电子衍射分析及晶体生长方向判定电子衍射基础
(整理)选区电子衍射与晶体取向分析
实验四选区电子衍射与晶体取向分析一、实验目的与任务1)通过选区电子衍射的实际操作演示,加深对选区电子衍射原理的了解。
2)选择合适的薄晶体样品,利用双倾台进行样品取向的调整,利用电子衍射花样测定晶体取向的基本方法。
二、选区电子衍射的原理和操作1.选区电子衍射的原理使学生掌握简单地说,选区电子衍射借助设置在物镜像平面的选区光栏,可以对产生衍射的样品区域进行选择,并对选区范围的大小加以限制,从而实现形貌观察和电子衍射的微观对应。
选区电子衍射的基本原理见图10—16。
选区光栏用于挡住光栏孔以外的电子束,只允许光栏孔以内视场所对应的样品微区的成像电子束通过,使得在荧光屏上观察到的电子衍射花样仅来自于选区范围内晶体的贡献。
实际上,选区形貌观察和电子衍射花样不能完全对应,也就是说选区衍射存在一定误差,选区域以外样品晶体对衍射花样也有贡献。
选区范围不宜太小,否则将带来太大的误差。
对于100kV的透射电镜,最小的选区衍射范围约0.5m;加速电压为1000kV时,最小的选区范围可达0.1m。
2.选区电子衍射的操作1) 在成像的操作方式下,使物镜精确聚焦,获得清晰的形貌像。
2) 插入并选用尺寸合适的选区光栏围住被选择的视场。
3) 减小中间镜电流,使其物平面与物镜背焦面重合,转入衍射操作方式。
对于近代的电镜,此步操作可按“衍射”按钮自动完成。
4) 移出物镜光栏,在荧光屏上显示电子衍射花样可供观察。
5) 需要拍照记录时,可适当减小第二聚光镜电流,获得更趋近平行的电子束,使衍射斑点尺寸变小。
三、选区电子衍射的应用单晶电子衍射花样可以直观地反映晶体二维倒易平面上阵点的排列,而且选区衍射和形貌观察在微区上具有对应性,因此选区电子衍射一般有以下几个方面的应用:1) 根据电子衍射花样斑点分布的几何特征,可以确定衍射物质的晶体结构;再利用电子衍射基本公式Rd=L,可以进行物相鉴定。
2) 确定晶体相对于入射束的取向。
3) 在某些情况下,利用两相的电子衍射花样可以直接确定两相的取向关系。
实验四选区电子衍射及晶体取向分析
实验四选区电子衍射与晶体取向分析一、实验内容及实验目的1.通过选区电子衍射的实际操作演示,加深对选区电子衍射原理的了解。
2.选择合适的薄晶体样品,利用双倾台进行样品取向的调整,使学生掌握利用电子衍射花样测定晶体取向的基本方法。
二、选区电子衍射的原理和操作1.选区电子衍射的原理简单地说,选区电子衍射借助设置在物镜像平面的选区光栏,可以对产生衍射的样品区域进行选择,并对选区范围的大小加以限制,从而实现形貌观察和电子衍射的微观对应。
选区电子衍射的基本原理见图4-1。
选区光栏用于挡住光栏孔以外的电子束,只允许光栏孔以内视场所对应的样品微区的成像电子束通过。
使得在荧光屏上观察到的电子衍射花样,它仅来自于选区范围内晶体的贡献。
实际上,选区形貌观察和电子衍射花样不能完全对应,也就是说选区衍射存在一定误差,所选区域以外样品晶体对衍射花样也有贡献。
选区范围不宜太小,否则将带来太大的误差。
对于100kV的透射电镜,最小的选区衍射范围约0.5μm;加速电压为1000kV时,最小的选区范围可达0.1μm。
图-1 选区电子衍射原理示意图1-物镜2-背焦面3-选区光栏4-中间镜5-中间镜像平面6-物镜像平面2.选区衍射电子的操作为了确保得到的衍射花样来自所选的区域,应当遵循如下操作步骤:(1) 在成像的操作方式下,使物镜精确聚焦,获得清晰的形貌像。
(2) 插人并选用尺寸合适的选区光栏围住被选择的视场。
(3) 减小中间镜电流,使其物平面与物镜背焦面重合,转入衍射操作方式。
近代的电镜此步操作可按“衍射”按钮自动完成。
(4) 移出物镜光栏,在荧光屏显示电子衍射花样可供观察。
(5) 需要拍照记录时,可适当减小第二聚光镜电流,获得更趋近平行的电子束,使衍射斑点尺寸变小。
三、选区电子衍射的应用单晶电子衍射花样可以直观地反映晶体二维倒易平面上阵点的排列,而且选区衍射和形貌观察在微区上具有对应性,因此选区电子衍射一般有以下几个方面的应用。
第112章电子衍射图的标定
-111γ 000
1 1 1 1 11
0 2 20 2 2 0 -2 2
复合斑点
[011]γ
[001- ]α
022γ
011 // 001
-111γ
111γ
110α
000
020α
1-10α
011 // 001
111
//
110
三. 多晶电子衍射图的标定
多晶体是由随机任意排列的微晶或纳米晶组成.
磁转角的大小
若显微镜像相对于样品的磁转角为Φi 衍射斑点相对于样品的磁转角为Φd
• 则 Φ=Φi - Φd
• 用电子衍射确定相结构时,不需要效正磁转角. • 对样品微区进行显微组织和衍射图对应分析时(惯习 面,孪晶面,确定位向关系) 需要效正磁转角. • 效正方法,用外形特征反应晶体位向的MoO3做标样.
2g(hkl)=g(2h,2k,2l). 3g(hkl)=g(3h,3k,3l). g (h1,k1,l1)- g(h2,k2,l2) = g(h1-h2, k1-k2, l1-l1) g (h1,k1,l1)+g(h2,k2,l2) =g(h1+h2, k1+k2, l1+l1)
011
020
031
若s=3 3
3 6 不满足面心立方规律
Bcc 2, 4, 6, 8, 10, 12…… Fcc 3, 4, 8, 11, 12,16 …
α-Fe四方斑点的标定
[001- ]α
110α
000 020α
1- 10α
0 2 0 0 20
1 1 0 1 10 0 0 -2
应用例-菱方斑点奥氏体
菱方斑点
电子衍射分析及晶体生长方向判定
v = l1 h1 ,
l2 h2
w = h1 k1
h2 k2
由以上可以看出,正空间的一个晶面族(hkl)可用倒空间的一个倒易点 hkl 来 表示,正空间的一个晶带[uvw]可用倒空间的一个倒易面(uvw)*来表示,对应关系 如图 4 所示,这大大地方便了电子衍射谱的分析。
[uvw]
正空间
-2
o
g为垂直于晶面(hkl)的倒易矢量,|g| = OG =1/ d
AO=2/λ ,∠OAG= θ 以中心点O1为中心,1/λ Ewald球如图2。
hkl
为半径作球,则A,O,G都在球面上,这个球称为
AO表示电子入射方向,它照射到位于O1处的晶体上,一部分透射过去,一部 分使晶面(hkl)在O1G方向上发生衍射。Ewald球是布拉格定律的图解,能直观地 显示晶体产生衍射的几何关系。
b
(110) (101)
图 6 某金属氧化物的高分辨图像及电子衍射图
3.2 多晶电子衍射花样的标定 一般情况下多晶电子衍射花分析,较单晶简单,可以由d 值与标准库比较法 去标定,也可以由衍射环R2的比值来确定:若R2比为简单整数比则可初步确定为 立方晶系,若R2比不为整数比,可基本确定为非立方晶系,初步确定后,再按六 方及四方及其它晶系的R2比的规律逐一排除最后确定分析样品中有关相的晶结 构。各晶系R2的比值规律如下: 三种立方晶系可能为: 简单立方为:1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 16…, 没有7, 15, 23… 体心立方为:2, 4, 6, 8, 10, 12…没有奇数,h + k + l = 偶数
a
b
c b
d c b
晶体单晶的晶向标定与分析
晶体单晶的晶向标定与分析
晶体的晶向标定和分析是材料学和晶体学中的重要课题。
下面是一般的晶向标定和分析方法:
晶向的标定:
1. 初步确定晶向。
使用显微镜或X射线衍射仪观察晶体,确定晶体中的某个区域。
2. 用比色法标定晶体定向。
将金属板或玻璃板放置在待测的晶向上,用酸或者盐溶液自下而上浸泡,由于不同的晶向会使得其表面在所反射的光的波长或者颜色不同。
在标定时,可以通过比较反射光下表面的颜色来确定晶体的晶向。
3. X射线晶体衍射法。
这是晶向标定的最常用方法之一。
将待测晶体放置于X射线衍射仪中,在不同的角度下,观察晶体的衍射图样,以此来确定晶体的晶向。
晶向的分析:
1. X射线衍射方法。
使用X射线衍射仪分析晶体的结构。
2. 电子衍射方法。
使用电子衍射仪或透射电子显微镜分析晶体的结构。
3. 晶体缺陷分析。
在图像中观察到的缺陷可以告诉我们关于晶体的晶向和结构的信息。
以上是晶体单晶的晶向标定与分析的一些基本方法和步骤,当然,在实际操作中可能还会有其他方法和技术。
电子衍射分析及晶体生长方向判定电子衍射基础
Kg
K0
g
G
O
图 2 . Ewald 作图法 图 3 电子衍射的几何关系
在透射电镜中,我们在离样品L处的荧光屏记录相应的衍射斑点G”,O”是 荧光屏上的透射斑点, 照相底片或CCD相机上中心斑点到某衍射斑(G’’)的距离
R为: R=L tan 2θ
考虑到能满足布拉格定律的角度θ很小,故tan 2θ = 2θ,再由布拉格定律2d sinθ = λ, 可得: Rd = Lλ 式中,d是满足布拉格定律的晶面面间距。入射电子束的波长λ和样品到照 相底片的距离L是由衍射条件确定的,在恒定实验条件下,Lλ是一个常数,称为 相机常数(camera length)。此式是利用电子衍射谱进行结构分析的基础,在分析
注意由晶面指数到生长方向的转换实际是倒空间指数和正注意由晶面指数到生长方向的转换实际是倒空间指数和正空间的指数转换需要乘以转换矩阵各晶系的转换矩阵见附表对于立方晶空间的指数转换需要乘以转换矩阵各晶系的转换矩阵见附表对于立方晶系来说晶面指数即是生长方向指数而对于其他晶系则不是需要进行计算系来说晶面指数即是生长方向指数而对于其他晶系则不是需要进行计算即即
k2 l2
v = l1 h1 ,
l2 h2
w = h1 k1
h2 k2
由以上可以看出,正空间的一个晶面族(hkl)可用倒空间的一个倒易点 hkl 来 表示,正空间的一个晶带[uvw]可用倒空间的一个倒易面(uvw)*来表示,对应关系 如图 4 所示,这大大地方便了电子衍射谱的分析。
[uvw]
正空间
-2
o
g为垂直于晶面(hkl)的倒易矢量,|g| = OG =1/ d
AO=2/λ ,∠OAG= θ 以中心点O1为中心,1/λ Ewald球如图2。
电子衍射——精选推荐
电⼦衍射电⼦衍射 2.1 概述电⼦衍射与X-射线衍射的基本原理是完全⼀样的,两种技能所得到的晶体衍射花样在⼏何特征上也⼤致相似,都遵循劳厄⽅程或布拉格⽅程所规定的衍射条件和⼏何关系。
电⼦衍射与X-射线衍射的主要区别在于:(1)电⼦波的波长短,则受物质散射强(原⼦对电⼦的散射能⽐X-射线约⾼⼀万倍)。
电⼦波长短,决定了电⼦衍射的⼏何特点,使单晶的电⼦衍射谱和晶体的倒易点阵的⼆维截⾯完全相似,从⽽使晶体集合关系的研究变得简单多了。
(2)衍射束强度有时⼏乎与透射束相当,因此就有必要考虑它们之间的相互作⽤,使电⼦衍射花样分析,特别是强度分析变得复杂,不能像X-射线那样从测量强度来⼴泛地测定晶体结构。
(3)由于散射强度⾼导致电⼦穿透能⼒有限,因⽽⽐较适⽤研究微晶、表⾯和薄膜晶体。
(4)许多材料和矿物中得晶粒只有⼏微⽶⼤⼩,有时⼩到⼏千埃,不能⽤X-射线进⾏单个晶体的衍射,但却可以⽤电⼦显微镜在放⼤⼏万倍下,有⽬的地选择这些晶体,⽤选区电⼦衍射和微束电⼦衍射来确定其物相或其结构。
2.2 预备知识 2.2.1 布拉格定律⼊射波⽮量:k ;衍射波⽮量:k ¢;对于弹性碰撞:1/k k l ¢==**1;;2sin K k k r r K k dq ¢=-===当波长为l 的单⾊平⾯电⼦波以掠射⾓q (⼊射⾓⽅向与晶⾯的夹⾓)照射到晶⾯间距为hkl d 的平⾏晶⾯组(hkl )时,若满⾜:2sin hkl d n q l =为了简便起见,把式改为:2()sin hkld nq l =考虑到,可以把任意晶⾯组的n 级衍射都看成是与之平⾏但晶⾯间距⼩于n 倍的(nh nk nl )晶⾯组的⼀级衍射,使布拉格定律表达为:2sin d q l = 2.2.2倒易点阵和Ewald 球作图法(1)倒易点阵所谓倒易点阵,是指量纲为[L]-1的倒易空间内的另⼀个点阵,它与正空间内某⼀点特定的点阵相对应。
如果正点阵晶胞的单位⽮量(简称基失)为:,,a b c则相对应的倒易点阵基失为:***,,c c cb c c a a ba b c V V V 创 ===V c 为正点阵晶胞体积:()()()c V a b c b c a c a b =状=状=状可以证明,正、倒点阵的晶胞基失之间满⾜:1a ab bc c a b a c b c b a c a c b *********在倒易点阵内,有原点0*(即阵点(000))指向任⼀坐标为(hkl )的阵点的⽮量:1/hkl hkl hkl g ha kb lc d ***=++= 且g这就是说,所定义的倒易⽮量:hkl g或其断点---hkl 到⼀阵点,代表着正点阵中的晶⾯组(hkl )。
电子衍射(材料分析方法)
第十章 电子衍射一、概述透射电镜的主要特点是可以进行组织形貌与晶体结构同位分析。
若中间镜物平面与物镜像平面重合(成像操作) ,在观察屏上得到的是反映样品组织形态的形貌图像;而若使中间镜的物平面与物镜背焦面重合 (衍射操作),在观察屏上得到的则是反映样品晶体结构的衍射斑点。
本章介绍电子衍射基本原理与方法,下章将介绍衍衬成像原理与应用。
电子衍射的原理和 X 射线衍射相似,是以满足(或基本满足)布拉格方程作为产生衍射的必要条件。
两种衍射技术所得到的衍射花样在几何特征上也大致相似。
多晶体的电子衍射花样是一系列不同半径的同心圆环,单晶衍射花样由排列得十分整齐的许多斑点所组成。
而非晶态物质得衍射花样只有一个漫散得中心斑点(图 1,书上图10-1)。
由于电子波与 X 射线相比有其本身的特性,因此,电子衍射和 X 射线衍射相比较时具有下列不同之处:(1)电子波的波长比 X 射线短的多,在同样满足布拉格条件时,它的衍射角θ很小,约 10-2;而X 射线产生衍射时,其衍射角最大可接近°。
rad 90(2)在进行电子衍射操作时采用薄晶样品, 薄样品的倒易阵点会沿着样品厚度方向延伸成杆状,因此,增加了倒易阵点和爱瓦尔德球相交截的机会,结果使略为偏离布拉格条件的电子束也能发生衍射。
(3)因为电子波的波长短,采用爱瓦尔德球图解时,反射球德半径很大,在衍射角 θ 较小德范围内反射球的球面可以近似地看成是一个平面,从而也可以认为电子衍射产生的衍射斑点大致分布在一个二维倒易截面内。
这个结果使晶体产生的衍射花样能比较直观的反映晶体内各晶面的位向,给分析带来不少方便。
(4)原子对电子的散射能力远高于它对 X 射线的散射能力(约高出四个数量级) ,这使得二者要求试样尺寸大小不同, X 射线样品线性大小位 10-3cm ,电子衍射样品则为10-6~10- 5cm ,且电子衍射束的强度较大,摄取衍射花样时曝光时间仅需数秒钟,而X 射线以小时计。
电子衍射分析基础知识
电⼦衍射分析基础知识第⼀章电⼦衍射分析基础知识1-1 电⼦的波动性近代物理研究证实,微观世界中⼀切客体都具有粒⼦性与波动性,电⼦衍射是对运动具有波动性的有⼒证据。
为了把电⼦的粒⼦性与波动性这⼀对⽭盾统⼀起来,近代物理⽤德布罗意关系,把表征粒⼦性的能量E 和动能P 与描述波动性的波长与频率机即λ与ν联系起来,即E=h νP=h/λ式中h=6.6254×10-34焦⽿·秒是普朗克常数。
若电⼦的静⽌质量280101086.9-?=m g ,⽽电⼦的电荷e=4.8029×10-10静电单位。
若⼀束电⼦在电压V 作⽤下加速后,以速度u 均匀运动,则 E=ev=21m 0u 2 P=m 0u 电⼦波长λ为:Vem h02=λ对500电⼦伏以下的低能电⼦的电⼦波长:V26.12=λ(埃)⽬前透射电⼦显微镜中电压⾼达⼏千千伏或数百千伏,电⼦能量达数⼗千夫以上。
电⼦波长应加⼊相对论的修证后进⾏计算,即)21(2200c m eVV em h +=λ2120)21(cm eU +是相对论修正系数,经修正后电⼦波长为:)10979.01(26.126V V -?+=λV 为加速电压(伏),λ为电⼦波长(埃)。
1-2晶体对电⼦的散射1-2-1布拉格定律:晶体内部的质点是有规则的排列,由于这种组织结构的规则性,电⼦的弹性散射波可以在⼀定⽅向相互加强,除此以外的⽅向则很弱,这样就产⽣⼀束或⼏束衍射电⼦波,晶体内包含着许多族晶⾯的堆垛,每⼀族晶⾯的每⼀个晶⾯上质点都按同样的规律排列且这族晶⾯的堆垛间距是⼀个恒定的距离,称之为晶⾯间距d hkl 。
当⼀束平⾯单⾊波照射到晶体上时,各族晶⾯与电⼦束成不同坡度,电⼦束在晶⾯上的掠射⾓θ标记上述特征⼊射束的波前A 、B ,散射束的波前为A ’、B’,当第⼀层晶⾯的反射束Q A ’与透射束在第⼆层晶⾯反射束RB ’间的光程差RT SR +=δ,晶⾯间距d ,则θδsin 2d = 按波的理论证明,两⽀散射束相⼲加强的条件为波程差是波长的整数倍,即:λθn d =sin 2这就是布拉格定律或布拉格⽅程,其中n 为整数,晶⾯间距d 代表晶体的特征,λ为电⼦波长代表⼊射电⼦束的特征,θ为掠射⾓代表⼊射束与d 代表的晶⾯间的⼏何关系。
电子衍射花样标定教程和电子衍射图谱解析
两个基本矢量的线性组合,一定能标出属于相同Laue区的所有衍射斑点 的指数。
9
多晶电子衍射谱标定
多晶电子衍射谱由一系列同心圆环 组成,每个环对应一组晶面。
根据 d = Lλ/R,可求得各衍射环
对应的晶面间距d。 与JCPDF卡(多晶粉末衍射卡)
变换规则:指数位置不能改变,三指数符号可一起变;k的符号可 单独变,共 4种 变换可能。
e 三斜
d公式复杂,略。
变换规则:h、k、l只能一起改变符号,2种 变换可能。
15
f 六方
d = 1 4 ( h 2 + hk + k 2 + l 2 )
3
a2
c2
由公式可见,h、k的次序可变,h、k的符号需同时改变;l的符号可随意改变。
测角74o基本相符。取(211)为B点指
数,按矢量叠加原理,标定如图。
4 晶带轴指数
[uvw] → [110] × [2 1 1] = [1 13]
晶带轴的计算:晶面法向与晶带轴垂直【110】*【uvw】=0
13
等价晶面的指数变换
采用d值比较法标定电子衍射谱,要使用JCPDS或JCPDF数据,但对等 价晶面只列出一个面指数,而如何确定其他等价晶面,标定电子衍射谱时 尤显重要。
像平面上的像经过中间镜组,投 影镜组再作二次放大投射到荧光 屏上,称为物的三级放大。
改变中间镜电流,即改变中间镜 焦距,使中间镜物平面移到物镜 后焦面,便可在荧光屏上看到像 变换成衍射谱的过程。
6
显微像和选区电子衍射花样
TEM一大优点是可以获得对应的显微图象和选区电子衍射(SAED)图样。在 200kv的加速电压下,改变选区光阑的直径,可以得到尺寸小到0.1微米样品的 TEM像和SAED图样。
实验四选区电子衍射及晶体取向分析
实验四选区电子衍射与晶体取向分析一、实验内容及实验目的1.通过选区电子衍射的实际操作演示,加深对选区电子衍射原理的了解。
2.选择合适的薄晶体样品,利用双倾台进行样品取向的调整,使学生掌握利用电子衍射花样测定晶体取向的基本方法。
二、选区电子衍射的原理和操作1.选区电子衍射的原理简单地说,选区电子衍射借助设置在物镜像平面的选区光栏,可以对产生衍射的样品区域进行选择,并对选区范围的大小加以限制,从而实现形貌观察和电子衍射的微观对应。
选区电子衍射的基本原理见图4-1。
选区光栏用于挡住光栏孔以外的电子束,只允许光栏孔以内视场所对应的样品微区的成像电子束通过。
使得在荧光屏上观察到的电子衍射花样,它仅来自于选区范围内晶体的贡献。
实际上,选区形貌观察和电子衍射花样不能完全对应,也就是说选区衍射存在一定误差,所选区域以外样品晶体对衍射花样也有贡献。
选区范围不宜太小,否则将带来太大的误差。
对于100kV的透射电镜,最小的选区衍射范围约μm;加速电压为1000kV时,最小的选区范围可达μm。
图-1 选区电子衍射原理示意图1-物镜2-背焦面3-选区光栏4-中间镜5-中间镜像平面6-物镜像平面2.选区衍射电子的操作为了确保得到的衍射花样来自所选的区域,应当遵循如下操作步骤:(1) 在成像的操作方式下,使物镜精确聚焦,获得清晰的形貌像。
(2) 插人并选用尺寸合适的选区光栏围住被选择的视场。
(3) 减小中间镜电流,使其物平面与物镜背焦面重合,转入衍射操作方式。
近代的电镜此步操作可按“衍射”按钮自动完成。
(4) 移出物镜光栏,在荧光屏显示电子衍射花样可供观察。
(5) 需要拍照记录时,可适当减小第二聚光镜电流,获得更趋近平行的电子束,使衍射斑点尺寸变小。
三、选区电子衍射的应用单晶电子衍射花样可以直观地反映晶体二维倒易平面上阵点的排列,而且选区衍射和形貌观察在微区上具有对应性,因此选区电子衍射一般有以下几个方面的应用。
(1) 根据电子衍射花样斑点分布的几何特征,可以确定衍射物质的晶体结构;再利用电子衍射基本公式Rd=Lλ,可以进行物相鉴定。
电子显微分析3-电子衍射
目 录
• 电子衍射原理 • 电子衍射的应用 • 电子衍射实验技术 • 电子衍射在材料科学中的应用 • 电子衍射在纳米科技中的应用 • 电子衍射在考古学和文物鉴定中的应用
01
电子衍射原理
电子衍射与X射线衍射的异同
01
02
03
相同点
电子衍射和X射线衍射都 是通过测量衍射方向来分 析物质结构的方法。
05
电子衍射在纳米科技中 的应用
纳米颗粒的形貌和结构分析
形貌分析
电子衍射可以用于研究纳米颗粒的表 面形貌,通过分析衍射花样可以推断 出颗粒的形状、大小以及表面粗糙度 等信息。
结构分析
电子衍射可以揭示纳米颗粒的内部结 构,包括晶格常数、晶体取向、晶体 缺陷等,有助于理解材料的物理和化 学性质。
纳米薄膜的晶体结构和相组成
晶体结构分析
电子衍射可以用于研究纳米薄膜的晶体结构,包括晶格常数、晶面间距等,有助于了解材料的力学、电学和热学 等性能。
相组成分析
通过电子衍射可以确定纳米薄膜中存在的不同相的成分和分布,有助于优化材料性能和开发新材料。
纳米材料的应力分析
应变分析
电子衍射可以用于研究纳米材料在受力作用下的应变分布,有助于了解材料的力学行为 和稳定性。
花样性
通过电子衍射可以观察到晶体的 对称性,从而确定晶体的空间群。
测定晶格常数
电子衍射可以精确测定晶体的晶格 常数,了解晶体结构的基本单元。
观察晶体缺陷
电子衍射可以观察晶体中的缺陷和 错位,研究晶体缺陷对材料性能的 影响。
非晶体和准晶体的分析
确定非晶态结构
无机非金属材料
晶体结构和晶体缺
陷
电子衍射可以用于研究无机非金 属材料的晶体结构和晶体缺陷, 有助于了解材料的物理和化学性 质。
第二章 电子衍射原理与分析
衍射波的合成 f合=Σj fj exp(iφi)
这里 exp(iφ)=cosφ+i sinφ
单胞内所有原子的衍射波的合成 n F=f合= f j exp[ 2i(G r j )] j 1
fj:单胞中第j 个原子的原子散射因子; rj=xja + yjb +zjc,单胞中第j个原子在正空间的位臵矢量; G = k-ko=ha* + kb* +lc*,是倒空间矢量,表示产生衍射束
3
§2.5 影响电子衍射的因素
Yuxi Chen Hunan Univ.
§2.1 电子衍射基础
§2.1.1 运动电子与物质的交互作用
入射高能电子 背散射电子 俄歇电子
二次电子 特征X射线 EDS
薄晶体样品
吸收电子
非弹性散射电子 衍射谱
透射电子
弹性散射电子 Z衬度像HAADF
4
衍衬像,EELS
Yuxi Chen Hunan Univ.
§2.2.3 正点阵和倒易点阵的指数互换
(1)立方晶系
*与(hkl)垂直的晶向(法线方向)为[hkl] *与[uvw]垂直的晶面为(uvw)
(2)六角晶系(密勒三指数)
*与[uvw]晶向垂直的晶面(hkl)
2 h a (u v / 2) k a 2 (v u / 2) 2 c w l
25
Yuxi Chen Hunan Univ.
本节重点
(1)倒易点阵的性质 (2)六角结构中(hkil)晶面的法线方向 如何计算?
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§2.3 电子衍射原理
§2.3.1 厄瓦尔德作图法
【分析】实验四选区电子衍射及晶体取向分析
【关键字】分析实验四选区电子衍射与晶体取向分析一、实验内容及实验目的1.通过选区电子衍射的实际操作演示,加深对选区电子衍射原理的了解。
2.选择适宜的薄晶体样品,利用双倾台进行样品取向的调整,使学生掌握利用电子衍射花样测定晶体取向的基本方法。
二、选区电子衍射的原理和操作1.选区电子衍射的原理简单地说,选区电子衍射借助设置在物镜像平面的选区光栏,可以对产生衍射的样品区域进行选择,并对选区范围的大小加以限制,从而实现形貌观察和电子衍射的微观对应。
选区电子衍射的基本原理见图4-1。
选区光栏用于挡住光栏孔以外的电子束,只允许光栏孔以内视场所对应的样品微区的成像电子束通过。
使得在荧光屏上观察到的电子衍射花样,它仅来自于选区范围内晶体的贡献。
实际上,选区形貌观察和电子衍射花样不能完全对应,也就是说选区衍射存在一定误差,所选区域以外样品晶体对衍射花样也有贡献。
选区范围不宜太小,否则将带来太大的误差。
对于100kV的透射电镜,最小的选区衍射范围约0.5μm;加速电压为1000kV时,最小的选区范围可达0.1μm。
图-1 选区电子衍射原理示意图1-物镜2-背焦面3-选区光栏4-中间镜5-中间镜像平面6-物镜像平面2.选区衍射电子的操作为了确保得到的衍射花样来自所选的区域,应当遵循如下操作步骤:(1) 在成像的操作方式下,使物镜精确聚焦,获得清晰的形貌像。
(2) 插人并选用尺寸适宜的选区光栏围住被选择的视场。
(3) 减小中间镜电流,使其物平面与物镜背焦面重合,转入衍射操作方式。
近代的电镜此步操作可按“衍射”按钮自动完成。
(4) 移出物镜光栏,在荧光屏显示电子衍射花样可供观察。
(5) 需要拍照记录时,可适当减小第二聚光镜电流,获得更趋近平行的电子束,使衍射斑点尺寸变小。
三、选区电子衍射的应用单晶电子衍射花样可以直观地反映晶体二维倒易平面上阵点的排列,而且选区衍射和形貌观察在微区上具有对应性,因此选区电子衍射一般有以下几个方面的应用。
电子衍射技术在材料结构分析中的应用
电子衍射技术在材料结构分析中的应用导言:材料科学是一门研究材料组成、结构和性能的交叉学科。
在材料科学中,了解和分析材料的结构对于开发新材料和改善现有材料的特性至关重要。
电子衍射技术是一种广泛应用于材料结构分析的重要工具,它通过研究材料中电子的散射模式来揭示材料的晶体结构和缺陷。
一、电子衍射技术的原理电子衍射技术基于电子的波粒二象性,利用电子与物质相互作用的特性进行分析。
当高能电子束通过材料时,与材料中的原子发生散射,形成衍射斑。
通过收集和分析衍射斑的形状和分布,可以推断出材料的晶格结构和缺陷情况。
二、电子衍射技术在晶体学中的应用晶体学是研究晶体结构、晶体缺陷和晶体生长等问题的学科。
电子衍射技术在晶体学中有广泛的应用。
通过电子衍射技术,可以确定晶体的晶胞参数、晶格结构、原子排列和晶体缺陷等信息。
这些信息对于了解晶体的性质和行为非常重要,有助于研究材料的物理、化学和力学性质。
三、电子衍射技术在材料缺陷分析中的应用材料中的缺陷会影响材料的性能和行为。
电子衍射技术可以用于分析和表征材料中的缺陷。
通过研究电子衍射图样中的反射和散射斑的变化,可以确定材料中的晶体缺陷类型、缺陷密度和缺陷分布等。
这些信息对于材料的改性和优化非常重要。
四、电子衍射技术在纳米材料研究中的应用纳米材料是一种具有特殊结构和性能的材料,其尺寸在纳米尺度范围内。
电子衍射技术在纳米材料研究中有很大的应用前景。
通过电子衍射技术,可以观察和研究纳米材料中的晶体结构和相变过程。
此外,电子衍射技术还可以用于纳米材料的表面形貌分析和晶体生长过程研究。
五、电子衍射技术在材料组分分析中的应用材料的组分分析对于了解和控制材料的性能至关重要。
电子衍射技术可以通过分析衍射斑的位置和强度来确定材料中的相组成和比例。
这对于研究复杂的多相材料和合金材料具有重要意义,有助于理解材料的相变行为和材料的性能。
结论:电子衍射技术是一种重要的材料结构分析技术,其应用广泛且多样化。
测量晶体结构的物理实验技术详解
测量晶体结构的物理实验技术详解晶体结构是物质内部排列的有序几何体,对于理解物质的性质和应用具有重要意义。
为了揭示和研究晶体结构,科学家们发展出了多种物理实验技术,包括X 射线衍射、电子衍射和中子衍射等。
本文将对这些技术进行详细的介绍。
一、X射线衍射技术X射线衍射技术是最常用的测量晶体结构的方法之一。
它利用X射线的波动性和探测器记录的衍射图案来推断晶体的周期性排列。
通过测量不同入射角度下探测到的衍射峰的位置和强度,可以推导出晶体中原子的相对位置和晶胞参数。
X射线衍射实验中,通常使用X射线发生器产生X射线束,然后将此束照射到样品上。
当X射线束穿过晶体时,由于晶体的周期性结构,出射的X射线将以特定的角度散射,形成衍射图案。
这些衍射峰的位置和强度与晶体结构的特征参数相关联。
二、电子衍射技术电子衍射技术是通过电子束与晶体相互作用产生的衍射现象来研究晶体结构的方法。
相比于X射线衍射技术,电子衍射技术能够研究更小尺寸的晶体,在无需复杂处理的情况下就能得到高分辨率的衍射图案。
电子衍射实验一般使用电子束枪产生电子束,然后通过透射电子显微镜照射在样品上。
样品中的晶体会散射入射电子束,形成衍射图案。
通过分析衍射图案的形状和强度分布,可以确定晶体的结构以及一些晶胞参数。
三、中子衍射技术中子衍射技术是利用中子与晶体相互作用产生的衍射现象来测量晶体结构的方法。
与X射线和电子相比,中子与晶体的相互作用更复杂,因此中子衍射技术在一些特定的研究领域中具有独特的优势。
中子衍射实验通常使用中子源产生中子束,然后通过样品中的晶体,中子将被晶体进行散射,形成衍射图案。
通过研究衍射图案的特征,我们可以了解晶体的结构、晶格常数以及原子间的相对位置。
总结测量晶体结构的物理实验技术包括X射线衍射、电子衍射和中子衍射等。
这些技术基于衍射现象,通过分析衍射图案的形状和强度来推导晶体的结构和特征参数。
每种技术都有其独特的优势和适用范围。
X射线衍射技术广泛应用于晶体结构研究中,其高分辨率和可靠性使其成为非常重要的工具。
电子衍射和中子衍射110315
众所周知,电子的波长可以用改变其速度的办法 来调节。当电子波长和晶体 dhkl 相当时,这样的电子 流照射晶体时也能发生衍射,所得的图像和 X 光衍射 是十分相似的。和 X 光衍射相比,电子衍射有如下不 同之处:
1)由于晶体强烈吸收电子波,它只能深 入到 20~25 个平面点阵,这也是电子衍射多数 用于表面结构分析的原因。
与X射线衍射相似,电子衍射也遵循布拉格方程,即 波长为λ的入射电子束与间距为d的点阵面之间的夹角θ满 足布拉格方程时,就会在与入射线成2θ角的方向上产生衍 射。晶体的各组衍射面产生的衍射斑构成了有一定规律的 衍射花样。单晶试样产生的衍射图样是按一定周期规则排 布的斑点,多晶试样则产生若干半径不等但同心的衍射环, 而非晶体物质的衍射花样只有一个漫散的中心斑点。
一、电子衍射基本原理
1、德布罗意波
1924年德布罗意提出:运动的实物粒子(如电子、质子等) 都有一种波与之对应,并认为粒子的特征波长与动量(p) 之间的关系应当与光子的相同,联系这种波的关系式是:
h h
(1)
p mv
式中是物质波的波长,h是普朗克常数,p是粒子的动量, m是运动粒子的质量,v是它的速度。(1)式称为德布罗意 波的关系式。
电子衍射有许多重要应用。通常将电子衍射分 为高能电子衍射和低能电子衍射。前者所需的电压 高达几十万、甚至几百万伏,后者所需加速电压则 低于1000 V。
单晶薄片的高能电子衍射图呈点状分布,分析 衍射图,可获得晶体的对称性、晶胞大小和形状、 单晶缺陷及相变等信息。多晶样品的高能电子衍射 图是一系列同心圆,根据实验条件&衍射图给出的 数据,利用有关公式,即可求得晶体的面间距。
• 2、将dEi与卡片上或d值表中查得的dTi比较,如吻合记下相应 的{hkl}i
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图 7 某金属氧化物一维纳米线的透射电镜及电子衍射图
主要参考文献:
1. 刘文西,黄孝瑛,陈玉如,材料结构的电子显微分析,天津大学出版社,1989.
晶体衍射花样时, 一般Lλ是已知的, 从衍射谱上可量出R值, 然后算出晶面间距d, 同时可以结合衍射谱算出的晶面夹角,确定晶体的结构。 电镜中使用的电子波长很短, 即Ewald球的半径1/λ 很大, Ewald球面与晶体 的倒易点阵的相截面可视为一平面,成反射面,所以电子衍射花样实际上是晶体 的倒易点阵与Ewald球面相截部分在荧光屏上的投影,即晶体的电子衍射谱是一 个二维倒易平面的放大,相机常数Lλ相当于放大倍数。 1.3 晶带定律及晶带轴 晶带定义:许多晶面族同时与一个晶体学方向[uvw]平行时,这些晶面族总 称为一个晶带,而这个晶体学方向[uvw]称为晶带轴。 因为属于同一晶带的晶面族都平行于晶带轴方向, 故其倒易矢量均垂直于晶 带轴,构成一个与晶带轴方向正交的二维倒易点阵平面(uvw)*。若晶带轴用正空 间矢量 r = ua+vb+wc 表示,晶面(hkl)用倒易矢量 Ghkl =ha*+kb*+lc*表示,由晶带 定义 r⊥G 及 r•G =0 得: hu+kv+lw = 0 该式即为电子衍射谱分析中常用的晶带定律(Weiss zone law) 。 (uvw)*为与正空间中[uvw]方向正交的倒易面。(uvw)*⊥[uvw],属于[uvw]晶 带的晶面族的倒易点 hkl 均在一个过倒易原点的二维倒易点阵平面(uvw)*上。如 (h1,k1,l1),(h2,k2,l2)是[uvw]晶带的两个晶面族,则由晶带定律可得: h1u+k1v+l1w = 0, h2u+k2v+l2w = 0 可解出晶带轴方向[uvw]如下: u = k1 l1 ,
a
b
c b
d c b
d b
e b
图 5. 不同晶型晶体的电子衍射图
3. 电子衍射的标定方法 3.1 单晶电子衍射花样的标定 对于电子衍射的标定主要是确定晶面指数及晶带轴,标定方法有多种,如平 行四边形法、R2 比值法、标准图谱对比法、a/d 及夹角查表法等,有普适性的是 平行四边形法和标准谱图对比法, 具体步骤如下: 平行四边形法 1.选择衍射斑 A, B,使 OA 和 OB 为最短和次短 长度(可通过量 BC 或者更多的 R 求平均值以减小 误差),并测量 OA 与 OB 的夹角; 2. 求 A、B 衍射斑对应的面间距 d1 和 d2 , 与物样标准数据(PDF 卡片或有机晶 体数据库)比较,找出与 d1, d2 相吻合的面指数系列{hkl}1 和{hkl}2; 3.在{hkl}1 中, 任选(h1k1l1)为 A 点指数, 从{hkl}2 中试探计算确定 B 点指数(h2k2l2) , 根据晶型查询公式,计算夹角值与实测值相符; 4.按矢量叠加原理,标定其它衍射斑指数,并求出晶带轴指数[uvw]= (h1k1l1) × (h2k2l2),右手螺旋法则判定方向;
面心立方为:3, 4, 8, 11, 12, 16, 19, 20…, h, k, l为全奇全偶数 对四方点阵可能为: 1, 2, 4, 5, 8, 9, 10, 13, 16, 17 对六角(三角晶系)可能为: 1, 3, 4, 7, 9, 12, 13, 16, 19, … 其中, 3, 7 是六角晶系的低指特征,当出现 3 时,又不属于立方晶系,可以 按六角晶系求解。 以上电子衍射标定方法是对于简单电子衍射谱的标定,是基本的标定方法, 复杂的如孪晶、高阶劳厄带的标定要在基本方法的基础上进行更为复杂的计算。 3. 晶体生长方向的判定 在研究晶体结构时,很多情况下需要判断其生长方向,尤其是纳米线、纳米 带等, 由于晶体的电子衍射谱是一个二维倒易平面的放大,而透射电镜又能拍摄 形貌, 分别相当于倒易空间像与正空间像,所以根据倒易空间与正空间的关系可 以判断晶体的生长方向,这是电子衍射一个特别的应用。具体的方法是: 首先拍摄形貌像, 再在同一位置做电子衍射并进行标定,将形貌像与电子衍 射花样对照,找出沿着一维长轴方向的晶面,此晶面为优势生长面,根据晶面指 数标定生长方向。注意,由晶面指数到生长方向的转换,实际是倒空间指数和正 空间的指数转换,需要乘以转换矩阵,各晶系的转换矩阵见附表,对于立方晶 系来说,晶面指数即是生长方向指数,而对于其他晶系则不是,需要进行计算, 即:
图 7 是对一维纳米线的生长方向进行的判断, 首先标出与纳米线平行的晶面 的指数,确定优势生长面是(0-11)面,由于该物质是四方晶系,查附表四方晶系 的转换矩阵,将(0-11)面转换为生长方向[0-12]。
[0-12]
(110)
(101) (0-11)
附表
七大晶系正/倒空间和倒/正空间指数转换矩阵
-2
o
g为垂直于晶面(hkl)的倒易矢量,|g| = OG =1/ d
AO=2/λ ,∠OAG= θ 以中心点O1为中心,1/λ Ewald球如图2。
hkl
为半径作球,则A,O,G都在球面上,这个球称为
AO表示电子入射方向,它照射到位于O1处的晶体上,一部分透射过去,一部 分使晶面(hkl)在O1G方向上发生衍射。Ewald球是布拉格定律的图解,能直观地 显示晶体产生衍射的几何关系。
b
(110) (101)
图 6 某金属氧化物的高分辨图像及电子衍射图
3.2 多晶电子衍射花样的标定 一般情况下多晶电子衍射花分析,较单晶简单,可以由d 值与标准库比较法 去标定,也可以由衍射环R2的比值来确定:若R2比为简单整数比则可初步确定为 立方晶系,若R2比不为整数比,可基本确定为非立方晶系,初步确定后,再按六 方及四方及其它晶系的R2比的规律逐一排除最后确定分析样品中有关相的晶结 构。各晶系R2的比值规律如下: 三种立方晶系可能为: 简单立方为:1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 16…, 没有7, 15, 23… 体心立方为:2, 4, 6, 8, 10, 12…没有奇数,h + k + l = 偶数
k2 l2
v = l1 h1 ,
l2 h2
w = h1 k1
h2 k2
由以上可以看出,正空间的一个晶面族(hkl)可用倒空间的一个倒易点 hkl 来 表示,正空间的一个晶带[uvw]可用倒空间的一个倒易面(uvw)*来表示,对应关系 如图 4 所示,这大大地方便了电子衍射谱的分析。
[uvw]
正空间
级,由上式可得衍射角θ = 10 rad<10 , 这表明能产生布拉格衍射的晶面几乎 平行于入射电子束。 1.2 Ewald作图法及电子衍射的几何关系 将布拉格定律改为sinθ = (1/d) / (1/λ ),这样电子束(λ )、晶体(d)及 其取向关系可用一个三角形AGO表示,如图2所示,其中,
(h3 k3l3 )
(h2 k 2l2 )
(h1k1l1 )
倒空间
(h2 k 2l2 )
(h1k1l1 )
(h3 k3l3 )
(uvw)*
图 4 晶带正空间与倒空间对应关系图
2. 不同类型的晶体的电子衍射花样 根据晶体的类型及结构不同,可产生不同的电子衍射花样,常见的有以下 几种: 单晶:单晶的、电子衍射谱的特点是具有一定对称性的衍射斑点,中心的亮 点是透射斑点,对应 000 衍射,越靠近 000 斑点的衍射斑点的 hkl 指数越小,越 远离 000 斑点的衍射斑点的 hkl 指数越大,如图 5a 所示。 多晶:完全无序的多晶可以看成是一个单晶围绕一点在三维空间作 4π 球面 角旋转,因此多晶体的 hkl 倒易点是以倒易原点为中心,(hkl)晶面间距的倒数为 半径的倒易球面。 此球面与 Ewald 球相截于一个圆, 所以能产生衍射的斑点扩展 成圆环,因此多晶的典型衍射谱是一个个的同心环,如图 5b 所示。环越细,表 示多晶体的晶粒越大,环越粗,多晶体的晶粒越小。 微晶/纳晶:当晶体的晶粒在微米/纳米级时,用选区光阑套住一部分晶粒得 到的衍射图如图 5c 所示,由于各晶粒的取向不同,所以会出现类似单晶的一系 列衍射斑点,同时,由于各晶粒含有相同晶面间距的晶面,所以这些衍射斑点呈 同心圆分布。 孪晶:孪晶从晶体学上可以看成是以某一晶面(孪生面)为对称面的两个或 多个晶体, 由于几何学的对称性,电子衍射谱上同时出现基体和孪晶部分的两套 电子衍射花样, 其特征是衍射斑有两套, 有伴生点存在, 而且一些斑点分数位置, 就很可能是孪晶关系的存在。如图5d所示,为孪晶的高分辨及电子衍射图。 非晶:非晶的电子衍射谱一般由几个同心的晕环(diffused ring)组成,每个晕 环的边界很模糊,如图5e所示。
B O A
C
5.若有高分辨照片,可选取晶面量取 d 值,尽量取多一些晶面层以减少误差,与 标准数据对应得到晶面指数,与电子衍射花样标定结果可进一步确认。 标准谱图法: 若已知样品的晶型,通过衍射谱计算 OA 与 OB 的比值及其夹角,与“常见 晶体的标准电子衍射花样”对比,即可标定出各晶面指数。 图 6 是用平行四边形法标定的样品的电子衍射花样, 可以看出与高分辨结果 相符,进一步确认了标定无误。注意,现代的电镜一般都装有 CCD 相机,电子 衍射谱也已经经过标定,标尺是 1/nm,计算晶面间距时,测量并根据标尺计算 出“R”值,直接取倒数即使晶面间距 d。
电子衍射分析及晶体生长方向判定 电子衍射基础 1.1 布拉格定律 晶体内部的质点是有规则的排列,由于这 种组织结构的规则性,电子的弹性散射波可在 一定方向相互加强,除此以外的方向则减弱,
S R O T
图 1 晶体对电子的散射
Байду номын сангаас
这样就产生一束或几束电子衍射波。晶体内包含着许多族晶面的堆垛,在每一族 晶面的每一个晶面上, 质点都按同样的规律排列且这族晶面的堆垛间距是一个恒 定的距离,称之为晶面间距dhkl。 当一束平面单色波照射到晶体上时,各族晶面与电子束成不同的角度,电子 束在晶面上的衍射角为θ, 将上述特征入射束标记为A、 B, 其散射束标记A1、 B1, 当第一层晶面的反射束OA1与透射束在第二层晶面反射束RB1间的光程差δ = SR + RT ,晶面间距为d,则δ = 2d sinθ 按波的理论证明,两支散射束相干加强的条 件为波程差是波长的整数倍,即: 2d sinθ = nλ 这就是布拉格定律(Bragg’s Law),其中n 为整数,晶面间距d 代表晶体的特 征,λ 为电子波长,代表入射电子束的特征,θ 为衍射角,代表入射束与d 代表 的晶面间的几何关系。 布拉格定律规定了一个晶体产生衍射的几何条件,它是分 析电子衍射谱的几何关系的基础。只要晶面间距dhkl 和它对入束的取向θ 满足布 拉格定律,可以同时产生衍射: 2 (d/ n)sinθ = λ 据晶面指数的定义,晶面间距小了n 倍就相当于晶面指数大了n 倍: 2 d nh,nk,nl sinθ = λ n 为晶面的(hkl)衍射级数,因此,以上公式是把晶面(hkl)的n 级衍射换成晶 面(nh,nk,nl)的一级衍射,nh,nk,nl 是干涉面的指数。因此,经简化后的布拉格定 律公式可以不写n,即: 2d sinθ = λ 由以上公式可以估算产生布拉格衍射的衍射角θ , 通常透射电镜的加速电压 为100~200kV,即电子束的波长为10-3nm量级,常见晶体的晶面间距为10-1nm数量