无机材料测试技术期末复习资料 2
材料测试技术课后题答案
大功率转靶衍射仪与普通衍射仪相比，在哪两方面有其优越性？答：①提高X射线强度：②缩短了试验时间2、何为特征X射线谱？特征X射线的波长与（管电压）、（管电流）无关，只与（阳极材料）有关。
答：由若干条特定波长的谱线构成。
当管电压超过一定的数值（激发电压V激）时产生。
不同元素的阳极材料发出不同波长的X射线。
因此叫特征X射线。
什么是Ka射线？在X射线衍射仪中使用的是什么类型的X射线？答：L壳层中的电子跳入K层空位时发出的X射线，称之为Ka射线。
Ka射线的强度大约是K 6射线强度的5倍，因此，在实验中均采用Ka射线。
Ka谱线又可分为Kal和Ka 2, K a 1的强度是K a 2强度的2倍，且Kal和Ka 2射•线的波长非常接近，仅相差0.004A左右，通常无法分辨，因此，一般用Ka来表示。
但在实际实验中有可能会出现两者分开的情况。
AI是面心立方点阵，点阵常数a=4.049A,试求（111）和（200）晶面的面间距。
计算公式为:dhkl=a （h2+k2+l2）-l/2答：dlll=4.049/（12+12+12）-l/2=2.338A：d200=4.049/（22）-l/2=2.0245A说说不相干散射对于衍射分析是否有利？为什么？答：有利。
不相干散射线由于波长各不相同，因此不会互相干涉形成衍射，所以它们散布于各个方向，强度一般很低，它们在衍射工作中只形成连续的背景。
不相干散射的强度随sin 0/'的增大而增强，而且原子序数越小的物质，其不相干散射愈大，造成对衍射分析工作的不利影响。
6、在X射线衍射分析中，为何要选用滤波片滤掉KB射线？说说滤波片材料的选取原则。
实验中，分别用Cu靶和M。
靶，若请你选滤波片，分别选什么材料？答：（1）许多X射线工作都要求应用单色X射线，由于Ka谱线的强度高，因此当要用单色X 射线时，一般总是选用Ka谱线。
但从X射线管发出的X射线中，当有Ka线时，必定伴有KB 谱线及连续光谱，这对衍射工作是不利的，必须设法除去或减弱之，通常使用滤波片来达到这一目的。
无机材料测试技术习题库
无机材料测试技术习题库第一章X射线物理学基础一、名词解释1、特征X射线2、连续X射线3、吸收限（λk）4、光电效应5、俄歇电子6、质量吸收系数7、相干散射8、非相干散射9、荧光X射线10、X射线强度11、AES二、填空1、产生X射线的基本条件、、。
2、X射线的强度是指内通过垂直于X射线方向的单位面积上的。
3、探测X射线的工具是：。
4、影响X射线强度的因素是：。
5、检测X射线的方法主要有：。
6、X射线谱是的关系。
7、吸收限的应用主要是、、。
8、当X射线的或吸收体的愈大时X射线愈容易被吸收。
9、一束X射线通过物质时，它的能量可分为三部分：、和。
10、X射线与物质相互作，产生两种散射现象，即和。
11、物质对X射线的吸收主要是由引起的。
三、判断1、入射X射线光子与外层电子或自由电子碰撞时产生相干散射。
2、由X射线产生X射线的过程叫做光电效应。
3、X射线与物质作用，有足够能量的X射线光子激发原子K层的电子，外层电子跃迁填补，多余的能量使L2、L3、M、N等层的电子逸出，这个过程叫做光电效应。
4、由X射线产生X射线的过程叫俄歇效应。
5、连续谱中，随V增大，短波极限值增大。
6、当X射线的波长愈短，或者穿过原子序数愈小的物质时，其吸收就愈大。
7、具有短波极限值的X射线强度最大。
8、具有短波极限值的X射线能量最大。
9、X射线成分分析的理论基础是同种原子发出相同波长的连续X射线。
10、当高速电子的能量全部转换为X射线光子的能量时产生λ0，此时强度最大，能量最高。
11、当高速电子的能量全部转换为X射线光子的能量时产生λ0，此时强度最大。
四、简答及计算：1、什么是莫赛莱定律，莫赛莱定律的物理意义是什么？2、简述特征X射线产生的机理。
3、简述衍射定性物相鉴定的程序。
4、X射线定量分析的基础是什么？5、X射线物相分析有哪些特点？6、试计算空气对CrKα辐射的质量吸收系数和线吸收系数。
假定空气中含有80％（重量）的氮和20％（重量）的氧，空气密度ρ＝0.0013g/cm3。
无机非金属材料专业《无机材料测试技术》试卷及答案
学年第二学期《无机材料测试技术》考试试卷A一、填空题（共25分，每空1分）1、第一个发现X射线的科学家是伦琴教授，第一个进行X射线衍射实验的科学家是爱迪生。
2、莫塞来定律反映了材料产生的线谱频率与其原子序数的关系。
3、同一元素的入Kα1、入Kα2、入Kβ的相对大小依次为___β＜α1＜α2________；能量从小到大的顺序是__反过来________。
(注：用不等式标出)。
4、X射线分析技术的方法有：粉末法，；劳厄法、转晶法、四园衍射法、等倾魏森堡。
5、扫描电子显微镜的电子成像主要有二次电子像和背散射电子像。
6、。
7、XRD、TEM、SEM、DTA、透射电镜、扫描电镜、差热分析法。
8和电磁透镜。
9、电子探针X射线显微分析中常用X射线谱仪有波长色散谱和能量色散谱。
波普分析元素范围为4Be~92U，分辨率为5eV能谱分析范围为11Na~92U，分辨率为145~155eV..10、测角仪在采集衍射图时，如果试样表面转到与入射线成30°角，则计数管与入射线所成角度为120°；能产生衍射的晶面，与试样的自由表面呈关系。
二、名词解释（共15分，每小题3分）1、K系辐射：如果原子最内层的K层一个电子被激发掉，而由邻近的L层的电子跃入填补，则辐射Kα；由M层电子跃入填补K层则辐射Kβ；由Kα，β，γ......共同形成的为K系辐射2、洛伦兹因数：表示掠射角对衍射强度的影响。
等于1/Sin²θCosθ.3、热重分析：TG，是指在程序控制温度下测量待测样品的质量与温度变化关系的一种热分析技术，用来研究材料的热稳定性和组份。
4、景深和焦深：把透镜物平面允许的轴向偏差定义为透镜的景深。
把透镜像平面允许的轴向偏差定义为透镜的焦深。
5、激发电压：在特征X射线中，当X射线管电压加大到某一临界值V时，高速运动的电子动能足以将阳极物质原子的K层电子激发出来，这个电压叫做激发电压。
三、问答题与计算题（共40分，每题8分）1、如何选用滤波片材料和X射线管？实验中选择X射线管的原则是为避免或减少产生荧光辐射。
《材料工艺学》复习资料
《材料工艺学》复习资料材料工艺学是一门研究材料的制备、加工、性能以及应用之间关系的学科。
它涵盖了众多材料类型，包括金属材料、无机非金属材料、高分子材料等，并且涉及到从原材料到成品的整个工艺流程。
一、材料的分类与性能首先，了解材料的分类是学习材料工艺学的基础。
常见的材料分类方式有按化学成分、按用途、按物理性能等。
金属材料具有良好的导电性、导热性和延展性；无机非金属材料通常具有较高的硬度和耐高温性能；高分子材料则在柔韧性和绝缘性方面表现出色。
材料的性能是决定其应用的关键因素。
力学性能包括强度、硬度、韧性等，这些性能对于结构材料至关重要。
物理性能如密度、热膨胀系数、导热性等影响材料在不同环境下的使用。
化学性能如耐腐蚀性、抗氧化性等决定了材料的使用寿命。
二、材料的制备方法1、金属材料的制备金属材料的制备通常包括采矿、选矿、冶炼和加工等步骤。
冶炼方法有火法冶金和湿法冶金，通过这些方法将矿石中的金属提取出来，然后经过铸造、锻造、轧制等加工工艺，制成各种形状和规格的金属制品。
2、无机非金属材料的制备无机非金属材料的制备方法因材料种类而异。
例如，陶瓷材料通常通过粉末成型和高温烧结制备；玻璃则是将原料熔融后快速冷却而成。
3、高分子材料的制备高分子材料的制备主要有聚合反应，包括加聚反应和缩聚反应。
常见的聚合方法有本体聚合、溶液聚合、乳液聚合和悬浮聚合等。
三、材料的加工工艺1、切削加工切削加工是通过刀具对材料进行去除，以获得所需形状和尺寸的方法。
适用于金属材料和一些硬度较高的非金属材料。
2、成型加工成型加工包括铸造、锻造、冲压、注塑等。
铸造适用于形状复杂的零件生产；锻造能提高材料的强度和韧性；冲压常用于薄板零件的加工；注塑则是高分子材料成型的常用方法。
3、连接加工连接加工有焊接、铆接、粘接等方式。
焊接是通过加热或加压使材料连接在一起；铆接使用铆钉连接部件；粘接则依靠胶粘剂实现连接。
四、材料的表面处理材料的表面处理可以改善其外观、耐腐蚀性和耐磨性等性能。
材料分析测试技术期末考试重点知识点归纳
材料分析测试技术复习参考资料（注：所有的标题都是按老师所给的“重点”的标题，）第一章x射线的性质1.X射线的本质：X射线属电磁波或电磁辐射，同时具有波动性和粒子性特征，波长较为可见光短，约与晶体的晶格常数为同一数量级，在10-8cm左右。
其波动性表现为以一定的频率和波长在空间传播；粒子性表现为由大量的不连续的粒子流构成。
2，X射线的产生条件：a产生自由电子；b使电子做定向高速运动；c在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。
3，对X射线管施加不同的电压，再用适当的方法去测量由X射线管发出的X射线的波长和强度，便会得到X射线强度与波长的关系曲线，称为X射线谱。
在管电压很低，小于某一值（Mo阳极X射线管小于20KV）时，曲线变化时连续变化的，称为连续谱。
在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λo，称为短波限，在高速电子打到阳极靶上时，某些电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子，这个光量子便具有最高的能量和最短的波长，这波长即为λo。
λo=1.24/V。
4，特征X射线谱：概念：在连续X射线谱上，当电压继续升高，大于某个临界值时，突然在连续谱的某个波长处出现强度峰，峰窄而尖锐，改变管电流、管电压，这些谱线只改变强度而峰的位置所对应的波长不变，即波长只与靶的原子序数有关，与电压无关。
因这种强度峰的波长反映了物质的原子序数特征、所以叫特征x射线，由特征X射线构成的x射线谱叫特征x射线谱，而产生特征X射线的最低电压叫激发电压。
产生：当外来的高速度粒子(电子或光子)的动aE足够大时，可以将壳层中某个电子击出去，或击到原于系统之外，或使这个电子填到未满的高能级上。
于是在原来位置出现空位，原子的系统能量因此而升高，处于激发态。
这种激发态是不稳定的，势必自发地向低能态转化，使原子系统能量重新降低而趋于稳定。
这一转化是由较高能级上的电子向低能级上的空位跃迁的方式完成的，电子由高能级向低能级跃迁的过程中，有能量降低，降低的能量以光量子的形式释放出来形成光子能量，对于原子序数为Z的确定的物质来说，各原子能级的能量是固有的，所以．光子能量是固有的，λ也是固有的。
无机材料物理性能实验 (2)
实验一 测定无机非金属材料的介电常数一、实验目的1、掌握测定无机非金属材料介电常数的操作过程二、实验原理相对介电常数通常是通过测量试样与电极组成的电容、试样厚度和电极尺寸求得。
相对介电常数(εr )测试可用三电极或二电极系统。
对于二电极试样，由于方形电容C x 的计算公式是：dYX C ⋅⋅⋅=0r x εε （1）因此，待测材料的介电常数可以表示为：YX dC ⋅⋅⋅=0x r εε （2）式2中C x 为试样电容(法)，X 为电极长度(米)，Y 为电极宽度(米)，d 为电极板之间的距离(米)，ε0=8.854 187 818× 10-12法拉/米(F/m)。
图1 电容法测量材料介电常数示意图测试中，选择电极极为重要。
常用的是接触式电极。
可用粘贴铝箔、烧银、真空镀铝等方法制作电极，但后者不能在高频下使用。
低频测量时，试样与电极应屏蔽。
在高频下可用测微电极以减小引线影响。
在某些特殊场合，可用不接触电极，例如薄膜介电性能测试和频率高于30兆赫时介电性能的测量。
无机材料物理性能课程实验指导书三、实验仪器PGM—2型数字小电容测试仪、玻璃刀、玻璃板、游标卡尺、铝质平板电极、连接导线四、实验步骤1、采取边长为100×100mm的正方型玻璃板，记录电极板的长X、宽Y以及实际玻璃板的厚度d。
2、按照图1连接仪器。
3、开启数字电容仪。
4、松开电极板紧定螺丝，将上电容板台到适当高度，在中间放入一块测量好的玻璃，使上下电容板与玻璃板相接触，然后旋紧固定螺丝。
5、读取电容数字。
6、然后重复4、5步骤，将玻璃板换成2-5块，分别测出其电容值。
7、结束实验，关闭仪器。
实验数据五、思考题1.介电常数与介电材料的厚度有什么样的关系？2.介电现象是如何产生的？实验二 热电效应实验一、实验目的1、了解热电材料的赛贝克(seeback)定律，珀耳帖(Peltier)效应，汤姆孙效应等热电材料的特性。
2、熟练的使用万用表来测量热电效应产生的电势差。
无机材料性能学基础考题本科期末考试 试卷 AB卷带答案 期末考试题 模拟卷 综合试卷自测试卷2套
《无机材料性能学基础》考试题1一、填空题——每空1.5分，共15分1.金属晶体结构有______晶格、__ __晶格和___ __晶格，其中，由____组成的晶体塑性最好。
2.Sterm扩散双电层分为两部分：______和_____ ____。
3.当物质的温度升高时，表面张力将_______，弹性模量将__________，实际抗拉强度将____ _______（填写增高还是降低）4.硅酸盐晶体结构中的最基本结构单元是___或_ [SiO4]_。
三、判断题（只需判断对错，不需改错或说明理由）——每题2分，共10分1. 高聚物交联频率越高，其刚性越强，变形性越小；（）2. 因为缺陷的存在，金属材料的实际抗拉强度远小于其理论抗拉强度，因此，缺陷越多，材料实际强度越小。
（）3. 在金属材料的固溶强化机理中，间隙型固溶强化效果比置换型强化效果好。
（）4. 化学吸附比物理吸附更稳定。
（）5. 温度越高，材料的蠕变越大；（）二、对以下概念作出说明或解释（每个4分，共计16分）1.断裂韧性2.负离子屏蔽3.合金4.疲劳极限三、简答及计算题——共59分1.已知某材料中存在一个250μm的裂缝，现在裂缝扩展到500μm，请计算其实际抗拉强度下降了多少？——6分2.将材料直接磨细的过程中，发现很难达到要求的细度，并且磨细后的材料团聚在一起，不能分散，严重影响了它的使用，如何解决这一问题？——6分3.为什么晶须的实际强度接近于理论强度？——5分4.溶胶是热力学不稳定体系，但在一定条件下，为何并不发生聚沉而稳定存在？——6分5.影响烧结的因素有哪些？——6分6.什么是临界胶束浓度，与表面活性剂的作用发挥有何关系？——6分7.已知某稀溶液的表面张力随浓度的变化公式符合公式γ=72-500C，计算溶质表面超量的变化系数K。
（已知Γ=K×C，温度为T）——8分8.某土石方工程中要开挖湿土，但湿土中的水分给工程带来了不便，但利用某一电动现象原理很容易将水收集到一起并抽走，请问用到了什么电动现象，其基本概念是什么？——8分9.请说明可以用哪些方法来判定某种材料是否是脆性材料？如何判定？——8分《无机材料性能学基础》考试题2四、名词解释——每题5分，共20分1. 晶体2. 粘弹性3. 滑移4. 表面活性五、填空题——每空1分，共10分1.金属晶体结构有_ _晶格、__ __晶格和_ _晶格。
无机材料测试技术试题
无机材料测试技术试题1-5解答一、名词解释1.光电子及光电效应：X射线与物质作用，具有足够的能量的X射线光子也能激发掉原子K层的电子，外层电子跃迁填补，多余的能量辐射出来，被X射线激发出来的电子称为光电子。
所辐射X射线称为荧光X射线，这个过程称为光电效应。
2.特征X射线：特征X射线：特征X射线和可见光中的单色光相似，所以也称为单色X射线。
3.连续X射线：连续X射线谱具有连续波长，它和可见光的白光相似，故也称为白色X射线。
4.电子透镜：透射电子显微镜是以波长极短的电子束作为照明源，用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率，高放大倍数的电子学仪器5.热重分析：热重分析就是在程序控制温度下，测量物质的质量与温度关系的一种技术。
6.衍射角：2d(hkl)sinθ=nλ在X衍射仪中，我们以2θ为衍射角，就是因为2θ为X射线发生衍射后改变方向的角度7.差热分析：差热分析( DTA)是在程序控制下，测量物质和参比物之间的温度差与温度关系的一种技术。
8.X射线的强度：指垂直于X射线传播方向的单位面积上的单位时间内通过的光子数目的能量总和。
9.静电透镜：能使电子波折射聚焦的具有旋转对称等电位曲面簇的电极装置叫做静电透镜。
10.背散射电子：入射电子被样品原子散射回来的部分；它包括弹性散射和非弹性散射部分；背散射电子的作用深度大，产额大小取决于样品原子种类和样品形状11.二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的核外电子叫做二次电子。
12.磁透镜：能使电子波聚焦的具有旋转对称非均匀的磁极装置13.热分析：热分析是在程序控制温度下，测量物质的物理性质随温度变化的一类技术。
14.粉晶照相法（德拜法）：采用粉末状多晶体样品并使用德拜照相机记录衍射花样的方法，即为粉品德拜照相法，也可称为粉末多晶照相法15.相干散射：X射线被物质散射时，如果散射波的波长和频率与入射波相同，这些新的散射波之间可以发生干涉作用，故把这种散射称为相干散射。
无机材料测试方法期末考试复习题
一、晶带定律与倒易点阵1、晶带的概念晶体上的若干晶面，如果彼此间相交的交线——晶棱都是相互平行的话，那么，这样一组晶面比将围绕该晶棱方向成带状分布，构成所谓的晶带。
晶带：是指彼此间的交棱均相互平行的一组晶面。
其交棱，既包括在晶体上相交而实际存在的晶棱；也包括实际并未相交，但延展晶面后，即可相交的可能晶棱。
1、晶带定律：晶带定律公式hu + kv + lw = 0。
同属于两个晶带的公共平面，必定是晶体上的一个可能晶面；一个晶体，无论其晶面数目有多少，都必定可以通过晶带的关系，把所有晶面联系起来。
① 由两个晶带轴符号，确定一个晶面符号；111111222222::::v w w u u v h k l v w w u u v = ② 由两个晶面符号，确定一个晶带轴符号；111111222222::::k l l h h k u v w k l l h h k =③ 判断两个晶面是否属于已知的某个晶带。
hu + kv + lw = 0 ?!2、倒易点阵 晶面间距公式：d =二、X 射线衍射分析1、X 射线管发出X 射线的强度与什么有关？X 射线管发出X 射线，其强度与阴极和阳极间所加的管电压V 和管电流i 有关，即I = BiV m 。
2、封闭式X 射线管的组成。
封闭式X 射线管的结构：主要由阴极、阳极、窗口、真空罩和冷却系统等组成。
3、焦点的概念，点焦点，线焦点阳极靶上被电子束轰击的区域称为焦点。
点焦点：单位立体角内的X射线强度高，适合拍摄粉末照片和劳厄照片。
线焦点：从线焦点窗口发出的X射线，其适合于X射线衍射仪的工作和荧光分析。
4、当X射线被视为波时，其强度表示方法？当X射线被视为光子流时，其强度表示方法？将X射线视为波时，其强度I与电磁场向量的振幅E的平方成正比：;将X射线视为光子流时，其强度为光子流密度和每个光子的能量的乘积。
h为普朗克常数，h = 6.626196x10-34J·S5、X射线管工作效率。
无机化学第四版知识点复习资料整理
无机化学第四版知识点复习资料整理无机化学是大学化学的重要分支之一，而无机化学第四版就是一本涵盖了无机化学各个方面知识的优秀教材。
学生在学习无机化学课程的时候，需要掌握的知识点非常多，如果能够有一份清晰的知识点复习资料整理，将会大大提高学习效率。
接下来，本文将会介绍一份针对无机化学第四版的知识点复习资料整理。
一、基本概念1. 无机化合物的概念2. 原子结构的基本原理和定律3. 周期表的结构和性质4. 化学键的概念及其分类5. 配位化合物和晶体场理论二、化合物的性质1. 气体、液体和固体的物性2. 溶解度和溶液的性质3. 化学反应的热力学4. 化学反应的平衡5. 酸碱理论和弱电解质三、主要无机元素及其化合物1. 氢、氧、氮和氧化物2. 卤素、硫和硫化物3. 金属元素及其化合物4. 过渡金属元素及其化合物5. 钙和碱土金属元素及其化合物四、实验室技能1. 常见无机化学实验的实验操作及其意义2. 酸碱滴定法和氧化还原滴定法3. 离子反应和离子交换4. 晶体生长和结构分析5. 电化学方法和电化学测试以上是本资料整理的无机化学第四版的知识点复习资料整理的主要内容，具体如下：一、基本概念1. 无机化合物的概念无机化合物指的是由无机元素构成的化合物。
它们的分子结构和性质都很简单，并且这些化合物在自然界中大量存在。
无机化合物被广泛应用于冶金、玻璃、陶瓷、建筑材料、电子、药物等领域。
2. 原子结构的基本原理和定律原子的结构是由核和电子组成。
核心由质子和中子组成，而电子则绕着核心旋转。
原子的外层电子能够决定化学性质和反应性。
根据电子云的分布，从而可以确定原子的化学性质和物理性质。
3. 周期表的结构和性质周期表是元素周期性和化学性质的基础。
元素按照原子序数从小到大排列，这些元素在化学性质和物理性质上有周期性。
周期表是通过原子核的正电荷和电子的云层之间的相互作用产生的，因此这种周期性反映了这种相互作用的自然特性。
4. 化学键的概念及其分类化学键是由两个或两个以上的原子通过共用、移走、接受或捐赠电子而形成的。
市政建筑工程材料检测 复习题(二)
市政建筑工程材料检测复习题（二）1、道路用煤沥青严禁用于热拌热铺的沥青混合料，作其他用途时的贮存温度宜为（B）℃，且不得长时间贮存。
A.60～90B.70～90C.80～902、用作改性剂的SBR胶乳中的固体物含量不宜小于（A），使用中严禁长时间暴晒或遭冰冻。
A.45%B.50%C.55%3、用于高速公路、一级公路时，多孔玄武岩的视密度可放宽至（C）t/m3，吸水率可放宽至3%，但必须得到建设单位的批准，且不得用于SMA路面。
A.2.5B.2.6C.2.454、热拌沥青混合料运输到现场温度，不得低于（C）℃。
A.150B.140C.1355、拌制沥青混合料，烘干集料的残余含水量不得大于（B）%，每天开始几盘集料应提高加热温度，并干拌几锅集料废弃，再正式加沥青拌和混合料。
A.0.5B.1C.26、沥青拌和机必须有（B）除尘装置，经一级除尘部分可直接回收使用，二级除尘部分可进入回收粉仓使用（废弃），对因除尘造成的粉料损失，应补充等量的新矿粉。
A.一级B.二级C.三级7、稀浆封层和微表处施工前，应彻底清除原路面的泥土、杂物，修补坑槽、凹陷，较宽的裂缝宜清理灌缝。
在水泥砼路面上铺筑微表处时宜洒布（B），过于光滑的表面需拉毛处理。
A.透层油B.粘层油C.沥青油8、稀浆封层和微表处和最低施工温度不低于（B）℃，严禁在雨天施工，摊铺后尚未成型混合料遇雨时应予铲除。
A.5B.10C.159、在沥青之间兼作封层而喷洒的粘层油宜采用改性沥青或改性乳化沥青，其用量不少于（B）L/m2。
A.0.5B.1C.1.510、塑性指数为（B）的粘性土以及含有一定数量粘性土的中粒土和粗粒土均适宜于用石灰稳定。
A.12-15B.15-20C.20-2511、沥青砼面层矿料级配、沥青含量、马歇尔稳定度等试验结果的合格率不小于（A）%。
A.90B.95C.9812、乳化沥青宜放在（A）罐中，并保持适当搅拌。
贮存期以不离析、不冻结、不破乳为度。
材料现代测试技术-期末复习题
材料现代测试技术-期末复习题射线管主要由阳极，阴极，和窗口构成。
射线透过物质时产生的物理效应有：散射，光电效应，荧光辐射，俄歇效应。
3.德拜照相法中的底片安装方法有：正装，反装，和偏装三种。
射线物相分析方法分：定性分析和定量分析两种。
5.透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应和像差两因素影响。
7.电子探针包括波谱仪和能谱仪成分分析仪器。
8.扫描电子显微镜常用的信号是二次电子和背散射电子。
9.人眼的分辨率本领大约是：)10.扫描电镜用于成像的信号：二次电子和背散射电子，原理：光栅扫描，逐点成像。
的功能是：物相分析和组织分析（物相分析利用电子和晶体物质作用可发生衍射的特点；组织分析；利用电子波遵循阿贝成像原理）：定性分析（或半定量分析），测温范围大。
DSC：定量分析，测温范围常在800℃以下。
13.放大倍数（扫描电镜）：M=b/B（b：显像管电子束在荧光屏上的扫描幅度，通常固定不变；B：入射电子束在样品上的扫描幅度，通常以改变B来改变M）射线衍射分析方法中，应用最广泛、最普通的是衍射仪法。
15.透射电镜室应用透射电子来成像。
无机非金属材料大多数以多相、多组分的非导电材料，直到60年代初产生了离子轰击减薄法后，才使无机非金属材料的薄膜制备成为可能。
17.适合透射电镜观察的试样厚度小于200nm的对电子束“透明”的试样。
~18.扫描电镜是用不同信号成像时分辨率不同，分辨率最高的是二次电子成像。
19.在电子与固体物质相互作用中，从试样表面射出的电子有背散射电子，二次电子，俄歇电子。
20.影响红外光谱图中谱带位置的因素有诱导效应，键应力，氢键，物质状态。
1.电离能：在激发光源作用下，原子获得足够的能量就发生电离，电离所必须的能量称为电离能。
2.原子光谱分析技术：是利用原子在气体状态下发射或吸收特种辐射所产生的光谱进行元素定性和定量分析的一种分析技术。
3.X射线光电效应：当X射线的波长足够短时，其光子的能量就很大，以至能把原子中处于某一能级上的电子打出来，而它本身则被吸收，它的能量就传递给电子了，使之成为具有一定能量的光电子，并使原子处于高能的激发态。
无机材料测试技术期末复习资料
第一章 x射线物理学基础1.X射线的性质,本质和X射线的产生X射线的产生：X射线是高速运动的粒子与某种物质相撞击后猝然减速，且与该物质中的内层电子相互作用而产生的。
X射线的本质：X射线也是电磁波的一种，波长在10－8cm左右X射线的发生必需具备的基本条件1) 产生自由电子(2) 使电子作定向高速运动(3) 有障碍物使其突然减速X射线的性质①是电磁波，具有波粒二象性：ε=hν= h(c/λ) ； p= h/λ能被物质吸收，会产生干涉、衍射和光电效应等现象。
与可见光比较，差别主要在波长和频率。
②具有很强的穿透能力；通过物质时可被吸收使其强度减弱；能杀伤生物细胞。
③沿直线传播，光学透镜、电场、磁场不能使其发生偏转。
2.连续X射线谱的特点及产生机理，连续X射线谱定义：是具有连续变化波长的X射线，也称多色X射线。
产生机理：主要有两个原因。
高速运动热电子的动能变成电磁波辐射能。
数量极大的电子流射到阳极靶上时，由于到达靶面上的时间和被减速的情况各不相同，因此产生的电磁波具有连续的各种波长。
根据经典物理学的理论，一个带负电荷的电子作加速运动时，电子周围的电磁场将发生急剧变化，此时必然要产生一个电磁波，或至少一个电磁脉冲。
由于极大数量的电子射到阳极上的时间和条件不可能相同，因而得到的电磁波将具有连续的各种波长，形成连续X射线谱。
特点：在一连续X射线谱上可看出：①各种波长射线的相对强度（I）都相应地增高；②各曲线上都有短波极限，且短波极限值（λ0）逐渐变小；③各曲线的最高强度值(λm)的波长逐渐变小。
X射线强度：在单位时间内通过垂直于X射线传播方向的单位面积上的光子数目的能量总和。
注意：强度由光子的能量和数目两个因素决定的。
所以连续X射线的强度不在光子能量最大的λ0处。
当管电压超过某临界值时，特征谱才会出现，该临界电压称激发电压特征X射线谱定义：具有特定波长的X射线，也称单色X射线。
特征X射线的产生机理：原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在K、L、M、N等不同能级的壳层上，而且按能量最低原理从里到外逐层填充。
材料测试
复习提纲1.材料检测中的软件应用技术。
2.各种材料测试技术的检测原理、制样、特征及应用领域。
3.采用XRD测量晶粒尺寸的原理、公式及应用。
4.采用XRD测量固溶度的原理及应用。
5.非晶体、多晶体块体材料、薄膜材料、纳米粉体材料的XRD的图谱特征及物理原理。
6.材料尺寸对XRD图谱的影响7.采用Jade进行物相分析。
8.金相分析、扫描电镜的制样方法。
9.材料断口检测的原理与方法。
10.材料组成、热处理温度及其它工艺条件对材料物相组成、显微结构和性能的影响规律。
11.根据材料的显微结构照片，测量晶粒平均尺寸、晶粒尺寸分布的方法。
12.材料中化学组成偏析、第二相的检测方法13.元素组成分析。
背散射电子（BSE）电子显微探针分析（EDS，WDS）X射线能谱分析（XPS，AES）14.物相分析（XRD，ED）。
15.显微结构分析（SEM，TEM，AFM，STM）。
扫描电镜（SEM）透射电镜（TEM）金相分析（MA）原子力显微镜（AFM）扫描隧道显微镜（STM）16.振动光谱分析（IR，Raman）。
17.热分析（TA）。
18.19.热分析——进行定性、定量分析1热分析:在程序控制温度下，测量物质的物理性质随温度变化的一类技术。
（程序控制温度：指用固定的速率加热或冷却。
物理性质：包括物质的质量、温度、热焓、尺寸、机械、声学、电学及磁学性质等。
）2热分析的四大支柱差热分析：程序温度下，测物质和参比物的温度差与温度关系的技术差示扫描量热分析：程序温度下，测量物质和参比物的能量差与温度或时间的技术热重分析：程序温度下，测量物质的质量与温度关系的技术机械热分析：3参比物：在测定条件下不产生任何热效应的惰性物质差热分析DTA差热分析仪构成：由加热炉、试样容器、热电偶、温度控制系统及放大、记录系统等部分组成。
4差热分析DTA的基本原理差热分析是在程序控制温度下测定物质和参比物之间的温度差和温度关系的一种技术。
由于物质在加热或冷却过程中的某一特定温度下，往往会发生伴随有吸热或放热效应的物理、化学变化。
材料分析测试技术2篇
材料分析测试技术2篇材料分析测试技术（一）随着科技的快速发展，材料分析测试技术也得到了卓越的进步。
这项技术可以在材料的不同阶段进行测试和分析，以评估其性能及其他相关特性。
已经有许多技术和方法的出现，可以在材料分析测试方面提供全面的解决方案。
现在，我们来看看可能使用的一些最常见的材料分析测试技术。
1.扫描电镜（SEM）扫描电镜是一种基于高能电子束相互作用原理的分析技术。
它可以检测材料的表面形貌、结构、成分、尺寸和形状。
今天，扫描电镜已经成为所有材料分析测试中最最主要的技术。
你可以使用不同模式的扫描电镜来检测不同类型的材料，例如一些更具透明性的材料，例如硅胶。
2.X射线衍射（XRD）X射线衍射是一种重要的分析技术，它主要用于检测材料的晶格结构和成分。
该技术使用X射线作为激发光源，通过样品散射所形成的衍射图谱，可以得到材料的化学组成和结晶结构。
由于其易于操作并且快速分析能力，X射线衍射成为材料鉴定中的主要技术之一。
3.拉曼光谱（Raman）拉曼光谱是一种快速、无损的分析技术，用于材料的化学分析和表征。
它可以用于检测有机、无机和混合材料的成分和结构，还可以用于检测化学分子之间的相互作用。
用于检测和分析几乎所有类型的材料，包括纳米材料、生物材料和钙化聚合物。
4.原子力显微镜（AFM）原子力显微镜是一种扫描探针显微镜，可以用于检测不同类型的材料表面形貌、摩擦和力学性质。
在许多应用中，原子力显微镜在材料表面的观察和表征方面表现出极高的分辨率。
总的来说，材料分析测试技术的应用范围非常广泛，很多技术甚至可以实现多种科学研究方法的同时测试。
了解并掌握这些技术，对于材料分析测试工作的完成和研究的准确性和可靠性都至关重要。
材料分析测试技术（二）材料分析测试是现代科学以及各种材料科学领域中的一项重要组成部分。
这是一种实践方法，用于评估、监测和确定材料的物理特性、化学成分、结构和其它各方面的相关特性。
以下是一些主要的材料分析测试技术。
无机材料测试技术思考与练习题答案
无机材料测试技术思考与练习题答案1、X射线产生的基本条件是什么？X射线的性质有哪些？答：X射线产生的基本条件：(1)产生自由电子(2)使电子做定向高速运动(3)在其运动的路径上设置一个障碍物，使电子突然减速。
X射线的性质：X射线肉眼看不见，可使物质发出可见的荧光，使照相底片感光，使气体电离。
X射线沿直线传播，经过电场或磁场不发生偏转，具有很强的穿透能力，可被吸收强度衰减，杀伤生物细胞。
2、连续X射线谱及特征X射线谱的产生机理是什么？答：连续X射线谱的产生机理：当高速电子流轰击阳极表面时，电子运动突然受到阻止，产生极大的负加速度，一个带有负电荷的电子在受到这样一种加速度时，电子周围的电磁场将发生急剧的变化，必然要产生一个电磁波，该电磁波具有一定的波长。
而数量极大的电子流射到阳极靶上时，由于到达靶面上的时间和被减速的情况各不相同，因此产生的电磁波将具有连续的各种波长，形成连续X射线谱。
特征X射线谱的产生机理：当X射线管电压加大到某一临界值Vk时，高速运动的电子动能足以将阳极物质原子的K层电子给激发出来。
于是低能级上出现空位，原子系统能力升高，处于不稳定的激发状态，随后高能级电子跃迁到K层空位，使原子系统能量降低重新趋于稳定。
在这个过程中，原子系统内电子从高能级向低能级的这种跃迁，多余的能量将以光子的形式辐射出特征X射线。
3、以表1.1中的元素为例，说明X射线K系波长随靶材原子序数的变化规律，并加以解释？答：根据莫赛莱定律R=K Z-，靶材原子序数越大，X射线K系波长越小。
靶材的原子序数越大，对于同一谱系，所需激发电压越高，h£=eV k，X射线K系波长越小。
4、什么是X 射线强度、X 射线相对强度、X 射线绝对强度？答：X 射线强度是指垂直于 X 射线传播方向的单位面积上在单位时间内通过的光子数目的能量总和。
5、为什么X 射线管的窗口要用Be 做，而防护X 光时要用Pb 板?答：丄二e mt，Be 吸收系数和密度比较小，强度透过的比较大；而 Pb 吸收系1数和密度比较大，强度透过的比较小。
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第一章 x射线物理学基础X射线的产生：X射线是高速运动的粒子与某种物质相撞击后猝然减速，且与该物质中的内层电子相互作用而产生的。
X射线的本质：X射线也是电磁波的一种，波长在10－8cm左右X射线的发生必需具备的基本条件1) 产生自由电子(2) 使电子作定向高速运动(3) 有障碍物使其突然减速X射线的性质①是电磁波，具有波粒二象性：ε=hν= h(c/λ) ； p= h/λ能被物质吸收，会产生干涉、衍射和光电效应等现象。
与可见光比较，差别主要在波长和频率。
②具有很强的穿透能力；通过物质时可被吸收使其强度减弱；能杀伤生物细胞。
③沿直线传播，光学透镜、电场、磁场不能使其发生偏转。
连续X射线谱定义：是具有连续变化波长的X射线，也称多色X射线。
产生机理：主要有两个原因。
高速运动热电子的动能变成电磁波辐射能。
数量极大的电子流射到阳极靶上时，由于到达靶面上的时间和被减速的情况各不相同，因此产生的电磁波具有连续的各种波长。
根据经典物理学的理论，一个带负电荷的电子作加速运动时，电子周围的电磁场将发生急剧变化，此时必然要产生一个电磁波，或至少一个电磁脉冲。
由于极大数量的电子射到阳极上的时间和条件不可能相同，因而得到的电磁波将具有连续的各种波长，形成连续X射线谱。
近代量子理论认为是多次碰撞多次辐射的结果。
由于碰撞次数不同，所以能量不同，表现出波长同。
特点：在一连续X射线谱上可看出：①各种波长射线的相对强度（I）都相应地增高；②各曲线上都有短波极限，且短波极限值（λ0）逐渐变小；③各曲线的最高强度值(λm)的波长逐渐变小。
X射线强度：在单位时间内通过垂直于X射线传播方向的单位面积上的光子数目的能量总和。
注意：强度由光子的能量和数目两个因素决定的。
所以连续X射线的强度不在光子能量最大的λ0处。
当管电压超过某临界值时，特征谱才会出现，该临界电压称激发电压特征X射线的命名方法：当K空位被M层电子填充时，则产生Kβ辐射。
M能级与K能级之差大于L能级与K能级之差，即一个Kβ光子的能量大于一个Kα光子的能量；但因L→K层跃迁的几率比M→K迁附几率大，故Kα辐射强度比Kβ辐射强度大五倍左右。
显然，当L层电子填充K层后，原子由K激发状态变成L激发状态，此时更外层如M、N……层的电子将填充L层空位，产生L系辐射。
因此，当原子受到K激发时，除产生K系辐射外，还将伴生L、M……等系的辐射。
除K系辐射因波长短而不被窗口完全吸收外，其余各系均因波长长而被吸收。
Kα双线的产生与原子能级的精细结构相关。
L层的8个电子的能量并不相同，而分别位于三个亚层上。
Kα双线系电子分别由LⅢ和LⅡ两个亚层跃迁到K层时产生的辐射，而由LI亚层到K层因不符合选择定则（此时Δl＝0），因此没有辐射。
特征X射线谱定义：具有特定波长的X射线，也称单色X射线。
特征X射线的产生机理：原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在K、L、M、N等不同能级的壳层上，而且按能量最低原理从里到外逐层填充。
当外来的高速度的粒子动能足够大时，可以将壳层中某个电子击出去，于是在原来的位置出现空位，原子系统的能量升高，处于激发态，这时原子系统就要向低能态转化，即向低能级上的空位跃迁，在跃迁时会有一能量产生，这一能量以光子的形式辐射出来，即特征X射线。
X射线特征光谱的产生X射线光谱涉及核内层电子能级的改变。
当高能粒子（如电子、质子）或X射线光子撞击原子时，会使原子内层的一个电子被撞出，而使该原子处于受激态。
被撞出电子的空位将立即被较高能量电子层上的一个电子所填充，在此电子层上又形成新的空位，该新的空位又能由能量更高的电子层上的电子所填充，如此通过一系列的跃迁（L K，M L，N M），直至受激原子回到基态。
莫色莱定律：特征X射线谱的频率（或波长）只与阳极靶物质的原子结构有关，而与其他外界因素无关，是物质的固有特性。
1913～1914年莫色莱发现物质发出的特征谱波长与它本身的原子序数间存在以下关系：相干散射：如果散射波的波长和频率与入射波相同，这些新的散射波之间可以发生干涉作用，故把这种散射波称为相干散射非相干散射：当X射线光子与束缚不大的外层电子或价电子或金属晶体中的自由电子相撞时的散射过程。
X射线吸收：物质对x射线的吸收主要是由原子内部的电子跃迁尔引起的。
在这个过程中发生x射线的光电效应和俄歇效应，使部分x射线能量转变成光电子，荧光x射线及俄歇电子的能量。
因此x射线的强度被减弱。
光电效应：（8页)光电子被X射线击出壳层的电子即光电子,它带有壳层的特征能量,所以可用来进行成分分析(XPS)俄歇电子高能级的电子回跳,多余能量将同能级的另一个电子送出去,这个被送出去的电子就是俄歇电子带有壳层的特征能量(AES)二次荧光高能级的电子回跳,多余能量以X射线形式发出.这个二次X射线就是二次荧光也称荧光辐射同样带有壳层的特征能量获得单色光的方法:在X射线出射的路径上放置一定厚度的滤波片，可以简便地将Kβ和连续谱衰减到可以忽略的程度。
吸收限(吸收边)：一个特征X射线谱系的临界激发波长；吸收限的应用:1) 阳极靶的选择选择原则：尽可能少地激发样品的荧光辐射Z滤≤ Z试+1⑵滤波片的选择选择原则：λKβ﹤λK滤﹤λKαZ滤= Z靶－1 （Z靶＜40)Z滤= Z靶－2 （Z靶＞40）布拉格方程：满足衍射的条件为： 2dsin q = nd为面间距，q为入射线、反射线与反射晶面之间的交角，称掠射角或布拉格角，而2θ为入射线与反射线（衍射线）之间的夹角，称衍射角，n 为整数，称反射级数，λ为入射线波长。
这个公式把衍射方向、平面点阵族的间距d(hkl)和X 射线的波长λ 联系起来了。
布拉格方程应用：布拉格方程是X射线衍射分布中最重要的基础公式，它形式简单，能够说明衍射的基本关系，一方面是用已知波长的X射线去照射晶体，通过衍射角的测量求得晶体中各晶面的面间距d，这就是结构分析------ X射线衍射学；另一方面是用一种已知面间距的晶体来反射从试样发射出来的X射线，通过衍射角的测量求得X射线的波长，这就是X射线光谱学。
该法除可进行光谱结构的研究外，从X射线的波长还可确定试样的组成元素。
电子探针就是按这原理设计的。
①绝对强度（积分强度、累积强度）是指晶体中某一组面网(hkl)衍射的X射线光量子的总数。
相对强度用某种规定的标准去比较各个衍射线条的强度而得出的强度。
3.2 影响衍射线强度的因素：1. 多重性因子Phkl指同一晶面族｛hkl｝的等同晶面数。
晶体中面间距相等的晶面称为等同晶面。
根据布拉格方程，在多晶体衍射中，等同晶面的衍射线将分布在同一个圆锥面上，因为这些晶面对应的衍射角2θ都相等。
多晶体某衍射环的强度与参与衍射的晶粒数成正比，因此，在其他条件相同的情况下，多晶体中某种晶面的等同晶面数目愈多，这种晶面获得衍射的几率就愈大，对应的衍射线也必然愈强。
2. 结构因子Fhkl结构因子Fhkl指一个晶胞中所有原子沿某衍射方向所散射的X射线的合成波，实际上代表了一个晶胞的散射能力。
在复杂晶胞中，并不是所有满足布拉格方程的晶面都有衍射线产生，就是说，产生衍射必须满足布拉格方程，但是在满足布拉格方程的方向上并不一定都有衍射线产生。
把由原子在晶胞中的位置不同而引起的某些方向上衍射线的消失称为系统消光。
不同的晶体点阵的系统消光规律也各不相同。
它所遵循的衍射规律即为结构因子。
3. 角因子（1+cos22θ）/sin2θcosθ4. 温度因子 e-2M由于原子热振动使点阵中原子排列的周期性部分破坏，因此晶体的衍射条件也部分破坏，从而使衍射强度减弱。
晶体中原子的热振动，衍射强度受温度影响，温度因子表示为e-2M。
5. 吸收因子A因为试样对X射线的吸收作用，使衍射线强度减弱，这种影响称吸收因子。
晶体的X射线吸收因子取决于所含元素种类和X射线波长，以及晶体的尺寸和形状。
粉晶德拜照相法：粉末法（多晶体或晶体粉末）: 德拜照相机、粉末衍射仪，劳厄法（单晶体）: 劳厄照相机、单晶或粉末衍射仪，转晶法（单晶体）: 转晶回摆照相机、单晶衍射仪德拜照相法：利用X射线的照相效应，用底片感光形式来记录样品所产生的衍射花样。
1．照相法基本原理①由于粉末柱试样中有多达108个结构相同的小晶粒，同时它们有着一切可能的取向，所以某种面网（hkl）所产生的衍射线是形成连续的衍射圆锥，对应的圆锥顶角为4θhkl；②由于晶体中有很多组面网，而每组面网有不同的dhkl值，因此满足布拉格方程和结构因子的所有面网所产生的衍射线形成一系列的圆锥，而这些圆锥的顶角为不同的4θhkl。
4．衍射花样的记录、测量及计算①记录方式按底片的安装方式不同，有三种方法：正装法；反装法；不对称装法②测量与计算I相对—目测估计、测微光度计测量dhkl —从底片上测量计算、使用d尺粉晶衍射仪法：定义：利用X射线的电离效应或荧光效应，用辐射探测器来测定记录衍射线的方向和强度。
4.2.1 衍射仪的构造及工作原理① X射线发生器②测角仪③辐射探测器（计数器）④检测记录装置2. 测角仪(Goniometer)测角仪是X射线衍射仪的心脏，衍射仪中聚焦原理是通过测角仪实现的，如图2.7 所示。
检测器的接收狭缝J与样品中心的距离是固定的，这只有当符合条件：r = R／(2 sinθ)时，衍射角为θ的衍射线才能聚焦在J处，进入接收狭缝。
实际上这很难做到，但是当R取值较大并且限制光束的发散角α不太大时，可以用平的试样表面代替弯的表面制样一般包括两个步骤：①需把样品研磨成适合衍射实验用的粉末（一般需通过250目筛）；②把样品粉末制成有一个十分平整平面的试片。
衍射仪法与照相法的比较①简便快速②灵敏度高（弱峰）③分辨能力强（相邻峰）④直接获得I和d值⑤低角度区2θ测量范围大，盲区约为2θ<3° ⑥样品用量大⑦对仪器稳定性的要求高什么是衍射线的指标？晶体对X射线的衍射在形式上可以看成是晶体结构中的面网对X射线的“反射”，每一条衍射线都有一组与它相对应的面网。
因此，所有的衍射线都可借助于对应的衍射面网之符号hkl来相互识别，而指数hkl即是相应衍射线的衍射指标。
衍射线的指标化也称标定衍射线指数（hkl）。
粉晶法衍射线的指标化方法：1．解析法2．图解法3．倒易点阵解析法晶胞参数（unit cell parameter）是决定晶体结构的重要参数之一。
随着晶体化学组成上的某些变异以及外界条件的改变，晶胞参数会相应地发生有规律的微小变化，所以精确地测定它们在特定条件下的晶胞参数值，对于研究结晶物质的键能、晶体结构的缺陷、固溶体的性质，对于精确测定分子量以及晶体的密度和膨胀系数等都有重要意义。
由于晶胞体积随温度升高而增大，因此当精确测定晶胞参数时，必须说明测试时的试样温度。