有关官能团的保护

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有机合成中的基团保护、导向基(高考必备)

(一)基团保护

在有机合成中,些不希望起反应的官能团,在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应,这样就不能达到预计的合成目标,因此,必须采取对这些基团进行保护,完成合成后再除去保护基,使其复原。

对保护措施一定要符合下列要求:①只对要保护的基团发生反应,而对其他基团不反应;②反应较容易进行,精制容易;③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其他基团。

下面只简略介绍要保护的基团的方法。 1、羟基的保护

在进行氧化反应或某些在碱性条件进行的反应,往往要对羟基进行保护。如防止羟基受碱的影响,可用成醚反应。

防止羟基氧化可用酯化反应。

2、对氨基的保护

氨基是个很活泼的基团,在进行氧化、烷基化、磺化、硝化、卤化等反应时往往要对氨基进行保护。

(1)乙酰化

(2)对NR 2可以加H + 质子化形成季铵盐,– NH 2也可加H + 成 – NH

3而

保护。

3、对羰基的保护

羰基,特别是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。对羰基的保护一般采用缩醛或缩酮反应。

4、对羧基的保护

羧基在高温或遇碱性试剂时,有时也需要保护,对羧基的保护最常用的是酯

– OH –OR

– NH 2 CH 3

COCl

或酸酐

–NH 2-C -CH 3

O

–COOH + R –OH – COOR

H +

–CHO + 2ROH – CH(OR)2

H +

-O -C -R

O

– OH

化反应。

5、对不饱和碳碳键的保护

碳碳重键易被氧化,对它们的保护主要要加成使之达到饱和。

(二)导向基

在有机合成中,往往要“借”某个基团的作用使其达到预定的目的,预定目的达到后,再把借来的基团去掉,恢复本来面貌,这个“借”用基团 我们叫“导向基”。当然这样的基团,要符合易“借”和易去掉的原则,如由苯合成1,3,5 – 三溴苯,在苯的亲电取代反应中,溴是邻、对位取代基,而1,3,5 – 三溴苯互居间位,显然不是由溴的定位效应能引起的。但如苯上有一个强的邻、对位定位基存在,它的定位效应比溴的定位效应强,使溴进入它的邻、对位,这样溴就会呈间位,而苯环上原来并无此类基团,显然要在合成时首先引入,完成任务后,再把它去掉,恰好氨基能完成这样的任务,因为它是一个强的邻、对位定位基,它可如下引入:

– H → – NO 2 → – NH 2 ,同时氨基也容易去掉:– NH 2 → – N 2 → – H 因此,它的合成路线是:

根据导向基团的目的不同,可分为下列几种情况: 1、致活导向

假如要合成 可以用 但这种方法产率低,因为丙酮两个甲基活性一样,会有副反应发生:

但在丙酮的一个甲基上导入一个致活基团,使两个甲基上的氢的活性有显著

O

C 6H 5

O

+ C 6H 5

Br

O

C 6H 5

C 6H 5

Br O

O COOC 2H 5O

C 6H 5

C 6H 5

Br

碱 C 6H 5

Br

O C 6H 5

C 6H 5

O

差别,这可用一个乙酯基(–COOC2H5)导入丙酮的一个甲基上,则这个甲基的氢有较大的活性,使这个碳成为苄基溴进攻的部位,因此,利用乙酰乙酸乙酯而不用丙酮,完成任务后,把乙酯基水解成羧基,利用β–酮酸易于脱羧的特性将导向基去掉,于是得出合成路线为:

2、致钝导向

活化可以导向,有时致钝也能导向,如合成

氨基是很强的邻、对位定位基,进行取代反应时容易生成多元取代物:

如只在苯胺环上的氨基的对位引入一个溴,必须将氨基的活性降低,这可通过乙酰化反应来达到,同时乙酰氨基是一个邻、对位定位基,而此情况下对位产物是主要产物:

3、利用封闭特定位置来导向

例如合成,用苯胺为起始原料,用混酸硝化,一方面苯胺易被硝酸氧化,另

一方面,苯胺与硫酸还会生成硫酸盐,而是一个间位定位基,硝化时得到

,所以苯胺硝化时,要把苯胺乙酰化后,再硝化。

H2N Br

NH2

+ Br2

NH2

Br

Br Br

NH2

Br

NHCOCH3

Br

Br2H

2O

NHCOCH3 NH2

NH2

NO2

– NH3SO4H

NH23

2

(90%)

+

NO2

NHCOCH3

微量

NH2

NO2

(主要)

+

NH2

NO2

微量

NH2

NO2

由于乙酰基此时主要是对位产物,所以仍不能达到目的。如果导向一个磺酸基,先把氨基的对位封闭,再硝化,可以得到满意结果:

NH 2

NHCOCH 3

SO 3H

3

NH 2

NO 2

NO 2 NHCOCH 3

SO 3H

57%H 2S

煮沸

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