材料测试与分析技术-9.3 原子探针显微分析
原子探针-场离子
1.6.2 有序合金和化合物
1.6.3 不同相的衬度
过饱和固溶体分解时,沉淀出第二相。与基体相 比,大部分沉淀相显示出亮的或暗的衬度。这种衬 度主要决定于沉淀相与基体相两者场蒸发行为的差 异。如果沉淀相比基体难以场蒸发,则随场蒸发过 程的进行,它将从试样表面突起来,该处局部电场 强度高,因而场电离几率也高于其周围基体。沉淀 相在FIM像上形成亮区见图4-15b。反之如沉淀相 比基体容易场蒸发,则在FIM像上呈暗区。通常熔 点愈高的相,衬度愈亮。此外,析出相的衬度还依 赖于试样的温度和成像气体的种类。 沉淀相的成分只能用原子探针来确定。当合金 中析出几类不同的沉淀相,但其衬度非
AP实验过程中,最原始的记录是按离子被收集 到的先后次序,显示其质荷比,同时亦列出蒸发各 个离子所需的脉冲数。这种原始显示,可直接用于 数据量很少的单原子识别。为了从中取得更多的信 息,发展了很多软件,可得到质谱图、符号图、沿 深度方向成分剖析图、阶梯图、累积剖析图等。可 以根据研究间题的需要,分别采用其中的几种数据 表示法。
1.2 FIM原理
1.2.1仅器与成像原理来自1.2.2 成像气体的场电离(field ionization) 在强电场作用下,紧靠金属表面的气体 原子通过量子力学隧道效应,失去电子变 为正离子的现象称场电离。
1.2.3 金属原子的 场蒸发(Field Evaporation)
针尖试样上施加足够 强的电场强度后,表 面原子会离开试样, 形成正离子,这个过 程称为场蒸发。如果 试样表面已吸附了一 层气体原子,施加一 定强度的电场后,可 去除此吸附层,这个 过程称场脱附(Field Desorption )。
3.1 表面物理
用AP-FIM研究表面时,在看到表面原子排列 的同时,还可以鉴别单个原子的种类。目前为研 究表面现象而设计的AP-FIM,其真空度高达19Pa。场蒸发后,试样的表面十分清洁,这是用 AP-FIM研究表面现象的最大优点。
现代材料分析测试技术显微分析技术IR资料
拓展应用领域, 从材料科学向 生物医学等领
域延伸
结合人工智能 和机器学习技 术,实现自动 化和智能化分
析
深入研究IR显 微分析的机理 和相互作用机 制,为新技术 的应用提供理
论支持
06
现代材料分析测试技术的发展趋势与展望
现代材料分析测试技术的发展趋势
数字化技术: 利用数字化技 术提高分析测 试的准确性和
03
显微分析技术的基本原理
光学显微镜的原理
显微镜由物镜和目镜组成,物镜将物体放大并形成一个倒立的实像,目镜将这个实像再次放大并 呈现给观察者。
光线通过显微镜时,经过物镜和目镜的两次放大,使得观察者能够看到物体细微结构。
光学显微镜的分辨力主要取决于物镜的数值孔径和照明光源的波长。
光学显微镜的放大倍数是指物像的长度或宽度与原物体长度的比值,通常由物镜和目镜的放大倍 数相乘得到。
显微分析技术在高分子材料性能测试中的应用,如测量高分子材料的力学性能、热性能和 电性能等。
显微分析技术在高分子材料老化研究中的应用,如观察高分子材料在老化过程中的微观变 化和性能变化等。
显微分析技术在高分子材料合成中的应用,如监测高分子材料的聚合反应过程和产物形貌 等。
陶瓷材料显微分析技术应用
电子显微镜的出现:20世纪30年代,德国科学家鲁斯卡和克诺尔发明了电子显微 镜,实现了对微观世界的更深入观察。
扫描隧道显微镜的诞生:1981年,瑞士物理学家宾尼和罗雷尔发明了扫描隧道 显微镜,可以直接观察原子结构,为材料科学领域带来了革命性的突破。
原子力显微镜的发展:1986年,日本科学家日立造次和恩格尔巴特发表了原子力 显微镜的论文,实现了对表面形貌的超高分辨率成像。
05
IR资料在显微分析中的应用
材料分析测试方法 第八章 扫描电子显微镜与电子探针显微分析
分辨率
b、噪声干扰、磁场和机械振动等也会降低成像质 量,使分辨率下降。
信号 分辨率 /nm 二次电子 俄歇电子 5~10 5~10 背散射电子 50~200 吸收电子 100~1000 特征X射线 100~1000
⑵ 非弹性背散射电子 ——进入固体样品后通过连续散射改变运动方向, 最后又从样品表面发射出去的入射电子,不仅有 运动方向的改变还有能量的变化。
非弹性背散射电子的能量
范围在数十eV到数千eV。 弹性背散射电子数额比非 弹性背散射电子要多。
背散射电子BSE
背散射电子的产生范围在样品表面以下100nm~1μm。 其产额随原子序数增加而增加。如图示。当Z↑时, 产额η↑。因此,背散射电子可以用来显示原子序数 衬度,定性地进行成分分析。
第八章 扫描电子显微镜与 电子探针显微分析
日本电子JEOL
TESCAN
前 言
扫描电子显微镜 (Scanning Electron Microscope), 是继透射电子显微镜后发展起来的一种电子显微镜。 SEM成像原理与TEM和OM不同,它是用细聚焦的 电子束轰击样品表面,通过对电子与样品相互作用 产生的各种信息进行收集、处理,从而获得微观形 貌放大像。 现代的SEM结合X射线光谱分析仪、电子探针以及 其它技术而发展成为分析型扫描电子显微镜,分析 精度不断提高、结构不断优化,应用功能不断扩展。 目前已广泛应用在冶金矿产、生物医学、材料科学、 物理化学领域。
电子光学系统
在电子束偏转同时进行逐行扫描,电子束在偏转 线圈的作用下扫描出一个长方形,相应地在样品 上画出一帧比例图像。 如果扫描电子束经上偏转线圈转折后未经下偏转 线圈改变方向,而直接由末级透镜折射到入射点 位置,称为角光栅式扫描或摇摆扫描。
材料现代分析与测试第七章扫描探针显微分析
第七章扫描探针显微分析第一节概述电子探针显微分析(Electrom Probe Microanalysis——EPMA)也称为电子探针X射线显微分析,是利用电子光学和X射线光谱学的基本原理将显微分析和成分分析相结合的一种微区分析方法。
该分析方法特别适用于分析试样中微小区域的化学成分分析,是研究材料组织结构和元素分布状态的极为有用的分析方法。
扫描探针显微镜(Scanning Probe Microscopes 简称SPM)包括扫描显微镜(STM)、原子力显微镜(AFM)、激光力显微镜(LFM)、磁力显微镜(MFM)、静电力显微镜以及扫描热显微镜等,是一类完全新型的显微镜。
它们通过其端粗细只有一个原子大小的探针在非常近的距离上探索物体表面的情况,便可以分辨出其它显微镜所无法分辨的极小尺度上的表面特征。
一、SPM的基本原理控制探针在被检测样品的表面进行扫描,同时记录下扫描过程中探针尖端和样品表面的相互作用,就能得到样品表面的相关信息。
因此,利用这种方法得到被测样品表面信息的分辨率取决于控制扫描的定位精度和探针作用尖端的大小(即探针的尖锐度)。
二、SPM的特点1. 原子级高分辨率。
STM在平行和垂直于样品表面方向的分辨率分别可达0.1nm 和0.01nm,即可以分辨出单个原子,具有原子级的分辨率。
2. 可实时地得到实空间中表面的三维图像,可用于具有周期性或不具备周期性的表面结构研究及表面扩散等动态过程的研究。
3. 可以观察单个原子层的局部表面结构,因而可直接观察表面缺陷、表面重构、表面吸附体的形态和位置,以及由吸附体引起的表面重构等。
4. 可在真空、大气、常温,以及水和其它溶液等不同环境下工作,不需要特别的制样技术,并且探测过程对样品无损伤。
这些特点适用于研究生物样品和在不同试验条件下对样品表面的评价。
5. 配合扫描隧道谱STS(Scanning Tunneling Spectroscopy)可以得到有关表面结构的信息,例如表面不同层次的态密度、表面电子阱、电荷密度波、表面势垒的变化和能隙结构等。
材料测试与分析技术-9.3 原子探针显微分析
原子探针是利用飞行时间质谱仪测量场蒸发离子
的飞行时间,以确定样品表面微区元素的种类。
设针尖样品上施加的直流电压为udc,脉冲电压为 up,场蒸发离子的价数为n,质量为m,针尖到检 测器的距离为d,则:
1 2
mv2
ne(udc
up)
离子飞行时间T
为
T
d v
d[2e(udc
u p ) n / m]1/ 2
2.表面突出原子具有较高的位能,比不处于台阶 边缘的原子更容易产生蒸发。突出原子同时也最 有利于引起场电离。故当一个处于台阶边缘的原 子被蒸发后,与它挨着的原子将突出于表面,并 随后逐个被蒸发。据此,场蒸发与场电离结合可 用来对样品进行剥层分析,显示原子排列的三维 结构。
3.场蒸发与场致电离的区别:
9.3.2 原子探针基本原理
1.场蒸发和剥层分析:在场离子显微镜中,如果场 强超过某一临界值,将发生场蒸发。当极化的气体 原子在样品表面跳跃时,其负极端总是朝向阳极, 因而在表面附近存在带负电的“电子云”对样品原 子的拉扯作用,使之电离,即样品原子以正离子形 式被蒸发,并在电场作用下射向观察屏。
2.场电离和原子成像:
仪器工作时,先抽真空至1.33×10-6Pa,再通入约 10-3Pa的低压惰性气体,如氦或氖。在样品上加足 够高的电压,样品与接地的阴极间存在一个发散的 电场。样品表面微区曲率半径越小,其附近的场强 越高。样品表面由许多原子平面的台阶组成,处于 台阶边缘的原子总是突出于平均的半球形表面而具 有更小的曲率半径,其附近的场强更高。
第9章 材料表面分析技术
9.1 俄歇电子能谱分析 9.2 X射线光电子能谱分析 9.3 原子探针显微分析
无机材料测试技术电子探针X射线显微分析PPT课件
(c)能谱分析和波谱分析特点
能谱仪70 年代问世以来,发展速度很快,现在分辨率已达 到130eV左右 ,以前Be窗口能谱仪分析元素范围从11Na-92U, 现在用新型有机膜超薄窗口,分析元素可从4Be-92U。
元素定性、定量分析软件也有很大改善,中等原子序数的元 素定量分析准确度已接近波谱。近年来能谱仪的图象处理和图象 分析功能发展很快。探测器的性能也有提高,能谱使用时加液氮, 不使用时不加液氮。有的能谱探测器用电制冷方法冷却,使探头 维护更方便。
现在大部分扫描电镜、电子探针及透射电镜都配能 谱仪,使成分分析更方便。
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能谱和波谱主要性能的比较
比较内容 元素分析范围 定量分析速度 分辨率 检测极限
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能谱仪结构框图
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探测器输出的电压脉冲高度,由电子-空穴对的数目N 决 定,由于电压脉冲信号非常小,为了降低噪音,探测器用液氮 冷却,然后用前置放大器对信号放大,放大后的信号进入多道 脉冲高度分析器, 把不同能量的X射线光子分开来,并在输出 设备(如显像管)上显示出脉冲数—脉冲高度曲线,纵坐标是 脉冲数,即入射X 射线光子数,与所分析元素含量有关,横坐 标为脉冲高度,与元素种类有关,这样就可以测出X 射线光子 的能量和强度,从而得出所分析元素的种类和含量,这种谱仪 称能量色散谱仪(EDS),简称能谱仪。
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2. 元素分析范围广
电子探针所分析的元素范围一般从硼(B)——铀(U), 因为电子探针成份分析是利用元素的特征X 射线,而氢和 氦原子只有K 层电子,不能产生特征X 射线,所以无法进 行电子探针成分分析。锂(Li)和铍(Be)虽然能产生X 射线, 但产生的特征X 射线波长太长,通常无法进行检测,少数 电子探针用大面间距的皂化膜作为衍射晶体已经可以检测 Be元素。能谱仪的元素分析范围现在也和波谱相同,分析 元素范围从铍(Be)——铀(U)
材料测试分析方法(究极版)
材料测试分析⽅法(究极版)绪论1分析测试技术?获取物质的组成、含量、结构、形态、形貌以及变化过程的技术和⽅法。
2材料分析测试的思路从宏观到微观形貌(借助显微放⼤技术)从外部到内在结构(借助X射线衍射技术)从⽚段到整体(借助红外,紫外,核磁,X射线光谱,光电⼦能谱等)3分析测试技术的发展的三个阶段?阶段⼀:分析化学学科的建⽴;主要以化学分析为主的阶段。
阶段⼆:分析仪器开始快速发展的阶段阶段三:分析测试技术在快速、⾼灵敏、实时、连续、智能、信息化等⽅⾯迅速发展的阶段4现代材料分析的内容及四⼤类材料分析⽅法?表⾯和内部组织形貌。
包括材料的外观形貌(如纳⽶线、断⼝、裂纹等)、晶粒⼤⼩与形态、各种相的尺⼨与形态、含量与分布、界⾯(表⾯、相界、晶界)、位向关系(新相与母相、孪⽣相)、晶体缺陷(点缺陷、位错、层错)、夹杂物、内应⼒。
晶体的相结构。
各种相的结构,即晶体结构类型和晶体常数,和相组成。
化学成分和价键(电⼦)结构。
包括宏观和微区化学成份(不同相的成份、基体与析出相的成份)、同种元素的不同价键类型和化学环境。
有机物的分⼦结构和官能团。
形貌分析、物相分析、成分与价键分析与分⼦结构分析四⼤类⽅法。
5化学成分分析所⽤的仪器?化学成分的表征包括元素成分分析和微区成分分析。
所⽤仪器包括:光谱(紫外光谱、红外光谱、荧光光谱、激光拉曼光谱等)⾊谱(⽓相⾊谱、液相⾊谱、凝胶⾊谱等)。
热谱(差热分析、热重分析、⽰差扫描量热分析等)。
表⾯分析谱(X射线光电⼦能谱、俄歇电⼦能谱、电⼦探针、原⼦探针、离⼦探针、激光探针等)。
原⼦吸收光谱、质谱、核磁共振谱、穆斯堡尔谱等。
6.现代材料测试技术的共同之处在哪⾥?除了个别的测试⼿段(扫描探针显微镜)外,各种测试技术都是利⽤⼊射的电磁波或物质波(如X射线、⾼能电⼦束、可见光、红外线)与材料试样相互作⽤后产⽣的各种各样的物理信号(射线、⾼能电⼦束、可见光、红外线),探测这些出射的信号并进⾏分析处理,就课获得材料的显微结构、外观形貌、相组成、成分等信息。
原子探针
2015-4-1
图(7) a)Ni, Co和Cu原子在多层膜中的三维分布图(体积为~20nm×~ 2015-4-1 20nm×~35nm ), b)所选区域两层膜之间的剖面图
效10h后,用三维原子探针获得的分析结果, 相平行于(111)面而
相平行于(100)面。图(6)b和图(6)c是对应于图(6)a中b、c直
线处的 相和 相断面中Cu、Mg、Ag原子的浓度分布,可以看出Mg
和Ag原子聚集在 相/基体界面上, 相生长时Mg和Ag原子必须先要 向基体中扩散,所以 相热稳定性好,不易长大。
103 - 104 倍电子,信 号可放大
图(2) 三维原子探针的结构示意图
三维原子探针大约是在1995年才推向市场的新型分析仪器,是在
原子探针的基础上发展的:在原子探针样品尖端叠加脉冲电压使原子
m t2 电离并蒸发,用飞行时间质谱仪测定离子的质量/电荷( 2eU 2 ) n s
比来确定该离子的种类,用位置敏感探头确定原子的位置(见上图)。
m 2e 2 (Udc Up )( t ) 2 n D
(2)
2015-4-1
9
当准确测出离子飞行时间t时,根据公式(2)可计算出离子 的质量电荷比,从而鉴别出是什么元素,达到原子分辨水 =1和 =0时,式(2)则 平的化学成分分析的目的。当取 成为
m 2e 2 (Udc Up )t 2 n D
图(1)带有离子反射型能量补偿装置的常规AP
•首先,在低于Ee的成像条件下获得样品表面的场离子图像, 通过调节样品的位向,使欲分析的某一原子像点对准荧光屏 的小孔,它可以是偏析的溶质原子或细小的沉淀物相等等。
原子力探针显微学
原子力探针显微学原子力探针显微学是一种先进的、以原子力探针作为扫描装置的显微学技术。
它可以用于在超小尺度,如自由能表面、界面、孔隙以及液体表面上研究物体的形状和结构。
真空中原子力探针微型显微学是一种使用电子或原子束作为探针在尺度下亿分之一的物质研究的新显微学技术,它被称为原子力探针显微学(AFM)。
原子力探针显微学(AFM)能够测量出被观察样品的表面的形状和结构,它提供了拥有极高精度的体积周围空间分辨率的能力。
原子力探针显微学可以用来研究两种类型的样品:生物样品和无机样品。
如果使用乾燥的无机样品,则可以直接使用原子力探针显微学系统对其进行成像。
对于生物样品,首先需要将样品固定到某种已知的表面(例如玻璃)上,然后再使用原子力探针显微学系统进行测量。
原子力探针显微学的信息质量要远远高于传统的显微学技术。
它可以实现以微米级分辨率来研究细胞或者生物样品的结构,甚至可以以微米级分辨率来检测蛋白质的空间结构。
此外,在小分子面上,它也可用来识别化学结构和反应,以及鉴定有机和无机分子表面特性。
当用原子力探针显微学测量样品表面时,可以获得关于表面形状、形变和原子结构的丰富信息。
它可以用来分析样品的表面形状、表面能和表面粗糙度,以及在样品表面的某一特定区域进行原子结构和组成的分析。
此外,原子力探针显微学还可以检测出微米级尺度上的形状变化,从而有助于研究复杂物质的结构行为。
原子力探针显微学也可以应用于研究各种不同类型的表面,例如催化剂表面、金属表面、非金属表面和生物表面等。
它可以分析微小孔隙和表面损伤,以及评估复杂界面的力学性质。
此外,它还可以用来获取更多关于微米尺度的细节信息,例如样品的有效平面温度、力学刚度、形状变化和表面粗糙度。
材料现代分析技术讲义-扫描探针显微分析法
材 料 现 代 分 析 技 术
现代表面技术的应用局限
低能电子衍射(LEED)及X 射线衍射(XRD )等衍射方法要求 样品具备周期性结构(晶体) 光学显微镜(OM)和扫描电子显微镜(SEM)的分辨率不足以 分辨出表面原子
高分辨透射电子显微镜( TEM )主要用于薄层样品的体相和界 面研究
二、原子力显微分析的应用
材 料 现 代 分 析 技 术
材 料 现 代 分 析 技 术
§2. 扫描隧道显微分析法
STM
一、 扫描隧道显微分析的基本原理 principle of STM 二、 扫描隧道显微分析的应用 applications of STM
一、扫描隧道显微分析的基本原理
材 料 现 代 分 析 技 术
STM在高真空条件下可观察大气中易氧化的
半导体和金属表面
STM在不同条件下的应用:高真空条件下
材 料 现 代 分 析 技 术
Si(100)-21表面原子像
6.0nm6.0nm;
10.6nm10.6nm
2个Si原子组成的二聚体结构及其二聚体裂列 原子台阶和单原子缺陷(空位)
材 料 现 代 分 析 技 术
principle of AFM
二、 原子力显微分析的应用
applications of AFM
一、原子力显微分析的基本原理
材 料 现 代 分 析 技 术
现代表面技术分析的发展
1933年德国Ruska和Knoll等人在柏林制成第一台电子 显微镜后,几十年来,有许多用于表面结构分析的现 代仪器先后问世:e.g.透射电子显微镜(TEM)、扫 描电子显微镜(SEM)、场电子显微镜(FEM )、 场离子显微镜(FIM)、低能电子衍射(LEED)、 俄歇谱仪(AES)、光电子能谱(ESCA)、电子探 针(EPMA)、X射线光电子能谱(XPS)等。
材料特性表征课件:第四章 扫描探针显微分析技术
4.1扫描隧道显微镜(STM)
4.1扫描隧道显微镜(STM)
单分子化学反应已经成为现实
• 单原子、单分子操纵在化学上一个极具诱惑力的潜在应用 是可能实现“选键化学”──对分子内的化学键进行选择 性的加工。虽然这是一个极具挑战性的目标,但现在已有 一些激动人心的演示性的结果。
• 在康奈尔大学Lee和Ho的实验中,STM被用来控制单个的 CO分子与Ag(110)表面的单个Fe原子在13K的温度下成键, 形成FeCO和Fe(CO)2分子。同时,他们还通过利用STM研 究C-O键的伸缩振动特性等方法来确认和研究产物分子。 他们发现CO以一定的倾角与Fe-Ag(110)系统成键(即CO分 子倾斜地立在Fe原子上),这被看成是Fe原子局域电子性 质的体现。
第四章 扫描探针显微分析技术
所有 SPM 基本部件:
与光学显微镜和电子 显微镜不同,SPM不 利用任何光学或电子 透镜成像,而是当探 针在样品表面扫描时 某种信号(电流或力) 随针尖-样品间隙(距 离)变化而变化,通 过检测该信号,而获 得样品表面形貌、静 电、磁性等特征。
第四章 扫描探针显微分析技术
隧道电流与针尖-样品表面间距离关系(S):
I ∝ Vbexp(-A Φ1/2S)
(Vb是加在针尖和样品之间的偏置电压,Φ为针尖和样品的平均功函数,A 为常数,在真空条件下约等于1)
隧穿电流是间的指数函数,隧道电流对间距的变化是 非常敏感的。
如果针尖与样品间隙(0.1nm级尺度)变化10%,隧道 电流则变化一个数量级。这种指数关系赋予STM很高的 灵敏度,所得样品表面图像具有高于0.1nm的垂直精度 和原子级的横向分辨率。
材料特性表征
Characteristic Technique of Materials
三维原子探针及其在材料科学研究中的应用
第15卷 第3期2007年6月材 料 科 学 与 工 艺MATER I A LS SC I ENCE &TECHNOLOGYVol 115No 13Jun .,2007三维原子探针及其在材料科学研究中的应用周邦新,刘文庆(上海大学微结构研究重点实验室,上海200444,E 2mail:wqliu@staff .shu .edu .cn )摘 要:三维原子探针(3DAP )是一种定量显微分析仪器,通过对不同元素的原子逐个进行分析,可绘出金属样品中不同元素的原子在纳米空间中的分布图形.从分析逐个原子来了解物质微区化学成分的不均匀性,3DAP 是一种不可替代的分析方法.本文介绍了3DAP 的工作原理及样品制备,举例说明了3DAP 分析技术的应用.关键词:三维原子探针;成分分析;界面偏聚;弥散相析出;纳米晶材料中图分类号:T B3文献标识码:A文章编号:1005-0299(2007)03-0405-04The appli ca ti on of 3DAP i n the study of ma ter i a ls sc i enceZ HOU Bang 2xin,L I U W en 2qing(Key Laborat ory of Advanced m icr oanalysis,Shanghai University,Shanghai 200444,China,E 2mail:wqliu@staff .shu .edu .cn )Abstract:The three -di m ensi onal at om p r obe (3DAP )is a quantitative m icr o -analytical instru ment,which p r ovides three -di m ensi on map s of the distributi on of different ele ment at om s in metallic s peci m ens by che m i 2cally analyzing the at om s one -by -one .No method can take the p lace of 3DAP t o find out the che m ical inho 2mogeneities in nano meter scale of the s peci m ens by the analysis of individual at om s .This revie w p resents the working p rinci pal and sa mp le p reparati on of 3DAP .Unique features of the 3DAP are de monstrated by descri 2bing the app licati ons of 3DAP .Key words:three -di m ensi onal at om p r obe;co mpositi on analysis;interface segregati on;dis persi on phase p reci p itati on;nanocrystalline materials收稿日期:2004-07-06.基金项目:上海市纳米专项基金资助项目(0552nm049).作者简介:周邦新(1935-),男,研究员,中国工程院院士;刘文庆(1968-),男,副研究员. 材料的性能与显微组织结构密切相关,而显微组织结构又决定于材料的成分和加工工艺.观察研究显微组织结构,并分析它们与成分、加工工艺和使用性能之间的关系,已成为开发高性能先进材料过程中一个非常重要的环节,也是材料科学研究领域里的一个重要方面.在这一环节中,如何正确利用现代分析仪器对显微组织结构进行观察研究,就成为关键的问题,而分析仪器的发展又大大地推动了该领域的研究工作.三维原子探针(3DAP )大约是在1995年才推向市场的新型分析仪器,现在世界上装备了3DAP 的实验室还为数不多.它可以给出样品在纳米尺度空间中不同化学元素原子的分布,能够进行定量分析,是目前最微观并且分析精度较高的一种分析技术,这些都是对逐个原子分析后得出的结果.目前的应用范围还局限于导电物质,在20-80K 和超高真空下进行分析.1 场离子显微镜及原子探针在了解3DAP 之前,先描述一下场离子显微镜.针尖状的样品放置在超高真空室中,并冷却至20~80K,在通入微量(~10-3Pa )成像气体He (或者A r 、Ne )后,在金属样品上加直流电压,由于在样品尖端原子排列凸出的位置处电场强度较强,容易引起该处的成像气体电离,电离后的正离子在电场作用下,沿径向射向荧光屏产生亮斑,得到样品尖端表面的原子像,称为场离子显微镜(F I M )像.它的放大倍率是观察屏至样品的距离R (一般是5~10c m )与样品尖端的曲率半径r (一般<100nm )之比,放大倍数不小于106.金属样品接正极,在很强的脉冲负电场作用下,样品尖端的原子也会以正离子状态离开表面,称为场蒸发.在荧光屏的微通导板上加工一个2mm的孔,倾动试样,使F I M观察到要研究的原子像对准该孔,然后在样品尖端叠加一脉冲电压(正电压增加),等被研究的原子蒸发飞向荧光屏并穿过孔洞,再配上飞行时间质谱仪测定该离子的质量/电荷比,确定该离子的种类,这就是Muller于1968年发明的原子探针(一维原子探针APF I M).1988年Cerez o等制造出具有“位置敏感探头”的原子探针,但是只能同时探测两种元素的原子.直到1993年,B lavette等采用96通道多阳极探头,同时可以检测多于两种元素的原子,才成为三维原子探针[1].三维原子探针的关键问题在于探测器的设计和制造.当触发信号(脉冲电压)施加到样品上,原子从样品尖端表面蒸发,成为离子飞出并击中由微通道板制成的探测器.微通道板是一种将离子象增强为电子象的“板”,由许多<45μm玻璃毛细管组成的电子倍增器,入射离子进入毛细管后激发产生二次电子,信号可放大103-104倍.微通道板接受离子后可以激发出一束二次电子,由微通道板后面的位置敏感探头探测后确定其位置.同时通过测定飞行时间可以确定该离子的质荷比(m=M/n),确定是何种离子.原子是逐层蒸发,逐层探测,数据经过计算机采集处理,再重新构建不同元素的原子在三维空间的分布图形.深度方向的分辨率估计是0106nm,水平方向的分辨率估计是012n m,后者主要是由于原子蒸发飞出后飞行轨道失真引起,与原子的热振动有关,因此,样品需要在低温下进行分析.探测器的效率可达到60%,每个电脉冲作用下有效的原子蒸发速率为0104i ons/pulse,工作电压的脉冲频率是10kHz,采用特殊的设计还可达到200kHz,这样每秒大约可以检测到400i ons.如果要检测106i ons以便构建纳米空间不同元素原子的分布,采集数据时间需要将近1h.英国Oxf ord nanoScience L td开发的第2代3DAP中的PoS AP系统(op tical positi on sensitive at om p r obe)是将图像增强像机和阳极阵列光电倍加管组合在一起,可以实时地观察被分析区域的F I M,并装备了静电反射镜作为能量补偿,提高了质量分辨率,达到M/ΔM=500.在分析时效马氏体钢样品时,钢中所含Mo、Cu、N i合金元素都具有多种同位素,有58N i,60N i,61N i,62N i,64N i, 65N i,63Cu,65Cu,92Mo,94Mo,95Mo,96Mo,97Mo,98Mo,100Mo,尽管它们之间有的质荷比只相差1/ 6,但由于提高了分辨率,质荷比相差这样小的峰都可以分辨.法国Ca meca公司开发的经能量补偿OT AP(op tical t omographic at om p r obe)三维原子探针也具有相似的性能.最近I m ago公司推向市场的LEAP三维原子探针,采用了局域电极设计,将样品针尖至探头的距离缩短至80~110mm,增大了可探测分析的面积,由原有的20×20n m增大至<100nm(70×70nm),提高了工作电压的脉冲频率,缩短了采集数据的时间.2 样品制备3DAP分析用的样品要制成针尖状,尖端的曲率半径为10~100n m.通常的办法是先将样品加工成圆截面或方截面的细丝(<<015mm或<015×015mm),再用电解抛光方法制备针尖状的样品.电解抛光时采用两步法:首先,使一薄层电解液漂浮在密度较大的惰性液体上,丝状样品垂直放入电解液中进行电解抛光,在长度的中部产生细颈直至断开,得到针状样品,但尖端的曲率半径仍不能满足要求,需要进行下一步显微电解抛光;显微电解抛光时用铂丝弯曲成小环作为负极,环中能保留一小滴电解液,将极细的丝状样品插入带有电解液的环中,在样品和Pt丝间通上脉冲电源,利用短暂时间的电解抛光来完成针尖样品的制备过程,操作在显微镜下完成,这种方法还可以用来修整已用过的针尖样品,以便重新利用该样品进行分析.如果采用聚焦离子束加工设备(FI B)来制备针尖状样品,这时可以通过高倍放大后的二次电子象(SE M)观察加工过程,便于对加工过程进行控制.该方法可以成功地制备出垂直于薄膜膜面的针尖样品,也容易将非常脆的样品加工成针尖状.3 应用举例311 Cottrell气团的直接观察溶质原子对位错的钉扎是了解合金元素影响材料各种力学性能的重要基础.Cotrell和B ilby在1949年提出了一个假设:钢中碳原子在位错中偏聚后会围绕着位错形成气团,对位错产生了钉扎作用.用这种假设可以解释低碳钢中屈服和应变时效现象.从那时起,溶质原子与位错的弹性交互作用就受到广泛注意.尽管后来用电阻和内耗测量证实了012wt%C的碳钢中有90%的碳原子在淬火过程中都偏聚在位错和马氏体的界面上,继续在低于150o C时效处理,碳原子还会继续发生・64・材 料 科 学 与 工 艺 第15卷 偏聚,并没有碳化物析出.但是,直接观察溶质原子在位错中偏聚后构成的Cottrell 气团,只有依赖于3DAP 的分析才能完成,其中关键的问题是要在样品针尖的头部,获得一个布氏矢量垂直于样品轴向的位错.W ilde 等[2]用3DAP 研究了三种含碳不同的低碳钢样品(0110wt%C;0115wt%C;0118wt%C )中的Cottrell 气团,将样品加热到1000~1100oC 淬火,在室温时效以获得碳原子在位错及界面上的偏聚.根据3DAP 分析结果画出4at%C 等浓度面的区域,给出碳的分布,可获得Cottrell 气团的三维图象.气团对于位错中心呈非对称分布,距离位错中心为7±1nm ,气团中碳的最大浓度为8±2at%.已获得的钢中碳原子的Cottrell 气团,不如Fe A l 有序合金中硼原子气团的图象清晰,所以下面给出的是Fe A l 有序合金中的分析结果[3-4].含有400ppmB (at%)的Fe A l (40at%A l )合金,有序化后是B2结构,晶体的(100)面是超点阵面,Fe 和A l 原子相互交替占据该面.分析时要寻找{001}刃形位错,所以作3DAP 分析时样品针尖处的晶体是沿[001]方向.图1是3DAP 的分析结果,图中只给出了一层A l 原子分布的截面,从图中可以分辨出A l 原子占据的原子面,面间距约为0129nm ,从前面数有21排原子面,从后面数有22排原子面,这说明图中至上而下存在一个刃型位错,刃型位错的示意图画在图的左上方.B 原子围绕着至上而下的刃型位错成细圆柱状分布,成为Cottrell 气团,每一个点表示检测到的一个B 原子.气团中B 的最高含量为3at%,平均含量为2at%,是B 添加量的50倍.形成B 的Cottrell 气团后,Fe A l 合金单晶体的应力应变曲线中也出现了明显的上下屈服点.图1 有序Fe A l 合金中B 原子在刃型位错附近的Cottrell气团,B 原子围绕着刃型位错成细圆柱状分布.312 硼在I F 钢晶界上的偏聚深冲钢板是汽车制造工业中的一种重要原材料.在超低碳I F 钢中(interstitial free -I F 钢)再添加微量Ti 或Nb 是关键,要求钢板中形成较集中的(111)织构,有利于深冲时的变形,改善深冲性能.完全去掉C 和N 可以提高成型性能,但是在晶界上缺少溶质原子C 会明显降低界面的结合力.在低一点的温度下经受冲击性的深冲成型,会引起晶间脆性断裂,称为二次加工脆性,如果为了提高钢的拉伸强度而添加P 、Mn 或Si 后,问题更为突出.添加微量B 是一种补救方法,它并不影响钢的成型性能.用示踪原子和俄歇电子谱方法研究的结果表明,B 在再结晶初期就会偏聚在晶界上,起到强化晶界的作用.为了了解B 在晶界上偏聚的情况,用3DAP 进行研究是最合适的选择,但在试样的针尖上需要有一条晶界.Set o 等研究了I F 钢中的晶界偏聚[5],样品经处理后的晶粒为14μm,制成针尖样品后,大约在1/10样品的针尖上可以找到晶界.图2是3DAP 的分析结果,可以看出B 不仅偏聚在晶界上,还延伸到晶界两侧1~115n m 处.B 在晶界上的浓度是添加含量的250倍,在再结晶的初期,P 不发生明显的晶界偏聚.图2 B 、C 、P 原子在I F 钢中晶界(G B )附近的三维分布图及其在晶界附近的浓度分布313 铝合金中弥散相的形成淬火固溶处理然后时效沉淀强化是增加A l合金的强度和硬度的有效方法,A l -Cu 合金是最典型的一种.A l -Cu 合金中添加痕量的Mg 和Ag 后,沉淀相中除了θ(Cu A l 2)相外,还增加了一种Ω相,图3是A l -117Cu -013Mg -012Ag 合金经・704・第3期周邦新,等:三维原子探针及其在材料科学研究中的应用图3 A l -117Cu -013Mg -012Ag 合金经过固溶时效处理后(190°-8h )的TE M 明场象过固溶时效处理后(190oC -8h )的TE M 明场象,显示出片状的θ和Ω相[6],与<211>痕迹一致的薄片是在{111}面上的Ω相,与[011]痕迹一致的薄片是在(001)面上的θ相.Ω相热稳定性好,不易聚集长大,因此,提高了合金的高温强度.用3DAP 研究这种铝合金在淬火时效时θ相和Ω相的形成过程[7],揭示了Ω相热稳定性好的原因.合金样品(A l -119Cu -013Mg -012Ag )固溶处理后经180o C -15s 时效,从3DAP 的分析结果中可以清楚看到形成了Mg -Ag 富集的GP 区,其中不含Cu .在180℃继续时效时,Cu 向Mg -Ag 富集的GP 区中扩散,形成了20at%Cu -20at%Mg -10at%Ag 的{111}GP 区,再继续时效,Mg 和Ag 原子又从中心迁移至析出相与αA l 的界面处,完成了GP 区转变成Ω相的过程,这时Ω相的中心部位含33at%Cu .样品在180℃时效10h 后,用3DAP 分析获得的θ相和Ω相成分象如图4所示.图4 A l -117Cu -013M g -012Ag 合金在180o C -10h 时效后用三维原子探针分析获得的结果 最近Lars on 等对3DAP 在分析多层功能薄膜材料的应用方面作了综述和评价[8],由于制备功能薄膜材料是通过多种不同元素交替沉积而成,最薄的层间距只有十多个原子层厚,界面的粗糙程度、原子间的相互扩散以及界面上的偏聚等对薄膜的性能都会有重要的影响.要从原子尺度上来分析了解显微组织与物理性能之间的关系,3DAP 是唯一可利用的分析手段.4 结 语利用三维原子探针分析技术,可以获得纳米尺度三维空间内不同元素原子的分布图,分辨率接近原子尺度,在研究纳米材料问题时有着无法替代的作用.纳米尺度原子团簇的析出,以及合金元素在界面上的偏聚等,对材料性能有着重要的影响,研究这些问题正是三维原子探针分析仪器的特长,它不仅在研究纳米材料方面,在研究传统金属材料方面都可以发挥重要作用.看来,三维原子探针技术的广泛应用,必将推动材料科学研究工作的发展,人们将有可能从原子尺度来认识一些目前还不太不清楚的问题.由于它不能获得晶体结构方面的信息,所以有时还需要TE M 分析来配合.参考文献:[1]BLAVETTE D,DEC ONN I HOUT B,BOSTE 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材料分析方法第八章电子显微镜与电子探针显微分析
• ③ 用于分析的俄歇电子主要来自试样表面2~3 个原子层,即表层以下1 nm以内范围。
• 这是由于在较深区域中产生的俄歇电子,在向表面运动时, 必然会因碰撞而损失能量,使之失去了具有特征能量的特 点。
• ④ 俄歇电子信号适用于表面化学成分分析(如晶 界、相界等相关界面)。 • 用俄歇电子进行分析的仪器称为俄歇电子谱仪 (AES)。
五、俄歇电子(Auger
• 如果原子内层电子能级跃迁过 程中释放出来的能量E不以X射 线的形式释放,而是用该能量 将核外另一电子打出,脱离原 子变为二次电子,这种二次电 子就是俄歇电子。 • 显然,一个原子中至少要有三 个以上的电子才能产生俄歇效 应,铍是产生俄歇效应的最轻 元素。
electron,AUE)
(3)扫描线圈
• 作用:使电子束偏转,并在 试样表面做有规律的扫描。 • 该扫描线圈与显示系统中显 像管的扫描线圈严格同步。 • 扫描电镜采用双偏转扫描线 圈,在电子束偏转的同时还 进行逐行扫描,电子束在上 下偏转线圈的作用下,在试 样表面扫描出一个与显示器 屏幕相对应的长方形区域。
(4)样品室
三、扫描电镜的主要性能
• 1.放大倍数 • 2.分辨率 • 3.景深
1.放大倍数
• 扫描电镜的放大倍率变化范围宽,连续可调,操作快速、容易。
• 扫描电镜的放大倍数为:
AC M AS
• 式中, AS为电子束在样品表面扫描的幅度, AC为在荧光屏上阴极 射线同步扫描的幅度。
• 由于荧光屏尺寸Ac固定不变,因此,放大倍率的变化是 通过调节镜筒中扫描线圈的电流来改变电子束在试样表 面的扫描幅度AS来实现。
• 特点:
• ① 样品室的空间较大; • 扫描电镜的样品室除放置样 品外,还要安置各种信号检 测器。 • 样品台一般可放置20×10 mm的块状样品。 • ② 样品台还要能沿X、Y及Z 三个方向平移,在水平面内 旋转或沿水平轴倾斜,活动 范围很大,又要精度高、振 动小。
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2.场电离和原子成像:
仪器工作时,先抽真空至1.33×10-6Pa,再通入约 10-3Pa的低压惰性气体,如氦或氖。在样品上加足 够高的电压,样品与接地的阴极间存在一个发散的 电场。样品表面微区曲率半径越小,其附近的场强 越高。样品表面由许多原子平面的台阶组成,处于 台阶边缘的原子总是突出于平均的半球形表面而具 有更小的曲率半径,其附近的场强更高。
样品尖端周围的气体原子受场强的作用发生极化并被 拉向样品顶端表面,最先达到样品表面的气体原子将 吸附在样品表面顶端突起部位强电场的位置上,随后 达到样品表面的极化原子将在场吸附层的表面上做表 面跳跃,并不断地损失其动能而降低跳跃振幅,当跳 跃的气体极化原子陷入样品突出原子附近的高场区域 时,气体原子发生场致电离变为正离子,并被加速径 向射向荧光屏,形成图像亮点。
第9章 材料表面分析技术
9.1 俄歇电子能谱分析 9.2 X射线光电子能谱分析 9.3 原子探针显微分析
9.3 原子探针显微分析
9.3.1 场离子显微镜基本原理
1.场离子显微镜的结构:由一个 玻璃真空容器组成,底曲率半径 约为50~100nm的针尖形状,样 品针尖固定在真空容器的轴线上, 离荧光屏约50mm。以液氮、液 氢部内侧涂有荧光粉,用于显示 图像。样品采用单晶细丝,用电 解抛光制成顶端或液氦冷却至深 低温,减少原子的热振动,使原 子的图像稳定可辨。样品接正高 压(3~30kV)作为阳极,容器内 壁(包括荧光屏)接地作阴极。
原子探针是利用飞行时间质谱仪测量场蒸发离子
的飞行时间,以确定样品表面微Fra bibliotek元素的种类。 设针尖样品上施加的直流电压为udc,脉冲电压为 up,场蒸发离子的价数为n,质量为m,针尖到检 测器的距离为d,则:
1 2
mv2
ne(udc
up)
离子飞行时间T
为
T
d v
d[2e(udc
u p ) n / m]1/ 2
2.表面突出原子具有较高的位能,比不处于台阶 边缘的原子更容易产生蒸发。突出原子同时也最 有利于引起场电离。故当一个处于台阶边缘的原 子被蒸发后,与它挨着的原子将突出于表面,并 随后逐个被蒸发。据此,场蒸发与场电离结合可 用来对样品进行剥层分析,显示原子排列的三维 结构。
3.场蒸发与场致电离的区别:
在突出原子的高场区域内极化原子最易发生电离, 因此图像中出现的每一个亮点对应着样品尖端表面 的一个突出原子。
场离子显微镜的分辨率高、放大倍数高 (M=2×106),可直接观察到固体表面单个原子, 若与飞行时间质谱仪组合成场离子显微镜-原子探针 (FIM-AP),可鉴别几纳米的极微区的化学成分。
9.3.2 原子探针基本原理
1.场蒸发和剥层分析:在场离子显微镜中,如果场 强超过某一临界值,将发生场蒸发。当极化的气体 原子在样品表面跳跃时,其负极端总是朝向阳极, 因而在表面附近存在带负电的“电子云”对样品原 子的拉扯作用,使之电离,即样品原子以正离子形 式被蒸发,并在电场作用下射向观察屏。
所以,离子的质荷比为
m n
2e(udc d
2
up
)
T
2
由此,可以计算离子的质量,以达到原子分辨水 平的化学成分分析的目的。
场电离是成像气体原子在样品表面原子附近高场 强作用下被电离。
场蒸发是样品表面原子在极化的气体原子作用下 被电离。
4.原子探针:原子探针由场离子显微镜和飞行时间 质谱仪组成,如图。场离子显微镜的荧光屏上开有 一小孔,固定样品的支架可转动,以便使欲分析的 样品表面某微区的某个原子发生场蒸发后穿过小孔, 到达飞行管道的终端而被检测器所检测。