紫外臭氧清洗机

紫外臭氧清洗的优势
扫描探测显微镜的样品应用，该设备能用于清洗原子力显微
MYCRO PSD系列紫外臭氧清洗机常用于
镜探针，扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无 机材料，也能用来改变物体表面的疏水性，有助于部件和表面的 化学改性，经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持 探针的几何形状，削尖的探针有利于提高侧向分辨率。 臭氧清洗机设备已经用于纳米技术，化学，生物学，光学， 电子学，半导体和其他全球范围内的科学实验室。

Baidu Nhomakorabea紫外光表面改质原理表达式：
E：为紫外线光子能量
紫外臭氧清洗工艺


用于纳米技术，化学，生物学，光学，电子学， 半导体和实验室。 样品材料:硅 氧化硅 金属 砷化镓 氮化硅 云母 陶瓷 聚合物（有机玻璃） 硼硅玻璃 石英 蓝宝 石 其他材料
紫外臭氧清洗工艺

典型应用包括： · 表面的原子级清洗 · 聚合物粘接 · 去除有机分子 · 释放捕获的无机分子 · 微流控制作 · 微米/纳米构型 · 紫外光固化 · 表面化学改性 · 表面杀菌 · 表面氧化 · 金属粘结准备……
紫外清洗发展历史

随后，日本在发展紫外光表面清洗技术的同时，紫外 光表面改质技术也得到了发展。在二十世纪末，日本 等先进工业国家紫外光表面清洗和改质技术由信息产 业逐步扩展到金属、塑料、橡胶等工业生产过程。二 十世纪九十年代后期，我国的信息技术和产业以惊人 的速度飞速发展，特别是平板显示技术的高速发展， LCD显示屏由TN级向STN和TFT不断提升，新型的 OLED显示产品也开始进入市场。由此，对制备工艺 过程表面质量要求越来越严格，紫外光表面清洗技术 的优越性已经得到广泛认可，UV光清洗机的需求量正 在不断增长。
紫外臭氧清洗效果图
紫外臭氧清洗原理

原理：通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有 机分子（污染物）。185nm波长紫外光的光能量能将 空气中的氧气（O2）分解成臭氧（O3），而254nm 波长的紫外光的光能量能将O3分解成O2和活性氧 （O）。在连续进行的光敏氧化反应中，生成的活性 氧原子与活化了的有机物（即碳氢化合物）分子发生 氧化反应，生成挥发性气体（如CO2，CO，H2O， NO等）逸出物体表面，从而彻底清除粘附在物体表面 上的有机污染物，达到清洗的目的。

紫外光表面清洗原理表达式：

紫外光表面改质
低压紫外汞灯发射的185nm和254nm波长的紫外光除有清洗去除物 体表面的有机污染物的功能外，而且还能够进行表面改质。其基本原理 为：光子能量把物体的表层分子键打开的同时拉出H原子和C原子，与 空气中的氧气分解出来的活性氧（O）生成极性很强的原子团（OH， CHO，COOH）即羟基等活性基，同时材料表面有机污染物的清洗效果 显著，活化的基体表面具有良好的粘合力和键合特性，这些羟基和涂料、 粘合剂、电镀材料相结合，形成新的化学键，从而使材料表面得到通常 情况下得不到的很强的粘结强度，或者使材料得到稳定的表面性能。
紫外臭氧清洗机
目录
1.紫外清洗发展历史 2.紫外臭氧清洗的优势 3.紫外臭氧清洗原理 4.紫外臭氧清洗工艺
紫外清洗发展历史

紫外光表面清洗技术在国际上是随着光电子信 息产业的发展而提出来的。七十年代中期美国 军事电子技术和器件实验室应用紫外光照射清 洗石英晶片取得满意的效果。九十年代初，日 本和美国先后将UV光清洗机应用于民用光电 子产品的工业生产过程，并开始向我国个别外 资LCD企业在要求技术保密的情况下提供UV 光清洗机。