中科院半导体器件物理 第六章

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V V qV exp( 1 ) I 0 exp( ) I IP VP VP kT
隧穿电流
热电流(扩散电流)
负微分电阻
9
dI 1 V IP V 1 ) [( 1) exp( 1 )] R( dV VP VP VP
室温时,典型的Ge, GaSb, GaAs 隧道二极管静态电流电压特性
15
动态特性:
注入延迟和渡越时间效应
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理想IMPATT二极管,载流子在x=0处注入,在漂移区 以饱和速度运动
低-高-低结构
交流电压
注入电荷 负阻特性
四个时间间隔的交流循环下, 场分布与产生的载流子浓度 17
外部电流
3。转移电子器件 TED
重要的微波器件
当n型GaAs半导体两端外加电压使内部电场超过3kV/cm 时, 产生微波振荡。 转移电子效应 高能谷的有效质 量大,迁移率小 在高电场下,传 导电子可以被从 高迁移率的能谷 转移到低迁移率、 较高能量的能谷
7
V=0
V=Vp
Vp<V<VV 峰值电压,此 时达到峰值 电流
V>VV
V<0
谷底电压,之 后,无能带交 叠,无隧穿电流
8
隧道二极管在不同偏压下的简化能带图与I-V关系的对照
峰值 电流 负微 分电 阻区
I P / IV
通常被用作 度量二极管 好坏的标准
典型隧道二极管的电流-电压特性 电流-电压关系
v
t TD Tt Td
转移电子器件中电子的平均漂 移速度与时间的关系 动态特性-加交变电压。
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在渡越时间模式下,阴极成核 TED时间行为的数值模拟。
猝灭畴模式 延迟畴模式
4。实空间转移器件RST
利用实空间转移二极管产生负阻效应。 不是体效应,要求异质结构中两种材料迁移率不同,实空间转移发 生在两材料的界面处。
迁移率低 高场,GaAs沟道 中的电子从电场 获得足够的能 量,克服导带带 阶,进入低迁移 率 材 料 AlGaAs, 高场电流降低。
迁移率高 低场,电子驻留 在Ec小的材料 中,其迁移率高
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RST二极管有偏压时的能带图
GaAs/AlGaAs异质结构RST二极管的电流电压特性 利用RST,要选择具有最佳带边不连续的异质结,材料 具有比较高的卫星能谷(或没有卫星能谷),以免转移电 子效应发生。
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1. 隧道器件
基于量子隧穿过程的器件
隧穿现象: 多数载流子效应 载流子穿过势垒的隧穿时间极短, 不受常规的渡越时间的支配
允许用于毫米波段
隧穿电流不单调地依赖于偏压, 有微分负阻现象 隧道二极管 共振隧穿二极管
6
隧道二极管
也叫江崎二极管
结构:由两侧都是简并态(高掺杂)pn结组成。
耗尽层的宽度只 有5~10nm或更小 可发生隧穿 隧道二极管热平衡能带图
低-高-低结构
VB (lo hi lo) Emb ( Em
qQ
S
)(WD b)
施主团单位 面积杂质数
14
雪崩区宽度 取对电离积分有95%贡献的那段距离作为雪崩宽度。
xA xA 2
a dx
0
or

a dx 0.95
xA 2
漂移区 不算雪崩区在内的耗尽区 最重要的参数是载流子漂移速度,为了获得一致可以预测 的载流子穿过漂移区的渡越时间,该区内电场要足够高, 保证载流子以饱和速度运动。
26
小结
1。隧道二极管,共振隧道二极管 2。碰撞电离雪崩渡越时间二极管 3。转移电子器件
产生负阻效应的主要原理
27
11
IMPATT二极管的静态特性:
雪崩 区域 宽度
里德二极管
12
单边突变二极管
P-i-n二极管
施主团
双漂移二极管
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高-低结构
低-高-低结构
击穿电压 单边和双边对称 突变pn结 里德二极管
VB Leabharlann BaiduEm WD / 2
qN1 b b (WD ) 2
VB Em WD
s
qN1b 1 qN1b )b ( Em )(WD b) 高-低结构 VB (hi lo) ( Em 2 S 2 2 S
I P / IV
10
8:1
12:1
28:1
2。碰撞电离雪崩渡越时间二极管 IMPATT
利用雪崩倍增和半导体器件的渡越时间特性来产生在微波频率 时的负电阻。 产生负阻的原因是存在延迟使得电流滞后于电压. 雪崩电流建 立而产生的 雪崩延迟 载流子穿过漂移 区所产生的渡越 时间延迟
当两种延迟加起来的时间为半周期时,在对应频率下二极管的动 态电阻是负的. IMPATT二极管由雪崩区和漂移区构成。
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负微分电阻
负微 分电 阻开 始的 临界 电场
负微分电阻 (NDR)区域
谷底 电场
双谷半导体的电流-电场特性。
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产生NDR的转移电子机制必须满足的要求: 1)晶格温度需足够低,两个能谷差E>kT 2)在较低的谷, 电子必须有高的迁移率,和小的有效质量。 在较高的谷,电子必须有低的迁移率和大的有效质量。 3)两谷的能量差必须小于半导体禁带宽度,保证在电子进入较 高谷底的转移之前,雪崩击穿不发生。 主要材料 ET n-GaAs 3.2kV/cm 2.2107 cm/s -2400 cm2/Vs n-InP 10.5kV/cm 2.5 107 cm/s -2000 cm2/Vs 外延技术 器件尺寸: 几毫米~几百毫米 n+衬底掺杂浓度: 1014~1016cm-3
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畴的长大: 随着畴的运动, 堆积的对偶电荷 越来越多,畴逐 渐长大。 畴内电场越来越高,畴外电场越来越 低,畴内电子加速,畴外电子减速, 直到平均运动速度相等,畴不再长大, 成为成熟畴或稳态畴。 畴的生长时间TD 到达阳极后被阳 极吸收而消失。
畴的渡越与消失: 成熟畴以一定的 速度向阳极渡越
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水、含水、含脂肪物质对微波具有吸收作用----微波加热。 微波的信息容量大。
广播电视, 通信系统,雷达系统,微波加热,微波生物学等应用。
4
微波固态信号发生器,利用微波半导体二极管或微波晶体管 产生微波振荡的信号发生器。
通常用的半导体二极管是具有负阻效应的 隧道二极管、 雪崩二极管、 体效应(耿氏)二极管 在其上加直流恒流源,并以一定的方式与微波谐振腔耦合,就 可以产生微波振荡。
υp
dυ/dE
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器件工作原理 :以两区肖特基势垒接触为例
器件结构
平衡能带图
杂质分布
电场分布
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电子在高场区被加热,然后注入到有均匀场的有源区。
畴渡越时间模式 畴的形成: 由于热扰动等原因,材料中局 部出现空间电荷,偏离电中 性,则该处电场比周围高。 或 或者阴极金属-半导体结反 偏,阻值大,该处的电场比其 他部分高。 局部区域出现高的电场 外加电压一定,畴内电场高, 则畴外电场降低,畴外电场一 般不可能超过阈值。 若外加电压增加,则该处的电场 首先超过阈值电场,进入负阻 区, 该处电子漂移速度减慢 。 两侧的电子仍以较快的速度向阳 极运动,则负阻区左侧电子积 累,右侧电子欠缺(相当于正空 间电荷)—负阻区的两侧形成了 具有正负电荷的偶极层---偶极 畴。 偶极畴上有与外加电场 方向相同的附加电 场,----高场畴。
第六章 负阻器件
1。隧道器件 2。碰撞电离雪崩渡越时间二极管 3。转移电子器件
2
微波
3
微波的波长与普通电路或元件的尺寸可比拟。
似光性,能像光线一样传播,且遵循波动基本规律 三种效应:渡越时间效应, 辐射效应, 趋肤效应 雨雪云雾对微波有不同程度的吸收和发射。 --预测天气 特点 可穿透电离层,卫星通讯成为现实。
到达阳极到完 全消失畴的消失时间 畴的渡越时间Tt Td 消失后,半导体内电场恢复到没有形成畴的原始状态,电子平均运 动速度也恢复到原始的快电子状态。若电压仍然高于阈值电压,则 再次形成偶极畴。
也是器件电流的波形,即 有连续的电流脉冲,形成 振荡。周期为 TD+Tt+Td~Tt,决定了 渡越时间频率ft
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