布。

暗场象中也是明暗相间的条纹,这种条纹又称弯曲消光轮廓。

(5)菊池花样当样品厚度适宜(约5~6ξg)、选择的单晶体足够完整(缺陷很少),除了衍射斑点外,还可以看到一系列成对的亮线暗线组成的花样,称为菊池花样,成对的亮线和暗线称为菊池线(图5—28)。

菊池花样的位置对晶体位向很敏感,而衍射斑点的位置不随晶体的位向而变化,因此随着样品的倾动,菊池线对迅速地扫动,它们相对于衍射斑点的位置发生的变化可用来确定晶体的位向。

图5—28 菊池衍射花样图5—29 ZG28,奥氏体化后水冷位错马氏体,30000×2.ZG28钢,水淬ZG28钢奥氏体化后,得到大量的板条马氏体和少量的残余奥氏体。

在透射电镜衍衬象中,清晰可见平行的马氏体条,还可看到大量的胞状位错缠结,位错密度高达0.2~0.9×1012/cm2。

残余奥氏体分布在马氏体之间(图5—29)。

利用选区衍射,观察到呈现较强的奥氏体斑点,则用物镜光阑选择此区域观察暗场象,可以看清残余奥氏体呈白亮的窄条。

3.Gr15钢,900ºC油淬Gr15钢淬火后,有未溶的碳化物和片状马氏体出现。

马氏体片的大小差别很大,明场像暗场像图5—30 GCr15,加热至900℃,油冷,孪晶马氏体,60000×互相以大角度相交。

透射电镜衍衬象中,观察到马氏体中存在大量的孪晶,它们以平行的线条出现,见图5—30。

四、选区电子衍射花样的标定1.选区电子衍射原理当电镜以成像方式操作时,中间镜物平面与物镜像平面重合。

荧光屏上显示样品中某一微区的放大图像。

此时,如果在物镜像平面内插入一个孔径可变的选区光阑,让光阑孔只套住我们感兴趣的那个微区,那么光阑孔以外的成像电子束被挡住,只有进入光阑孔内那个微区的像进入中间镜和投影镜参与成像。

然后,降低中间镜的激磁电流变为衍射操作,这时只有我们感兴趣的那个微物点散射的电子波可以通过选区光阑进入下面的透镜系统,荧光屏上所显示的只限于选区范围内晶体所产生的衍射花样,从而实现了选区形貌观察与衍射的对应。

选区衍射的特点是能把晶体试样的像与衍射对照进行分析,从而得出有用的晶体学数据,例如微小沉淀相的结构、取向及惯析面,各种晶体缺陷的几何学特征等。

2.选区电子衍射的标准操作步骤为了确保得到的衍射花样来自所选的区域,应当遵循如下操作步骤:1)按成像操作得到清晰的图象。

2)加入选区光阑将感兴趣的区域围起来,调节中间镜电流使光阑边缘的像在荧光屏上清晰,这就使中间镜的物面与选区光阑的平面相重叠。

3)调整物镜电流使选区光阑内的像清晰,这就使物镜的像面与选区光阑及中间镜的物面相重,保证了选取区的准确。

4)抽出物镜光阑,减弱中间镜电流,使中间镜物平面上移到物镜背焦面处,这时在荧光屏上就会看到衍射花样的放大象。

在许多电子显微镜中(H-800,EM400,CM12等)只要把旋钮拨到事先固定好的“衍射”位置上即可粗略地达到此目的,再稍微调整中(a) 选区衍射谱 (b)衍射谱的指标化图5—31 选区衍射实例间镜电流使中心斑点变得既小又圆。

5)减弱聚光镜电流以减小入射电子束的孔径角,得到更趋近平行的电子束,这样可以进一步减小焦斑尺寸。

只要严格按上述步骤操作,就会保证选区衍射的精确度。

3.选区电子花样的标定图5—31是按上述步骤对50B钢中析出物颗粒做的选区衍射实验。

经过分析计算,确定选区内的析出相颗粒为Fe23(CB)6化合物。

实验十扫描电镜构造、原理及应用一、实验目的1.了解扫描电子显微镜(SEM)的构造和工作原理。

2.掌握现代电子显微分析与表征功能。

3.能够正确地运用电子显微分析技术开展有关的科学研究。

二、实验内容(一)了解KYKY(AMRAY) 1000B型扫描电镜四个部分的结构与性能,以及整个系统的配置情况。

(二)典型的断裂表面观察1.解理断裂2.准解理断裂3.韧窝断裂4.疲劳断裂5.沿晶断裂(三)典型的金相组织观察(四)了解能谱分析的方法和步骤。

三、关于KYKY(AMRAY)1000B型扫描电子显微镜的基本操作(一)电子束的获得1.工作条件A 镜筒部分处于高真空状态(真空指示到“绿区”)。

B V1打开。

C 工作距离12mm。

D 束斑尺寸(Spot size)置5到7(聚光镜电流控制)。

但细调旋钮应左旋至0。

E 调节物镜电流大小,使得工作距离指示(数码指示器)为12mm。

2.加速电压操作高压是通过按钮开关控制并有数码指示,起初加高压不要超过20KV,同时观察束流表指针有无小的跳变。

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