高等半导体物理参考答案

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《半导体物理学》试题与及答案

《半导体物理学》试题与及答案

练习1-课后习题7
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
锑化铟的禁带宽度E g = 0.18 e V ,相对介电常数 εr = 17 ,电子的 有效质量mn∗ = 0.015 m0, m 0为电子的惯性质量,求 ⅰ)施主杂质的电离能, ⅱ)施主的弱束缚电子基态轨道半径。
解:
练习2
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
所以样品的电导率为: q(n0 n p0 p )
代入数据得,电导率为2.62 ×1013S/cm 所以,电场强度 E J 1.996103 mA / cm

作业-课后习题2
第四章 半导体的导电性
试计算本征Si 在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1450cm2/V·S 和500cm2/V·S。当掺入百万分之一的As 后,设杂质全部电离,试计算其电 导率。比本征Si 的电导率增大了多少倍?(ni=1.5×1010cm-3; Si原子浓度为 =5.0×1022cm-3,假定掺杂后电子迁移率为900cm2/V·S)
m0为电子惯性质量,k1=1/2a; a=0.314nm。试求: (1)禁带宽度; (2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量; (4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
练习2-课后习题2
第一章 半导体中的电子状态
2.晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m和107V/m 的电 场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
所以,300k时,
nT 300

(1.05 1019

5.7
1018 )
exp(
0.67 1.61019 21.381023 300)
1.961013cm3
77k时,

半导体物理 习题4答案

半导体物理 习题4答案

3 2
3 2
3
3
77K时有:
Nc77 K 77 =( ) Nc300 K 300
18
3 2
Nv77 K 77 =( ) Nv300 K 300
−3
3 2
Nc = 1.365 ×10 cm
Nv = 7.41×10 cm
17
−3
根据公式:
n = n0 p0 = NcNve
2 i
Eg − k0T
分别解得300K时:
600K时,ni与ND-NA相比不能忽略 : ni ≈ 2 ×1017 cm −3
1 n0 = N D − N A + ( N D − N A ) 2 + 4ni2 2
p0 = 1 −( N D − N A ) + ( N D − N A ) 2 + 4ni2 2
{
}
500K时,本征载流子数据可查表。但是也可 以计算通过公式计算:
ni = 2 × 1016cm −3
本征激发和Nd相比不能忽略
n0 = 1 N D − N A + ( N D − N A ) 2 + 4ni2 2
{
}
n 0 = 2.2 × 1016cm −3
p 0 = 1.7 × 10 cm
1 2V (m ) dZ ( E ) = = ( E − Ec) 2 dE π h
3 * 2 n 2 3
m = mdn = s (ml m )
* n
2 3
1 2 3 t
第三题
根据Nc和Nv的定义:
Nc = (m k T ) 2π h
3 2 * n 0 3 2
Nv =
(m* k0T ) p 2π h

半导体物理试题及答案

半导体物理试题及答案

半导体物理试题及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电能力介于导体和绝缘体之间,这是由于()。

A. 半导体的原子结构B. 半导体的电子结构C. 半导体的能带结构D. 半导体的晶格结构答案:C2. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带需要()。

A. 吸收能量B. 释放能量C. 吸收光子D. 释放光子答案:A3. PN结形成的基础是()。

A. 杂质掺杂B. 温度变化C. 压力变化D. 磁场变化答案:A4. 半导体器件中的载流子主要是指()。

A. 电子B. 空穴C. 电子和空穴D. 光子答案:C5. 半导体的掺杂浓度越高,其导电性能()。

A. 越好B. 越差C. 不变D. 先变好再变差答案:A二、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体的导电性能可以通过改变其________来调节。

答案:掺杂浓度2. 半导体的能带结构中,价带和导带之间的能量差称为________。

答案:带隙3. 在半导体中,电子和空穴的复合现象称为________。

答案:复合4. 半导体器件中的二极管具有单向导电性,其导通方向是从________到________。

答案:阳极阴极5. 半导体的PN结在外加正向电压时,其内部电场会________。

答案:减弱三、简答题(每题10分,共30分)1. 简述半导体的掺杂原理。

答案:半导体的掺杂原理是指通过向半导体材料中掺入少量的杂质元素,改变其电子结构,从而调节其导电性能。

掺入的杂质元素可以是施主杂质(如磷、砷等),它们会向半导体中引入额外的电子,形成N型半导体;也可以是受主杂质(如硼、铝等),它们会在半导体中形成空穴,形成P型半导体。

2. 描述PN结的工作原理。

答案:PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。

在PN结中,P型半导体的空穴会向N型半导体扩散,而N型半导体的电子会向P型半导体扩散。

由于扩散作用,会在PN结的交界面形成一个内建电场,该电场会阻止更多的载流子通过PN结。

《半导体物理》习题答案第八章

《半导体物理》习题答案第八章

第8章 半导体表面与MIS 结构2.对于电阻率为8cm Ω⋅的n 型硅,求当表面势0.24s V V =-时耗尽层的宽度。

解:当8cm ρ=Ω⋅时:由图4-15查得1435.810D N cm -=⨯∵22D d s rs qN x V εε=-,∴1022()rs s d D V x qN εε=-代入数据:11141352219145211.68.85100.24 4.9210()()7.3101.610 5.8109.2710d x cm -----⨯⨯⨯⨯⨯==⨯⨯⨯⨯⨯3.对由电阻率为5cm Ω⋅的n 型硅和厚度为100nm 的二氧化硅膜组成的MOS 电容,计算其室温(27℃)下的平带电容0/FB C C 。

解:当5cm ρ=Ω⋅时,由图4-15查得143910D N cm -=⨯;室温下0.026eV kT =,0 3.84r ε=(SiO 2的相对介电系数) 代入数据,得:1141/20002197722110.693.84(11.68.85100.026)11()11.6 1.61010010310FBr rs rs A C C kT q N d εεεε---===⨯⨯⨯+⋅+⨯⨯⨯⨯⨯此结果与图8-11中浓度为1⨯1015/cm 3的曲线在d 0=100nm 的值非常接近。

4. 导出理想MIS 结构的开启电压随温度变化的表示式。

解:按定义,开启电压U T 定义为半导体表面临界强反型时加在MOS 结构上的电压,而MOS结构上的电压由绝缘层上的压降U o 和半导体表面空间电荷区中的压降U S (表面势)两部分构成,即oST S Q U U C =-+ 式中,Q S 表示在半导体表面的单位面积空间电荷区中强反型时的电荷总数,C o 单位面积绝缘层的电容,U S 为表面在强反型时的压降。

U S 和Q S 都是温度的函数。

以p 型半导体为例,强反型时空间电荷区中的电荷虽由电离受主和反型电子两部分组成,且电子密度与受主杂质浓度N A 相当,但反型层极薄,反型电子总数远低于电离受主总数,因而在Q S 中只考虑电离受主。

半导体物理习题答案完整版

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半导体物理习题答案 HEN system office room 【HEN16H-HENS2AHENS8Q8-HENH1688】第一章半导体中的电子状态例1.证明:对于能带中的电子,K状态和-K状态的电子速度大小相等,方向相反。

即:v(k)= -v(-k),并解释为什么无外场时,晶体总电流等于零。

解:K状态电子的速度为:(1)同理,-K状态电子的速度则为:(2)从一维情况容易看出:(3)同理有:(4)(5)将式(3)(4)(5)代入式(2)后得:(6)利用(1)式即得:v(-k)= -v(k)因为电子占据某个状态的几率只同该状态的能量有关,即:E(k)=E(-k)故电子占有k状态和-k状态的几率相同,且v(k)=-v(-k)故这两个状态上的电子电流相互抵消,晶体中总电流为零。

例2.已知一维晶体的电子能带可写成:式中,a为晶格常数。

试求:(2)能带底部和顶部电子的有效质量。

解:(1)由E(k)关系(1)(2)令得:当时,代入(2)得:对应E(k)的极小值。

当时,代入(2)得:对应E(k)的极大值。

根据上述结果,求得和即可求得能带宽度。

故:能带宽度(3)能带底部和顶部电子的有效质量:习题与思考题:1 什么叫本征激发温度越高,本征激发的载流子越多,为什么试定性说明之。

2 试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。

3 试指出空穴的主要特征。

4 简述Ge、Si和GaAs的能带结构的主要特征。

5 某一维晶体的电子能带为其中E0=3eV,晶格常数a=5×10-11m。

求:(2)能带底和能带顶的有效质量。

6原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同7晶体体积的大小对能级和能带有什么影响?8描述半导体中电子运动为什么要引入“有效质量”的概念?用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性?9 一般来说,对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此为什么10有效质量对能带的宽度有什么影响?有人说:“有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄。

半导体物理 课后习题答案

半导体物理 课后习题答案

第一章习题1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E V (k)分别为:E c =0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。

试求:为电子惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2) 导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量;(4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化 解:(1)eV m k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ 因此:取极大值处,所以又因为得价带:取极小值处,所以:在又因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===⨯=-=-=∆=-== 所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。

解:根据:tkhqE f ∆∆== 得qE k t -∆=∆sat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----⨯=⨯⨯--=∆⨯=⨯⨯--=∆ππ第三章习题和答案1. 计算能量在E=E c 到2*n 2C L 2m 100E E π+= 之间单位体积中的量子态数。

解322233*28100E 21233*22100E 0021233*231000L 8100)(3222)(22)(1Z VZZ )(Z )(22)(2322C 22C L E m h E E E m V dE E E m V dE E g V d dEE g d E E m V E g c nc C n l m h E C n l m E C n n c n c πππππ=+-=-====-=*++⎰⎰**)()(单位体积内的量子态数)(2. 试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式(3-6)。

半导体物理试题库及答案

半导体物理试题库及答案

半导体物理试题库及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带所需能量的最小值称为:A. 禁带宽度B. 费米能级C. 载流子浓度D. 电子亲和能答案:A2. 下列哪种半导体材料的禁带宽度大于硅?A. 锗B. 砷化镓C. 硅D. 碳化硅答案:D3. PN结在正向偏置时,其导电性能主要取决于:A. 电子B. 空穴C. 杂质D. 复合答案:B4. 半导体器件中,二极管的导通电压通常为:A. 0.2VB. 0.7VC. 1.5VD. 3.3V答案:B5. 在半导体物理学中,霍尔效应可以用来测量:A. 载流子浓度B. 载流子迁移率C. 载流子类型D. 所有以上答案:D二、多项选择题(每题3分,共15分)1. 下列哪些因素会影响半导体的载流子浓度?(多选)A. 温度B. 光照C. 杂质浓度D. 材料类型答案:ABCD2. 半导体器件的能带结构包括:A. 价带B. 导带C. 禁带D. 费米能级答案:ABC3. 下列哪些是半导体材料的特性?(多选)A. 导电性介于导体和绝缘体之间B. 导电性随温度升高而增加C. 导电性随光照强度增加而增加D. 导电性随杂质浓度增加而增加答案:ABCD三、填空题(每空1分,共20分)1. 半导体材料的导电性可以通过掺杂来改变,其中掺入____类型的杂质可以增加载流子浓度。

答案:施主2. 在PN结中,当外加电压的方向与PN结内电场方向相反时,称为______偏置。

答案:反向3. 半导体材料的导电性随温度升高而______。

答案:增加4. 半导体器件的能带结构中,价带和导带之间的区域称为______。

答案:禁带5. 霍尔效应测量中,当载流子受到垂直于电流方向的磁场作用时,会在垂直于电流和磁场的方向上产生______。

答案:霍尔电压四、简答题(每题5分,共10分)1. 简述半导体材料的导电机制。

答案:半导体材料的导电机制主要涉及价带中的电子获得足够能量跃迁到导带,从而成为自由电子,同时在价带中留下空穴。

半导体物理学习题答案(有目录)

半导体物理学习题答案(有目录)

半导体物理习题解答目录1-1.(P32)设晶格常数为a的一维晶格,导带极小值附近能量E c(k)和价带极大值附近能量E v(k)分别为: (2)1-2.(P33)晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m,107V/m的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。

(3)3-7.(P81)①在室温下,锗的有效状态密度Nc=1.05×1019cm-3,Nv=5.7×1018cm-3,试求锗的载流子有效质量mn*和mp*。

(3)3-8.(P82)利用题7所给的Nc和Nv数值及Eg=0.67eV,求温度为300k和500k时,含施主浓度ND=5×1015cm-3,受主浓度NA=2×109cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少? (4)3-11.(P82)若锗中杂质电离能△ED=0.01eV,施主杂质浓度分别为ND=1014cm-3及1017cm-3,计算(1)99%电离,(2)90%电离,(3)50%电离时温度各为多少? (5)3-14.(P82)计算含有施主杂质浓度ND=9×1015cm-3及受主杂质浓度为1.1×1016cm-3的硅在300k 时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。

(6)3-18.(P82)掺磷的n型硅,已知磷的电离能为0.04eV,求室温下杂质一般电离时费米能级的位置和磷的浓度。

(7)3-19.(P82)求室温下掺锑的n型硅,使EF=(EC+ED)/2时的锑的浓度。

已知锑的电离能为0.039eV。

(7)3-20.(P82)制造晶体管一般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成。

①设n型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为0.039eV,300k时的EF位于导带底下面0.026eV处,计算锑的浓度和导带中电子浓度。

(8)4-1.(P113)300K时,Ge的本征电阻率为47Ω.cm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/V.S和1900cm2/V.S,试求本征Ge的载流子浓度。

半导体物理课后习题答案(1-12章)

半导体物理课后习题答案(1-12章)

∆ ED =
7.06 10− 4 eV
r1,n = ε r (
° m0 1 ) � a 17 = 0.53 600.67 A 0 ∗ mn 0.015
8. 磷化鎵的禁带宽度 Eg = 2.26eV ,相对介电常数 ε r = 11.1 ,空穴的有效质量
m∗p = 0.86m0 , m0 为电子的惯性质量,求ⅰ)受主杂质的电离能,ⅱ)受主所若 束缚的空穴基态轨道半径。 [解]: ∆ E A = 已知, E0 = m m∗p E0 rp = n 2ε r ( ∗0 ) a0 2 , mp m0 ε r
第1章 半导体中的电子状态
1. 设晶格常数为 a 的一维晶格,导带极小值附近能量 Ec(k)和价带极大值附近 能量 Ev(k)分别为: Ec(k)=
h 2 k 2 h 2 (k − k1) 2 h2k 2 3h 2 k 2 + 和 Ev(k)= - ; 3m 0 6m 0 m0 m0
m0 为电子惯性质量,k1=1/2a;a=0.314nm。试求: ①禁带宽度; ②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量; ④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。 [解] ① 禁带宽度 Eg 根据 值: kmin=
[ 110] , [ 101] , [ 011] , 轾 臌1 10
轾 臌10 1 , 轾 臌0 1 1 ;
,
[1 10], 轾 10 1 , 轾 臌 臌01 1 , 轾 臌110 , 轾 臌101 , 轾 臌0 11 ; 则由解析几何定理得, B 与 k3 的夹角余弦 cos θ 为: cos θ = 式中, B = b1i + b2 j + b3k . 对不同方向的旋转椭球面取不同的一组 (k1 , k2 , k3 ) .

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体物理综合练习题(3)参考答案1

半导体物理综合练习题(3)参考答案1

1、晶格常数Å的一维晶格,当外加102V/m和107V/m电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需时间。

〔1Å=10nm=10-10m〕2、指出下列图中各表示的是什么半导体?3、如下图,解释一下n0~T关系曲线。

4、假设费米能E F=5eV,利用费米分布函数计算在什么温度下电子占据能级的概率为1%。

并计算在该温度下电子分布概率所对应的能量区间。

5、两块n型硅材料,在某一温度T时,第一块与第二块的电子密度之比为n1/n2=e〔e是自然对数的底〕〔1〕如果第一块材料的费米能级在导带底之下3k0T,试求出第二块材料中费米能级的位置;〔2〕求出两块材料中空穴密度之比p1/p2。

6、硼的密度分别为N A1和N A2(N A1>N A2)的两个硅样品,在室温条件下:〔1〕哪个样品的少子密度低?〔2〕哪个样品的E F离价带顶近?〔3〕如果再掺入少量的磷(磷的密度N`D< N A2),它们的E F如何变化?7、现有三块半导体硅材料,在室温下(300K)它们的空穴浓度分别为p01=2.25×1016cm-3、p02=1.5×1010cm-3、p03=2.25×104cm-3。

〔1〕分别计算这三块材料的电子浓度n01、n02、 n03;〔2〕判别这三块材料的导电类型;〔3〕分别计算这三块材料的费米能级的位置。

8、室温下,本征锗的电阻率为47Ω·cm,试求本征载流子浓度。

假设掺入锑杂质,使每106个锗原子中有一个杂质原子,计算室温下电子浓度和空穴浓度。

设杂质全部电离。

锗原子的浓度为4.4×1022/cm3,试求该掺杂锗材料的电阻率。

设µn=3600cm2/(V·s),µp=1700cm2/(V·s)且认为不随掺杂而变化。

n i=2.5×1013cm-3。

9、在半导体锗材料中掺入施主杂质浓度N D=1014cm-3,受主杂质浓度N A=7×1013cm-3,设室温本下本征锗材料的电阻率为ρi=60Ω·cm,假设电子和空穴的迁移率分别为µn=3800cm2/(V·s),µp=1800cm2/(V·s),假设流过样品的电流密度为2,求所施加的电场强度。

半导体物理课后习题(保密)

半导体物理课后习题(保密)

解: 须先求出本征载流子浓度ni,即
代入数据得,ni=1.86 ×1013cm-3 根据电中性条件有 p0+ND+=n0+NA-
ni
q( n p )
i

1 i ( n p )
联立 载流子浓度公式
n0p0=ni2
可求解得 n0=3.89 ×1013cm-3, p0=8.89 ×1012cm-3 所以样品的电导率为:
解: 由图3-7查得T=500k时,Si的本征载流子浓度ni=3.5×1014cm-3 联立方程
p0=ni2/n0
解得, ND=3.5×1014cm-3时,n0≈4.3×1014cm-3, p0=2.8×1014cm-3 —— n0,p0差别不显著,杂质导电特性不很明显 ND=1012cm-3时,n0≈ni=3.5×1014cm-3, p0=3.5×1014cm-3,即n0=p0. —— 进入本征 半导体材料在某一温度下所处的区域与杂质浓度相关 或 杂质浓度不同,材料进入同一区域所需要的温度不一样。
m0为电子惯性质量,k1=1/2a; a=0.314nm。试求: (1)禁带宽度; (2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量; (4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
练习2-课后习题2
第一章 半导体中的电子状态
2.晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m和107V/m 的电 场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
作业-课后习题14
第三章 半导体中载流子的统计分布
计算含有施主杂质浓度ND=9×1015cm-3与受主杂质浓度为1.1×1016cm-3 的硅在室温时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。

半导体物理学答案 第二章

半导体物理学答案  第二章

第五章 金属-半导体接触1、 用不同波长的光照射置于真空中的金、银、铜三种金属和施主浓度皆为1×1016cm -3的锗、硅、砷化镓三种半导体的清洁表面,欲使其向真空发射电子,求各自的激发光临界波长。

计算时需要的相关参数见表5-1和5-2(下同)。

解:根据能量与波长关系:λγchh E ==可得Ehc =λ 金、银、铜三种金属的功函数分别为5.20eV 4.42eV 4.59eV 施主浓度皆为1×1016cm -3的锗、硅、砷化镓三种半导体的功函数分别为 4.31eV 4.25eV 4.17eV对于金:nm E hc 239106.120.51031062.619834=⨯⨯⨯⨯⨯==--λ 对于银:nm E hc 281106.142.41031062.619834=⨯⨯⨯⨯⨯==--λ对于铜:nm E hc 270106.159.41031062.619834=⨯⨯⨯⨯⨯==--λ 对于锗:nm E hc 288106.131.41031062.619834=⨯⨯⨯⨯⨯==--λ 对于硅:nm E hc 292106.125.41031062.619834=⨯⨯⨯⨯⨯==--λ对于砷化镓:nm E hc 298106.117.41031062.619834=⨯⨯⨯⨯⨯==--λ 2、 计算N D = 5×1016cm -3 的n-Si 室温下的功函数。

将其分别与铝、钨、铂三种金属的清洁表面相接触,若不考虑表面态的影响,形成的是阻挡层还是反阻挡层?分别画出能带图说明之。

解:设室温下杂质全部电离,则其费米能级由n 0=N D =5⨯1015cm -3求得:17C C C 19C 10ln 0.026ln 0.15 eV 2.810D F NE E kT E E N =+=+=-⨯ 其功函数即为:C () 4.050.15 4.20V SF W E E e χ=+-=+=若将其与功函数较小的Al (W Al =4.18eV )接触,则形成反阻挡层,若将其与功函数较大的Au (W Au =5.2eV )和Mo (W Mo =4.21eV )则形成阻挡层。

半导体物理课后习题解答

半导体物理课后习题解答

半导体物理课后习题解答The saying "the more diligent, the more luckier you are" really should be my charm in2006.半导体物理习题解答1-1.P 32设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c k 和价带极大值附近能量E v k 分别为:E c k=0223m k h +022)1(m k k h -和E v k= 0226m k h -0223m k h ;m 0为电子惯性质量,k 1=1/2a ;a =;试求: ①禁带宽度;②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化; 解 ①禁带宽度Eg根据dk k dEc )(=0232m kh +012)(2m k k h -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值:k min =143k ,由题中E C 式可得:E min =E C K|k=k min =2104k m h ; 由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V k|k=k max =02126m k h ;∴Eg =E min -E max =021212m k h =20248a m h=112828227106.1)1014.3(101.948)1062.6(----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯= ②导带底电子有效质量m n0202022382322m h m h m h dkE d C =+=;∴ m n =022283/m dk E d h C= ③价带顶电子有效质量m ’2226m h dk E d V -=,∴0222'61/m dk E d h m Vn -== ④准动量的改变量h △k =h k min -k max = ah k h 83431=毕1-2.P 33晶格常数为的一维晶格,当外加102V/m,107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间; 解 设电场强度为E,∵F =hdtdk=q E 取绝对值 ∴dt =qE h dk∴t=⎰tdt 0=⎰a qE h 210dk =aqE h 21 代入数据得: t =E⨯⨯⨯⨯⨯⨯--1019-34105.2106.121062.6=E 6103.8-⨯s当E =102 V/m 时,t =×10-8s ;E =107V/m 时,t =×10-13s; 毕3-7.P 81①在室温下,锗的有效状态密度Nc =×1019cm -3,Nv =×1018cm -3,试求锗的载流子有效质量m n 和m p ;计算77k 时的Nc 和Nv;已知300k 时,Eg =;77k 时Eg =;求这两个温度时锗的本征载流子浓度;②77k,锗的电子浓度为1017cm -3,假定浓度为零,而Ec -E D =,求锗中施主浓度N D 为多少解 ①室温下,T=300k27℃,k 0=×10-23J/K,h=×10-34J·S , 对于锗:Nc =×1019cm -3,Nv=×1018cm -3: ﹟求300k 时的Nc 和Nv : 根据3-18式:Kg T k Nc h m h T k m Nc n n 312332192340322*3230*100968.53001038.114.32)21005.1()10625.6(2)2()2(2---⨯=⨯⨯⨯⨯⨯⨯=⋅=⇒⋅=ππ根据3-23式:Kg T k Nv h m h T k m Nv p p 312332182340322*3230*1039173.33001038.114.32)2107.5()10625.6(2)2()2(2---⨯=⨯⨯⨯⨯⨯⨯=⋅=⇒⋅=ππ﹟求77k 时的Nc 和Nv : 同理:﹟求300k 时的n i : 求77k 时的n i :72319181902110094.1)771038.12106.176.0exp()107.51005.1()2exp()(---⨯=⨯⨯⨯⨯⨯-⨯⨯⨯=-=T k Eg NcNv n i ②77k 时,由3-46式得到:Ec -E D ==××10-19;T =77k ;k 0=×10-23;n 0=1017;Nc =×1019cm -3;;==-16192231917200106.610365.12)]771038.12106.101.0ex p(10[2)]2ex p([⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯-=-Nc T k E Ec n N D D 毕3-8.P 82利用题7所给的Nc 和Nv 数值及Eg =,求温度为300k 和500k 时,含施主浓度N D =5×1015cm -3,受主浓度N A =2×109cm -3的锗中电子及空穴浓度为多少 解1 T =300k 时,对于锗:N D =5×1015cm -3,N A =2×109cm -3:3130211096.1)2exp()(-⨯=-=cm Tk EgNcNv n i ;159150105102105⨯≈⨯-⨯=-=A D N N n ;i n n >>0;1015213020107.7105)1096.1(⨯≈⨯⨯==n n p i ; 2T =300k 时:eV T T Eg Eg 58132.023550050010774.47437.0)0()500(242≈+⨯⨯-=+⋅-=-βα;查图3-7P 61可得:16102.2⨯≈i n ,属于过渡区,162122010464.22]4)[()(⨯=+-+-=iA D A D n N N N N n ;1602010964.1p ⨯==n n i ;此题中,也可以用另外的方法得到n i :)2exp()(500300)(500300)(0212323300'2323300'Tk EgNcNv n Nv N Nc N i k vk c-=⨯=⨯=;;求得n i 毕3-11.P 82若锗中杂质电离能△E D =,施主杂质浓度分别为N D =1014cm -3及1017cm -3,计算199%电离,290%电离,350%电离时温度各为多少 解未电离杂质占的百分比为:DD D D N NcD T kE T k E Nc N D 2_ln ex p 2_00=∆⇒∆=; 求得:116106.11038.101.019230=⨯⨯⨯=∆--T k E D ; ∴)_10ln()2102_ln(2_ln 11623152315T D N N T D N Nc D T D D D =⨯⨯⨯==(1) N D =1014cm -3,99%电离,即D_=1-99%= 即:3.2ln 23116-=T T 将N D =1017cm -3,D_=代入得:即:2.9ln 23116-=T T (2) 90%时,D_=即:T T ln 23116= N D =1017cm -3得:10ln 3ln 23116-=T T即:9.6ln 23116-=T T ;(3) 50%电离不能再用上式 ∵2DD D N n n ==+即:)exp(21)exp(21100Tk E E N T k E E N F D DF D D --+=-+ ∴)ex p(4)ex p(00Tk E E T k E E FD F D --=- 即:2ln 0T kE E DF -= 取对数后得:整理得下式:Nc N T k E D D 2ln 2ln 0=-∆-∴ NcNT k E D D ln 0=∆- 即:DD N NcT k E ln 0=∆ 当N D =1014cm -3时,得3ln 23116+=T T当N D =1017cm -3时9.3ln 23116-=T T此对数方程可用图解法或迭代法解出; 毕3-14.P 82计算含有施主杂质浓度N D =9×1015cm -3及受主杂质浓度为×1016cm -3的硅在300k 时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置;解对于硅材料:N D =9×1015cm -3;N A =×1016cm -3;T =300k 时 n i =×1010cm -3:3150102-⨯=-=cm N N p D A ;∵D A N N p -=0且)(ex p Nv 00TK E E p FV -⋅= ∴)ex p(0Tk E E Nv N N F V DA -=-∴eV Ev eV Ev Nv N N T k Ev E D A F 224.0)(101.1102.0ln 026.0ln 19160-=⨯⨯-=--= 毕3-18.P 82掺磷的n 型硅,已知磷的电离能为,求室温下杂质一般电离时费米能级的位置和磷的浓度;解n 型硅,△E D =,依题意得: ∴D FD DN Tk E E N 5.0)exp(210=--+∴21)ex p(2)ex p(2100=--⇒=--+T k E E T k E E F D F D ∴2ln 2ln 21ln000T k E E E E T k T k E E F C C D F D =-+-⇒=-=- ∵044.0=-=∆D C D E E E∴eV T k E E T k E E C F C F 062.0044.02ln 044.02ln 00=--=-⇒--=毕3-19.P 82求室温下掺锑的n 型硅,使E F =E C +E D /2时的锑的浓度;已知锑的电离能为; 解由2DC F E E E +=可知,E F >E D ,∵EF 标志电子的填充水平,故ED 上几乎全被电子占据,又∵在室温下,故此n 型Si 应为高掺杂,而且已经简并了; ∵eV E E E D C D 039.0=-=∆ 即200<-<Tk E E FC ;故此n 型Si 应为弱简并情况; ∴)exp(21)exp(21000T k E N T k E E N n n DDD F D D ∆+=-+==+∴)(106.6)026.00195.0()]026.00195.0exp(21[108.22)026.00195.0()]026.0039.0exp()026.00195.0exp(21[2)()]exp()exp(21[2)()]exp(21[2319211921021000210-⨯≈-⨯+⨯⨯=-⨯-+=-⨯∆-+=-⨯-+=cm F F NcT k E E F T k ET k E E NcT k E E F T k E E NcN C F D c F C F DF D ππππ其中4.0)75.0(21=-F毕3-20.P 82制造晶体管一般是在高杂质浓度的n 型衬底上外延一层n 型的外延层,再在外延层中扩散硼、磷而成;①设n 型硅单晶衬底是掺锑的,锑的电离能为,300k 时的E F 位于导带底下面处,计算锑的浓度和导带中电子浓度;解 ①根据第19题讨论,此时Ti 为高掺杂,未完全电离:T k E E F C 02052.0026.00=<=-<,即此时为弱简并∵)exp(2100Tk E E N n n DF DD -+=≈+其中3.0)1(21=-F毕4-1.P 113300K 时,Ge 的本征电阻率为47Ω·cm,如电子和空穴迁移率分别为3900cm 2/V ·S 和1900cm 2/V ·S,试求本征Ge 的载流子浓度;解T=300K,ρ=47Ω·cm,μn =3900cm 2/V ·S,μp =1900 cm 2/V ·S313191029.2)19003900(10602.1471)(1)(1--⨯=+⨯⨯=+=⇒+=cm q n q n p n i p n i μμρμμρ毕4-2.P 113试计算本征Si 在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1350cm 2/V ·S 和500cm 2/V ·S;当掺入百万分之一的As 后,设杂质全部电离,试计算其电导率;比本征Si 的电导率增大了多少倍解T=300K,,μn =1350cm 2/V ·S,μp =500 cm 2/V ·S 掺入As 浓度为N D =×1022×10-6=×1016cm -3杂质全部电离,2i D n N >>,查P 89页,图4-14可查此时μn =900cm 2/V ·S毕4-13.P 114掺有×1016 cm -3硼原子和9×1015 cm -3磷原子的Si 样品,试计算室温时多数载流子和少数载流子浓度及样品的电阻率; 解N A =×1016 cm -3,N D =9×1015 cm -3 可查图4-15得到7=ρΩ·cm根据316cm 102-⨯=+D A N N ,查图4-14得ρ,然后计算可得;毕4-15.P 114施主浓度分别为1013和1017cm -3的两个Si 样品,设杂质全部电离,分别计算:①室温时的电导率;解n 1=1013 cm -3,T =300K,n 2=1017cm -3时,查图可得cm n ⋅Ω=800μ 毕5-5.P 144n 型硅中,掺杂浓度N D =1016cm -3,光注入的非平衡载流子浓度Δn =Δp =1014cm -3;计算无光照和有光照时的电导率; 解n-Si,N D =1016cm -3,Δn =Δp =1014cm -3,查表4-14得到:400,1200=≈p n μμ: 无光照:)/(92.1120010602.1101916cm S q N nq n D n ≈⨯⨯⨯===-μμσΔn =Δp<<N D ,为小注入: 有光照: 毕5-7.P 144掺施主杂质的N D =1015cm -3n 型硅,由于光的照射产生了非平衡载流子Δn =Δp =1014cm -3;试计算这种情况下准费米能级的位置,并和原来的费米能级做比较; 解n-Si,N D =1015cm -3,Δn =Δp =1014cm -3, 光照后的半导体处于非平衡状态: 室温下,Eg Si =; 比较:由于光照的影响,非平衡多子的准费米能级nF E 与原来的费米能级F E 相比较偏离不多,而非平衡勺子的费米能级p F E 与原来的费米能级F E 相比较偏离很大;毕5-16.P 145一块电阻率为3Ω·cm 的n 型硅样品,空穴寿命s p μτ5=,再其平面形的表面处有稳定的空穴注入,过剩空穴浓度313010)(-=∆cm p ,计算从这个表面扩散进入半导体内部的空穴电流密度,以及在离表面多远处过剩空穴浓度等于1012cm -3 解 cm ⋅Ω=3ρ;s p μτ5=,313010)(-=∆cm p : 由cm ⋅Ω=3ρ查图4-15可得:3151075.1-⨯≈cm N D , 又查图4-14可得:S V cm p ⋅≈/5002μ 由爱因斯坦关系式可得:S cm S cm q T k D p p /5.12/500401220=⋅==μ 所求)exp()()()(0pp p p p D xp D D q x p Lp Dp q Jp ττ-∆=∆=扩 而cm D Lp p p 36109057.7cm 1055.12-⨯≈⨯⨯==-τ 毕。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体物理学简答题及答案

半导体物理学简答题及答案

第一章 1.原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同, 原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同。

答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的束缚作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。

当原子互相靠近结成固体时,各个原子的内层电子仍然组成围绕各原子核的封闭壳层,和孤立原子一样;然而,外层价电子则参与原子间的相互作用,应该把它们看成是属于整个固体的一种新的运动状态。

组成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相似,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相似。

2.描述半导体中电子运动为什么要引入"有效质量"的概念, 用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性。

答:引进有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。

惯性质量描述的是真空中的自由电子质量,而不能描述能带中不自由电子的运动,通常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说, 对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此,为什么?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于掺杂的浓度,掺杂浓度高,禁带就会变窄,掺杂浓度低,禁带就比较宽。

4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:"有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄.是否如此,为什么?答:有效质量与能量函数对于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1(k)随k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。

5.简述有效质量与能带结构的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。

6.从能带底到能带顶,晶体中电子的有效质量将如何变化?外场对电子的作用效果有什么不同;答:在能带底附近,电子的有效质量是正值,在能带顶附近,电子的有效质量是负值。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案(总6页) --本页仅作为文档封面,使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t?后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

半导体物理第一章习题答案

半导体物理第一章习题答案

第1章半导体中的电子状态补充题1、室温下自由电子的热速度大约是105m/s ,试求其德布洛意波长。

解:该自由电子的动量为3152609.1110109.1110kg.m/s P m v --==⨯⨯=⨯按德布洛意关系,可知其德布洛意波长349261 6.625107.2710m 7.27nm 9.1110h k P λ---⨯====⨯=⨯ 补充题2、参照元素周期表的格式列出可直接构成或作为化合物组元构成半导体的各主要元素,并按共价键由强到弱的顺序写出两种元素半导体和八种化合物半导体,并熟记例如:金刚石、硅、碳化硅、GaAs 、GaN 、ZnS 、CdS 、Cu 2O1.设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E C (k )和价带极大值附近能量E V (k )分别为22222222110000()3()()36c v h k k h k h k h k E k E k m m m m -=+=-和 , m 0为电子惯性质量,k 1 =(2a)-1,a = 0.314 nm 。

试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量;④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。

解:⑴求禁带宽度即求导带极小值与价带极大值之差。

由0)(23201202=-+=m k k h m k h dk dE C 知导带在ak k C 83431==处有其唯一的极小值22222min 200013()328()()3816c h h h a a E m am m a -=+= 同理,由0602=-=m kh dk dE V 知价带在k V =0处有其唯一的极大值2022102max 246)(am h k m h E V == 于是知禁带宽度202202202max min 482416)()(am h a m h a m h E E E V C g =-=-= 代入数据h =6.625⨯10-34J ⋅s ,m 0=9.1⨯10-31kg ,a =0.314nm=3.14⨯10-10m ,并利用单位换算1J =0.625⨯1018eV ,最后得eV 64.0=g E⑵按电子有效质量的定义,欲求导带底电子的有效质量须首先求出导带极小值附近E (k )函数二阶导数的值。

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习题参考答案第一章1)求基函数为一般平面波、哈密顿量为自由电子系统的哈密顿量时,矩阵元1ˆ1H和2ˆ1H 的值。

解:令rk i eV⋅=111,r k i e V⋅=212,222ˆ∇-=m H,有: m k r d e e mV k r d e Vm e V H r k i V r k i r k i V r k i 221)2(11ˆ121202122201111 =⋅=∇-=⋅⋅-⋅⋅-⎰⎰021)2(12ˆ121210222220=⋅=∇-=⋅⋅-⋅⋅-⎰⎰r d e e mV k r d e Vm e V H r k i V r k i r k i V r k i2)证明)2(πNal k =,)2(πNa l k '=',l '和l 均为整数。

证:由Bloch 定理可得:)()(r e R r nR ik n ψψ⋅=+考虑一维情况,由周期性边界条件,可得:ππψψψ221)()()(Nalk l Na k e r e r Na r Na ik Na ik =⇒=⋅⇒=⇒==+⇒⋅⋅ 同理可证)2(πNal k '='。

3)在近自由电子近似下,由022122ˆ11ˆ1=--E H HHE H推导出0)()(0021=--εεεεk n n k V V 。

解:令r k i e V⋅=111,r k i e V ⋅=212, V r V V m V V r V m r V m H -++∇-=-++∇-=+∇-=)(2)(2)(2ˆ222222V m Vk V V V m V k r d e V e Vr d e r V e V V m V k r d e VV r V V m e V H r k i V r k i r k i V r k i r k i Vr k i +=-++=-++=-++∇-=⋅⋅-⋅⋅-⋅⋅-⎰⎰⎰2)2(1)(1)2(1])(2[11ˆ121221200212220111111令V mVk k +=221201ε,即有011ˆ1k H ε=。

同理有:022ˆ2k H ε=。

nr k i V r k i r k i Vr k i V r d e r V e V r d e Vr V m e V H =+=+∇-=⋅⋅-⋅⋅-⎰⎰2121)(101)](2[12ˆ10220其中r d er V eVV rk i Vrk i n⋅⋅-⎰=21)(10,是周期场V(x)的第n 个傅立叶系数。

同理,nV H =1ˆ2。

于是有:0)()(0021=--εεεεk n nk V V 。

4)证明当mR k i m e N a⋅=1时,)()(m n R m n R r a r m-=∑φψ具有bloch 波函数的形式。

证:将mR k i m eNa ⋅=1代入)()(m n R m n R r a r m-=∑φψ,有: )(1)(m n R R k i n R r e N r mm-=∑⋅φψ要证明)(r nψ具有bloch 波函数的形式,只要证明)()(r e R r n R k i n n nψψ⋅=+即可。

因为:)]([1)(1)()(n m n R R R k i R k i m n n R R k i n n R R r e N e R R r e N R r mnm n mm--=-+=+∑∑-⋅⋅⋅φφψ 令n m l R R R-=,即有:)(1)(l n R R R k i R k i n n R r eNeR r nl ln-=+∑+⋅⋅φψ,由于求和遍及所有格点,有:)(1)(1l n R R k i l n R R R k i R r e N R r e N llnl l-=-∑∑⋅+⋅φφ,于是有:)()(1)(r e R r e N e R r n R k i l n R R k i R k i n n n llnψφψ⋅⋅⋅=-=+∑,证毕。

5)写出用紧束缚近似LCAO 方法求解硅材料能带的思路,计算)(2k g。

解:取如右图的坐标系,坐标系原点位置原子的最近邻原子坐标为:考虑令⎰-=r d r H r r r H S j y j yS )()(4)(*ϕϕ,绕x 轴转π,31r r →,**y y ϕϕ-→;绕y 轴转π,41r r→,**y y ϕϕ→;绕z 轴转π,21r r→,**y y ϕϕ-→ 也即 )()()()(4321r H r H r H r H yS yS yS yS=-=-=,于是有{})()(}2cos 2sin 2cos 2sin 2cos 2sin ){()}(2sin 2cos 2)(2cos 2sin2{4)()}22sin(2)22sin(2{4)()]}(2exp[)](2exp[)](2exp[)](2{exp[4)(4)(21122221221114321k g r H k k k i k k k r H eek k i eek k i r H k k i ek k i er H k k k ik k k i k k k ik k k ir H eeeer H A H B yS z y x z y x yS k ik iy x k ik iy x yS y x k iy x k iyS z y x z y x z y x z y x yS r k i r k i r k i r k i yS S y zzzzzz=+-=++-=--+=-+-+---+---++=+--=---⋅⋅⋅⋅ππππππππππππππππππππππππzy x z y x k k k i k k k k g 2cos 2sin 2cos 2sin 2cos 2sin )(2ππππππ+-=其中),,(2z y x k k k ak π=)1,1,1(4 ),1,1,1(4),1,1,1(4 ),1,1,1(4 4321ar ar ar ar ==== 'τj r⎰⎰⎰⎰∑⎰-+-+-+-=-=⋅⋅⋅⋅=⋅rd r H r re r d r H r r e rd r H r re r d r H r r e rd r H r re A H B S y r k i S yr k i S y r k i S y r k i j S j y r k i Sy j)()()()()()()()()()(4*3*2*2*4,3,2,1*4321ϕϕϕϕϕϕϕϕϕϕ6)写出p k⋅微扰方法的主要思路。

答:将已知 0k 处的)(0r u nk和)(0k E n 作为零级近似,求附近k k k ∆+=0处的)(r u nk 和)(k E n 值。

3,2,1)(0=n r u nk 形成一组正交、完备的基函数,p k ⋅∆作为微扰来处理。

通过k k k ∆+→0进一步扩展到整个布里渊区。

第二章1)请问分布函数),(t k f 的物理意义。

答:t 时刻,单位体积内运动状态为k 的电子数目。

2)请用文字说明:a )如何得到玻尔兹曼方程;b )通过该方程,如何得到材料的电导率计算公式。

答:电子系统的分布函数随时间的变化率可表示成漂移项、碰撞项与扩散项的总和。

当系统达到平衡态时,电子分布函数随时间的变化率为零。

恒温条件下,忽略电子密度在空间的不均匀性引起的扩散项,因此恒定电磁场引起的漂移项与散射引起的碰撞项的和为零,即为波尔兹曼方程。

在弛豫时间近似下,考虑均匀材料恒温零磁场、弱电场下的非简并电子气,将分布函数按电场强度的幂次展开。

考虑到分布函数变化的一级小量,根据电流密度⎰=-=E dn v e Jσ关系,可得电导率σ的计算公式,它取决于弛豫时间、能带结构和分布函数。

3)请问何为弛豫时间近似?为何要引入该近似?如何通过理论求弛豫时间?如何通过实验求弛豫时间?答:考虑到碰撞促使系统趋向平衡态这一基本特点,引入弛豫时间)(k τ使得碰撞⎪⎭⎫⎝⎛∂∂=--t f k f f )(0τ,即碰撞引起的分布函数的变化率。

因为只有碰撞作用时,上式对t 积分得到的解是τ/00)(t e f f f f -∆=-=∆。

我们看到,弛豫时间大致度量了恢复平衡所用的时间。

从理论上定量的求出弛豫时间需要具体计算系统中各种散射机制,根据不同的散射机制,计算散射矩阵元和电子的跃迁几率,积分得到)(k τ,存在多种散射机制时∑=iiττ11。

实验上测定弛豫时间:利用)(k τ与散射截面c σ的关系,Nv k c στ=-1)(,实验上测定c σ来计算)(k τ。

4)若给出)422(233*422*3*2233*422*3*2-⎪⎪⎭⎪⎪⎬⎫⋅⋅⋅+--=⋅⋅⋅+-+=z y z x y y z x z y x x B m ne B m ne m ne J B m ne B m ne m ne J τετετεττετ请你推导出Hall 系数nene R H 122≈=ττ和磁阻公式。

答:在一个长方形样品的Hall 系数测量中,假设外加电流方向为x 方向,磁场B 沿z 方向,由于载流子在磁场中运动发生偏转,我们在y 方向上可探测到电压。

由于在y 方向无电流,0=y J,积累的电场为 y ε 。

若仅考虑的一次方项,在稳态下)1(2*zx y B m e εττε=Hall 系数将(1)式代入(2-42)中x J表达式磁阻为磁场在x 方向引起的电流变化其中 22322ττττζ+-=,称为磁阻系数。

nene ne m ne m e j m e B j B m e B j R x xxxzx zx zx yH 1222*2*2*2*2≈======τττττετεττεττεττε⋅⋅⋅+-+=⋅⋅⋅+-+=233*422*22*3*2233*422*3*2z x z x x z x z y x x B mne B m e m ne m ne B m ne B m ne m ne J ετετττετετττ22*22322232*22222*2*2233*422*22*3*2*200z z zx z x z x x x x xBx m B me B me B me m ne B m ne B m e m ne m ne m ne J J J R τττττττττετετετττετετ+-=+-=+--=-=222232222222*2222232222*223222*)()(z H z H z z m H B B B m eB m e R m e μςμττττττττττττττττττμ=+-=+-=+-=∴=5)在霍尔效应中,ε和x J为什么不在同一方向上?两者夹角的大小和正负与什么因素有关?答:由于在y 方向存在电场,电流和电场并不在同一方向上,两者的夹角称为Hall 角。

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