复旦半导体物理习题及答案1

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《半导体物理学》试题与及答案

《半导体物理学》试题与及答案

练习1-课后习题7
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
锑化铟的禁带宽度E g = 0.18 e V ,相对介电常数 εr = 17 ,电子的 有效质量mn∗ = 0.015 m0, m 0为电子的惯性质量,求 ⅰ)施主杂质的电离能, ⅱ)施主的弱束缚电子基态轨道半径。
解:
练习2
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
所以样品的电导率为: q(n0 n p0 p )
代入数据得,电导率为2.62 ×1013S/cm 所以,电场强度 E J 1.996103 mA / cm

作业-课后习题2
第四章 半导体的导电性
试计算本征Si 在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1450cm2/V·S 和500cm2/V·S。当掺入百万分之一的As 后,设杂质全部电离,试计算其电 导率。比本征Si 的电导率增大了多少倍?(ni=1.5×1010cm-3; Si原子浓度为 =5.0×1022cm-3,假定掺杂后电子迁移率为900cm2/V·S)
m0为电子惯性质量,k1=1/2a; a=0.314nm。试求: (1)禁带宽度; (2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量; (4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
练习2-课后习题2
第一章 半导体中的电子状态
2.晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m和107V/m 的电 场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
所以,300k时,
nT 300

(1.05 1019

5.7
1018 )
exp(
0.67 1.61019 21.381023 300)
1.961013cm3
77k时,

半导体物理习题答案(1-3章)

半导体物理习题答案(1-3章)

第1章 半导体中的电子状态1. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量()c E k 和价带极大值附近能量()v E k 分别为2222100()()3c h k k h k E k m m -=+,22221003()6v h k h k E k m m =-0m 为电子惯性质量,112k a =, 0.314a =nm 。

试求:1) 禁带宽度;2) 导带底电子有效质量; 3) 价带顶电子有效质量;4) 价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。

解:1) 禁带宽度g E ,根据22100()2()202c dE k h k k h k dk m m -=+=,可求出对应导带能量极小值min E 的k 值:m i n 134k k =, 由题目中()c E k 式可得:min 12min 3104()4c k k k h E E k k m ====; 根据20()60v dE k h k dk m =-=,可以看出,对应价带能量极大值max E 的k 值为:k max = 0;可得max 221max 00()6v k k h k E E k m ====,所以2221min max 2001248g h k h E E E m m a=-== 2) 导带底电子有效质量m n由于2222200022833c d E h h h dk m m m =+=,所以202238nc m h md E dk== 3) 价带顶电子有效质量vn m由于22206v d E h dk m =-,所以20226v nv m h m d E dk ==- 4) 准动量的改变量min max 133()48hh k h k k hk a∆=-==2. 晶格常数为0.25 nm 的一维晶格,当外加102V/m 、107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。

解:设电场强度为E ,电子受到的力f 为dkf hqE dt==(E 取绝对值),可得h dt dk qE =, 所以12012ta h h t dt dk qE qE a===⎰⎰,代入数据得: 34619106.62108.310()1.6102(2.510)t s E E----⨯⨯==⨯⨯⨯⨯⨯ 当E = 102V/m 时,88.310t s -=⨯;当E = 107V/m 时,138.310t s -=⨯。

半导体物理习题答案完整版

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半导体物理习题答案 HEN system office room 【HEN16H-HENS2AHENS8Q8-HENH1688】第一章半导体中的电子状态例1.证明:对于能带中的电子,K状态和-K状态的电子速度大小相等,方向相反。

即:v(k)= -v(-k),并解释为什么无外场时,晶体总电流等于零。

解:K状态电子的速度为:(1)同理,-K状态电子的速度则为:(2)从一维情况容易看出:(3)同理有:(4)(5)将式(3)(4)(5)代入式(2)后得:(6)利用(1)式即得:v(-k)= -v(k)因为电子占据某个状态的几率只同该状态的能量有关,即:E(k)=E(-k)故电子占有k状态和-k状态的几率相同,且v(k)=-v(-k)故这两个状态上的电子电流相互抵消,晶体中总电流为零。

例2.已知一维晶体的电子能带可写成:式中,a为晶格常数。

试求:(2)能带底部和顶部电子的有效质量。

解:(1)由E(k)关系(1)(2)令得:当时,代入(2)得:对应E(k)的极小值。

当时,代入(2)得:对应E(k)的极大值。

根据上述结果,求得和即可求得能带宽度。

故:能带宽度(3)能带底部和顶部电子的有效质量:习题与思考题:1 什么叫本征激发温度越高,本征激发的载流子越多,为什么试定性说明之。

2 试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。

3 试指出空穴的主要特征。

4 简述Ge、Si和GaAs的能带结构的主要特征。

5 某一维晶体的电子能带为其中E0=3eV,晶格常数a=5×10-11m。

求:(2)能带底和能带顶的有效质量。

6原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同7晶体体积的大小对能级和能带有什么影响?8描述半导体中电子运动为什么要引入“有效质量”的概念?用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性?9 一般来说,对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此为什么10有效质量对能带的宽度有什么影响?有人说:“有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄。

半导体物理习题及答案

半导体物理习题及答案

复习思考题与自测题第一章1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同,原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。

答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。

当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子那么参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。

组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。

2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念,用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。

答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。

惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比较宽。

4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1〔k〕随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。

5.简述有效质量与能带构造的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。

半导体物理习题及答案

半导体物理习题及答案

半导体物理习题及答案(总12页)--本页仅作为文档封面,使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--复习思考题与自测题第一章1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同, 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。

答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。

当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子则参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。

组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。

2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念, 用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。

答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。

惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比较宽。

4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1(k)随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。

复旦半导体物理习题及答案1

复旦半导体物理习题及答案1
8 c = ≈ 1.633 a 3
c 2
a
第一次作业
3、在面心立方中,晶面指数 ( h1 h2 h3 ) 与密勒指数 ( h k l )存在如下关系: h1 : h2 : h3 = ( k + l ) : (l + h) : ( h + k ) ,试证之。体心立方的晶面指数 ( h1 h2 h3 ) 与密勒指数 ( h k l ) 又存在何规律? 证明:设一晶面与固物原胞(a1 a2 a3)三坐标轴的截距为r1,r2,r3,而该晶面与结晶学原胞 (a b c)三坐标轴的截距为l1,l2
1 a1 = ( b + c ) 2 1 a2 = ( c + a ) 2 1 a3 = ( a + b ) 2
c
a1
b
a2 a3
1 1 1 a1 ⋅ n a 2 ⋅ n a3 ⋅ n ∴ h1 : h2 : h3 = : : = : : r1 r2 r3 d d d 1 1 1 a ⋅n b ⋅n c ⋅n h:k :l = : : = : : l1 l2 l3 d d d
其中 E0 = −13.6eV
ε 0 h2 ii)波尔半径: a0 = = 0.53 A π me2 ε r m0 r a0 = 5.9 ×10−8 m 电子基态轨道半径: n 0 = * mn
ε 4、磷化镓的禁带宽度Eg=2.26eV,相对介电常数 r = 11.1,空穴有效质量 m0为电子的惯性质量,求 i )受主杂质电离能;ii )受主所束缚的空穴的基态轨道半径。
为体心立方点阵 所以体心立方点阵与面心立方点阵互为正倒点阵
第一次作业
5、试证 倒格矢 K h = h1b1 + h2b 2 + h3b3垂直于晶面指数为 ( h1 h2 h3 ) 的晶面系; 晶面指

半导体物理课后习题答案(精)

半导体物理课后习题答案(精)

半导体物理课后习题答案(精)第一章习题1.设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量EV(k)分别为:h2k2h2(k-k1)2h2k213h2k2Ec= +,EV(k)=-3m0m06m0m0m0为电子惯性质量,k1=(1)禁带宽度;(2)导带底电子有效质量;(3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)导带:2 2k22(k-k1)由+=03m0m03k14d2Ec2 22 28 22=+=>03m0m03m0dk得:k=所以:在k=价带:dEV6 2k=-=0得k=0dkm0d2EV6 2又因为=-<0,所以k=0处,EV取极大值2m0dk2k123=0.64eV 因此:Eg=EC(k1)-EV(0)=412m02=2dECdk23m0 8πa,a=0.314nm。

试求: 3k处,Ec取极小值4 (2)m*nC=3k=k14 (3)m*nV 2=2dEVdk2=-k=01m06(4)准动量的定义:p= k所以:∆p=( k)3k=k14 3-( k)k=0= k1-0=7.95⨯10-25N/s42. 晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107 V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。

解:根据:f=qE=h(0-∆t1=-1.6⨯10∆k ∆k 得∆t= ∆t-qEπa)⨯10)=8.27⨯10-13s2-19=8.27⨯10-8s (0-∆t2=π-1.6⨯10-19⨯107第三章习题和答案100π 21. 计算能量在E=Ec到E=EC+ 之间单位体积中的量子态数。

*22mLn31*2V(2mng(E)=(E-EC)2解 232πdZ=g(E)dEdZ 单位体积内的量子态数Z0=V22100π 100h Ec+Ec+32mnl8mnl1*2(2mn1VZ0=g(E)dE=⎰(E-EC)2dE23⎰VEC2π EC 23100h*2 =V(2mn2(E-E)Ec+8m*L2 Cn32π2 3Ecπ =10003L32. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。

半导体物理部分考试习题答案

半导体物理部分考试习题答案

第一章 半导体中的电子状态1. 设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k )和价带极大值附近能量E v (k )分别为:E c (k)=0223m k h +022)1(m k k h −和E v (k)= 0226m k h -0223m k h ; m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =0.314nm 。

试求: ①禁带宽度; ②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量; ④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。

[解] ①禁带宽度Eg 根据dk k dEc )(=0232m k h +012)(2m k k h −=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值: k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m h ;由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =02126m k h ;∴Eg=E min -E max =021212m k h =20248a m h =112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(−−−−×××××××=0.64eV②导带底电子有效质量m n 0202022382322m h m h m h dkE d C =+=;∴ m n=022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’ 02226m h dk E d V −=,∴0222'61/m dk E d h m Vn−== ④准动量的改变量 h △k=h (k min -k max )= a h k h 83431=3. 如果n 型半导体导带峰值在[110]轴上及相应对称方向上,回旋共振实验结果应如何?[解] 根据立方对称性,应有下列12个方向上的旋转椭球面:[][][]110,101,011,110,⎡⎤⎣⎦ 101,011;⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦ [110],101,011,110,⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦ 101,011;⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦ 则由解析几何定理得, B 与3k 的夹角余弦cos θ为:cos θ= 式中, 123B b i b j b k =++. 对不同方向的旋转椭球面取不同的一组123(,,)k k k .(1) 若B 沿[111]方向,则cos θ可以取两组数. 对[][]110,110,101,101,⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦[]011,011⎡⎤⎣⎦方向的旋转椭球得: cos θ=对110,110,101,101,011,011⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向的旋转椭球得:cos θ∴当cos θ=时: 22cos 3θ= 21sin 3θ= n t m m =∵ *n t m m ∴= 当cos 0θ=时; 2cos 0θ= 2sin 1θ= 同理得: *n m = 由*c n qB m ω=可知,当B 沿(111)方向时应有两个共振吸收峰. (2) 若B 沿(110)方向,则cos θ可以取三组数. 对[]110,110⎡⎤⎣⎦ 方向旋转椭球, cos 1θ= 对110,110⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦ 方向旋转椭球, cos 0θ= 对[][]011,011,011,011,101,101,101,101⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向的旋转椭球, 1cos 2θ=当cos 1θ=时: 2cos 1θ= 2sin0θ= 得: *n m 当cos 0θ=时:2cos 0θ= 2sin1θ= 得: *n m = 当1cos 2θ=时: 21cos 4θ= 23sin 4θ= 得: *n m 故,应有三个吸收峰. (3)若B 沿[100]方向,则cos θ可以取两组数.对[][]110,110,110,110,101,101,101,101⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向上的旋转椭球得: cos θ= 对[]011,011,011,011⎡⎤⎡⎤⎡⎤⎣⎦⎣⎦⎣⎦方向上的旋转椭球得:cos 0θ= 当cos θ=时, 21cos 2θ= 21sin 2θ= 得: *n t m m = 当cos 0θ=时: 2cos 0θ= 2sin 1θ= 得*n m = .(4) B 沿空间任意方向时, cos θ最多可有六个不同值,故可以求六个*nm ,所对应的六个共振吸收峰.第二章 半导体中的杂志和缺陷能级7. 锑化铟的禁带宽度0.18V g E e =,相对介电常数17r ε=,电子的有效质量00.015n m m ∗=,0m 为电子的惯性质量,求ⅰ)施主杂质的电离能,ⅱ)施主的若束缚电子基态轨道半径。

半导体物理参考习题和解答

半导体物理参考习题和解答

半导体物理参考习题和解答第一章1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同, 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。

答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。

当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子则参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。

组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。

2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念, 用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。

答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。

惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比较宽。

4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1(k 随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。

5.简述有效质量与能带结构的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。

半导体物理习题及解答

半导体物理习题及解答

第一篇习题 半导体中的电子状态1-1、 什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说明之。

1-2、 试定性说明Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数的原因。

1-3、 试指出空穴的主要特征。

1-4、简述Ge 、Si 和GaAS 的能带结构的主要特征。

1-5、某一维晶体的电子能带为[])sin(3.0)cos(1.01)(0ka ka E k E --=其中E 0=3eV ,晶格常数a=5х10-11m 。

求:(1) 能带宽度;(2) 能带底和能带顶的有效质量。

第一篇题解 半导体中的电子状态 刘诺 编1-1、 解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(≥E g )被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。

其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。

如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有更多的电子被激发到导带中。

1-2、 解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。

温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。

反之,温度降低,将导致禁带变宽。

因此,Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数。

1-3、解:空穴是未被电子占据的空量子态,被用来描述半满带中的大量电子的集体运动状态,是准粒子。

主要特征如下:A、荷正电:+q;B、空穴浓度表示为p(电子浓度表示为n);C、E P=-E nD、m P*=-m n*。

1-4、解:(1)Ge、Si:a)Eg (Si:0K) = 1.21eV;Eg (Ge:0K) = 1.170eV;b)间接能隙结构c)禁带宽度E g随温度增加而减小;(2)GaAs:a)E g(300K)第二篇习题-半导体中的杂质和缺陷能级刘诺编2-1、什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?2-2、什么叫施主?什么叫施主电离?施主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出n型半导体。

2-3、什么叫受主?什么叫受主电离?受主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出p型半导体。

半导体物理习题及答案

半导体物理习题及答案

复习思考题与自测题第一章1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同, 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。

答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。

当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子则参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。

组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。

2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念, 用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。

答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。

惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比较宽。

4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1(k)随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。

5.简述有效质量与能带结构的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体物理综合练习题(3)参考答案1

半导体物理综合练习题(3)参考答案1

1、晶格常数Å的一维晶格,当外加102V/m和107V/m电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需时间。

〔1Å=10nm=10-10m〕2、指出下列图中各表示的是什么半导体?3、如下图,解释一下n0~T关系曲线。

4、假设费米能E F=5eV,利用费米分布函数计算在什么温度下电子占据能级的概率为1%。

并计算在该温度下电子分布概率所对应的能量区间。

5、两块n型硅材料,在某一温度T时,第一块与第二块的电子密度之比为n1/n2=e〔e是自然对数的底〕〔1〕如果第一块材料的费米能级在导带底之下3k0T,试求出第二块材料中费米能级的位置;〔2〕求出两块材料中空穴密度之比p1/p2。

6、硼的密度分别为N A1和N A2(N A1>N A2)的两个硅样品,在室温条件下:〔1〕哪个样品的少子密度低?〔2〕哪个样品的E F离价带顶近?〔3〕如果再掺入少量的磷(磷的密度N`D< N A2),它们的E F如何变化?7、现有三块半导体硅材料,在室温下(300K)它们的空穴浓度分别为p01=2.25×1016cm-3、p02=1.5×1010cm-3、p03=2.25×104cm-3。

〔1〕分别计算这三块材料的电子浓度n01、n02、 n03;〔2〕判别这三块材料的导电类型;〔3〕分别计算这三块材料的费米能级的位置。

8、室温下,本征锗的电阻率为47Ω·cm,试求本征载流子浓度。

假设掺入锑杂质,使每106个锗原子中有一个杂质原子,计算室温下电子浓度和空穴浓度。

设杂质全部电离。

锗原子的浓度为4.4×1022/cm3,试求该掺杂锗材料的电阻率。

设µn=3600cm2/(V·s),µp=1700cm2/(V·s)且认为不随掺杂而变化。

n i=2.5×1013cm-3。

9、在半导体锗材料中掺入施主杂质浓度N D=1014cm-3,受主杂质浓度N A=7×1013cm-3,设室温本下本征锗材料的电阻率为ρi=60Ω·cm,假设电子和空穴的迁移率分别为µn=3800cm2/(V·s),µp=1800cm2/(V·s),假设流过样品的电流密度为2,求所施加的电场强度。

半导体物理学作业及参考答案1

半导体物理学作业及参考答案1

为: ND 4.5 /1.2 1022 106 3.751016 /cm3
已知杂质全部电离,且明显有 ND ni ,可判断为饱和电离区,即:
n0

ND
3.751016 /cm3 ,
p0

ni2 n0

n0 ,即少子空穴导电可以忽略
根据题设,认为迁移率不随杂质浓度变化,即仍有 n 3560 cm2/V s
3.75 10 5 10.8

6.02 1023
/
343.3

0.611016
/
cm3
已知杂质全部电离,且明显有 N A ni ,可判断为饱和电离区,即:
p0

NA

0.611016 /cm3 , n0

ni2 p0

p0 ,即少子电子导电可以忽略
根据题设,认为迁移率不随杂质浓度变化,即仍有 p 580 cm2/V s ,
n0

ND
5.31016 /cm3 ,
p0

ni2 n0
n0 ,即少子空穴导电可以忽略
根据题设,认为迁移率不随杂质浓度变化,即仍有 n 1470 cm2/V s
(实际上,即使题设中没有该假设,也可以做如下判断:
由于 Ni ND 5.31016 /cm3 1017 / cm3 ,因此可近似认为迁移率不随 杂质浓度变化)
2. 已知室温下本征锗的电阻率为 50 cm ,假设电子和空穴的迁移率分别为 n 3560 cm2/(V s) , p 1556 cm2/(V s) , 且 可 认 为 不 随 掺 杂 浓 度 而 变 化。计算: 1)本征载流子浓度 ni。 2)若掺入杂质锑,使每1.2106 个锗原子中含有一个杂质原子,假设杂质全 部电离,且迁移率不随杂质浓度变化,求该掺杂锗材料的电阻率。已知 锗的原子密度为 4.51022 / cm3 。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

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A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t?后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体物理课后习题答案(1-12章)

半导体物理课后习题答案(1-12章)
h2 k12 h 2 k12 h2 并且 Emin=EV(k)|k=kmax= ;∴Eg=Emin-Emax= = 48m0 a 2 12m0 6 m0

(6.62 × 10 − 27 ) 2 =0.64eV 48 × 9.1 × 10 − 28 × (3.14 × 10 − 8 ) 2 × 1.6 × 10 − 11
② 77k 时,由(3-46)式得到: Ec - ED = 0.01eV ; T = 77k ; k0 = 1.38×10-23J/K; n0 = 1017 cm − 3 ; Nc = 1.365×1019cm-3; Po 可忽略不计,由于 n 0 = n D ,即
° m0 q 4 ε 0 h2 = 13.6 e V a = = 0.53A , 0 8ε r2 h2 m0 e2π
∗ 当 ε r = 11.1 , m p = 0.86m0 时
m∗p E0 13.6 ∆ EA = � 2 � 0.86 m0 ε r 11.12 r1, p = ε r (
9.49 10− 2 eV
( 2mdn ) 4π V
h3
32
(E−
Ec ) 2
1

E1
E2
dZ = 4π
32
( 2mdn )
h3
32
骣 h2 Ec + 100 琪 ∗ 2 琪8 m L 桫 n Ec 3 2
(E−
Ec ) 2 dE
1
( 2mdn )
h3
2 骣 h2 创 琪100 ∗ 2 3 桫 8mn L
故: Z=1000π 3L3 7. ① 在室温下,锗的有效状态密度 Nc=1.05×1019cm-3,Nv=5.7×1018cm-3, 试求锗的载流子有效质量 mn*和 mp*。计算 77k 时的 Nc 和 Nv。已知 300k 时,Eg=

半导体物理第一章习题答案

半导体物理第一章习题答案

第1章半导体中的电子状态补充题1、室温下自由电子的热速度大约是105m/s ,试求其德布洛意波长。

解:该自由电子的动量为3152609.1110109.1110kg.m/s P m v --==⨯⨯=⨯按德布洛意关系,可知其德布洛意波长349261 6.625107.2710m 7.27nm 9.1110h k P λ---⨯====⨯=⨯ 补充题2、参照元素周期表的格式列出可直接构成或作为化合物组元构成半导体的各主要元素,并按共价键由强到弱的顺序写出两种元素半导体和八种化合物半导体,并熟记例如:金刚石、硅、碳化硅、GaAs 、GaN 、ZnS 、CdS 、Cu 2O1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E C (k )和价带极大值附近能量E V (k )分别为22222222110000()3()()36c v h k k h k h k h k E k E k m m m m -=+=-和 , m 0为电子惯性质量,k 1 =(2a)-1,a = 0.314 nm 。

试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。

解:⑴求禁带宽度即求导带极小值与价带极大值之差。

由0)(23201202=-+=m k k h m k h dk dE C 知导带在ak k C 83431==处有其唯一的极小值22222min 200013()328()()3816c h h h a a E m am m a -=+= 同理,由0602=-=m kh dk dE V 知价带在k V =0处有其唯一的极大值2022102max 246)(am h k m h E V == 于是知禁带宽度202202202max min 482416)()(am h a m h a m h E E E V C g =-=-= 代入数据h =6.625⨯10-34J ⋅s ,m 0=9.1⨯10-31kg ,a =0.314nm=3.14⨯10-10m ,并利用单位换算1J =0.625⨯1018eV ,最后得eV 64.0=g E⑵按电子有效质量的定义,欲求导带底电子的有效质量须首先求出导带极小值附近E (k )函数二阶导数的值。

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为面心立方点阵
第一次作业
对于面心立方:
0 1 1 a 3 a3 Ω=( ) 1 0 1 = 2 4 1 1 0
a ×a 2π b1 = 2π 2 3 = ( −i + j + k ) Ω a a × a 2π 面心立方倒点阵为: b 2 = 2π 3 1 = (i − j + k ) Ω a a ×a 2π b3 = 2π 1 2 = (i + j − k ) Ω a
由极值条件:
dE =0 dk k12 h 2 3 求得:当 k = k1 时, Ec ( k ) min = 4m0 4
当 k = 0 时, Ev (k ) max
2 1
直接能隙 E
导带底
间接能隙 E 声子
导带 价带
ℏω = E g
价带顶
k12 h 2 = 6m 6m0
2
Ω ω
g
0
k
k
0
k
∴ Eg = Ec (k ) min − Ev (k ) max =
m* = 0.86m0 , p
m* E0 p 解:i)受主杂质电离能: ∆E A = = = 0.095eV 2 8ε 0 ε r2 h 2 m0 ε r2
其中 E0 = −13.6eV
m* q 4 p
ε 0 h2 ii)波尔半径: a0 = = 0.53 A π me2 εm 空穴基态轨道半径: p 0 = r * 0 a0 = 6.8 ×10−10 m r mp
* 3、锑化铟的禁带宽度Eg=0.18eV,相对介电常数 ε r = 17,电子的有效质量 mn = 0.015m0 , m0为电子的惯性质量,求 i )施主杂质电离能;ii )施主的弱束缚电子基态轨道半径。
* * mn q 4 mn E0 解:i)施主杂质电离能:∆ED = = = 7.06 ×10−4 eV 2 8ε 0 ε r2 h 2 m0 ε r2
a ×a b1 = 2π 2 3 Ω a3 × a1 b 2 = 2π Ω a ×a b 3 = 2π 1 2 Ω
第一次作业
−1 1 1 a 3 a3 对于体心立方: Ω = ( ) 1 −1 1 = 2 2 1 1 −1
a ×a 2π b1 = 2π 2 3 = (j+k) Ω a a × a 2π 体心立方倒点阵为: b 2 = 2π 3 1 = (k + i ) Ω a a ×a 2π b3 = 2π 1 2 = ( i + j) Ω a
* 0
2、晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107V/m的电场时,试分别计算电子自 能带底运动到能带顶所需要的时间。 解:准动量定理:
dk = qE dt h dt = dk qE t h 21a h t = ∫ dt = ∫0 dk = 2aqE 0 qE F =h
当E=102V/m,t=8.3×10-8s 当E=107V/m,t=8.3×10-13s
k h = 1.018 × 10−19 J = 0.64eV 12m0
ℏ2 2)电子有效质量: = m d 2E 2 dk
*
3m ℏ2 导带底电子有效质量:m = = 0 = 3.42 ×10−31 kg 8 d 2 Ec (k ) dk 2 k = 3 k
2π 。 K h1h2 h3
a3 a3/h3 a2/h2 a1/h1 A
δ ij =
1 0
C Kh B a1
i= j i≠ j
a2
K h ⋅ CA = (h1b1 + h2b2 + h3b3 ) ⋅ (a1 / h1 − a3 / h3 O )
= h1b1 ⋅ a1 / h1 − h3b3 ⋅ a3 / h3 = 0
第一次作业
4、试证体心立方点阵与面心立方点阵互为正倒点阵。 证明:体心立方点阵: 面心立方点阵: a a a1 = ( −i + j + k ) a1 = ( j + k ) 2 2 a a a 2 = ( k + i ) a 2 = ( i − j + k ) 2 2 a a a3 = ( i + j) a3 = ( i + j − k ) 2 2 倒点阵:
其中 E0 = −13.6eV
ε 0 h2 ii)波尔半径: a0 = = 0.53 A π me2 ε r m0 r a0 = 5.9 ×10−8 m 电子基态轨道半径: n 0 = * mn
ε 4、磷化镓的禁带宽度Eg=2.26eV,相对介电常数 r = 11.1,空穴有效质量 m0为电子的惯性质量,求 i )受主杂质电离能;ii )受主所束缚的空穴的基态轨道半径。
h 2 k 2 h 2 ( k − k1 ) 2 h 2 k 2 3h 2 k 2 Ec (k ) = + 和Ev (k ) = − 3m0 m0 6m0 m0
m0为电子惯性质量,k1=1/2a,a=0.314nm。试求: 1)禁带宽度; 2)导带底电子有效质量; 3)价带顶电子有效质量; 4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
8 c = ≈ 1.633 a 3
c 2
a
第一次作业
3、在面心立方中,晶面指数 ( h1 h2 h3 ) 与密勒指数 ( h k l )存在如下关系: h1 : h2 : h3 = ( k + l ) : (l + h) : ( h + k ) ,试证之。体心立方的晶面指数 ( h1 h2 h3 ) 与密勒指数 ( h k l ) 又存在何规律? 证明:设一晶面与固物原胞(a1 a2 a3)三坐标轴的截距为r1,r2,r3,而该晶面与结晶学原胞 (a b c)三坐标轴的截距为l1,l2,l3,由定义:
a
∴ h1 : h2 : h3 = [( b + c ) ⋅ n]:[( c + a ) ⋅ n] :[( a + b ) ⋅ n] = (k + l ) : (l + h) : (h + k )
第一次作业
对于体心立方:
c a1 a2 b a a3
1 a1 = ( −a + b + c ) 2 1 a2 = ( a − b + c ) 2 1 a3 = ( a + b − c ) 2
4 2 3 4⋅ π ( a) 2 3 4 (3)面心立方: n = = π 3 a 6
4 3 8 ⋅ π ( a )3 3 (4)金刚石结构:n = 3 38 = π a 16
第一次作业
2、试证六角密堆结构中
c 8 = ≈ 1.633 a 3
证明:在如图所示的正四面体中,
a
c 2
c 2 = a 2 3
r1a1 ⋅ n = d r2a 2 ⋅ n = d r a ⋅ n = d 3 3
∴ h1 : h2 : h3 = 1 1 : r1 r2 1 1 h:k :l = : l1 l2 : 1 r3 1 : l3
l1a ⋅ n = d l2b ⋅ n = d l c ⋅ n = d 3 a ⋅n a ⋅n a ⋅n = 1 : 2 : 3 d d d a ⋅n b ⋅n c⋅n = : : d d d
∴ h1 : h2 : h3 =
∴ h1 : h2 : h3 = [( −a + b + c ) ⋅ n] :[( a − b + c ) ⋅ n] :[( a + b − c ) ⋅ n] = ( −h + k + l ) : (h − k + l ) : (h + k − l )
1 1 1 a1 ⋅ n a 2 ⋅ n a3 ⋅ n : : = : : r1 r2 r3 d d d 1 1 1 a ⋅n b ⋅n c ⋅n h:k :l = : : = : : l1 l2 l3 d d d
ai•bj=2πδij
第一次作业
同理, Kh • CB = 0
∴ K h ⊥ ( ABC )
a1 K h a1 (h1 b1 + h 2 b2 + h 3 b3 ) 2π d= ⋅ = ⋅ = h1 K h h1 h1 b1 + h 2 b2 + h 3 b3 Kh
第二次作业
1、设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量Ec(k)和价带极大值附近能量Ev(k)分 别为:
为体心立方点阵 所以体心立方点阵与面心立方点阵互为正倒点阵
第一次作业
5、试证 倒格矢 K h = h1b1 + h2b 2 + h3b3垂直于晶面指数为 ( h1 h2 h3 ) 的晶面系; 晶面指
数为 ( h1 h2 h3 ) (其中h1 h2 h3互质)的晶面系面间距 d h1h2 h3 = 证明: 晶面族(h1 h2 h3)中最靠近原点的晶面ABC在基矢 a1,a2,a3 上的截距为a1/h1, a2/h2, a3/h3. CA = OA – OC = a1/h1 - a3/h3 CB = OB – OC = a2/h2 - a3/h3 要证明倒格矢Kh垂直于(ABC)面,必须证明Kh 垂直于CA,Kh垂直于CB
第一次作业
1、在格点上排列大小相同的钢球,当钢球紧密堆积时,求简单立方、体心立方、面心立 方、金刚石结构的原胞中钢球体积和原胞体积之比(填充率)。 解:设填充率为n,原胞边长为a,则: 4 a π ( )3 π 2 (1)简单立方: n = 3 = a3 6
4 3 2 ⋅ π ( a )3 3 (2)体心立方: n = 3 3 4 = π a 8
第一次作业
对于面心立方:
1 a1 = ( b + c ) 2 1 a2 = ( c + a ) 2 1 a3 = ( a + b ) 2
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