化学气相沉积 三维石墨烯

化学气相沉积三维石墨烯

化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是一种制备

三维石墨烯的方法。它是一种基于化学气相反应的加工过程，通过在

高温下加入化学气体来生成石墨烯晶体。具体步骤如下:

1. 准备基底：通常是一块金属片或者玻璃基板，需要在上面涂上

一层金属催化剂，通常使用镍(Ni)、铜(Cu)或钯(Pd)。

2. 加热：将基底放入反应炉中，并加热到高温，通常介于750℃

和1,050℃之间。

3. 通入气体：向反应炉中通入含有碳源的气体，例如甲烷（CH4）或乙烯（C2H4），以及焦炭气（H2）作为还原剂。

4. 化学反应：碳源气体在金属催化剂表面分解，生产出碳原子，

进而在金属表面上自组装成石墨烯晶体。

5. 结晶：在高温和低压的环境中，石墨烯晶体可以在金属催化剂

表面结晶。

6. 分离：一旦石墨烯晶体结晶完成，可以使用化学法或机械法将

其从金属催化剂表面分离出来。

总的来说，化学气相沉积是一种将石墨烯沉积在金属催化剂表面

的过程，可以制备出具有三维结构的石墨烯。它具有制备工艺简单、

成本低廉、生产规模大等优点，因此在石墨烯质量控制、制备工艺优

化等方面有广泛应用前景。