新版材料分析方法同步练习题
材料分析方法答案及题型
材料分析方法答案及题型1.题目:根据样品的波谱图进行材料分析,属于什么材料?答案:根据波谱图可判定为有机化合物。
题型:判断题2.题目:以下哪种试验方法可用于材料的腐蚀性分析?A.火焰伸缩试验B.电化学腐蚀试验C.熔点测定D.红外光谱分析答案:B.电化学腐蚀试验题型:选择题3.题目:材料的断裂强度可以通过以下哪种方法分析?A.电化学腐蚀试验B.硬度测试C.热分析D.X射线衍射答案:B.硬度测试题型:选择题4.题目:下列哪种方法可以用于材料的晶体结构分析?A.红外光谱分析B.熔点测定C.X射线衍射D.电化学腐蚀试验答案:C.X射线衍射题型:选择题5.题目:根据样品的密度测定结果,可以初步判断材料的?A.晶体结构B.机械性能C.导电性D.成分答案:D.成分题型:选择题6.题目:以下哪种方法可用于材料的表面形貌及粗糙度分析?A.红外光谱分析B.扫描电子显微镜分析C.热分析D.硬度测试答案:B.扫描电子显微镜分析题型:选择题7.题目:材料的热稳定性可以通过以下哪种方法进行分析?A.电化学腐蚀试验B.熔点测定C.X射线衍射D.红外光谱分析答案:B.熔点测定题型:选择题8.题目:根据样品的断口形貌观察结果,可以初步判断材料的?A.密度B.成分C.机械性能D.晶体结构答案:C.机械性能题型:选择题9.题目:以下哪种方法可用于材料的热分解性分析?A.等离子体质谱法B.红外光谱分析C.热重分析D.电化学腐蚀试验答案:C.热重分析题型:选择题10.题目:材料的导电性质可以通过以下哪种方法分析?A.热分析B.X射线衍射C.红外光谱分析D.电导率测试答案:D.电导率测试。
材料现代分析方法习题及答案优选全文
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产生X射线需具备什么条件?答:实验证实:在高真空中, 凡高速运动的电子碰到任何障碍物时, 均能产生X射线, 对于其他带电的基本粒子也有类似现象发生。
电子式X射线管中产生X射线的条件可归纳为:1, 以某种方式得到一定量的自由电子;2, 在高真空中, 在高压电场的作用下迫使这些电子作定向高速运动;3, 在电子运动路径上设障碍物以急剧改变电子的运动速度。
分析下列荧光辐射产生的可能性, 为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。
答: 根据经典原子模型, 原子内的电子分布在一系列量子化的壳层上, 在稳定状态下, 每个壳层有一定数量的电子, 他们有一定的能量。
最内层能量最低, 向外能量依次增加。
根据能量关系, M、K层之间的能量差大于L、K成之间的能量差, K、L层之间的能量差大于M、L层能量差。
由于释放的特征谱线的能量等于壳层间的能量差, 所以Kß的能量大于Ka的能量, Ka能量大于La的能量。
(1)因此在不考虑能量损失的情况下:(2)CuKa能激发CuKa荧光辐射;(能量相同)(3)CuKß能激发CuKa荧光辐射;(Kß>Ka)(4)CuKa能激发CuLa荧光辐射;(Ka>la)F的物理意义。
材料现代分析方法练习题及答案(XRD,EBSD,TEM,SEM,表面分析)
8. 什么是弱束暗场像?与中心暗场像有何不同?试用Ewald图解说明。
答:弱束暗场像是通过入射束倾斜,使偏离布拉格条件较远的一个衍射束通过物镜光阑,透射束和其他衍射束都被挡掉,利用透过物镜光阑的强度较弱的衍射束成像。
与中心暗场像不同的是,中心暗场像是在双光束的条件下用的成像条件成像,即除直射束外只有一个强的衍射束,而弱束暗场像是在双光阑条件下的g/3g的成像条件成像,采用很大的偏离参量s。
中心暗场像的成像衍射束严格满足布拉格条件,衍射强度较强,而弱束暗场像利用偏离布拉格条件较远的衍射束成像,衍射束强度很弱。
采用弱束暗场像,完整区域的衍射束强度极弱,而在缺陷附近的极小区域内发生较强的反射,形成高分辨率的缺陷图像。
图:PPT透射电子显微技术1页10. 透射电子显微成像中,层错、反相畴界、畴界、孪晶界、晶界等衍衬像有何异同?用什么办法及根据什么特征才能将它们区分开来?答:由于层错区域衍射波振幅一般与无层错区域衍射波振幅不同,则层错区和与相邻区域形成了不同的衬度,相应地出现均匀的亮线和暗线,由于层错两侧的区域晶体结构和位相相同,故所有亮线和暗线的衬度分别相同。
层错衍衬像表现为平行于层错面迹线的明暗相间的等间距条纹。
孪晶界和晶界两侧的晶体由于位向不同,或者还由于点阵类型不同,一边的晶体处于双光束条件时,另一边的衍射条件不可能是完全相同的,也可能是处于无强衍射的情况,就相当于出现等厚条纹,所以他们的衍衬像都是间距不等的明暗相间的条纹,不同的是孪晶界是一条直线,而晶界不是直线。
反相畴界的衍衬像是曲折的带状条纹将晶粒分隔成许多形状不规则的小区域。
层错条纹平行线直线间距相等反相畴界非平行线非直线间距不等孪晶界条纹平行线直线间距不等晶界条纹平行线非直线间距不等11.什么是透射电子显微像中的质厚衬度、衍射衬度和相位衬度。
形成衍射衬度像和相位衬度像时,物镜在聚焦方面有何不同?为什么?答:质厚衬度:入射电子透过非晶样品时,由于样品不同微区间存在原子序数或厚度的差异,导致透过不同区域落在像平面上的电子数不同,对应各个区域的图像的明暗不同,形成的衬度。
材料分析测试方法练习与答案
第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是(B)射线透射学;射线衍射学;射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称( B )A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选( C )A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称(A )A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L 层电子打出核外,这整个过程将产生(D)(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。
()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。
()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生连续X射线和特征X射线。
2. X射线与物质相互作用可以产生俄歇电子、透射X射线、散射X 射线、荧光X射线、光电子、热、、。
3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。
4. X射线的本质既是波长极短的电磁波也是光子束,具有波粒二象性性。
5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。
习题1. X 射线学有几个分支每个分支的研究对象是什么2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么(1)用CuK αX 射线激发CuK α荧光辐射;(2)用CuK βX 射线激发CuK α荧光辐射;(3)用CuK αX 射线激发CuL α荧光辐射。
3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”4. X 射线的本质是什么它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在用哪些物理量描述它5. 产生X 射线需具备什么条件6. Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中7. 计算当管电压为50 kv 时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。
期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案
期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案第一部分:选择题(共10题,每题2分,共20分)1. 以下哪项不是材料现代测试分析的主要方法?- A. X射线衍射分析- B. 扫描电子显微镜分析- C. 质谱分析- D. 核磁共振分析2. 在材料现代测试分析中,以下哪种方法适用于分析材料的晶体结构?- A. 红外光谱分析- B. 热重分析- C. X射线衍射分析- D. 高效液相色谱分析3. 以下哪项不是扫描电子显微镜分析的主要应用?- A. 表面形貌观察- B. 元素分析- C. 晶体结构分析- D. 电子能谱分析4. 质谱分析主要用于检测和分析材料中的什么?- A. 元素成分- B. 分子结构- C. 表面形貌- D. 晶体结构5. 核磁共振分析常用于确定材料中的什么信息?- A. 元素含量- B. 晶体结构- C. 分子结构- D. 表面形貌6. 以下哪种方法适用于分析材料的热性能?- A. 红外光谱分析- B. 热重分析- C. 扫描电子显微镜分析- D. 核磁共振分析7. 在材料现代测试分析中,以下哪种方法适用于分析材料的表面形貌?- A. 红外光谱分析- B. 扫描电子显微镜分析- C. X射线衍射分析- D. 质谱分析8. 以下哪项不是红外光谱分析的主要应用?- A. 元素分析- B. 分子结构分析- C. 表面形貌观察- D. 化学成分分析9. 在材料现代测试分析中,以下哪种方法适用于分析材料的化学成分?- A. 红外光谱分析- B. 热重分析- C. X射线衍射分析- D. 高效液相色谱分析10. 高效液相色谱分析主要用于检测和分析材料中的什么?- A. 元素成分- B. 分子结构- C. 化学成分- D. 表面形貌第二部分:简答题(共5题,每题10分,共50分)1. 简述材料现代测试分析的意义和应用范围。
2. 请列举并解释任意两种材料现代测试分析方法。
3. 简述扫描电子显微镜分析的原理和应用领域。
现代材料分析测试方法:期末考试卷和答案
现代材料分析测试方法:期末考试卷和答案第一部分:选择题1. 以下哪项不是常用的材料分析测试方法?- A. 扫描电子显微镜(SEM)- B. 红外光谱(IR)- C. 傅里叶变换红外光谱(FTIR)- D. 核磁共振(NMR)答案:D2. 扫描电子显微镜(SEM)主要用于:- A. 表面形貌观察- B. 元素成分分析- C. 分子结构分析- D. 力学性能测试答案:A3. X射线衍射(XRD)常用于:- A. 表面形貌观察- B. 元素成分分析- C. 分子结构分析- D. 晶体结构分析答案:D4. 热重分析(TGA)主要用于:- A. 表面形貌观察- B. 元素成分分析- C. 分子结构分析- D. 热稳定性分析答案:D5. 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)的区别在于:- A. SEM可以观察表面形貌,TEM可以观察内部结构- B. SEM可以观察内部结构,TEM可以观察表面形貌- C. SEM只能观察金属材料,TEM只能观察非金属材料- D. SEM只能观察非金属材料,TEM只能观察金属材料答案:A第二部分:简答题1. 简述红外光谱(IR)的原理和应用领域。
红外光谱是一种基于物质吸收、散射和透射红外光的测试方法。
它利用物质分子的特定振动模式与入射红外光发生相互作用,从而获得物质的结构信息和化学成分。
红外光谱广泛应用于有机物的鉴定、无机物的分析、聚合物材料的检测以及药物和食品的质量控制等领域。
2. 简述傅里叶变换红外光谱(FTIR)的原理和优势。
傅里叶变换红外光谱是一种红外光谱的分析技术,它通过对红外光信号进行傅里叶变换,将时域信号转换为频域信号,从而获得高分辨率和高灵敏度的红外光谱图谱。
相比传统的红外光谱,FTIR 具有快速测量速度、高信噪比、宽波数范围和高分辨率等优势。
它广泛应用于材料分析、有机合成、生物医学和环境监测等领域。
3. 简述热重分析(TGA)的原理和应用领域。
热重分析是一种测量物质在升温过程中质量变化的测试方法。
材料现代分析方法 练习含答案
材料现代分析方法目录第一篇总论习题 (3)一、填空题 (3)二、名词解释 (3)第二篇衍射分析习题 (4)一、选择题 (4)二、填空题 (4)三、判断题 (5)四、名词解释 (5)五、简答题 (6)第三篇电子显微分析习题 (8)一、选择题 (8)二、填空题 (9)二、判断题 (9)三、名词解释 (9)四、简答题 (10)第四篇光谱、电子能谱分析习题 (11)第十一章原子光谱分析法 (11)原子发射光谱(AES)习题 (11)一、选择题 (11)二、填空题 (12)三、简答题 (13)原子吸收光谱(AAS)习题 (15)一选择题 (15)二填空题 (15)三简答题 (16)原子荧光法AFS习题 (18)一选择题 (18)二填空题 (18)三名词解释: (19)四简答题: (19)第十二章分子光谱分析法 (20)紫外-可见光吸收光谱法(UV-Vis)习题 (20)一选择题 (20)二填空题 (21)三简单题 (21)分子荧光光谱法 (23)一名词解释 (23)红外吸收光谱法 (23)一选择题 (23)二填空题 (24)三简答题 (24)四计算题 (25)第十三章电子能谱分析法 (26)一简答题 (26)第五篇其它分析方法习题 (28)第十七章热分析法 (28)一选择题 (28)二填空题 (29)三判断题 (29)四名词解释 (29)五简答题 (30)第十八章核磁共振谱法 (31)一选择题 (31)二填空题 (34)三判断题 (35)四各词解释 (35)五简答题 (36)六结构解析题 (37)第一篇总论习题一、填空题1.电磁辐射也可称为电磁波,它在空间的传播遵循波动方程;电磁辐射具有波粒二象性,电磁辐射波动性的表现有:反射、折射、干涉、衍射、偏振;描述电磁辐射波动性的主要物理参数有:波长或者波数、频率相位。
2.电磁辐射具有微粒性,即由光子所组成的光子流。
电磁辐射的微粒性的表现主要是光电效应;描述电磁辐射微粒性的主要物理参数有光子能量和光子动量等。
《材料现代分析方法》练习与答案
《材料现代分析方法》练习与答案《材料现代分析方法》练习与答案1. 在粉末多晶衍射的照相法中包括、和。
2. 德拜相机有两种,直径分别是和Φ mm。
测量θ角时,底片上每毫米对应o和o。
3. 衍射仪的核心是测角仪圆,它由、和共同组成。
4. 可以用作X射线探测器的有、和等。
5. 影响衍射仪实验结果的参数有、和等。
八、名词解释1. 偏装法——2. 光栏——3. 测角仪——4. 聚焦圆—— 5. 正比计数器—— 6. 光电倍增管——习题:1. CuKα辐射(λ=0.154 nm)照射Ag(f.c.c)样品,测得第一衍射峰位置2θ=38°,试求Ag的点阵常数。
2. 试总结德拜法衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施。
3. 粉末样品颗粒过大或过小对德拜花样影响如何?为什么?板状多晶体样品晶粒过大或过小对衍射峰形影响又如何?4. 试从入射光束、样品形状、成相原理(厄瓦尔德图解)、衍射线记录、衍射花样、样品吸收与衍射强度(公式)、衍射装备及应用等方面比较衍射仪法与德拜法的异同点。
5. 衍射仪与聚焦相机相比,聚焦几何有何异同?6. 从一张简单立方点阵物的德拜相上,已求出四根高角度线条的θ角(系由CuKα所产生)及对应的干涉指数,试用“a-cos2θ”的图解外推法求出四位有效数字的点阵参数。
HKL 532 620 443 541 611 540 621θ.角72.08 77.93 81.11 87.447. 根据上题所给数据用柯亨法计算点阵参数至四位有效数字。
8. 用背射平板相机测定某种钨粉的点阵参数。
从底片上量得钨的400衍射环直径2Lw=51.20毫米,用氮化钠为标准样,其640衍射环直径2LNaCl =36.40毫米。
若此二衍射环均系由CuKαl辐射引起,试求精确到四位数字的钨粉的点阵参数值。
9. 试用厄瓦尔德图解来说明德拜衍射花样的形成。
10. 同一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来其θ较高还是较低?相应的d较大还是较小?既然多晶粉末的晶体取向是混乱的,为何有此必然的规律11. 衍射仪测量在人射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同?12. 测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成30°角,则计数管与人射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面呈何种几何关系?13. Cu Kα辐射(λ=0.154 nm)照射Ag(f.c.c)样品,测得第一衍射峰位置2θ=38°,试求Ag的点阵常数。
材料现代分析方法练习题及答案
1在电镜中,电子束的波长主要取决于什么?答:取决于电子运动的速度和质量2什么是电磁透镜?电子在电磁透镜中如何运动?与光在光学系统中的运动有何不同?答:运用磁场对运动电荷有力的作用这一特点使使电子束聚焦的装置称为电磁透镜。
近轴圆锥螺旋运动。
不同点:光学系统中光是沿直线运动的,在电磁透镜中电子束作近轴圆锥螺旋运动。
3电磁透镜具有哪几种像差?是怎样产生的,是否可以消除?如何来消除和减少像差?答:有球差、像散、色差。
球差:是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的。
像散:像散是由于电磁透镜的周向磁场非旋转对称引起不同方向上的聚焦能力出现差别。
色差:色差是由入射电子的波长或能量的非单一性造成的。
球差可以消除,用小孔径成像时,可使其明显减小;像散只能减弱,可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿;色差也只能减弱,稳定加速电压和透镜电流可减小色差。
4什么是电磁透镜的分辨本领?主要取决于什么?为什么电磁透镜要采用小孔径角成像?答:分辨本领是指成像物体(试样)上能分辨出来的两个物点间的最小距离;电磁透镜的分辨率主要由衍射效应和像差来决定;用小孔径成像原因是可以使球差明显减小。
5说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么?如何提高电磁透镜的分辨率?答:关键因素是用来分析的光源的波长,对于光学显微镜光源是光束,对于电磁透镜是电子束;减小电磁透镜的电子光束的波长可提高分辨率。
6试比较光学显微镜成像和透射电子微镜成像的异同点,答:相同点:都要用到光源,都需要装置使光源聚焦成像。
异同点:光学显微镜的光源是可见光,聚焦用的是玻璃透镜,而透射电子显微镜的分别是电子束和电磁透镜。
光学显微镜分辨本领低,放大倍数小,景深小,焦长短,投射显微镜分辨本领高,放大倍数大,景深大,焦长长。
7为什么透射电镜的样品要求非常薄,而扫描电镜无此要求?答:因为用透射电镜分析时,电子光束要透过样品在底片上形成衍射图案,样品过厚则无法得到衍射图案,对于扫描电镜,对样品无此要求是因为用扫描电镜时是通过分析电子束与固体样品作用时产生的信号来研究物质,所以对样品不要求非常薄。
材料分析技术作业题(含答案)
材料分析技术作业题(含答案)精心整理第一章1、名词解释:(1)物相:在体系内部物理性质和化学性质完全均匀的一部分称为“相”。
在这里,更明白的表述是:成分和结构完全相同的部分才称为同一个相。
(2)K系辐射:处于激发状态的原子有自发回到稳定状态的倾向,此时外层电子将填充内层空位,相应伴随着原子能量的降低。
原子从高能态变成低能态时,多出的能量以X射线形式辐射出来。
当K电子被打出K层时,原子处于K激发状态,此时外层如L、M、N……层的电子将填充K层空位,产生K系辐射。
(3)相干散射:由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件(4)非相干散射:X射线经束缚力不大的电子(如轻原子中的电子)或自由电子散射后,可以得到波长比入射X射线长的X射线,且波长随散射方向不同而改变。
(5)荧光辐射:处于激发态的原子,要通过电子跃迁向较低的能态转化,同时辐射出被照物质的特征X射线,这种由入射X射线激发出的特征X射线称为二次特征X射线即荧光辐射。
(6)吸收限:激发K系光电效应时,入射光子的能量必须等于或大于将K电子从K层移至无穷远时所作的功WK,即将激发限波长λK和激发电压VK联系起来。
从X射线被物质吸收的角度,则称λK为吸收限。
(7)★俄歇效应:原子中K层的一个电子被打出后,它就处于K激发状态,其能量为EK。
如果一个L层电子来填充这个空位,K 电离就变成L电离,其能量由EK变成EL,此时将释放EK-EL的能量。
释放出的能量,可能产生荧光X射线,也可能给予L层的电子,使其脱离原子产生二次电离。
即K层的一个空位被L层的两个空位所代替,这种现象称俄歇效应.2、特征X射线谱与连续谱的发射机制之主要区别?特征X射线谱是高能级电子回跳到低能级时多余能量转换成电磁波。
连续谱:高速运动的粒子能量转换成电磁波。
3、计算0.071nm(MoKα)和0.154nm(CuKα)的X射线的振动频率和能量4、x射线实验室用防护铅屏,若其厚度为1mm,试计算其对Cukα、Mokα辐射的透射因子(I透射/I入射)各为多少?第二章1.名词解释:晶面指数:用于表示一组晶面的方向,量出待定晶体在三个晶轴的截距并用点阵周期a,b,c度量它们,取三个截距的倒数,把它们简化为最简的整数h,k,l,就构成了该晶面的晶面指数。
材料分析测试技术试卷
材料分析测试技术试卷一、选择题(每题2分,共20分)1、下列哪种技术可用于材料组成的定性分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 电子显微镜2、下列哪种技术可用于材料中微量元素的分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 电子显微镜3、下列哪种材料分析技术可用于表面形貌的观察和分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 扫描电子显微镜4、下列哪种技术可用于材料中元素的定量分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 扫描电子显微镜5、下列哪种技术可用于材料的物理性能分析?A. X射线衍射B. 热重分析C. 能谱分析D. 原子力显微镜6、下列哪种技术可用于材料的化学性质分析?A. X射线衍射B. 能谱分析C. 电化学分析D. 扫描电镜7、下列哪种技术可用于材料的热分析?A. X射线衍射B. 热重分析C. 能谱分析D. 原子力显微镜8、下列哪种技术可用于材料的机械性能分析?A. X射线衍射B. 拉压试验C. 能谱分析D. 原子力显微镜9、下列哪种材料分析技术可用于表面化学成分的定性和定量分析?A. X射线衍射B. 红外光谱C. 能谱分析D. 原子力显微镜10、下列哪种材料分析技术常用于材料中杂质元素的检测?A. X射线衍射B. 光谱分析C. 能谱分析D. 热重分析二、填空题(每空2分,共20分)1、常用的形态结构分析技术有___________、___________和___________。
2、常用的材料成分分析技术有___________、___________和___________。
3、常用的表面形貌分析技术有___________和___________。
4、常用的元素定量分析技术有___________、___________和___________。
5、常用的热分析技术有___________和___________。
材料分析测试技术习题及答案分析
材料分析测试技术习题及答案分析第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是( )A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它 2. M层电子回迁到K 层后,多余的能量放出的特征X射线称( ) A. Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。
3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选( )A( Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。
4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称( ) A. 短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生( ) (多选题) A. 光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ和λ都随之减小。
( ) 0k2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。
( )3. 经滤波后的X 射线是相对的单色光。
( )4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
( )5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。
( )三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生 X射线和 X射线。
2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。
3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。
4. X射线的本质既是也是,具有性。
5. 短波长的X射线称,常用于 ;长波长的X射线称,常用于。
习题1. X射线学有几个分支,每个分支的研究对象是什么,2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么,(1)用CuKX射线激发CuK荧光辐射; αα)用CuKX射线激发CuK荧光辐射; (2βα(3)用CuKX射线激发CuL荧光辐射。
αα3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”,4. X射线的本质是什么,它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在,用哪些物理量描述它,5. 产生X射线需具备什么条件,6. ?射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中,7. 计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短hc波限和光子的最大动能。
《材料现代分析方法》练习与答案修改
一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X 射线学分支是( B )A.X 射线透射学;B.X 射线衍射学;C.X 射线光谱学;2. M 层电子回迁到K 层后,多余的能量放出的特征X 射线称( B )A. K α;B. K β;C. K γ;D. L α。
三、填空题1. 当X 射线管电压超过临界电压就可以产生 连续 X 射线和 特征 X 射线。
2. X 射线与物质相互作用可以产生 俄歇电子 、 透射X 射线 、 散射X射线 、 荧光X 射线 、 光电子、 热 、 、 。
3. X 射线的本质既是 波长极短的电磁波 也是 光子束 ,具有 波粒二象性 性。
5. 短波长的X 射线称 ,常用于 ;长波长的X 射线称,常用于 。
一、选择题1.有一倒易矢量为*+*+*=*c b a g 22,与它对应的正空间晶面是( )。
A. (210);B. (220);C. (221);D. (110);。
2.有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm ,用铁靶K α(λK α=0.194nm )照射该晶体能产生( )衍射线。
A. 三条; B .四条; C. 五条;D. 六条。
3.一束X 射线照射到晶体上能否产生衍射取决于( )。
A .是否满足布拉格条件;B .是否衍射强度I ≠0;C .A+B ;D .晶体形状。
4.面心立方晶体(111)晶面族的多重性因素是( )。
A .4;B .8;C .6;D .12。
二、填空题1. 倒易矢量的方向是对应正空间晶面的 ;倒易矢量的长度等于对应 。
2. 只要倒易阵点落在厄瓦尔德球面上,就表示该 满足 条件,能产生 。
3. 影响衍射强度的因素除结构因素、晶体形状外还有 , , , 。
4. 考虑所有因素后的衍射强度公式为 ,对于粉末多晶的相对强度为 。
5. 结构振幅用 表示,结构因素用 表示,结构因素=0时没有衍射我们称或 。
对于有序固溶体,原本消光的地方会出现 。
三、选择题1.最常用的X 射线衍射方法是( )。
材料分析方法试题及答案
材料分析方法试题及答案材料分析是一门重要的学科,在各个领域都有着广泛的应用。
本文将提供一些材料分析方法的试题以及对应的答案,以便读者更好地理解和掌握这一领域的知识。
试题一:1. 请简要说明材料分析的定义和意义。
2. 举例说明材料分析在实际应用中的重要性。
3. 简要介绍几种常见的材料分析方法。
答案一:1. 材料分析是通过使用科学的方法和工具对材料的组成、结构、性质进行研究和分析的过程。
它的意义在于帮助人们更好地理解材料的特性和性能,并为材料的设计和应用提供科学依据。
2. 材料分析在实际应用中起到了至关重要的作用。
例如,材料分析可以帮助科学家研究材料的特性,以及在制造过程中如何控制这些特性,从而改善产品的质量和性能。
此外,材料分析还可以用于检测产品中的有害物质,对环境和人体健康进行保护。
3. 常见的材料分析方法包括以下几种:a. 谱学分析方法:如红外光谱分析、质谱分析等,通过测量物质的光谱特性来确定其组成和结构。
b. 表面分析方法:如扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM),用于观察和分析材料表面的形貌和结构。
c. X射线衍射分析:利用X射线的衍射现象,研究材料的晶体结构和晶格参数。
d. 热分析方法:包括差示扫描量热法(DSC)、热重分析(TGA)等,用于研究材料的热性能和热稳定性。
e. 电化学分析方法:如电化学阻抗谱(EIS)、电化学循环伏安法(CV)等,用于研究材料在电化学反应中的行为和性能。
试题二:1. 请简要介绍红外光谱分析的原理和应用。
2. 简要解释红外光谱图中的峰的意义。
3. 通过红外光谱分析,可以得到哪些信息?答案二:1. 红外光谱分析是一种利用物质对红外辐射吸收的特性来研究物质组成和结构的方法。
原理是当红外光通过物质时,物质中的化学键根据其振动模式吸收红外光的不同频率,从而产生特定的红外光谱图。
红外光谱分析广泛应用于有机物和无机物的研究领域。
2. 在红外光谱图中,峰的位置和强度反映了物质分子中不同的化学键和官能团。
材料现代分析方法试题5(答案)精选全文完整版
可编辑修改精选全文完整版材料现代分析方法试题5(答案)材料现代分析方法试题10(参考答案)一、基本概念题(共10题,每题5分)1.“一束X射线照射一个原子列(一维晶体),只有镜面反射方向上才有可能产生衍射线”,此种说法是否正确?答:不正确,因为一束X射线照射一个原子列上,原子列上每个原子受迫都会形成新的X射线源向四周发射与入射光波长一致的新的X射线,只要符合光的干涉三个条件(光程差是波长的整数倍),不同点光源间发出的X射线都可产生干涉和衍射。
镜面反射,其光程差为零,是特殊情况。
2.什么叫干涉面?当波长为λ的X射线照射到晶体上发生衍射,相邻两个(hkl)晶面的波程差是多少?相邻两个(HKL)晶面的波程差是多少?答:晶面间距为d’/n、干涉指数为nh、nk、nl的假想晶面称为干涉面。
当波长为λ的X射线照射到晶体上发生衍射,相邻两个(hkl)晶面的波程差是nλ,相邻两个(HKL)晶面的波程差是λ。
3.谢乐公式B=kλ/tcosθ中的B、λ、t、θ分别表示什么?该公式用于粒径大小测定时应注意哪些问题?答:B为半高宽或峰的积分宽度,λ为入射X射线波长,t为粒径大小,θ为表示选用X射线位置①这是运用X射线来测定晶粒大小的一个基本公式。
B为衍射峰的宽,t表示晶粒的大小。
可见当晶粒变小时,衍射峰产生宽化。
一般当晶粒小于10-4cm时,它的衍射峰就开始宽化。
因此式适合于测定晶粒<10-5cm,即100纳米以下晶粒的粒径。
因此,它是目前测定纳米材料颗粒大小的主要方法。
虽然精度不很高,但目前还没有其它好的方法测定纳米级粒子的大小。
②一般情况下我们的样品可能不是细小的粉末,但实际上理想的晶体是不存在的,即使是较大的晶体,它经常也具有镶嵌结构在,即是由一些大小约在10-4cm,取向稍有差别的镶嵌晶块组成。
它们也会导到X射线衍射峰的宽化。
4.试述极图与反极图的区别?答:极图是多晶体中某{hkl}晶面族的倒易矢量(或晶面法线)在空间分布的极射赤面投影图。
材料现代分析方法试题3(参考答案)
材料现代分析方法试题6(参考答案)一、基本概念题(共10题,每题5分)1.试述获取衍射花样的三种基本方法及其用途?答:获取衍射花样的三种基本方法是劳埃法、旋转晶体法和粉末法。
劳埃法主要用于分析晶体的对称性和进行晶体定向;旋转晶体法主要用于研究晶体结构;粉末法主要用于物相分析。
2.试述布拉格公式2dHKLsinθ=λ中各参数的含义,以及该公式有哪些应用?答:d HKL表示HKL晶面的面网间距,θ角表示掠过角或布拉格角,即入射X射线或衍射线与面网间的夹角,λ表示入射X射线的波长。
该公式有二个方面用途:(1)已知晶体的d值。
通过测量θ,求特征X射线的λ,并通过λ判断产生特征X射线的元素。
这主要应用于X射线荧光光谱仪和电子探针中。
(2)已知入射X射线的波长,通过测量θ,求晶面间距。
并通过晶面间距,测定晶体结构或进行物相分析。
3.试述罗伦兹三种几何因子各表示什么?答:洛伦兹因数第一种几何因子是表示样品中参与衍射的晶粒大小对衍射强度的影响。
,第二种几何因子是表示样品中参与衍射的晶粒的数目对衍射强度的影响,第三种几何因子是表示样品中衍射线位置对衍射强度的影响。
4.在一块冷轧钢板中可能存在哪几种内应力?它们的衍射谱有什么特点?答:在一块冷轧钢板中可能存在三种内应力,它们是:第一类内应力是在物体较大范围内或许多晶粒范围内存在并保持平衡的应力。
称之为宏观应力。
它能使衍射线产生位移。
第二类应力是在一个或少数晶粒范围内存在并保持平衡的内应力。
它一般能使衍射峰宽化。
第三类应力是在若干原子范围存在并保持平衡的内应力。
它能使衍射线减弱。
5.设[uvw]是(hkl)的法线,用正、倒空间的变换矩阵写出它们之间的指数互换关系。
答:[uvw]=〔G〕[u*v*w*]其中[]⎥⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎢⎣⎡=333231232221131211A A A A A A A A A G ,()()⎩⎨⎧=≠=⋅j i j i a a j i 10* 6.给出简单立方、面心立方、体心立方以及密排六方晶体结构电子衍射发生消光的晶面指数规律。
现代材料分析测试题答案
现代材料分析测试题答案一、选择题1. 材料的力学性能主要包括哪些方面?A. 硬度和韧性B. 强度和塑性C. 韧性和导电性D. 硬度和导热性答案:B2. 扫描电子显微镜(SEM)的主要优点是什么?A. 可以观察活细胞B. 可以获得元素的化学成分信息C. 可以进行大范围的形貌观察D. 分辨率高于透射电子显微镜答案:B3. 差示扫描量热法(DSC)主要用于测量材料的哪些特性?A. 热导率和比热容B. 相变温度和焓变C. 热膨胀系数和热稳定性D. 热分解温度和质量损失答案:B4. X射线衍射(XRD)技术主要用于分析材料的哪些方面?A. 晶体结构和晶格常数B. 表面形貌和元素分布C. 化学成分和热性能D. 力学性能和电学性能答案:A5. 拉曼光谱是一种非破坏性的分析手段,它主要用于分析材料的哪些特性?A. 晶体缺陷和杂质含量B. 分子结构和化学键振动C. 热稳定性和耐腐蚀性D. 电导率和磁性质答案:B二、填空题1. 材料的硬度是指材料抵抗__________的能力,而韧性是指材料在受到冲击或载荷作用时抵抗__________的能力。
答案:硬度;断裂2. 原子力显微镜(AFM)能够达到的横向分辨率可以达到__________,这使得它能够观察到单个原子或分子的结构。
答案:纳米级3. 动态机械分析(DMA)是一种用于测量材料在动态载荷下的__________和__________的分析技术。
答案:模量;阻尼4. 红外光谱(FTIR)可以用于分析材料中的__________和__________,从而获得材料的化学组成和结构信息。
答案:官能团;化学键5. 紫外-可见光谱(UV-Vis)主要用于分析材料的__________和__________,这对于研究材料的光学性质非常重要。
答案:吸收光谱;反射光谱三、简答题1. 简述材料的疲劳性能及其对工程应用的重要性。
答:材料的疲劳性能是指材料在循环载荷作用下抵抗裂纹形成和扩展的能力。
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材料分析方法同步练习题材料分析方法同步练习题第一章 X 射线物理学基础1、在原子序24(Cr)到74(W)之间选择7 种元素,根据它们的特征谱波长(Kα),用图解法验证莫塞莱定律。
(答案略)2、若X 射线管的额定功率为1.5KW,在管电压为35KV 时,容许的最大电流是多少?答:1.5KW/35KV=0.043A。
4、为使Cu 靶的Kβ线透射系数是Kα线透射系数的1/6,求滤波片的厚度。
答:因X 光管是Cu 靶,故选择Ni 为滤片材料。
查表得:μ m α=49.03cm2/g,μ mβ=290cm2/g,有公式,,,故:,解得:t=8.35um t6、欲用Mo 靶X 射线管激发Cu 的荧光X 射线辐射,所需施加的最低管电压是多少?激发出的荧光辐射的波长是多少?答:eVk=hc/λVk=6.626×10-34×2.998×108/(1.602×10-19×0.71×10-10)=17.46(kv)λ 0=1.24/v(nm)=1.24/17.46(nm)=0.071(nm)其中 h为普郎克常数,其值等于6.626×10-34e为电子电荷,等于1.602×10-19c故需加的最低管电压应≥17.46(kv),所发射的荧光辐射波长是0.071纳米。
7、名词解释:相干散射、非相干散射、荧光辐射、吸收限、俄歇效应答:⑴ 当χ射线通过物质时,物质原子的电子在电磁场的作用下将产生受迫振动,受迫振动产生交变电磁场,其频率与入射线的频率相同,这种由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方向上各散射波符合相干条件,故称为相干散射。
⑵ 当χ射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后,可以得到波长比入射χ射线长的χ射线,且波长随散射方向不同而改变,这种散射现象称为非相干散射。
⑶ 一个具有足够能量的χ射线光子从原子内部打出一个K 电子,当外层电子来填充K 空位时,将向外辐射K 系χ射线,这种由χ射线光子激发原子所发生的辐射过程,称荧光辐射。
或二次荧光。
⑷ 指χ射线通过物质时光子的能量大于或等于使物质原子激发的能量,如入射光子的能量必须等于或大于将K 电子从无穷远移至K 层时所作的功W,称此时的光子波长λ称为K 系的吸收限。
⑸原子钟一个K层电子被光量子击出后,L层中一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量使L层中另一个电子获得能量越出吸收体,这样一个K层空位被两个L层空位代替的过程称为俄歇效应。
第二章 X 射线衍射方向2、下面是某立方晶第物质的几个晶面,试将它们的面间距从大到小按次序重新排列:(123),(100),(200),(311),(121),(111),(210),(220),(130),(030),(221),(110)。
答:立方晶系中三个边长度相等设为a,则晶面间距为d=a/ 则它们的面间距从大小到按次序是:(100)、(110)、(111)、(200)、(210)、(121)、(220)、(221)、(030)、(130)、(311)、(123)。
4、α-Fe 属立方晶体,点阵参数a=0.2866。
如用CrKαX 射线(λ=0.2291mm)照射,试求(110)、(200)及(211)可发生衍射的掠射角。
答:立方晶系的晶面间距: = a / ,布拉格方程:2dsinθ =λ ,故掠射角θ =arcsin(λ /2 ),由以上公式得:2d(110)sinθ 1=λ ,得θ1=34.4°,同理θ 2=53.1°,θ 3=78.2°。
6、判别下列哪些晶面属于[111]晶带:(110),(231),(231),(211),(101),(133),(112),(132),(011),(212)。
答:(110)、(231)、(211)、(112)、(101)、(011)属于[111]晶带。
因为它们符合晶带定律公式:hu+kv+lw=07、试计算(311)及(132)的共同晶带轴。
答:由晶带定律:hu+kv+lw=0,得:-3u+v+w=0 (1) , -u-3v+2w=0 (2) ,联立两式解得:w=2v, v=u, 化简后其晶带轴为:[112]。
第三章 X 射线衍射强度1、用单色X 射线照射圆柱柱多晶体试样,其衍射线在空间将形成什么图案?为摄取德拜图相,应当采用什么样的底片去记录?答:当单色X 射线照射圆柱柱多晶体试样时,衍射线将分布在一组以入射线为轴的圆锥而上。
在垂直于入射线的平底片所记录到的衍射花样将为一组同心圆。
此种底片仅可记录部分衍射圆锥,故通常用以试样为轴的圆筒窄条底片来记录。
2、原子散射因数的物理意义是什么?某元素的原子散射因数与其原子序数有何关系?答:(1)原子散射因数f是一个原子中所有电子相干散射波的合成振幅与单个电子相干散射波的振幅的比值。
它反映了原子将X 射线向某一个方向散射时的散射效率。
(2)原子散射因数与其原子序数有何关系,Z 越大,f 越大。
因此,重原子对X 射线散射的能力比轻原子要强。
3、洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响?其表达式是综合了哪几个方面考虑而得出的?答:洛伦兹因数是表示几何条件对衍射强度的影响。
洛伦兹因数综合了衍射积分强度,参加衍射的晶粒分数与单位弧长上的积分强度。
4、多重性因数的物理意义是什么?某立方第晶体,其{100}的多重性因数是多少?如该晶体转变为四方系,这个晶体的多重性因数会发生什么变化?为什么?答:(1)表示某晶面的等同晶面的数目。
多重性因数越大,该晶面参加衍射的几率越大,相应衍射强度将增加。
(2)其{100}的多重性因子是6;(3)如该晶体转变为四方晶系多重性因子是4;(4)这个晶面族的多重性因子会随对称性不同而改变。
6、多晶体衍射的积分强度表示什么?今有一张用CuKα摄得的钨(体心立方)的德拜相,试计算出头4 根线的相对积分强度(不计算A(θ)和e-2M,以最强线的强度为100)。
头4 根线的θ值如下:答:多晶体衍射的积分强度表示晶体结构与实验条件对衍射强度影响的总和 I = I0 λ3 32πR( e2 mc2 )2 V VC2 P|F|2φ(θ)A(θ)e2M即:查附录表F (p314),可知:20.20 Ir = P F 2 1+COS2θsin2θcos θ = 14.12;29.20 Ir = P F 2 1+COS2θ sin2 θcos θ =6.135 ;36.70 Ir = P F 2 1+COS2θ sin2θcos θ = 3.777 ; 43.60Ir = P F 2 1+COS2θ sin2 θcos θ = 2.911不考虑A(θ) )、 e2M 、 P 和|F|2 I1=100; I2=6.135/4.12=43.45;I3=3.777/14.12=26.75; I4=2.911/4.12=20.62头4 根线的相对积分强度分别为100、43.45、26.75、20.26。
第四章多晶体分析方法2、同一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来其θ较高还是较低?相应的d较大还是较小?既然多晶粉末的晶体取向是混乱的,为何有此必然的规律。
答:背射区线条与透射区线条比较,θ较高,相应的d较小。
产生衍射线必须符合布拉格方程,2dsinθ=λ,对于背射区属于2θ高角度区,根据d=λ/2sinθ, θ越大,d越小。
3、衍射仪测量在入射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同?答:(1)入射X射线的光束:都为单色的特征X射线,都有光栏调节光束。
不同:衍射仪法:采用一定发散度的入射线,且聚焦半径随2θ变化;德拜法:通过进光管限制入射线的发散度。
(2)试样形状:衍射仪法为平板状,德拜法为细圆柱状。
(3)试样吸收:衍射仪法吸收时间短,德拜法吸收时间长,约为10~20h。
(4)记录方式:衍射仪法采用计数率仪作图,德拜法采用环带形底片成相,而且它们的强度(I)对(2θ)的分布(I-2θ曲线)也不同;4、测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成30°角,则计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面呈何种几何关系?答:当试样表面与入射X射线束成30°角时,计数管与入射线所成角度为60°,能产生衍射的晶面与试样的自由表面平行。
第八章电子光学基础1、电子波有何特征?与可见光有何异同?答:(1)电子波与其它光一样,具有波粒二象性。
(2)可见光的波长在390—760nm,在常用加速电压下,电子波的波长比可见光小5个数量级。
2、分析电磁透镜对电子波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦能力的影响。
答:电磁透镜的聚焦原理:利用通电短线圈制造轴对称不均匀分布磁场,是进入磁场的平行电子束做圆锥螺旋近轴运动。
电磁透镜的`励磁安匝数越大,电子束偏转越大,焦距越短。
3、电磁透镜的像差是怎样产生的?如何来消除和减少像差?答:电磁透镜的像差包括球差、像散和色差。
(1)球差即球面像差,是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的,增大透镜的激磁电流可减小球差。
(2)像散是由于电磁透镜的轴向磁场不对称旋转引起。
可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿(3)色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的。
稳定加速电压和透镜电流可减小色差。
4、说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么?如何提高电磁透镜的分辨率?答:(1)光学显微镜分辨本领主要取决于照明源的波长;衍射效应和像差对电磁透镜的分辨率都有影响。
(2)使波长减小,可降低衍射效应。
考虑与衍射的综合作用,取用最佳的孔径半角。
5、电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响?说明电磁透镜的景深大、焦长长,是什么因素影响的结果?假设电磁透镜没有像差,也没有衍射埃利斑,即分辨率极高,此时它们的景深和焦长如何?答:(1)电磁透镜景深为Df=2Δr0/tanα,受透镜分辨率和孔径半角的影响。
分辨率低,景深越大;孔径半角越小,景深越大。
焦长为DL=2Δr0αM2/,M为透镜放大倍数。
焦长受分辨率、孔径半角、放大倍数的影响。
当放大倍数一定时,孔径半角越小焦长越长。
(2)透镜景深大,焦长长,则一定是孔径半角小,分辨率低。
(3)当分辨率极高时,景深和焦长都变小。
第九章透射电子显微镜1、透射电镜主要由几大系统构成?各系统之间关系如何?答:(1)由三大系统构成,分别为电子光学系统、电源与控制系统和真空系统。
(2)电子光学系统是透射电镜的核心,为电镜提供射线源,保证成像和完成观察记录任务。
供电系统主要用于提供电子枪加速电子用的小电流高压电源和透镜激磁用的大电流低压电源。
真空系统是为了保证光学系统时为真空,防止样品在观察时遭到污染,使观察像清晰准确。