第二章 金属电沉积
金属的电沉积过程课件
金属的电沉积过程课 件
REPORTING
目录
• 电沉积过程简介 • 电沉积的物理化学基础 • 电沉积的工艺与参数 • 电沉积的设备与装置 • 电沉积的实践与应用 • 电沉积过程的优化与控制
PART 01
电沉积过程简介
定义与原理
定义
电沉积是一种通过电解液中的金 属离子在阴极上还原并沉积成金 属的过程。
电解液浓度
浓度对电沉积过程有重要 影响,过高或过低的浓度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
添加剂使用
为了改善电沉积效果,有 时需要添加一些添加剂, 如稳定剂、光亮剂等。
电沉积的工艺条件
电流密度
电流密度的大小直接影响 沉积速率和沉积物的质量 ,需要根据实际情况进行 调整。
温度
温度对电沉积过程有一定 影响,过高或过低的温度 可能导致沉积不均匀或无 法进行沉积。
时间
电沉积时间的长短会影响 沉积层的厚度和致密性, 需要根据实际需求进行控 制。
电沉积参数的影响
电流密度对沉积层质量的影响
01
电流密度过小会导致沉积速率慢,过大则可能导致烧焦或气孔
等缺陷。
温度对沉积层质量的影响
02
温度过高可能导致金属离子水解,过低则可能导致沉积不均匀
。
时间对沉积层质量的影响
03
时间过长可能导致过度沉积或偏析,过短则可能导致沉积不完
金属离子的还原过程
还原反应
在电流的作用下,金属离子获得电子,从阳离子变为金属原子。
形核与生长
新形成的金属原子聚集形成晶核,随后晶核不断生长,形成金属沉积层。
PART 03
电沉积的工艺与参数
电解液的选择与制备
金属电沉积理论2
金属电沉积理论2⑴.降低游离金属离子浓度,是平衡电位负移。
电位负移程度与金属络离子稳定性有关,络离子越稳定,则平衡电位负移越显著。
金属络离子稳定性由络合物不稳定常数K不表征,当电离平衡为:ML(n-km)=Mn++Lm-K不=[Mn+][Lm-]/[ML(n-km)]⑵.提高阴极还原的电化学极化。
金属络离子的界面反应历程,通常是先经过表面转化形成低配位数的表面络合物,如多核络离子或缔合离子,然后放电。
放电前配体的变换和配位数的降低涉及能量变化,导致还原所需活化能的升高,因而表现出比简单金属离子更大的电化学极化。
络合物对电化学极化的贡献取决于配体界面性质和不稳定常数两个因素。
当配体具有对电极过程起阻化作用的性质时,K不越小的配体转化所须的活化能越大,则阴极极化增大效应越显著。
如配体对电极过程起活化作用则很难通过K 不来预测阴极极化效果。
络合剂具有选择性。
根据软硬酸碱的原理,形成络合物的稳定性服从"软亲软,硬亲硬"的规律。
金属离子和配体分别当作广义碱时的软硬划分可以软硬势标镀为据。
金属的电子构型对络合物的影响较大。
满d壳层的d10类金属(如Cd,Sn,Pb,Cu,Zn,Ag等),一般只能形成活性络合物,可选用络合能力很强的络合剂。
d6,d8,d13等类金属(如Fe,Co,Ni,Cr等),与K不小的配体移形成惰性络合物而难以还原析出。
金属离子浓度提高时,界面浓度与交换电流均相应增加,一般会降低电化学极化,故无论在单盐还是络盐溶液中提高金属离子浓度,都具有减小形核率并伴随着镀层粗糙的趋势。
但浓度降低导致浓差极化增强,极限电流也随之下降。
3.游离络合剂游离酸存在于单盐溶液中,并依其含量高低可分为高酸度和低酸度两类镀液。
在高酸度镀液中,游离酸能在一定程度上提高阴极极化,并防止主盐水解或氧化,提高镀液电导率。
但游离酸浓度过高时,主盐溶解度下降,浓差极化趋势增强。
低酸度镀液中,游离酸浓度过低易引起主盐水解或发生沉淀;过高则导致大量析氢,电流效率下降。
金属的电沉积
金属电沉积的基本原理就是关于成核和结晶生长的问题金属的电沉积是通过电解方法,即通过在电解池阴极上金属离子的还原反应和电结晶过程在固体表面生成金属层的过程。
其目的是改变固体材料的表面性能或制取特定成分和性能的金属材料。
金属电沉积应用的领域也很广泛,通常包括电冶炼、电精炼、电铸和电镀四个方面,它的这些应用使其受到了越来越多的关注,因此,研究并掌握电沉积过程的基本规律变得尤为重要。
金属沉积的阴极历程,一般由以下几个单元步骤串联组成:(1)液相传质:溶液中的反应粒子,如金属水化离子向电极表面迁移。
(2)前置转化:迁移到电极表面附近的反应粒子发生化学转化反应,如金属水化离子水化程度降低和重排;金属络离子配位数降低等。
(3)电荷传递:反应粒子得电子,还原为吸附态金属原子。
(4)电结晶:新生的吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置(生长点)进入金属晶格生长,或与其他新生原子聚集而形成晶核并长大,从而形成晶体。
上述各个单元步骤中反应阻力最大、速度最慢的步骤则成为电沉积过程的速度控制步骤。
不同的工艺,因电沉积条件不同,其速度控制步骤也不同。
1.2 金属电沉积过程的特点电沉积过程实质上包括两个方面,即金属离子的阴极还原(析出金属原子)的过程和新生态金属原子在电极表面的结晶过程(电结晶)。
前者符合一般水溶液中阴极还原过程的基本规律,但由于电沉积过程中,电极表面不断生成新的晶体,表面状态不断变化,使得金属阴极还原过程的动力学规律复杂化;后者遵循结晶动力学的基本规律,但以金属原子的析出为前提,又受到阴极界面电场的作用。
因而二者相互依存、相互影响,造成了金属电沉积过程的复杂性和不同于其他电极过程的特点。
(1)与所有的电极过程一样,阴极过电位是电沉积过程进行的动力。
然而,在电沉积过程中,只有阴极极化达到金属析出过电位时才能发生金属离子的还原反应。
而且在电结晶过程中,在一定阴极极化下,只有达到一定的临界尺寸的晶核,才能稳定存在。
电镀工艺学-金属电沉积理论
即电化学步骤和电结晶步骤,动力学规律交迭,极化曲线复
杂、数据分析困难; 2 固体表面不均匀,结晶过程中电极表面不断变化; 3 对大多数金属而言,界面步骤都进行的很快, 用经典电化学 测量极化曲线的方法不能揭示界面动力学规律。
2
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
电镀工艺学
第二章 金属电结晶
1
Plating technology
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
• 金属电结晶的基本概念 • 定义:通常把金属离子或络离子的放电并形成金属晶体的过 程称为金属电结晶 1 金属电结晶的界面反应至少包括放电和结晶两个连续的步骤,
1. 电化学极化较小的金属体系:
当从铜、银、锌、镉、铅、锡等金属的简单盐溶液中沉积这 些金属时极化都很小,即交换电流密度都很大。
8
Plating technology 如: 1 M
Chapter Ⅱ Metal electrocrystallization
ZnSO4
80mA/cm2 42mA/cm2
吸附原子的表面扩散控制 在许多电极上,吸附原子的表面扩散速度并不大,如果电
化学步骤比较快, 则电结晶过程的进行速度将由吸附原子的
表面扩散步骤控制;如果电极体系的交换电流较小,则往往是 联合控制。 假设一个台阶上有一个无穷小面积dx、dy。 假设单位表面上吸附原子的平均浓度为。
其对时间t的变化应为表面上由法拉第电流产生的吸附原子的
电沉积原理
第二节 金属沉积的电极过程 一、基本历程
液相传质 (电迁移,扩散,对流)
前置转换 (配位体转换,配位数、水化数降低)
电子转移 (形成吸附原子)
形成晶体 (表面扩散到生长点或形成晶核)
续
4、有整平能力的镀液的特点 整平剂受扩散步骤控制 电沉积受电子转移步骤控制
第六节 镀液的整平作用 三、整平能力的测定
1、转盘电极法 δ =1.62D1/3ν1/6ω-1/2 DL=0.62nFD2/3ν-1/6ω1/2Co (1)D与ω无关,D峰=D谷 ,几何整平 (2)ω↑D↑, D峰> D谷 ,负整平 (3)ω↑D↓, D峰< D谷 ,正整平 未考虑电流效率
第二节 金属沉积的电极过程 三、电极反应与极化
3、阳极的溶解 钝化 自溶解 不溶性阳极
第三节 金属的电结晶
吸附原子到生长点并入晶格,在原有基 体金属的晶格上生长
吸附原子相互聚集形成晶核,成为新的 生长点
第三节 金属的电结晶 一、过电位在电结晶中的意义
1、过饱和度在结晶过程中的作用 结晶的必要条件 影响形核速度和晶核长大的速度 2、过电位在电结晶过程中的作用 平衡电位 过电位
第一节 电镀溶液 一、组成
1. 主盐 2. 络合物 3. 导电盐 4. 缓冲剂 5. 阳极活化剂 6. 添加剂(细化晶粒、整平、润湿等)
第一节 电镀溶液 二、类型
1、单盐镀液(水合离子) io 小,结晶细致,添加剂可起到整平和
光亮作用 io 大,结晶粗糙疏松,必须加入添加剂
才可获得结晶细致的镀层 2、铬酸镀液(Cr2O72- 和CrO42- 离子)
金属的电沉积
金属电沉积的基本原理就是关于成核和结晶生长的问题金属的电沉积是通过电解方法,即通过在电解池阴极上金属离子的还原反应和电结晶过程在固体表面生成金属层的过程。
其目的是改变固体材料的表面性能或制取特定成分和性能的金属材料。
金属电沉积应用的领域也很广泛,通常包括电冶炼、电精炼、电铸和电镀四个方面,它的这些应用使其受到了越来越多的关注,因此,研究并掌握电沉积过程的基本规律变得尤为重要。
金属沉积的阴极历程,一般由以下几个单元步骤串联组成:(1)液相传质:溶液中的反应粒子,如金属水化离子向电极表面迁移。
(2)前置转化:迁移到电极表面附近的反应粒子发生化学转化反应,如金属水化离子水化程度降低和重排;金属络离子配位数降低等。
(3)电荷传递:反应粒子得电子,还原为吸附态金属原子。
(4)电结晶:新生的吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置(生长点)进入金属晶格生长,或与其他新生原子聚集而形成晶核并长大,从而形成晶体。
上述各个单元步骤中反应阻力最大、速度最慢的步骤则成为电沉积过程的速度控制步骤。
不同的工艺,因电沉积条件不同,其速度控制步骤也不同。
1.2 金属电沉积过程的特点电沉积过程实质上包括两个方面,即金属离子的阴极还原(析出金属原子)的过程和新生态金属原子在电极表面的结晶过程(电结晶)。
前者符合一般水溶液中阴极还原过程的基本规律,但由于电沉积过程中,电极表面不断生成新的晶体,表面状态不断变化,使得金属阴极还原过程的动力学规律复杂化;后者遵循结晶动力学的基本规律,但以金属原子的析出为前提,又受到阴极界面电场的作用。
因而二者相互依存、相互影响,造成了金属电沉积过程的复杂性和不同于其他电极过程的特点。
(1)与所有的电极过程一样,阴极过电位是电沉积过程进行的动力。
然而,在电沉积过程中,只有阴极极化达到金属析出过电位时才能发生金属离子的还原反应。
而且在电结晶过程中,在一定阴极极化下,只有达到一定的临界尺寸的晶核,才能稳定存在。
第二章 金属电沉积过程中的极化
一、金属电沉积步骤和稳态过程 3)电化学步骤:反应粒子在阴极上得到电子还 原成为金属的过程。 如:
Zn(OH ) 2(吸) 2e Zn (吸) 2OH
4)新相生成步骤:反应产物生成新相,如电结 晶体、气体等。
一、金属电沉积步骤和稳态过程
二、传质控制步骤
影响沉积金属的质量。 若电极反应为浓差极化控制,说明电子传递反
应的速度比离子扩散到电极的速度要快的多,因此
种还原后的金属原子没有足够的时间按品格点阵排
列,所得到的常是疏松、海棉状或粗糙的镀层,因
此可以说,纯粹的浓差极化控制的电沉积是得不到 质量好的镀层的。
三、电化学反应控制步骤
1、阴极电位的改变对阴极反应速度的影响
三、电化学反应控制步骤
必有
i Dk 等式才能成立,所以
0
k
折 平 0 i i
a
阴极反应近似为可逆反应,此时电化学不可能成
为控制步骤。
②当电化学极化很大时, 0.12V 即i0十分小, 0 且 Dk i 或 i i
k
a
三、电化学反应控制步骤
纯浓度极化,由于外加电流极易超过DL,常出
现树枝状疏松镀层,加强搅拌提高许用电流密度,
如酸性镀锌,镀镉便是一例,要使镀层细致均匀, 必须提高电化学极化,常用络合剂或加入表面治性 剂等方法。但在实际电镀过程中,络合剂或表面治 性剂加入,往往是传质步骤和电化学步骤联合控制
为多。
三、电化学反应控制步骤
3、传质步骤和电化学步骤联合控时的极化特征
当用大电流密度电镀时,可能使DK接近DL, 此时,必须考虑电极表面离子浓度的影响,其形 式: Cis 0 nF Dk 0 ia exp k Ci RT
第二章金属电沉积过程中的极化
第二章金属电沉积过程中的极化金属电沉积是在外加电场作用下,将金属离子从溶液中转化成金属膜或金属物体的过程。
在金属电沉积过程中,极化现象是一个重要的现象。
极化是指金属电极在电解质溶液中电化学反应过程中形成电势差,导致电流向相反方向流动的现象。
极化现象可以分为正极化和负极化。
正极化是指电极表面形成了与电流方向相同的极化电位,阻碍了电流的流动。
正极化的主要原因是在电解质溶液中,金属电极表面吸附了反应活性物种,如金属离子和氧化物,形成了阻碍电流传输的物种层。
这种极化效应会使电沉积速率减慢,导致沉积物品质下降。
为了克服正极化,可以通过增加电流密度、提高温度或添加激活物质等方法来降低正极化。
负极化是指电极表面形成了与电流方向相反的极化电位,促进了电流的流动。
负极化的主要原因是在电解质溶液中,金属离子的还原速率大于金属离子的生成速率,导致电极表面形成了过电位,从而促进了电流的流动。
负极化效应可以提高电沉积速度和沉积物品质。
然而,当负极化过大时,可能会导致气泡的生成和沉积物品质下降。
为了控制金属电沉积过程中的极化效应,可以采用以下方法:1.控制电导率:电解质溶液的电导率对极化效应有重要影响。
可以通过调整电解质浓度和温度,以控制电解质的电导率。
较高的电导率有助于减小极化效应。
2.调整电流密度:通过调整电流密度,可以调控极化效应。
较大的电流密度有助于减小正极化,促进负极化。
但是,过大的电流密度可能会导致过极化和沉积物质量下降。
3.控制温度:温度对极化效应有明显影响。
较高的温度有助于减小正极化,促进负极化。
这是因为在较高温度下,溶液中的晶体活性和扩散速率会增加,有利于电流的流动。
4.添加添加剂:在电沉积过程中,可以添加一些特定的添加剂来控制极化效应。
添加剂可以改变溶液的电荷分布,调节极化电位,从而改善电沉积过程。
因为金属电沉积过程中的极化现象对沉积物质量和电化学反应速率有着重要影响,所以在金属电沉积工艺中,需要充分了解和控制极化效应,以获得所需的电沉积效果。
第二章 金属电沉积
表2-3 直接在电极上放电的络离子
电极体系
络离子的主要存在形式
直接在电极上放电的络离子
Zn(Hg)/Zn2+,CN-,OH-
[Zn(CN)4]2-
Zn(OH)2
Zn(Hg)/Zn2+,NH3 Cd(Hg)/Cd2+,CN-,
Ag/Ag+,CNAg/Ag+,NH3
[Zn(NH3)3OH]+ [Cd(CN)4]2-
22
自电化学暂态测量方法出现以来,采用暂态可减少浓差 极化,使电极表面变化轻微,或用液体电极撇开结晶过程, 如此,才对电结晶过程有了一个较统一的认识。目前,电结 晶的研究理论与实践仍有很大差距,而由于多种综合因素的 影响使其在解决电化学结晶的实际问题时,现有理论还不能 很好的解释。
23
2.3.1 电结晶历程
??
图2-1 金属电结晶过程可能的历程
25
实验:在45%的HClO4中测定固态和液态汞电极上
的交换电流密度,由于电极为液态时,电化学反应中没有 结晶步骤,如果放电可以在任意位置进行,则在固态和液 态时,反应速度应该接近。
试验表明,固态和液态情况下,电极上的交换电流密 度相差较小,认为放电反应可以在任意位置上进行。
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
x
=
K a / a 不
A g ( CN ) + 2
年电镀工艺课件金属电沉积
金属电沉积的应用
电子工业:制造电子元件、电路板等 化学工业:生产化学试剂、催化剂等 材料科学:制造金属材料、合金等 环境保护:废水处理、废气处理等
03
电镀液的成分及作用
主盐
作用:提供金属离子,形成电 镀层
常见种类:硫酸铜、硫酸镍、 氯化锌等
影响因素:浓度、纯度、稳定 性等
应用:广泛应用于电子、机械、 化工等领域
电镀设备的影响
电镀槽:影响镀层的均匀性和 厚度
电流密度:影响镀层的质量和 速度
温度:影响镀层的结晶度和硬 度
搅拌速度:影响镀层的均匀性 和平整度
环境条件的影响
温度:影响镀层厚度和均匀性
湿度:影响镀层质量,过高或 过低都会影响镀层性能
空气污染:影响镀层质量,可 能导致镀层出现缺陷
电场强度:影响镀层厚度和均 匀性,过高或过低都会影响镀 层性能
络合剂
作用:络合剂是 电镀液的重要组 成部分,可以稳 定金属离子,防 止金属离子沉淀
类型:常见的络 合 剂 有 E DTA 、 DT PA 、 N TA 等
作用原理:络合 剂通过与金属离 子形成稳定的络 合物,防止金属 离子沉淀,提高 电镀液的稳定性
应用:络合剂广 泛应用于电镀行 业,可以提高电 镀液的稳定性, 提高电镀质量
排放,降低废水处理成本
发展新型电镀液和添加剂
环保型电镀液:减少有害物质排放, 提高环保性能
功能性电镀液:提高电镀层的性能, 如耐磨性、耐腐蚀性等
纳米电镀液:提高电镀层的精细度 和均匀性
智能电镀液:实现电镀过程的自动 化和智能化控制
新型添加剂:提高电镀液的性能, 如分散性、稳定性等
绿色添加剂:减少有害物质排放, 提高环保性能
电解质:能导电的物质, 包括离子和电子
金属的电沉积过程课件
B、多价金属离子的阴极还原符合多电子电极反应规律(多步反应)
2.3. 金属络离子的阴极还原
加入络合剂后,由于络合剂和金属离子的络合反应,使水化金属离子转变为 不同配位数的络合离子,金属离子在溶液中的存在形式和在电极上的放电粒 子都发生了改变,因而引起了该电极体系的电学性质变化
电冶炼、电精炼、电铸、电镀。
1.1. 金属电沉积的基本历程
A、液相传质步骤 溶液中的反应粒子(金属水化离子)向电极表面迁移
B、前置转化 迁移到电极表面的粒子发生化学转化反应,如离子 水化程度降低、重排,络离子配位数变化 C、电荷转移 反应粒子得到电子、还原为吸附态金属原子
D、电结晶 新生吸附态金属原子沿电极表面扩散到适当位置进 入金属晶格生长,形成晶体
晶核长大时过电 位
晶核生成时过电位
电结晶形核过程规律 一、电结晶形核需要消耗一定电能,因而在平衡电位不能形核,从 物理意义上来说,过电位或阴极极化只所起的作用与盐溶液结晶的 过饱和度相同
二、阴极过电位的大小决定了电结晶层的粗细度,过电位越高,晶 核数量越多,沉积层越细致,反之越粗
3.2. 在已有晶面上的延续生长
A、使金属电极的平衡电位负移 25oC时,银在1mol/L AgNO3中平衡电位:
e = Ө + RT/F lnaAg+ = 0.779 + 0.0591 log(0.4) =0.756 V
加入1mol/L KCN后,因Ag+与CN-形成络离子,平衡反应为:
Ag+ + 2CN- = Ag(CN)2K不 = aAg+ aCN-2/ aAg(CN)2- = 1.6 10-23 Ag+ 的活度为
第2章金属电沉积理论(2)
2.2 金属电沉积过程
2.2.1 金属电沉积的步骤
(1)传质步骤:反应粒子在液相中向阴极传递的步骤; (2)表面转化步骤:反应粒子在电极表面上或表面近邻的液层中发生于还 原反应前的转化步骤,如简单金属离子水化程度的降低和重排; (3)电化学步骤:反应在阴极上得到电子,还原成金属原子的步骤; (4)新相生成步骤:反应产物生成新相的步骤,如形成气泡实际历程比上 述复杂得多,整个电沉积过程中,各步骤反应进行速度不等。但各步骤 是连续串联进行的。电沉积的速度由反应进行最慢的步骤速度决定。
② 形成新相,建立界面,吸收能量,体系自由能升高。
晶核形态可以是多种形状,也可以是三维、二维。
二维圆柱状成核速度W与过电位ηk的关系
2 h1 NM 1 W K exp( ) nFRT k
ρ-晶核密度
N - 金属离子的化合价 F - 法拉第常数 M - 沉积金属的原子量 σ1- 晶核与溶液之间的界面张力 K=R/N — 波兹曼常数 ; R — 气体常数; N — 阿佛加德罗常数
第二章 金属电沉积
第一节 金属离子阴极还原的可能性 第二节 金属电结晶和电沉积过程 第三节 电沉积金属的结构 第四节 金属电沉积过程的参数控制
第五节 电镀层的基本性能 第六节 电解规范对沉积层结构的影响
第一节
金属离子还原的可能性
表2-1 可能电沉积的元素
Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ A A B B B B B
电解液的电阻率要小,电导率要大
影响电流和金属在阴极上分布的因素主要包括: 几何因素和电化学因素
1、几何因素的影响
我们把在电场作用下离子运动的轨迹形象地称为电力线
(1)电解槽的形状
(2)远、近阴极与阳极距离之差
解决远近阴极影响的方法 (1) 形象阳极 (2) 辅助阴极 (3) 阴极与阳极之间的距离
第二章 金属电沉积
根据法拉第定律:
Q nFM
M-反应物摩尔数 故
I Q nFM ik nFV 扩 S S t S t
ik nFD
Ci0 Cis
ik nFD
Ci0 Cis
说明:
① 当Ci0,ik,表明较高的反应离子浓度,可 使用较高的ik; ② Cis→0时,则电流密度达到极限值,称为极流 电流密度(iL),iL=nFDCi0/δ,这表示以扩散 传质为控制步骤的电沉积时,ik不能太大,否则 很易达到iL而使镀层质量下降。
①在ik较小时,便出现阴极的较大极化度 (△/△i),所得镀层分散能力较好。 ②电化学极化时,即可得到较大的阴极极化,所以 为取得细晶的电镀层,只能依靠电极的电化学极化, 而不能依靠提高电极的纯浓差极化来获得。
第四节 金属的电结晶
一、电结晶的基本概念
电结晶:金属离子放电以后进入晶格形成晶体 的过程。
二、金属配离子的阴极还原
三、传质步骤和电子转移步骤 四、金属的电结晶 五、电沉积的形态和结构 六、金属在阴极的共沉积
七、金属阳极与阳极过程
第一节 金属配离子阴极还原的可能性
电源 O2 + _ H2 + O2
H+
Ni2+ OH阳极 阴极
Ni
阳极
在水溶液中,金属离子析出的顺序是怎样的?
金属在电极上发生还原或电沉积的条件:
u0
2 3 1 1 6 2 0
1 2
搅拌越强,扩散层厚度越小。
ik nFD u v x (Ci0 Cis )
1 2
ik nFD u v x (Ci0 Cis )
2 3
1 1 6 2 0
第二章 金属电沉积
如:1 M ZnSO4 、0.2 M Pb(NO3)2 中所得镀层不 致密,结晶粗大。
2. 电化学极化较大的金属体系 当铁、钴、镍等金属从硫酸盐或氯化物中电沉积时,
它们的交换电流密度都很小。 如: 1M FeSO4 、NiSO4 中所得的镀层致密。
14
铑
高交换电流密度金属 中交换电流密度金属 低交换电流密度金属
22
自电化学暂态测量方法出现以来,采用暂态可减少浓差 极化,使电极表面变化轻微,或用液体电极撇开结晶过程, 如此,才对电结晶过程有了一个较统一的认识。目前,电结 晶的研究理论与实践仍有很大差距,而由于多种综合因素的 影响使其在解决电化学结晶的实际问题时,现有理论还不能 很好的解释。
23
2.3.1 电结晶历程
(2)电极表面溶液层中金属离子水化数降低、水化层发 生重排,使离子进一步靠近电极表面,过程表示为:
M 2+.mH2O − nH2O → M 2+.(m − n)H2O
(3) 部 分 失 水 的 离 子 直 接 吸 附 于 电 极 表 面 的 活 化 部 位,并借助于电极实现电荷转移,形成吸附于电极 表面的水化原子,过程表示为:
16
已知该络合物不稳定常数:
K不 = aAg + a2CN − / aAg (CN )2− = 1.6 ×10−22
设游离Ag+离子浓度为x,Ag(CN)2-活度为:
( a Ag + − x ) = ( 0 . 4 − x ) , CN − 活度近似为 1, 则有 :
x
=
K a / a 不
A g ( CN ) + 2
第二章 金属电沉积
1
2 .1 金属离子还原的可能性
金属镀层的沉积原理
整理课件
21
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
2、电镀反应
(3)阴极、阳极反应
电流效率
用于沉积金属的电流
η
总电流
100%
析氢的后果: ★ 电能消耗; ★ 镀层出现麻点、针孔、氢脆、鼓泡,为避免氢脆,要 增加一道退火工艺; ★ 氢的析出,使阴极附近溶液中pH升高,产生氢氧化物 沉积,夹杂在镀层中影响镀层质量。
整理课件
22
第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
2、电镀反应 (3)阴极、阳极反应. ② 阳极反应
主反应: M -ne → Mn+ 副反应: 4OH- -4e →O2↑+2H2O
为防止阳极金属钝化,常在镀液中加入一些阳极 去钝剂,使其由钝态转化为活化态。
整理课件
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第二章 金属镀层的沉积原理与工艺 1.2.4 电镀液的性质
◆ 阳极活化剂:镀液中能促进阳极活化的物质称为阳极活化 剂。其作用在于提高阳极开始钝化的电流密度,从而保证 阳极处于活化状态而能正常溶解。
◆ 添加剂:不改变镀液性能的微量物质,却能显著改善镀层 性能的物质,按所起作用可分为光亮剂、整平剂、润湿剂 和抑雾剂等。
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第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
η -金属沉积的电流效率,%
γ -沉积金属的比重,g/cm3
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第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
1.2.4 电镀液的性质 1.电镀液的分散能力(均镀能力)
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第二章 金属镀层的沉积原理与工艺
1.2.4 电镀液的性质 1.电镀液的分散能力(均镀能力)
T近 =D近 近 T远 D远 远
第2章-金属的电沉积
电沉积(通电沉积) electrodeposition
(一)金属或合金从其化合物水溶液、非水溶液或熔盐中 电化学沉积的过程。
是金属电解冶炼、电解精炼、电镀、电铸过程的基础。
(二)电泳涂漆中的一个过程,在直流电场作用下带电荷 的树脂粒子到达相反电极,通过放电(或得到电子)析 出不溶于水的漆膜沉积在被涂物表面。它是电泳涂装 过程中的主要反应,反应时首先是在电力线密度特别 高的部位进行(如被涂物的边缘棱角和尖端处),一旦 沉积发生,被涂物就具有一定程度的绝缘性,电沉积 逐渐向电力线密度低的部位移动,直到最后得到完全 均匀的涂层为止。
•镀镀铅简介
铅的电位比铁正,对钢铁而言是属于阴极性镀层,所以只有铅镀层 厚而无破损、无孔隙时才能有效地保护铁基体不受腐蚀。镀铅层适 用于接触的硫酸的设备和零件,也用于接触二氧化硫气体的器具和 仪表零件的防腐蚀。利用其良好的塑性和韧性,也可作为冷拉加工 的润滑材料。 镀铅的镀液种类很多,如氟硼酸盐、氟硅酸盐、氨基磺酸盐、醋酸 盐等,氟硼酸镀液以其简单、稳定、结晶细密而应用最广。
金属离子在阴极沉积能得到均匀的镀层,但从微观上 看,离子在表面上放电的几率不相同。这是由于基体 金属表面因存在大量阶梯、棱边、扭结点、空穴等缺 陷。对于金属离子的放电位置,通过什么途径进人晶 格,有两种理论。
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第四节 金属的电结晶
1、直接放电机理 1931年由Volmer首先提出:认 为放电过程只能在晶体生长点上发生。
Ⅳ
Ⅰ
C B Ⅲ Ⅱ 吸附 原子
A
第四节 金属的电结晶
2、表面扩散机理:1929年由Brandes首先提出。 金属表面上总存在一定浓度的吸附原子;金属离 子放电形成吸附原子,并扩散结合进入晶格这两 个过程不是同时发生,且一般不在同一地点。
ik C C (1 ) iL
s i 0 i
扩散过电位:
ik RT 扩 平 扩 ln(1 ) nF iL RT i 扩 ln L
nF iL ik
当其他条件不变时,ik越大,ηc也越 大 ;iL越大, ηc越 小 。因为 iL=nFDCi0/δ ,可采取以下措施减 小浓差极化: 增大扩散系数(提高温度); 减少扩散层的厚度(加强搅拌);
第二章 金属电沉积
一、金属配离子阴极还原的可能性
二、金属配离子的阴极还原
三、传质步骤和电子转移步骤 四、金属的电结晶 五、电沉积的形态和结构 六、金属在阴极的共沉积
七、金属阳极与阳极过程
第一节 金属配离子阴极还原的可能性
电源 O2 + _ H2 + O2
H+
Ni2+ OH阳极 阴极
Ni
阳极
在水溶液中,金属离子析出的顺序是怎样的?
浓差极化方程式
ik RT RT s 0 0 扩 ln Ci ln[ci (1 )] nF nF iL
0
ik RT RT 0 ln Ci ln(1 ) nF nF iL
0
ik RT 平 ln(1 ) nF iL
因为
ik (Ci0 Cis ) Cis 1 0 0 iL Ci Ci
2 3
何为极化?
极化:电极上没有电流通过时,电极处于平衡状态; 而有电流通过电极时,电极电位偏离了平衡值,这 种现象称为电极的极化。 阳极极化:电流在阳极上通过时,电极电势向 正向 移动,称为阳极极化。
阴极极化:电流在阴极上通过时,电极电势向负 方向移动,称为阴极极化。
i
U外
阴
E可逆
阳
E阴,平 E阳,平 E
根据法拉第定律:
Q nFM
M-反应物摩尔数 故
I Q nFM ik nFV 扩 S S t S t
ik nFD
Ci0 Cis
ik nFD
Ci0 Cis
说明:
① 当Ci0,ik,表明较高的反应离子浓度,可 使用较高的ik; ② Cis→0时,则电流密度达到极限值,称为极流 电流密度(iL),iL=nFDCi0/δ,这表示以扩散 传质为控制步骤的电沉积时,ik不能太大,否则 很易达到iL而使镀层质量下降。
iL nFDC /
0 i
增加电流密度极限值的方法:
增大扩散系数(提高温度);
减少扩散层的厚度(加强搅拌);
增加放电离子的浓度。
当施于强烈搅拌时,此时扩散层厚度为:
D v x u
1 3
1 6
1 2
1 2 0
式中:D—反应离子扩散系数;v—溶液动力学粘 度系数;x—距冲击点的距离;m0—溶液沿电极平 行方向的流速(搅拌强度)。此时:
Ⅳ
Ⅰ C B
A Ⅲ Ⅱ 吸附 原子
第四节 金属的电结晶
表面扩散机理更容易被人们所接受,从下面 得到证实: 动力学参数研究-交换电流法。
第四节 金属的电结晶
晶面生长的基本模型
2.晶核生长机理 晶体形成的过程从形成三维晶核开始,然后晶核继 续长大成为晶体。
第四节 金属的电结晶
3、位错生长机理 该机理1949年由Frank等提出,当过电位比较小 (y<10 mV),电流密度比较小时,晶核难以形 成,吸附原子吸能通过扩散到位错的阶梯边缘, 沿位错线生长,随着位错线不断向前推移,晶体 将沿着螺旋式成长。
u0
2 3 1 1 6 2 0
1 2
搅拌越强,扩散层厚度越小。
ik nFD u v x (Ci0 Cis )
1 2
ik nFD u v x (Ci0 Cis )
2 3
1 1 6 2 0
1 2
说明:
(1) ik D 由于搅拌,ik受扩散系数影响程度 下降。 1 (2) ik u02 由于搅拌,ik可得到提高,是增加 扩散电流的行之有效的方法。
①在ik较小时,便出现阴极的较大极化度 (△/△i),所得镀层分散能力较好。 ②电化学极化时,即可得到较大的阴极极化,所以 为取得细晶的电镀层,只能依靠电极的电化学极化, 而不能依靠提高电极的纯浓差极化来获得。
第四节 金属的电结晶
一、电结晶的基本概念
电结晶:金属离子放电以后进入晶格形成晶体 的过程。
Ag
/ Ag
0.799V
Ag /[ Ag (CN ) ] 0.30V
2
标准电极电位向负的方向移动了1.099 V。
金属配离子的放电机理?
大多数情况下,直接在阴极上放电的既不是 “简单金属离子”,也不是配位数最高的络离子, 而是具有较低配位数的络离子。 氰化镀铜时的阴极过程主要是: [Cu(CN)3]2- +e→Cu +3CN- 同时还有析氢反应: 2H2O +2e→H2↑+2OH-
何为浓差极化和电化学极化?
Zn2++2eZn
浓差极化:离子与电子结合的反应进行得很快,而 离子的扩散速率又较慢,结果离子的供应不足,使 电极表面的离子贫化。
何为浓差极化和电化学极化? Zn2++2eZn
电化学极化:如果供给电子的速率无限小,而离子 与电子的结合速率又相当快,则可在维持平衡电势 不变的条件下进行还原。实际上,外电流不是无限 小,Zn2+的还原速度也不是无限大。在外电源把电 子供给电极以后,离子来不及将其全部消耗掉,这 样,电极表面就积累了过剩电子,使电势偏离了平 衡值,向负方向移动。
dCi VD dx
D-扩散系数,dx-距离
当达到稳定后:
V D Ci0 Cis
-扩散层的有效厚度
I Q ik S S t
ik-电流密度
法拉第定律:
如果氧化还原反应中表示得失电子的计量系数为 n,即为n mol电子从负极通过外电路转移到正极, 则产生的电量Q为nF。
F-法拉第常数,其值为96485 C· mol-1。
增加放电离子的浓度等措施可减少浓差极化。
i
iL
(1)当ik‹‹iL时,说明阴极电位的负值稍有增加,即可引 迅速增大; 起反应速度 (2)当ik→iL时,说明ik的微小变化,会使阴极电位迅速 变负,此时已达到完全浓差极化,即使再增加ik,阴极的 电沉积量已达到了以iL为代表的恒定值。若阴极电位变负 达到使其它离子析出所需电位,将出现虚线表示的阴极反 应,同时还将大大影响沉积金属的质量。
第四节 金属的电结晶
二、晶核的形成与长大
二维成核理论:金属结晶包括晶核的形成和长大。 该理论是1931年由Kossell volmer提出,直至 1949年螺旋位错生长机理发表以前,一直在电结 晶理论上统治地位。
第四节 金属的电结晶
二、晶核的形成与长大
体系自由能变化ΔG是晶核尺寸r的函数
G
第三节 传质步骤和电子转移步骤
一、金属电沉积步骤和稳态过程 1、电沉积步骤 1) 传质步骤 2) 表面转化步骤
3) 电化学步骤
4) 新相生成步骤:反应产物生成新相,如电结 晶体、气体等。
以上四个步骤的反应速度不一致,但因串联进行, 因此整体反应速度就由四个步骤中最慢的决定, 称该过程中各个步骤的反应速度趋于相等时的状 态为稳态过程,而决定整个反应过程的速度最后 的 一 步 称 为 “ 控 制 步 骤 ” 。
一般来说,稳态过程有以下两个特征: 1) 反应快的步骤被迫趋于同反应慢的控制步骤速 度相等; 2) 将反应快的步骤看成是平衡态来处理。
二、传质控制步骤
1)电迁移:溶液中的荷电粒子(离子)在外电场作用下, 向电极迁移的一种传质方式。在电镀中,由于大量导电盐 的加入或其它不参加电极反应的荷电粒子的存在,一般沉 积金属离子的电迁移可忽略不计。
晶体表面并不是十分完整,存在台阶和拐角。通 常把拐角这类位臵称为晶体的生长点。
第四节 金属的电结晶
一、电结晶的基本概念
在电极电位偏离平衡电位不远处,电流密度很 小,晶粒长大比较 粗大。 当电极电位变得更负时,吸附原子来不及规则 地排列在晶格上,获得的晶粒 细小。
第四节 金属的电结晶
晶面生长的基本模型
镍 铜 铅 高过电位 锌 汞
0.21 0.23 0.64 0.70 0.78
0.65 0.58 1.09 0.75 1.10
0.89 0.82 1.20 1.06 1.18
电镀适用的范围
一般来说,若金属元素在周期表中的位 臵越靠左边,它们在电极上还原及电沉 积的可能性越 小。
第二节 金属配离子的阴极还原
二、传质控制步骤
2)对流:溶液中的反应粒子(或组分)随液体流动同时 进行传递的过程称为对流。此时液体与物质粒子之间不存 在相对运动,电解液流动的主要原因为: ①密度差异; ②温度不同; ③搅拌。 3)扩散:溶液中某一组分自高浓度向低浓度传递的过程称 为扩散,动力是浓度梯度引起。
菲克第一定律:扩散过程中,单位时间内通过垂直 于扩散方向的单位截面积的扩散物质量与该截面积 处的物质浓度梯度成正比,即:
向电镀液中加入配合剂,如氰化物、酒石酸、柠 檬酸、EDTA后,金属离子将与配位体作用,生成 一系列具有不同配位数的配合离子。