(修改稿)氧化铝纳米薄膜上荧光分子的发光特性研究

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多孔氧化铝制备及相关材料特性研究

多孔氧化铝制备及相关材料特性研究
aluminum subst珀te whose phOtOluminescence emdency reduces by 40%,
photoluminescence ef矗ciency of CdSe quantum dots in porous alumina is better.
Keywords: porous alumina,anodic oxidation,periodic stnlcture,porosity,
学位论文作者签名:王力Leabharlann …导师名签:名:磷冲重了,i
日期:油“,』』
日期:玉鲤lf。』,f
第一章绪论
1.1本文研究的背景和意义
多孔氧化铝膜的结构早在1932年就为人所知。氧化铝薄膜有两个部分组成: 较厚的多孔氧化层和较薄的阻挡层。阳极氧化铝膜早期研究的主要应用是工业上 的装饰、抗腐蚀、抗磨损等。进入50年代以来,随着各种先进的电子显微技术、 扫描探针显微技术以及阳极氧化铝膜与铝基分离技术、二步阳极氧化铝膜技术的 发展,人们对多孔阳极氧化铝膜形成的机理理论、制备工艺以及在实际中的应用 都做了深入的研究工作。
trcatment and light illuminaCion will rcduce the photoluminescence emciency and ma】【e a blue shift remarkably,especjally in the condition of 110℃and 150℃thennal
arc implanted in porous alumina template.The resulfs indicate phot01uminescence efficiency only reduces by 10%aner a month.Compared with CdSe quantum dots on

氧化铝的特性及气相法氧化铝作为荧光灯保护膜的作用机理

氧化铝的特性及气相法氧化铝作为荧光灯保护膜的作用机理

赢创德固赛公司AEROXIDE?气相法氧化铝产品具有许多特殊的物理化学特性,例如,纳米级颗粒,高纯度,低含水量,这些特性都成为当今高质量荧光灯涂层解决方案中至关重要的一部分。

关键字:荧光灯[89篇] 节能灯[477篇] 纳米氧化铝[2篇] 气相法氧化铝[1篇] 氧化铝保护膜[1篇]赢创德固赛公司AEROXIDE?气相法氧化铝产品具有许多特殊的物理化学特性,例如,纳米级颗粒,高纯度,低含水量,这些特性都成为当今高质量荧光灯涂层解决方案中至关重要的一部分。

AEROXIDE? Alu C气相法氧化铝已经成为荧光灯的一个不可或缺的成分,具有三大重要的功能对制造高光效,长寿命的荧光灯至关重要:第一,氧化铝反射透过荧光粉层的紫外光,使其继续激发荧光粉,提高了荧光灯的发光效率,第二,氧化铝作为有效的汞扩散阻挡层,可将汞的用量降到最低限度,能够延长灯的使用寿命,第三,氧化铝作为粘结剂能够提高荧光粉和玻璃灯管之间的粘结强度,使荧光粉不脱落。

关键词:荧光灯,节能灯,纳米氧化铝,气相法氧化铝,氧化铝保护膜0 引言气相法生产的氧化铝具有颗粒细、纯度高、良好的可分散性和表面带正电的特性广泛的应用于荧光节能灯,像片打印纸和粉末涂料等领域。

近年来,从实现可持续发展、保护环境为目的的节能到提高能源使用效率,照明用节能荧光灯都被赋予了重大的意义,各国政府也花大力气推行使用荧光灯,并鼓励开发更高发光效率、更长寿命的荧光灯产品。

在荧光灯中,气相法氧化铝用于保护膜,具有反射紫外线和阻挡汞扩散的功能,同时又能做为荧光粉的粘结剂,能够有效的提高光效和延长灯的寿命,是提升荧光灯产品品质的首选方案。

1 气相法氧化铝的制备和性能1.1 气相法氧化铝的制备工艺大规模的工业化合成气相法氧化铝的制备过程从本质上来说可以描述为三氯化铝(AlCl3)的高温燃烧水解过程。

在这个过程中三氯化铝转变为气相,然后与氢氧焰燃烧产物-水反应,生成产物氧化铝,其化学反应方程式为:2AlCl3 +3H2 +1.5 O2 Al2O3 + 6HCl这种特殊的生产工艺是由赢创德固赛公司在60多年前发明的,由于采用高温燃烧水解法进图1 气相法氧化铝的计算机模型行生产,AEROXIDE?被称为气相法氧化铝,其产品是由纳米级的原生颗粒组成,堆密度低,容易在水体系里分散,图1显示出气相法氧化铝的所拥有的独特结构的计算机模型。

氧化铝薄膜在发光方面的研究进展

氧化铝薄膜在发光方面的研究进展

4 F c l f ca i l n ier ga dAuo ai , e i i ri f rn ui n t nui ,e i 0 0 3 aut o h nc gn ei n tm t n B in Unv s yo o a t sadAsr a t sB in 1 0 8 ) y Me aE n o jg e t Ae c o c j g
2 Fa ut fMeh nc l gn e ig a dAu o t n Lionn n tt t fId sr ,Jn h u1 1 0 ; c lyo c a ia En ie rn n tmai , a - ig I siueo n u ty iz o 2 0 1 o
d c d i u a t.Th o rp rsa et ep o o u n s e c ( L)e s i n fo p r u n d ca u n ti n e u e nf r r s o p e f u a t r h h t l mi e c n e P miso r m o o sa o i l mi a m rx a d t a h i v s i a in fl h — m i i c a im ,t e e f c s o n e l g t mp r t r o l h — mit g p o e te , h L n e t t s o i te t n me h n s g o g t g h fe t fa n i e e a u e t i te ti r p r is t e P a n g n fo d p d r r a t n n a u i a f m n h lc r lm i e c n e r s a c o l m ia f m s Th x e t t n o r m o e a e e r h i s i l m n i a d t e ee to u n s e c e e r h f ra u n i . o l l ee p ca i f o d v l p n u u e wa i e . e eo i f t r sg v n g ,r s r h d v l p n e e c e eo ig a

Al2O3∶Ce薄膜的制备及其光致发光特性

Al2O3∶Ce薄膜的制备及其光致发光特性

Al2O3∶Ce薄膜的制备及其光致发光特性张雅晶;王倩;邓保霞;李国栋【摘要】应用回流浸渍法对非晶的纳米多孔 Al2O3薄膜进行掺杂,制备了非晶的Al2O3∶Ce薄膜.用场发射扫描电子显微镜观察了样品掺杂前后的形貌,且从EDS 结果可以看出薄膜中铈的含量是随着掺杂液浓度的增加而增加的.X射线光电子能谱(XPS)表明Al2O3∶Ce薄膜中有三价的铈离子形成.Al2O3∶Ce薄膜的光致发光谱和激发谱与掺杂前相比明显发生了变化,且发射谱中出现了双峰结构,峰位分别位于380 nm和400nin,本文分析讨论了掺杂前后光谱发生变化的原因和发光机制.另外,比较了不同浓度下掺杂的Al2O3∶Ce薄膜的光致发光谱,得出随掺杂液浓度的增加光致发光强度呈先增加后减小的趋势,且最佳掺杂浓度为0.2mol.【期刊名称】《光散射学报》【年(卷),期】2015(027)003【总页数】6页(P299-304)【关键词】Al2O3∶Ce薄膜;回流浸渍法;光致发光;掺杂浓度【作者】张雅晶;王倩;邓保霞;李国栋【作者单位】新疆大学物理科学与技术学院,乌鲁木齐830046;新疆大学物理科学与技术学院,乌鲁木齐830046;新疆大学物理科学与技术学院,乌鲁木齐830046;新疆大学物理科学与技术学院,乌鲁木齐830046【正文语种】中文【中图分类】TB43近年来,纳米科技在高科技电子的发展中占有主导地位,纳米科技的发展主要依赖于纳米材料的发展。

因此,很多研究者致力于研究具有优良性能的纳米材料,来满足不同领域对纳米材料的需求。

自上个世纪五十年代以来,人们就开始不断用电化学阳极氧化法来制备多孔的氧化铝薄膜[1],其制备的氧化铝薄膜具有高度有序的纳米级孔结构,孔呈六角密排结构,直径约为40~60 nm,且孔自身具有优越的发光性能[2-3]。

Al2O3薄膜作为一种新型的绝缘体纳米材料具有良好的发光性能,可用于辐射剂量计、光电子学和灵敏剂量计。

氧化铝粉体发光性能研究

氧化铝粉体发光性能研究
21 0 1年 8月
g N r lUnv ri o ra u y n oma ies y o t
Au ., 011 g 2 Vo . 0 No 8 13 .
第3 0卷 第 8期
氧 化 铝 粉 体 发 光 性 能 研 究

氧化 铝粉体 的激发 和发 射光谱 用 日本 日立 公 司 生产 的 F 40 L一 5 0荧 光分 光光 度计 测试 .
2 结 果 与 分 析
2 1 A : 粉 体 的基本 发光 特性 及作 用 机理 . I O
A 0 晶体 的发射 光谱是 以 30 m为 中心的发 1 , 1n
物 在 10c烘箱 中干燥 2 h 研 磨成 粉 .然后 装入 刚 0c 4, 玉 坩埚 在不 同温 度煅 烧 4 , 成氧 化铝 粉体 . h制
1 3 样 品的测 试 .
许 多研 究小 组 在从 事掺 杂 氧化铝 粉 体 的光学 特性 的 研 究 J .纯 的 O 一A ,晶 体 的 发 射 光 谱 是 以 . r 1 0 4 0 m 为 中心 的主发 射带 ;通 过喷 雾 高温 热 解 法 制 1n 得 的 无定 形态 氧化 铝薄 膜 的发射 光谱 是 位 于 4 5 m 0n 的一 个宽 带 ;Kiinoe 报 道 ,x 射 线 激 发 的 rt plr等 sa l
粉体 中存在 大量 的氧 空位 .若 阳离 子过 量 或 者 阴离 子 缺位 ,等效 于一个 正 电子 中心 ,于 是 在其 周 围会
吸引 电子 , 成所 谓 的 F中心 J 氧化 铝 中 ,常 形 .在
溶液, 用磁力搅拌器搅拌均匀 , 并用浓氨水调节其 p H值 .一 边 搅 拌 混 合 沉 淀 剂 溶 液 ,一 边 向其 中缓
慢滴 加 盐溶 液.滴加 完 成后 继续 搅拌 l , 反 应完 使 h 全 .空 气 中陈 化 2 h后 进 行 真空 抽 滤 ,洗 涤.沉 淀 4

氧化铝纳米颗粒表面修饰及其应用研究

氧化铝纳米颗粒表面修饰及其应用研究

氧化铝纳米颗粒表面修饰及其应用研究氧化铝是一种广泛应用的功能性材料,常用于制备陶瓷材料、涂层、催化剂等。

随着纳米技术的发展,氧化铝纳米颗粒的应用越来越广泛。

在实际应用中,氧化铝纳米颗粒的表面性质对其性能有着很重要的影响。

因此,对氧化铝纳米颗粒表面进行修饰,成为了研究热点之一。

本文将介绍氧化铝纳米颗粒表面修饰及其应用研究的相关进展。

1. 氧化铝纳米颗粒表面修饰方法氧化铝纳米颗粒的表面修饰方法可以分为物理方法和化学方法两种。

1.1 物理方法物理方法是指通过物理手段改变氧化铝纳米颗粒表面结构的方法。

常见的物理方法包括离子束照射、等离子体处理、激光辐照等。

离子束照射是通过离子束轰击氧化铝纳米颗粒表面,使其发生化学反应,从而改变表面性质。

等离子体处理和激光辐照则是通过热、光等作用,改变氧化铝纳米颗粒表面结构。

1.2 化学方法化学方法是指通过化学反应改变氧化铝纳米颗粒表面结构的方法。

常见的化学方法包括溶胶-凝胶法、水热法、化学气相沉积法等。

溶胶-凝胶法是一种将溶胶浸泡在胶体中,通过溶胶与胶体分子相互作用形成氧化铝纳米颗粒的方法。

水热法是将胶体溶液加热至高温高压条件下形成氧化铝纳米颗粒的方法。

化学气相沉积法则是将氧化铝前体沉积在纳米颗粒表面的方法。

2. 氧化铝纳米颗粒表面修饰的应用研究进展氧化铝纳米颗粒表面修饰后,可以用于制备催化剂、涂层、传感器等材料。

以下是一些应用研究的进展。

2.1 催化剂改变氧化铝纳米颗粒表面的化学性质,可以调节其催化活性。

例如,对表面进行氢气还原可使氧化铝纳米颗粒表面亲水性增强,从而提高其选择性催化还原CO2的能力。

同时,还发现通过表面修饰后的氧化铝纳米颗粒可以用于制备光催化剂、催化剂载体等。

2.2 涂层将氧化铝纳米颗粒表面修饰后,可以用于制备涂层材料。

例如,将表面修饰后的氧化铝纳米颗粒与树脂或涂料复合,可以得到具有高硬度、高耐磨性、抗腐蚀性好等特性的涂层材料。

2.3 传感器表面修饰后的氧化铝纳米颗粒可用于制备气敏传感器、生物传感器等。

纳米氧化铝12

纳米氧化铝12

纳米氧化铝的研究与应用摘要:本文介绍了纳米氧化铝的分类,以及综述了各种先进的制备方法制备纳米氧化铝粉体、纤维、介孔材料和各种新的制备工艺等的研究进展,对纳米氧化铝的应用领域作了详细的介绍,并对其发展前景作了展望。

关键词:纳米氧化铝;制备;应用;研究进展;氧化铝1 前言纳米材料是指其一维尺度小于100nm,且具有常规材料乃至常规微细粉末材料所不具备的许多反常特性的一类材料。

氧化铝与其他材料相比,它具有许多独特、优良的性能,如高熔点( 2015℃)、较高的室温和高温强度,高的化学稳定性和接点介电性能,电绝缘性好,硬度高( 莫氏硬度9),耐磨性好且成本低廉。

因而氧化铝陶瓷可用于制造高速切削工具,高温热电耦套管、化工高压机械泵零件、内燃机火花塞、人工关节及航空磁流体发电材料等多种陶瓷器件。

但氧化铝陶瓷的韧性低、脆性大,这一陶瓷材料所固有的弱点大大限制了其应用领域。

纳米氧化铝材料的特殊光电特性、高磁阻现象、非线性电阻现象、在高温下仍具有的高强、高韧、稳定性好等奇异特性,以及各种纳米粉体材料共有的小尺寸效应、表面界面效应、量子尺寸效应和宏观量子隧道效应,使其在催化、滤光、光吸收、医药、磁介质及新材料等领域有广阔的应用前景。

氧化铝是在地壳中含量非常丰富的一种氧化物。

氧化铝有多种晶型,其中仅α-氧化铝,属高温稳定晶型,具有较高的熔点和很高的化学稳定性。

通常可使用拜尔法和电熔法来生产α-氧化铝粉体,此类粉体广泛运用于制备各种氧化铝陶瓷。

而具有量子效应的纳米氧化铝粉体还可带来高化学活性、高比表面能、独特光吸收作用等各种优异性能,可广泛应用于冶金、机械、化工等领域。

因此研究和开发纳米氧化铝材料的制备工艺及其应用,具有重要的社会效益和经济价值[1]。

2 氧化铝的分类到目前为止,人们已经发现了许多氧化铝的结晶态,由于它们各自的晶型转变温度不同,氧化铝又分为低温型和高温型。

已经确定的氧化铝有αβγθκηρχ等几种。

其中最主要的是γ-氧化铝和α-氧化铝[2]。

掺杂氧化铝的形貌控制及其光致发光性能研究

掺杂氧化铝的形貌控制及其光致发光性能研究

掺杂氧化铝的形貌控制及其光致发光性能研究掺杂氧化铝的形貌控制及其光致发光性能研究引言氧化铝(Al2O3)作为一种重要的功能材料,在电子器件、陶瓷、催化剂等领域具有广泛的应用。

经过多年的研究,人们发现掺杂杂质能够有效地改变氧化铝的性质。

其中,掺杂氧化铝的形貌控制和光致发光性能研究是当前研究的热点之一。

本文将介绍掺杂氧化铝形貌控制的方法以及掺杂对其光致发光性能的影响。

一、掺杂氧化铝的形貌控制方法1. 水热法水热法是一种常用的材料合成方法,可以通过调控反应温度、时间和反应物浓度等条件来控制氧化铝的形貌。

例如,在碱性环境下,通过调节反应温度和反应时间,可以制备出各种形状的氧化铝微球、纳米棒和纳米片等结构。

2. 模板法模板法是通过将氧化铝溶液浸渍到特定的有孔模板中,并经过热处理使其固化,然后去除模板得到所需的形貌。

该方法可用于制备具有复杂结构的氧化铝材料。

例如,使用聚苯乙烯球体作为模板,可以制备出粒径可控的氧化铝微球阵列。

3. 氧化还原法氧化还原法是利用还原剂还原金属铝源,使其与氧化剂反应生成氧化铝,并通过调节反应条件来控制氧化铝的形貌。

例如,在高温下,通过调控还原剂与氧化剂的摩尔比例和反应时间,可以制备出有序排列的纳米棒状氧化铝。

二、掺杂对氧化铝光致发光性能的影响1. 掺杂物种类的影响不同的掺杂物可以引入新的能级或改变氧化铝的能带结构,从而影响其光致发光性能。

例如,铜离子(Cu2+)的掺杂能够增强氧化铝的发光强度,并产生特定的颜色。

铁离子(Fe3+)的掺杂能够引入新的能级,使氧化铝产生可见光发射。

此外,稀土离子如镧离子(La3+)和铽离子(Tb3+)等的掺杂也能够调节氧化铝的发光性质。

2. 掺杂浓度的影响随着掺杂浓度的增加,掺杂离子的浓度也会增加,进而改变氧化铝材料的组分。

一定范围内的掺杂浓度能够有效地增强氧化铝的光致发光性能,使其发光强度增加。

然而,当掺杂浓度超过一定值时,可能会发生离子堆积和能级交叉等现象,导致光致发光性能的降低。

多孔氧化铝膜的荧光研究

多孔氧化铝膜的荧光研究
图 3 铝和铝基多孔氧化铝的光致发光 ( 248nm) F ig. 3 P L of aluminum and poro us anodic aluminum ox ide based o n alum inum ( 248nm)
入氧化铝层的物质无疑影响了多孔氧化铝膜局部的 缺陷态 , 造成荧光光谱的频移和强弱的变化
采用二次阳极氧化的方法, 在草酸溶液中制备 了多孔阳极氧化铝膜, 用 F 4500 型荧光分光光度计 测量其三维荧光谱 , 分别用 248 nm 的准分子激光 器和 355 nm 三倍频的 YAG 激光器激发 , 测量其光 致发光谱, 发现样品发出明亮的蓝光 , 并与未经氧化 的铝膜进行对比, 对其发光机理进行了分析, 构建了 Al2 O3 的能级结构图 , 认为样品的发光主要源于两 点 , 其一是与氧化铝中 A l 与 O 比例失调而产生的 氧空位有关 , 其二是草酸电解液中的草酸根离子进 入氧化铝膜 , 形成发光中心 , 造成光谱频移和强度的 变化, 同时, 量子限域效应使得纳米氧化铝薄膜的光 学性质发生了变化 参考文献
15244 卷
稳定生长时 , Al3+ 提供主要电流 , 使得 A l 与 O 比例 失调, 产生过多氧空位 , 这些氧空位可形成一些发光 中心 不能排除, 由于多孔氧化铝膜是一种二维纳 米膜状材料 , 量子限域效应开始发生作用 , 金属纳米 晶粒的能级间距 d 为[ 12] d = 4E F / 3N 该式说明: 能级发生分裂时 , 能级的平均间距与组成 物体的微粒的自由电子总数成反比, 式中, E F 为费 米势能 , N 为微粒中的 原子数 宏观物体中, 自由 电子总数趋于无穷大, 能级间距接近零, 吸收光谱表 现为一连续光谱带, 而纳米晶粒所含自由电子总数 较少, 能级间距有一恒定值 , 使得吸收光谱向短波方 向移动 二维 氧化铝薄膜中的电子被 限制在势阱 中 , 使得载流子跃迁几率增加 另外 , 研究发现[ 13] , 采用不同的电解液, 制备的多孔氧化铝膜的色泽存 在差异 , 大体如下 : 用草酸制备的成黄色和棕色, 硫 酸和磷酸制备的几乎无色 , 铬酸制备的为灰色和灰 绿色 这就说明电解液密切参与成膜过程 , 其成分 进入氧化铝多孔层且不能用一般方法除掉 , 这些进

不同退火条件对纳米多孔氧化铝薄膜光致发光的影响

不同退火条件对纳米多孔氧化铝薄膜光致发光的影响

第!!卷!第"#期!!!!!!!!!!!!光谱学与光谱分析$%&'!!!(%'"#!))!"+-,!#/"#/"!年"#月!!!!!!!!!!!!0)1234%52%)67890)12347&:87&65;5<121=>14!#/"!!不同退火条件对纳米多孔氧化铝薄膜光致发光的影响谢!宁 马凯迪 沈异凡 王!倩"新疆大学物理科学与技术学院!新疆乌鲁木齐!?!//.*摘!要!以草酸为电解液!采用二次阳极氧化法制备出了纳米多孔氧化铝薄膜!经不同退火温度和退火气氛处理氧化铝薄膜后!通过分析其光致发光光谱得出&相同的退火气氛中!退火温度&5*//Z 时!&]C //Z 具有最大的光致发光强度(退火温度&--//Z 时!随着退火温度的升高!样品的发光强度增大"在不同的退火气氛中!多孔氧化铝薄膜随着退火温度的升高!发光峰位改变不同!即在空气中退火处理后!随着退火温度的升高!发光峰位蓝移!而在真空中退火处理后!发光峰位并不随退火温度的升高而变化(通过对""//Z 高温退火处理后的氧化铝薄膜的光致发光曲线的高斯拟合!可以看出!经退火处理后的多孔氧化铝!主要存在三个发光中心!发光曲线在!C /#*//8=范围内对应三个发射峰!发射波长分别为!?-!."/!.!+8="相同的退火温度下!空气中退火得到的氧化铝薄膜的光致发光强度大于真空中退火处理后的氧化铝薄膜"基于实验结果!结合[射线色散能谱#b <0$%红外反射光谱等表征手段!探讨了多孔氧化铝薄膜的发光机制!并对经过不同退火条件得到的多孔氧化铝薄膜的光致发光特性的改变做出了合理的解释"关键词!纳米多孔氧化铝薄膜(光致发光(发光中心(退火(光谱分析中图分类号 L .*#!!文献标识码 :!!!()* "/'!+*. M';558'"///,/C +! #/"! "#,!"+-,/C !收稿日期#/"!,/-,/+ 修订日期 #/"!,"/,"#!基金项目 国家自然科学基金项目#""/*C //+$资助!作者简介 谢!宁!"+??年生!新疆大学物理科学与技术学院硕士研究生!!1,=7;&&N ;18;8P N M O !5;87'28"通讯联系人!!1,=7;&&^78P h ;78/?/+!5;87'2%=引!言!!随着辐射剂量探测逐渐成为航天%医学等领域内的主要研究课题!具有辐射剂量探测功能的氧化铝以其较高的辐射剂量响应和优异的发光特性)"!#*逐渐引起了人们的关注"与传统制备作为剂量探测器的氧化铝的单晶生长方法相比)!,C *!二次阳极氧化制备氧化铝的方法以更低的制备成本和更为简易的操作流程!有望代替传统的单晶制备方法!并实现对做为辐射剂量探测材料的氧化铝的大规模低成本的工业生产"所以通过研究这种具有有序纳米多孔结构的氧化铝的各种特性可以对该材料的微观结构等形成系统的认识"光致发光以其非破坏性%灵敏度高的优点可以提供有关材料的结构%成分及环境原子排列的信息)**!所以研究氧化铝光致发光特性成为认识这种材料最重要的方法之一"虽然对纳米多孔氧化铝薄膜的光致发光进行了大量研究!但至今在其发光来源和发光机制等一些问题上!还存在较大分歧)-*"早在"+?"年d 7=7=%3%等)?*就探讨了利用二次阳极氧化法!在草酸中制备氧化铝薄膜的光致发光机理!他认为阳极氧化过程中草酸根离子在强电场作用下进入氧化铝内部并转化为发光中心!发光峰位在.-/8=处!这是出现较早!以草酸根分解产物作为发光中心的一类对氧化铝薄膜光致发光机理具有代表性的解释(<O )+*和X ;)"/*等同样也用二次阳极氧化法在相同条件下制备了氧化铝薄膜!而他们却把该材料光致发光的机理归因于制备氧化铝薄膜过程中其内部形成的氧空位缺陷#D中心,俘获两个电子的一种缺陷结构%D Y 中心,俘获一个电子的一种缺陷结构$所致!其中以D Y 发光中心为主导([O 等)""*将二次阳极氧化法制备的氧化铝薄膜的光致发光现象归因于是其内部氧空位缺陷中心和草酸杂质分解产物的共同作用的结果(同时!从F %>;897等)"#*的研究结果可以看出!二次阳极氧化法制备的氧化铝薄膜的光致发光主要由DY 中心决定!草酸根由于其不稳定性!它在氧化铝中的含量会随着退火温度的升高而降低!从而微弱的发光被DY 中心发出的光所掩盖"显然!讨论采用二次阳极氧化法制备的多孔氧化铝薄膜的光致发光机理成为当前亟待解决的问题"通过研究经不同退火温度处理后的氧化铝薄膜光致发光特性的改变!成为现有的探讨这种机制的重要方法之一"但是!不同退火气氛对氧化铝薄膜的光致发光特性的影响却很少有人关注!所以本文着重研究不同退火气氛和不同退火温度对纳米多孔氧化铝光致发光特性的影响"借助扫描电子显微镜#0b A$%红外反射光谱#;8T4741941T&1235)12347$%光致发光#V X$荧光光谱等表征手段!通过分析表征结果!探讨了纳米多孔氧化铝薄膜的光致发光机理!在合理解释了不同退火条件对多孔氧化铝薄膜的光致发光特性的影响后!我们给出了主要存在于纳米多孔氧化铝中的几种发光中心!以及在经不同的退火条件处理后的氧化铝薄膜中它们对光致发光的贡献""!实验部分!!采用由上木科技有限公司提供的高纯抛光铝箔#纯度& ++'+++U$!在空气中.J退火#.//Z$处理后!经过清洗%抛光等预处理!在室温##/Z$条件下以/'C=%&+X K"的草酸溶液为电解液!铝为阳极!碳棒为阴极!进行铝箔的第一次阳极氧化.J!电压#./$$"将氧化完成后的样品放入质量比为W!V L.l I4#L!]".l!的酸溶液中!恒温*/Z浸泡!J!然后用去离子水清洗!进行第二次阳极氧化!二次氧化条件和一次氧化完全相同!氧化时间.J"最后将样品放入/'!=%&+X K"的草酸中扩孔#J"得到以铝为基底!表层为纳米多孔氧化铝薄膜的样品"需要去除铝基底时!使用体积比为!l"的饱和I O0L.和W I&的混合溶液!将铝基底浸泡在此溶液中!置换反应将铝溶解在溶液中!得到双通的纳米多孔氧化铝薄膜#::A$"采用由合肥科晶生产的a0X,""//[,0微型箱式炉对样品进行空气气氛中的退火处理(真空气氛的退火由本实验室自制的石英管真空退火系统完成#"n"/K#V7$"退火温度在*//Z以下#包括*//Z$的样品没有去除铝基底!退火温度在?//#""//Z的样品是去除了铝基底的双通氧化铝薄膜"在相同条件下制备的氧化铝薄膜经不同退火气氛和退火温度处理后样品编号如下&:.//表示在空气#7;4$中温度.//Z 退火!:C//!:*//!:?//!:"///!:""//以此类推"$.//表示在真空#_72O O=$中温度.//Z退火!$C//和$*//以此类推"另外//表示未经退火处理"采用由德国X b L公司生产的型号为X b L".!/$V的扫描电镜#52788;8P1&1234%8=;24%52%)1!0b A$观察样品表面形貌(由德国S H E a b H公司生产的型号为b h O;8%N C C的红外光谱仪室温条件下分析样品中所含的官能团!从而判断草酸根离子等有机官能团含量(使用型号为D&O%4%&%P,!,#",B I, 0V I的荧光光谱仪#光源&.C/@连续氙灯$室温下对样品进行光致发光测试"#!结果与讨论!!采用二次阳极氧化法可以制备出孔径均匀%分布有序的纳米多孔氧化铝!通过控制草酸浓度%氧化电压和氧化时间等参数!人们已经制备出孔径在#C#!//8=!厚度在"// 8=##//"=之间的有序纳米多孔氧化铝薄膜)"!!".*"图"#7$是用二次阳极氧化法制备的氧化铝薄膜放大C万倍的表面形貌图!孔径大小为*/'+.8="图"#>$是氧化铝薄膜经?//Z 退火.J后!放大!万倍扫描电镜表征的表面形貌"-12,+!#I479<8@54H D5652=579C"H48H948>96I@1?9716@C#9$ 9?>96I@1?9716@C9?>96I@1?997:84Q''`9??8961?2:489:@8?:#E$!!值得注意的是!表面形貌在高温下的变化只和温度有关!且随着退火温度的升高!氧化铝表面的孔越来越小!孔周围的氧化铝层变得越来越厚"而这种形貌的变化与退火气氛无关!所以此处只是列出了在空气中退火的氧化铝的表面形貌"图#分别为在空气#7$和真空#"n"/K#V7$#>$气氛下不同退火温度处理后样品的光致发光曲线#激发波长!C/8=$!退火所用的样品!制备条件相同且大小一致"从图##7$中我们可以看出&随着退火温度的升高!氧化铝发光峰的强度先是增大!然后下降!退火温度&]C//Z时氧化铝薄膜的发光峰强度最大!这与$4O>&1_5R6等)"*的实验结果一致(氧化铝薄膜的发光峰位随退火温度的升高!整体蓝移#从%//] .C/8=蓝移到%:*//].!/8=$"从图##>$中我们可以看出&随退火温度升高!真空中退火处理后的氧化铝薄膜发光峰位强度的变化与空气中退火处理后的氧化铝薄膜发光峰位强度的变化规律一样!但是!在真空气氛下退火的氧化铝薄膜发光峰位不随退火温度的升高而变化!始终都在%].C/8=处"需要强调的是!本文中提到的氧化铝的光致发光的发光峰位可能和一部分其他文献中提到的略有不同!其主要原因有&#"$氧化铝膜的厚度不同!整体缺陷浓度不同(##$氧化铝的制备过程中!采用的草酸电解液的浓度不同!这会导致不同样品中缺陷浓度和草酸根杂质的分解产物比例不同!发光峰位也会有所改变"?+"!光谱学与光谱分析!!!!!!!!!!!!!!!!!!!第!!卷-12,&!3D5:56I@1?8C<8?<8C H8<:495796I@1?9716@C9??8968>1?914#9$9?>96I@1?9716@C9??8968>1?;9<I I@#E$9:>177848?::8@H849:I48!!图!为不同退火条件下氧化铝薄膜的红外反射光谱"图中波数为!///#!-//2=K"的反射峰表示氧化铝中存在W#L分子或者,L W键)""*!可以看出退火后其反射峰的强度明显降低!这和样品中的W#L 分子随着退火的进行不断地蒸发散失是一致的(波数为#!//2=K"的反射峰表示在氧化铝薄膜中有残留的I L#气体分子)""*!可以看出退火后其反射峰的强度增加!这是因为制备过程中进入氧化铝膜的草酸根在高温下不断地分解生成了I L#(根据[O等推断!波数在".//#"-//2=K"范围内出现反射峰!都是样品中含有的6$6I L的结果!此官能团可以理解为是进入氧化铝的草酸根分解的产物!也可以理解为是碳原子取代铝原子形成的氧空位缺陷结构!从其反射峰的强度变化来看!这种结构的数量是随着退火的进行而增大的"由其形状和反射强度可以推断!波数为"///2=K"附近出现的反射峰!为样品的主要成分:&,L,:&键存在的结果"-12,/!*?74948>48768<:9?<8C H8<:495796I@1?9716@C9??8968>I?>84>177848?:<5?>1:15?!!图.所示为空气环境中经不同退火温度处理后样品的V X曲线#激发波长!C/8=$"为了排除退火气氛对样品的影响!这里只讨论在空气环境下不同退火温度对样品光致发光特性的影响"可以看出&随着退火温度的不断升高#.//# ""//Z$!氧化铝薄膜的光致发光强度明显增大(退火温度&5*//Z时!发光峰位有蓝移!&--//Z时!发光峰位稳定!不随退火温度的升高而变化"-12,0!3D5:56I@1?8C<8?<8C H8<:495796I@1?9716@C9??8968>1?9149:>177848?::8@H849:I48!!图C是在空气中""//Z退火处理后氧化铝的V X发光曲线#激发波长!C/8=$!对其V X曲线进行F7O55;%8曲线拟合!我们得到V X发光曲线实际由发光峰波长分别为!?-! ."/!.!+8=三部分叠加而成!我们据此可以认为!三个峰位依次为D Y中心!D中心和与草酸杂质有关的发光中心分别产生的"这也和[O等)""*的研究成果相似"-12,!!M9I C C15?71:H D5:56I@1?8C<8?<8C H8<:495796I@1?9716@C9??8968>9:++''`!!通过对以上实验结果的分析!我们得出两点"#"$相同退火温度不同退火气氛对氧化铝薄膜发光特性的影响&首先!真空气氛中退火处理后样品的光致发光强度整体较低"退火过程中氧化铝薄膜所在的退火环境中的氧气和阳极氧化时进入氧化铝薄膜的L#K经阳极失去电子沉积在薄膜中的氧分子会继续和基底铝反应生成氧化铝!这一过程会产生大量的氧空位缺陷#它俘获一个或两个电子分别形成D Y中心或D中心$!而真空环境中的氧含量极低!只有沉积在薄膜中的氧分子会继续和基底铝反应生成较空气中较少的氧化铝!所以此时产生的氧空位缺陷D Y较少!所以发光强++"!第"#期!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!光谱学与光谱分析度整体比在空气气氛中退火的情形低(其次!真空气氛中退火处理后的样品!随着温度变化!发光中心不会改变!而空气中退火处理后的氧化铝的发光中心对应的发光峰位出现蓝移"退火处理消除了在铝基底上形成氧化铝时所引入的体膨胀应力!从而使能带间隔较未退火处理的情形变宽了!存在于能带间隙中D 中心和DY 中心的相对位置也发生变化!使发光峰位蓝移!所以大量的氧空位缺陷的出现使得这种蓝移十分明显"与此同时!进入薄膜的草酸根离子也会随温度的升高而分解!其分解产物也会参与发光)"C *!它的参与会使整个发光峰红移"所以!空气中退火处理产生了大量的DY 中心!对应的能带间隙变宽产生的蓝移作用比草酸杂质分解产物发光产生的红移作用要大!所以宏观上体现为发光峰位的整体蓝移"而在真空气氛中退火处理后!较少的DY 中心对应的能带间隙的变化引起的发光峰位的蓝移和草酸根随温度的升高异常的分解引起的发光峰位的红移效果抵消了!保证了稳定的发光峰位"需要强调的是!在比较不同退火气氛对氧化铝薄膜的影响时!退火温度低于*//Z !此时氧化铝为非晶态结构!很多文献都用[H <表征有所说明!此处不再阐述"-12,%!^(#57:D 896I @1?9716@9??8968>9:++''`!!##$相同退火气氛不同退火温度对氧化铝薄膜发光特性的影响&通常情况下采用二次阳极氧化法制备的氧化铝薄膜由于其厚度为纳米级别的!所以都是以氧化铝薄膜底部的铝基底作为氧化铝薄膜载体的"但由于高温退火!铝的熔点较低#*-/Z $!所以当退火温度&--//Z 时!一般都需要去除铝基底"通过比较图.中低温退火和高温退火的光致发光曲线的形状可以看出!首先!铝基底的存在影响着氧化铝薄膜的光致发光特性!这与<O 等)+*提出的铝基底的存在不影响氧化铝薄膜光致发光的观点不同(其次!退火温度&5*//Z 范围内不同的退火温度处理样品后!只有&]C //Z 具有最大的发光强度!而在退火温度&--//Z 时!发光强度随退火温度的升高不断上升!这一点可以解释为&退火过程中氧化铝的继续形成!导致氧空位缺陷#D Y 中心%D中心$的不断增加!阳极氧化过程中进入氧化铝的草酸杂质也随着温度的升高!不断分解!形成新的发光中心)"C *"当&]C //Z 时!氧化铝的形成速率大于形成氧化铝所需的L #的供给速率!所以在晶态还未发生转变的这一阶段#&5*//Z $!氧空位缺陷可以达到这一阶段数量的极大值)-*!导致光致发光强度也相应地达到了极大值(&--//Z 时的高温退火处理后!样品的结晶化程度提高!氧化铝薄膜原子的有序化排列一方面使得原有的氧化铝薄膜中的结构缺陷#其实质还是氧空位缺陷$减少(但另一方面!高温下草酸盐分解产物中的碳原子有可能取代结晶化氧化铝薄膜中的铝原子!导致取代后形成更多的氧空位缺陷)"**(所以在总量上不断增加的氧空位缺陷使整个氧化铝薄膜随着温度的升高!有更多的氧空位缺陷形成"这一点可以由图*得到证实!即高温退火处理后的氧化铝薄膜中#草酸完全分解$仍存在碳元素!这些碳元素的存在印证了我们的推断"!!结!论!!采用二次阳极氧化法在草酸电解液中制备出了纳米多孔氧化铝薄膜!通过对样品不同条件的退火处理并借助相应的表征手段!研究了退火条件对氧化铝薄膜光致发光的影响!并根据实验结果提出了氧化铝薄膜的光致发光主要来自于三种不同的发光中心&D Y 中心!D中心和草酸杂质所转变的发光中心!每一种发光中心在特定的激发波长下都会参与发光!只是在不同的退火条件下它们对光致发光的贡献大小不同"相同的退火温度下!真空气氛中退火处理后氧化铝薄膜的光致发光比在空气中退火处理的氧化铝薄膜光致发光强度低!并将此归结为在不同退火气氛中形成的氧缺陷数量不同所致"不同退火气氛中光致发光的峰值发光峰位的改变不同是因为氧缺陷能级在禁带中的相对位置随着退火作用下体膨胀应力的减小而变化引起的发光峰位蓝移和草酸杂质参与发光引起的光致发光峰位的红移这两个作用对光致发光的贡献不同所致"相同的退火气氛中!退火温度&5*//Z 时!&]C //Z 具有最大的发光强度!这是因为当&]C //Z 时!氧化铝的形成速率大于形成氧化铝所需的氧的供给速率!在此缺氧条件下!氧化铝薄膜中的氧空位缺陷达到了最大值(草酸杂质也随着温度的升高!不断分解!形成新的发光中心"退火温度&--//Z 时!随退火温度的升高!样品的结晶化程度提高!碳原子有可能取代结晶化氧化铝薄膜中的铝原子!导致取代后形成更多的氧空位缺陷!使氧化铝薄膜的光致发光强度逐渐增大"!S 87848?<8C)"*!$4O >&1_5R 6G !I J 14867R %_7a !G 5)75:!137&c e %O 487&%T X O =;81521821!#/""!"!"&+!?c )#*!d O R ;J 747bF !A ;&&;R 18b<!L &;_1;47XI !137&c e %O 487&%T X O =;81521821!#/"!!"!!&#/!c )!*!X 1%8P Id !W O 5;8@!:>9aG c 137&c e %O 487&B 1R 8%&%P ;#02;18215k b 8P ;8114;8P $!#/"!!*#&"/+c ).*!a%43%_$c H 79;73;%8A 175O 41=1835!#//-!.#&C -*c )C *!d78P [S !X ;We !I J 18P d !137&c e %O 487&%T I 46537&F 4%^3J !#//?!!"/&!?//c //#!光谱学与光谱分析!!!!!!!!!!!!!!!!!!!第!!卷)**!`J 78P de !e ;7`W !G 5=7d ;&!137&c 01=;2%89O 23%4L )3%1&1234%8;25!#//?!#+&?-!c )-*!F 7%B !A 18P F @!`J 78P X<c e c V J 65&I %89185c A 73314!#//!!"C &#/-"c )?*!d 7=7=%3%d !S 7>7(!B 7M ;=70c (73O 41#X %89$!"+?"!#?+&C -#c )+*!<Od !I 7;@X !A %I A !137&c :))&;19V J 65;25X 133145!"+++!-.&#+C "c )"/*!X ;d !X ;F W !A 18P F @!137&c e c V J 65&I %89185c A 73314!#//"!"!&#*+"c )""*![O@X !`J 18P Ae !@O0!137&c :))&;19V J 65;25X 133145!#//.!?C &.!*.c )"#*!F %>;897Fa !:5J O 3%5Ja0!a 7&678Ac e %O 487&%T X O =;81521821!#/"!!"!.&--#c )"!*!a 1&&14D !W O 8314A !H %>;85%8<X c e %O 487&%T 3J 1b &1234%2J 1=;27&0%2;136!"+C !!"//&.""c )".*!D 78<W !<;8P Ff !137&c A ;24%)%4%O 5789A 15%)%4%O 5A 7314;7&5!#//-!"//&"C .c 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铈掺杂氧化铝薄膜的蓝紫色发光特性(精)

铈掺杂氧化铝薄膜的蓝紫色发光特性(精)

铈掺杂氧化铝薄膜的蓝紫色发光特性*应用中频反应磁控溅射技术制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜.X射线光电子谱(XPS)检测显示薄膜中有Ce3+生成.这些薄膜的光致发光峰是在374 nm附近,它来自于Ce3+离子的5d1激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁.发光强度强烈地依赖于薄膜的掺杂浓度,但发光峰位置不随掺杂浓度而变化.Ce3+含量和薄膜的化学成分是通过X射线散射能谱(EDS)测量的.薄膜试样的晶体结构应用X射线衍射分析.俄歇电子谱用于对薄膜材料的化学组分进行定性分析.发射蓝紫色光的Al2O3:Ce3+非晶薄膜在平板显示等领域有着广泛的潜在应用前景.关键词:光致发光, Al2O3,薄膜,稀土元素1·引言近几年以来,稀土元素掺杂磷光发光研究因为在诸如发光材料[1—3]、激光[4—6]、光纤放大器[4,6]、高密度光存储[4,6]和电致发光显示器件[2,3]等领域有广泛的潜在应用前景,而得到广泛的关注.其中,稀土掺杂的薄膜发光材料又因其在平板显示中的诱人的应用前景格外引人瞩目[2].然而,这方面材料的开发速度较为缓慢.到目前为止,只有Zn,Ca和Sr的硫化物和硒化物是公认的高效发光基质材料.虽然,在硫化物发光机理材料方面取得了巨大的进步,但是它的发光寿命退化因素限制了它的实际应用优势.与传统的硫基发光材料相比,氧基发光材料如氧化铝已经证明是潜在的的薄膜发光材料,这主要是因为,它的高的透明,优异的化学和热稳定性,和相对高的发光亮度[2,7].许多种薄膜沉积技术如射频磁控溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、原子外延生长和溶胶凝胶方法等都被应用于发光薄膜材料的制备.其中,中频反应磁控溅射技术是相对成本较低、适合于大批量生产的成熟技术[8—10].它已经在薄膜生产中得到广泛应用.本文主要介绍采用中频反应溅射技术制备的,掺铈氧化铝薄膜的发光性能.2·实验过程溅射源是两个相同的、被悬浮安装的纯铝和金属铈复合的孪生靶,其长为270 mm宽为70 mm,厚度为5mm,靶材为99·99%的高纯铝.实验时在抛光的铝靶表面刻蚀区上对称粘贴分布了若干直径为5mm、高为2mm的99·99%的高纯金属铈片.金属铈片与铝靶表面保持物理接触,不发生化学反应.通过调节金属铈片的数目可改变薄膜的掺铈浓度.也就是通过调节纯铝和金属铈片相对面积比来调节薄膜中的铈离子掺杂量.薄膜制备参数见表1.表1 中频反应磁控溅射制备Al2O3:Ce薄膜的工作参数靶材(复合靶)纯度/% 99·99靶尺寸/mm270×70工作气体Ar纯度/% 99·999反应气体O2纯度/% 99·999氩气流率/sccm 58氧气流率/sccm 12基片材料玻璃溅射基础压强/Pa <3×10-3溅射总气压/Pa 2·0×10-1功率/W 600靶基距/mm 70工作温度室温溅射时间/min 90第57卷第11期2008年11月1000-3290/2008/57(11)/7327-06物理学报ACTA PHYSICA SINICAVol.57,No.11,November,2008(2008 Chin.Phys.Soc.发光膜的各种性能通过不同的表征手段表达出来.薄膜的晶体结构是用X射线衍射(XRD)检测的,所用仪器是日本理学D/max-rA旋转阳极X射线双晶衍射仪;X射线能量散射谱(EDS)是用日立电子公司JSM-6301F Sanning Microscope with link-ISLS300EDS System来探测Ce3+含量及薄膜材料的化学成分;X射线光电子谱和俄歇电子谱(XPS/AES)检测是采用法国RIBER公司生产的LAS-3000表面分析系统;发光膜的激发谱和发光谱检测是采用德国OPTON公司的DMR-22自动记录光谱光度计和北京第二光学仪器厂生产的WFZ900-D4UV-VIS可见紫外分光光度计获得的.3·结果和讨论所有样品都是在室温下,使用纯铝和金属铈复合靶沉积的.掺杂金属铈占靶总面积的比例和用EDS测定的化学成分简述于表2.试样AOC15—AOC20是在溅射气氛中氧分压占20%,分别在纯铝和金属铈不同相对溅射面积比的条件下沉积的;所有研究试样中氧和铝的原子百分率比接近3比2.EDS测定的铈含量基本正比于金属铈和纯铝的相对面积比.此外,掺杂浓度对薄膜的透射谱、膜厚和表面形貌的影响很小.表2 不同沉积条件的薄膜试样和用EDS法测量的薄膜化学成分试样沉积条件化学成分at%O2/%面积比例O Al CeAOC15 20 0·59 69·21 30·59 0·2AOC16 20 1·25 68·10 31·47 0·44AOC17 20 2·36 67·93 31·31 0·76AOC18 20 3·38 66·17 32·65 1·18AOC19 20 7·21 66·74 31·73 1·63AOC20 20 10·3 66·65 31·11 2·24试样AOC18的AES谱如图1所示.其中Al和O峰的相对强度比率接近氧化铝的标准比率.总的来说,所有试样的Al,O和Ce的相对AES峰比率都较理想的符合制备条件.AES谱中存在碳峰,这是沉积后在空气中被污染的缘故.薄膜的晶体结构是通过XRD来研究的.所有试样都展现出很宽的衍射带,没有表现出任何晶体结构,是典型的非晶体材料.Taya[11]的研究表明:反应磁控溅射制备的Al2O3薄膜晶体结构取决于制备薄膜的基片温度和沉积粒子的能量等参数,只有当基片温度超过500℃,并且沉积粒子能量较高时,才可能得到晶态氧化铝薄膜.本实验基片处在自然温升状态,因此得到非晶Al2O3薄膜是合理的.薄膜中掺杂的铈离子的主要3d特征XPS谱如图2所示,根据Martinez[12]的研究结果,在885·8 eV和904·2eV附近的两个峰分别是三价铈离子的3d5/2和3d3/2峰.898·04 eV和882·4 eV附近的两个峰分别是四价铈离子的3d3/2和3d5/2峰.图中在914 eV 附近Ce2O3有一个伴峰,属于光电子能量损失峰[13,14].这个伴峰是由稀土氧化物中的未成对电子跃迁引起的.铈原子在氧化环境下,可以生成Ce3+和Ce4+离子,Ce3+有一个4f层电子而Ce4+的4f层是空的.对于光电子能量损失峰来说,在Ce3d内核发生电离作用时,一个价带电子从O2p被激发到比价带高[15]的空4f轨道上.这就在Ce 3d内核上产生了接近于1的正电荷,这个跃迁的结果就直接导致了对产生Ce4+离子的屏蔽[14].因此在图2中Ce3+峰的强度远大于Ce4+对应峰的强度.图1 Al2O3:Ce薄膜试样AOC18的俄歇电子谱铈掺杂的氧化铝薄膜,在320 nm的紫外光激发下,有非对称的蓝紫色宽带发光谱.图3是Al2O3:7328物理学报57卷图2 掺杂氧化铝薄膜中Ce的3d XPS 谱CeCl3薄膜[16]和Al2O3:Ce薄膜的发光谱对比图.由图3可以明显看出:在铈元素掺杂比例几乎相同的条件下,用金属铝铈复合靶制备的(AOC16)薄膜的发光谱明显变窄.表现出两个发射峰,峰位分别在375 nm和406 nm附近.这两个发射峰之间的能量差是2036 cm-1.从发光理论上已知,Ce3+产生的光致发光谱带有双峰结构,是因为在自旋轨道相互作用下,4f1基态能级发生劈裂,并且Ce3+的基态劈裂能级差在2000 cm-1左右[17].在目前研究中我们也同样观察到如图3所示的双峰结构特点.两个发光峰的能级差与Ce3+的基态劈裂能级差非常符合.因此可以证明金属铝铈复合靶反应溅射沉积的薄膜中存在部分Ce3+发光中心,图3所示的两个发光峰分别对应于Ce3+的两个宇称允许跃迁(即2D(5d)→2F5/2(4f)和2D(5d)→2F7/2(4f)).正是独立的Ce3+离子发光中心存在才导致了Al2O3:Ce 薄膜较Al2O3:CeCl3薄膜的光致发光谱窄.这与上文XPS的检测结果是一致的.而在常温下制备的Al2O3:CeCl3薄膜中,生成了类似于氯化铈分子的集合体,该薄膜的发光是源于集合体中的铈离子退激跃迁,因而Al2O3:CeCl3薄膜的发光峰与氯化铈粉末的非对称宽带发光峰很相似[16,18].因为Ce3+没有4f层电子的保护作用,5d电子跃迁很容易受基质晶场影响.铈离子在有无氯元素存在的条件下,所处的晶场环境不同,致使两个宇称允许跃迁发生变化,导致两条谱线有较大差异.钟国柱[18]在SrS:CeCl3材料的光谱中也观察到了明显的随着独立的Ce3+离子发光中心增加,发光光谱出现窄化和强度增强现象.另一方面,本实验Al2O3:Ce薄膜的光致发光谱形状与Keiko[20]在α-Al2O3单晶注入Ce3+离子后得到的PL谱很相似.因为Al2O3:Ce薄膜是非晶态,发光峰比单晶的宽,并且跃迁的劈裂程度也不像在α-Al2O3单晶中那样清晰[21].图3 氧化铝薄膜中分别掺杂CeCl3和Ce3+的光致发光谱对比图4是不同Ce3+离子浓度条件下的光致发光谱对比图.如图所示,首先,Al2O3:Ce薄膜的光致发光强度随Ce3+离子的浓度增加,呈现先上升后下降的趋势,AOC18试样的发光强度最高.这是因为开始在Al2O3:Ce薄膜基质中Ce3+离子很少,发光较弱;随着Ce3+离子浓度增加,PL发光强度不断提高,当浓度达到一定值时,就发生浓度猝灭现象,因而随着浓度增加发光强度反而下降.这种浓度猝灭现象已经在很多其他基质中被多次报道过[18,22,23].其次,在发光谱形状上掺杂不同浓度的试样的发光峰都很相似,都出现了不同程度的窄化现象.第三,各个掺杂浓度的试样的发光峰位几乎没有变化,没有出现类似Al2O3:CeCl3薄膜的PL谱峰位随掺杂浓度提高而红移的现象.Keiko[20]在α-Al2O3单晶注入不同剂量的Ce3+离子后得到的PL谱,同样没有观察到随铈离子浓度的增加发光峰位红移的现象.徐光青等人[24]对掺Ce3+离子的SiO2材料进行氯化处理,发现氯化处理不仅可以提高发光强度,而且使发光和激发波长发生明显蓝移.他们认为氯元素的引入改变了SiO2基质的配位场,从而导致Ce3+离子发光性能改变.这说明Al2O3:CeCl3薄膜的发光峰随掺杂浓度红移可能与薄膜中的氯元素有关.其具体的发光随浓度红移的机理有待于进一步研究.图5是试样AOC17对应于374 nm发光的激发732911期廖国进等:铈掺杂氧化铝薄膜的蓝紫色发光特性图4 不同掺杂浓度的Al2O3:Ce薄膜光致发光谱图5 薄膜试样AOC17对应于λem=374 nm发光的激发谱谱.如图所示,激发谱呈现为非对称的宽带激发峰,波峰位置在325 nm附近.把这个激发谱与文献[16,18,25]的激发谱相比较,可以发现这个激发峰与Al2O3:CeCl3薄膜激发谱的325 nm低能激发峰很相似,而在Al2O3:CeCl3薄膜的高能激发峰255 nm处。

氧化铝纳米颗粒的制备及其光催化性能研究

氧化铝纳米颗粒的制备及其光催化性能研究

氧化铝纳米颗粒的制备及其光催化性能研究氧化铝纳米颗粒是一种具有广阔应用前景的材料,在许多领域都有着广泛的应用,如能源储存、光催化、传感器等。

因此,制备氧化铝纳米颗粒并研究其性能对于开发高性能材料具有重要意义。

制备氧化铝纳米颗粒的方法有很多种,如溶胶-凝胶法、水热法、微波辅助法等。

其中,溶胶-凝胶法是一种比较常用的方法。

它可以通过控制溶胶和凝胶的条件来控制氧化铝纳米颗粒的尺寸和形貌。

此外,水热法也是一种比较简单易行的制备方法。

其基本步骤是将氧化铝前驱体与溶剂混合后在高温高压下完成水解反应。

这样可以获得尺寸均一、形貌规整的氧化铝纳米颗粒。

在制备氧化铝纳米颗粒的过程中,经常需要添加不同的物质来调控其性能。

例如,通过加入碳源可以制备出氧化铝/炭复合材料,提高其电催化性能和电化学稳定性;或者将金属离子(如Ni)掺杂到氧化铝晶格中,可以提高其催化性能和光催化性能。

其中,氧化铝纳米颗粒的光催化性能是其应用的重要方向。

光催化是利用半导体材料(氧化物)在光照下产生电荷对,进而促使物质的光解和氧化反应的一种新型技术。

氧化铝纳米颗粒作为一种重要的半导体材料,其在光催化方面有着广泛的应用前景。

研究表明,氧化铝纳米颗粒光催化性能的优劣与其晶格结构和表面性质密切相关。

晶格结构的不同会导致电子和空穴的迁移性质、对光的响应波长等变化,从而影响其光催化性能。

表面性质的不同会影响催化剂与反应物之间的相互作用,影响反应速率和选择性等性能。

为了研究氧化铝纳米颗粒的光催化性能,通常采用可见光或紫外光曝光下的光催化实验。

其中,可见光催化是近年来较为热门的研究方向。

在可见光催化实验中,常用的光源是白炽灯、氙灯、LED光源等。

实验过程中,一般采用Rhodamine B (RhB)分解试验、甲醛光催化氧化试验等进行表征和评价光催化性能。

最近的研究表明,制备氧化铝纳米颗粒过程中,利用模板或者有机物修饰方法制备的纳米颗粒具有更好的光催化性能。

例如,利用有机物修饰可以控制氧化铝纳米颗粒的厚度和孔隙度,从而提高光催化性能。

纳米铝颗粒强氧化反应发光特性研究

纳米铝颗粒强氧化反应发光特性研究

c e t d b lc rc 1 x l so f r s i d sg e .Th m i e c n ee e g e x g n a d n t i ee v r n n r r a e y e e t i p o in o wi e i n d a e A1 e s e 1 n s e c n r isi o y e n i d n i me t e u n r o a c mp r d a d 1m i e c n es e t o t y o a c A1 02r a t n i a u e .Re e r h r s l h w h t h h s c 1 o a e n u n s e c p c r me r fn n r + e c i me s r d o s s a c e u t s o t a e p y ia s t c n iin fe tt e l mi e c n e e e g . e l we h x g n p e s r h h m b r i ,t e h g e h n r y i. o d t s a fc h u n s e c n r y Th o o r t eo y e r s u e i t e c a e s h i h r t e e e g s n Th u n s e c n r y i c e s swi r ime e e r a i g i h e i n n ,b td c e s sa t r r s Th — e l mi e c n e e e g n r a e t A1 h wied a t rd c e s n t eb g n i g u e r a e fe wa d . el n u m i e c n e e e g n r a e t h t r g n r y o h a a i ri c e sn n s e c n r y i c e s s wi t e so a e e e g ft e c p ct n r i g,a d a t r s o d v l e e it . h o a n e h l au xs s h

多孔氧化铝薄膜中罗丹明6G光学特性随光照时间的变化

多孔氧化铝薄膜中罗丹明6G光学特性随光照时间的变化

多孔氧化铝薄膜中罗丹明6G光学特性随光照时间的变化孙立萍,李玉栋,齐继伟,许京军,孙 骞*(南开大学教育部弱光非线性光子学材料与器件重点实验室,天津300457)摘要:实现了有机染料-无机载体复合材料中J聚合物向H聚合物的转变,并且证明了泵浦激光能够导致复合材料的荧光淬灭效应。

研究了多孔氧化铝(AAO)薄膜中的罗丹明6G(Rh6G)分子在激光泵浦下的吸收谱和荧光谱随照射时间不同而产生的变化。

结果显示,随着照射时间的增加,吸收谱和荧光谱的峰位均发生了不可逆的蓝移,并且发生了荧光淬灭现象。

数值模拟结果显示,荧光谱的峰值强度随时间变化符合两个自然指数衰减函数之和。

发生这样的荧光强度衰减(即荧光淬灭)现象是因为样品中的单体与发射性J聚合物转变为非发射性的H聚合物。

实验结果显示,这种聚合物的转变不是源于激光的热效应,其源于激光的光效应。

关键词:激光照射;多孔氧化铝(AAO);罗丹明6G(Rh6G);光谱中图分类号:O433.1 文献标识码:A 文章编号:1005-0086(2011)06-0864-04C hanges of optical properties of Rhodamine6G induced by illumi-nation tim e in anodize d aluminum oxide film sSUN Li-ping,LI Yu-dong,QI Ji-wei,XU Jing-jun,SUN Qian*(Key Laboratory of Weak-Light Nonlinear Photonic M aterials and Devices,EM C,T EDA Applied Physics School and School of Physics,Nankai University,Tianjin300457,China)A bst ract:The c onversion of J-aggregates to H-aggregates in c omposite materials(organic dye-inorganic substrate)was firstly obtained in the experiment.We also observed that the laser illumination c an lead to fluoresc ence quenc hing in composite materials.The temporal c hanges in spectra of highly ordered nano-composite arrays(Rh6G-AAO)induc ed by laser illumination,whic h are formed by filling anodized alu-minum oxide(AAO)with R hodamine6G(Rh6G)dyes,were studied by visible absorptive and fluores-cent spectroscopy.Both the temporal absorption and fluorescenc e spect ra of Rh6G-AAO illuminated by laser present irreversible blue shif ted peak positions and diminished peak intensities(fluoresc ent quenc h-ing).The numerical simulation results show that the temporal behavior of fluoresc ence peak intensities obes two exponential decay functions.The deca y process,called fluorescent quenching,is c ontributed to the conversion of monomers and emissive J-aggregates into nonemissive H-aggregates.The experimental results show that the heat effect of laser can not induce the aggregate conversion.The photo-assisted effect of laser introduc es the aggregate conversion of Rh6G molecules in AAO.Ke y wor ds:laser illumination;anodized aluminum oxide(AAO);Rhodamine6G(Rh6G);spect rum1 引 言 鉴于罗丹明6G(Rh6G)是一种具有重要用途的有机染料,直到最近仍不断针对Rh6G的光学性质对其开展研究[1]。

氧化物纳米材料Y_2O_3_Yb_省略__Er_3_上转换发光性质的研究_刘晃清 (1)

氧化物纳米材料Y_2O_3_Yb_省略__Er_3_上转换发光性质的研究_刘晃清 (1)

第26卷,第8期 光谱学与光谱分析Vol 126,No 18,pp1396213992006年8月 Spectroscopy and Spectral Analysis August ,2006 氧化物纳米材料Y 2O 3:(Yb 3+,E r 3+)上转换发光性质的研究刘晃清,王玲玲,李宏健湖南大学应用物理系,湖南长沙 410082摘 要 以Y 2O 3,Yb 2O 3,Er 2O 3为原料,利用燃烧法分别制备了Y 2O 3:Er 3+和Y 2O 3:(Yb 3+,Er 3+)两种纳米材料和相应的体材料Y 2O 3:(Yb 3+,Er 3+)。

用发射波长为978nm 的半导体激光器和日立F 24500荧光分析仪测量了它们的上转换发光,得到纳米材料Y 2O 3:Er 3+的上转换发光主要为绿色上转换发射而纳米材料Y 2O 3:(Yb 3+,Er 3+)主要为红色上转换发射,而后者与激活离子掺杂浓度相同的体材料Y 2O 3:(Yb 3+,Er 3+)的上转换发射相比较,体材料以绿色上转换发射为主、红色上转换发射很弱。

主题词 氧化物;纳米材料;Y 2O 3:(Yb 3+,Er 3+);上转换;发光中图分类号:O48213 文献标识码:A 文章编号:100020593(2006)0821396204 收稿日期:2005204230,修订日期:2005210220 基金项目:湖南省自然科学基金(03JJ Y3068)资助项目 作者简介:刘晃清,1972年生,湖南大学应用物理系讲师引 言 Y 2O 3氧化物材料声子能量低(约为370cm-1),是一种很好的发光基质材料[1]。

在稀土掺杂中,Eu 2O 3是近年来研究最多的。

Y 2O 3:Eu 3+是一种重要的红色发光材料,具有高的发光效率、较高的色纯度和好的光衰减特性,已被广泛用于制作三基色荧光灯、节能荧光灯、复印机和紫外真空激发的气体放电彩色显示板[2]。

氧化铝上金银合金薄膜的离子束纳米化

氧化铝上金银合金薄膜的离子束纳米化

氧化铝上金银合金薄膜的离子束纳米化用100kev的Ar离子照射氧化铝单晶体基片上的30nm厚的金银合金薄膜,对其引起的金银合金薄膜表面结构纳米化的效果进行了研究。

离子注量从5×1015cm-2到1.5×1017cm-2。

扫描电镜用来研究离子束辐照后金银合金薄膜表面纳米结构的变化。

随着离子注量的增加,氧化铝基片上的金银合金薄膜被分离,渐渐地形成纳米结构。

接着在高真空环境下,1073k温度下进行热退火2小时,当离子注量更大时,氧化铝基片上的金银合金纳米球部分的嵌入到基片中。

这些纳米球的微观内部结构使用透射电子显微镜观察,而后发现纳米球是单晶体,具有立方结构。

此外,其吸收光谱也被测定,并发现了其具有局域表面等离子共振特性。

随着离子注量的增加,基底上的金银纳米球逐渐变小,并且可以观察到LSPR峰的移动。

总之,离子束刻蚀法是制作金银合金纳米结构的有效手段,并且获得的纳米复合材料在光学器件上的应用价值很高。

关键词:局域表面等离子体共振;离子辐照;表面纳米结构;氧化铝基片;金银合金第一章绪论1.1、金属纳米颗粒的局域表面等离子体共振特性近年来,金属纳米颗粒的局域表面等离子体共振(Localized Surface Plasmon Resonances,LSPR)特性成为广为重视的研究课题。

金属纳米颗粒的光学性质主要受到等离子体激元(自由电子)的影响。

由于纳米颗粒具有大的比表面积,自由电子的运动往往受到颗粒边界的强烈影响,因而,其光学性质又主要由表面自由电子的性质来决定。

许多金属表面(如碱金属铝、镁和贵金属金、银、铜等)的自由电子都可形象地看作电子气,电子气的集体激发称作等离子体,如果激发只局限在表面区域,就叫做表面等离子体。

金属纳米颗粒在光场作用下,金属中的自由电子出现集体振荡,当人射光频率与自由电子集体振荡频率相等时发生共振,产生明显的消光和近场增强效应,即为局域表面等离子体共振效应。

下图为就金属纳米粒子局域表面等离子体共振示意图:图1.1 金属纳米粒子等离子体共振示意图,图中显示了导带电子的电子云与离子之间的相对位移当一束光照射在球形金属纳米粒子上时,振荡电场使传导电子一起振荡。

利用荧光染料修饰改性的氧化铝纳米颗粒悬浮液的显现技术研究

利用荧光染料修饰改性的氧化铝纳米颗粒悬浮液的显现技术研究

利用荧光染料修饰改性的氧化铝纳米颗粒悬浮液的显现技术研究张丽梅;张冬冬;张忠良;姜雨彤【摘要】目的荧光染料化学包覆改性的纳米氧化铝的合成及显现方法.方法利用合成的荧光包覆的改性纳米氧化铝悬浮液显现潜在指纹,对荧光染料化学包覆改性的纳米氧化铝进行傅立叶变换红外光谱分析,以及对显现的潜在指纹进行FS-C徕卡显微镜显现效果比较.结果荧光包覆的改性纳米氧化铝颗粒表面键合了新型功能团,与潜指纹中微量物质具有靶向吸附作用.结论荧光纳米氧化铝悬浮液显出的指纹纹线清晰、连贯,背景和小犁沟均不着色,反差效果明显,在法庭科学领域有很好的应用前景.【期刊名称】《中国司法鉴定》【年(卷),期】2017(000)002【总页数】4页(P55-58)【关键词】偶联剂;表面改性;指纹显现【作者】张丽梅;张冬冬;张忠良;姜雨彤【作者单位】中国刑事警察学院公安部痕迹检验鉴定重点实验室,辽宁沈阳110035;中国刑事警察学院公安部痕迹检验鉴定重点实验室,辽宁沈阳 110035;中国刑事警察学院公安部痕迹检验鉴定重点实验室,辽宁沈阳 110035;中国刑事警察学院公安部痕迹检验鉴定重点实验室,辽宁沈阳 110035【正文语种】中文【中图分类】DF794.1一般无机纳米颗粒表面能比较高,与表面能比较低的有机物亲合性差,两者在相互混合接触时不能相容,导致界面上出现空隙,而经偶联剂处理过的纳米颗粒可以与有机物产生很好的相容性[1],这就为纳米颗粒应用于手印显现领域提供了理论依据。

而本征的纳米氧化铝颗粒由于比表面积大、表面能量高、易团聚、分散性差,所以常规方法配制的纳米氧化铝悬浮液显现指纹达不到理想的效果。

据报道[1-4]硅烷偶联剂是在分子中同时具有两种不同的反应性基团的有机硅化合物,可以形成无机相-硅烷偶联剂-有机相的结合层,从而使有机物与无机材料界面间获得较好的吸附强度。

通过化学反应,硅烷偶联剂与纳米氧化铝表面上的羟基形成部分化学键和部分氢键,从而实现纳米氧化铝的表面改性,使得纳米氧化铝颗粒表面状态由亲水性变为疏水性,改善其团聚性,并在有机物与无机物之间形成“分子桥”,把两者牢固地粘附在一起。

氧化铝包覆荧光粉

氧化铝包覆荧光粉
[关键词 ]荧光粉 ;铝酸锶 ;包覆
Encapsula tion Study on Stron tium A lum ia te P igm en t
Huang Yongp ing (App lied Chem istry & Environmental Science Dep t. , Changsha University, Changsha 410003, China)
Abstract: The inorganic A l2O3 encap sulation on SrA l2O4 : Eu2 + , Dy3 + lum inescent powder for reform in its water2 resistancefor was firstly studied. The experiment results showed that the encap sulation film was compose of A l2O3. The water2resistance p roperties were better than that of its original one , and still keep good persistent lum inescent p roperties which loss below 8%.
2005年第 4期
广 东 化 工
25
由于水解时有大量的生成 ,浆液逐渐显出碱性 ,通过测 量浆液的 pH,可以定性知道样品水解的程度与速度 ,从而判 断样品的耐水性 。
由图 1可见 ,原样在 90m in内严重水解 , pH 迅速升高至 12以上 , 100m in后完全水解 , pH 不再变化 。产品在 150m in
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多孔纳米氧化铝薄膜上荧光分子的发光特性研究程玉乔a, b,杨耀忠*, b,牛春荣b,陈兴国a,胡之德aa兰州大学化学化工学院,兰州,730000,甘肃,中国b胜利油田地质科学研究中心,东营市,257015,山东,中国摘要:通过两步电化学阳极氧化技术制备了孔径为40nm的多孔纳米阳极氧化铝材料(AAO),在AAO薄膜上分别填充了几种有机荧光分子使其形成高度有序的有机-无机复合体发光阵列,测定了此复合体的发射光谱。

结果表明,AAO薄膜对有机分子具有较强的结合能力,其结合能力来源于物理和化学的协同作用。

在AAO纳米薄膜上的有机荧光分子的最大发射波长均产生了明显的蓝移现象,初步探讨了此现象的机理。

有机分子填充进入高度有序的AAO纳米孔阵列之中时,有机分子的聚集形式会发生改变并且也是高度有序的,同时由于极化作用使有机分子沿着纳米孔的轴向具有相对优势的分子取向,这就使得有机分子在AAO纳米薄膜上形成了接近单分子层的高度有序的排列方式,增强了发光效率。

关键词:多孔纳米阳极氧化铝;荧光分子;光谱特性Photoluminescence Characteristics of Several Fluorescence Molecules on Nanometer Porous Alumina FilmCHEN Y u-Qiao a, b, Y ANG Y ao-Zhong*, b, NIU Chun-Rong b, CHEN Xing-GUO a, HU Zhi-De a (a College of Chemistry and Chemical Engineering, Lanzhou University, Lanzhou,730000,Gansu Province, P.R.C.)(b Geological Scientific Research Institute, Shengli Oilfield, Dongying City,257015,Shandong Province, P.R.C)Abstract:Nanoporous anodic aluminum oxide (AAO), which average size of nanoporous is 40nm, was obtained by two-step electrochemical anodization aluminum process. Highly ordered nanometer porous organic- inorganic composite was fabricated by filling in AAO film with fluorescence molecules. The results show that AAO membrane has strong combination ability with organic molecule. The combination ability comes from the cooperation of physical and* Corresponding author, E-mail address: jgzzkcyq@, Fax: +86-931-8912582chemical actions. The maximum peak positions of emission spectra of fluorescence molecules on AAO film have blue shift. Highly ordered nanometer porous array changed the formation of molecule aggregating and stacking, and polarization leaded to a preferred molecular orientation along the pore axis. It could explain the mechanism of blue shift of molecular luminescence depending on its environment.Keywords:nanoporous anodic aluminum oxide; fluorescence molecules; photoluminescence characteristics纳米材料常常表现出一些新奇的特性,各国科技工作者开发了大量的新材料,并详细研究了这些纳米材料的力学、电磁学、光学、催化等物理化学性质,高度有序的多孔纳米阳极氧化铝(AAO)可以非常容易的通过阳极氧化技术从铝箔制备,被广泛的用作制造其他纳米材料的模板[1-4]。

通过控制氧化电压和酸度体系等条件可以得到不同纳米孔径尺寸和形状的氧化铝材料[5-6],目前大量的工作集中于磁学和力学性能、制备条件和应用领域的研究,而在纳米材料对于荧光分子的发光特性方面的研究数量并不多见。

在过去的十年当中,有一些报告研究染料吸附在多孔硅凝胶多孔氧化铝的光化学性质[7-8],也有文献报道了使用纳米粒子作为超灵敏的荧光标记物的生物分析方法[9]。

最近,有机-无机纳米复合体的荧光性质的研究引起了日益增长的兴趣,已经有一些关于有机荧光分子和无机纳米多孔材料组成的复合结构的光学性质的报告[10-13], 但由于这些材料在非线性光学、固体有机物激光和光学存储器等领域的巨大潜力[13-15],仍有必要做更多的研究,同时在扩大荧光分子的使用,开发新型的非传统的荧光分析方法等方面也具有较好的意义。

天然或人工合成的荧光分子种类繁多并且已经作为发光材料组份、染料、荧光探针、分析试剂等获得了广泛的应用[16]。

荧光分子和固体媒介的结合无疑将拓宽其应用性,因此本文随机选择了几个荧光分子填充在AAO纳米薄膜上来研究这种有机无机复合物纳米结构的发光特性,并在机理方面作了一些初步讨论。

1 试验1.1 试剂和仪器四碘荧光素, 二碘荧光素和茜素红S均为北京化工厂产品。

本实验所有试剂均为分析纯,在使用前没有进一步纯化。

Shimadzu RF-540 荧光仪(Kyoto,Japan), 150W 氙灯, 1×1 cm 液槽, 固体样品架,记录仪,记录荧光光谱和相应的荧光强度,激发和发射光谱单色器的狭缝宽度均为5 nm。

1.2 多孔氧化铝纳米板的制备我们按照文献[5]所提供的两步电化学阳极氧化法制备了AAO模板。

将高纯铝箔(纯度99.99%以上)在600℃退火6个小时,在丙酮中超声处理脱除表面有机物,在5% NaOH水溶液中于15℃下浸泡清洗20 分钟,使铝箔的表面光滑平整。

再将清洗后的基片在高氯酸和乙醇[V高氯酸:V乙醇=1:4]混合溶液中进行抛光处理,然后于0℃或15℃下在0.3 mol∙L-1的草酸电解液中40V(对应于40nm)和80V(对应于100nm)电压下氧化0.5小时,一共包括四个步骤:1、氧化已经抛光的铝片30分钟;2、溶解去掉氧化膜:在0.2 mol∙L-1 H2CrO4和0.4 mol∙L-1H3PO4混合溶剂中在60℃溶解5 分钟;3、用去离子水冲洗铝片,然后再次在0.3 mol∙L-1草酸液中氧化1-3小时;4、重复一次去氧化膜的过程,再次氧化一个小时取出便得到六角高度有序的多孔纳米氧化铝模板。

通过使用不同的酸(如硫酸、草酸、磷酸)及控制不同的电压和氧化时间可制得到从十几个纳米到几百个纳米不同孔径的氧化铝模板。

TEM 照片纳米孔氧化铝通过氧化法在铝基底上形成以后,将其浸入到饱和氯化汞溶液大约30分钟,可以看到透明的AAO薄膜剥落下来,使用载玻片将其从溶液中捞出来。

依次使用蒸馏水和乙醇缓慢冲洗贴在载玻片上的AAO薄膜,放置在空气中自然干燥。

纳米孔的结构和形貌已经经过了XRD 和 SEAM 的测试和表征,在兰州大学磁学和磁性材料重点实验室进行。

本实验中所用的多孔纳米氧化铝材料的平均孔径为40nm,膜的厚度大约为20 µm 。

首先将附着在载玻片上的AAO 薄膜浸入到乙醇当中约半个小时,然后将其转移到有机荧光分子溶液(均为乙醇溶液,浓度为0.01 mol ∙L -1)当中,每间隔20分钟轻轻摇动几次,3个小时以后取出,用细小的滤纸吸去表面附着的液滴,然后暴露于空气中半个小时以上使其自然干燥。

将所得样品在Shimadzu RF-540荧光分光光度计上测试其激发和发射光谱。

2 结果和讨论2.1 有机分子与AAO 纳米薄膜的结合能力按照上述实验方法得到的结合了有机荧光分子的AAO 薄膜,通过肉眼观察可以看到原来透明的AAO 薄膜具有了相应的颜色,颜色的深浅有一定的差异,这与不同有机荧光分子本身的性质、结合量的大小有关。

除了通常存在的物理吸附作用以外,分子中高活性的羟基能够键合到AAO 表面、羧基和氧化铝又有一定的酸碱作用,因此这些有机分子容易被吸附到AAO 薄膜表面和纳米孔洞之中[17-18]。

基于这样的认识可以认为此有机-无机复合体的结合机理是物理和化学的协同作用。

各分子的结构示意图见图1。

O H aS O 3N aO OH O c O O Hb II O C O O HI III C O O H O O O HO HO O H O H N H O O OO HOO NN图1 有机荧光分子的结构示意图Fig.1 Molecular structures of fluorescence molecules: (a) a lizacin red S ;(b) diiodofluorescein; (c) tetraiodofluorescein.2.2 溶液中四碘荧光素的光谱用345nm激发得到的发射光谱最大波长为575 nm (Fig.1). 曲线a为激发光谱,曲线e and f为发射光谱。

在不同的测试条件和环境之下,最大波长可能会有(1-3 nm)的改变。

2.3 四碘荧光素在50 nm AAO上的激发光谱曲线Fig.1d 为AAO 膜的激发光谱(发射波长定在550nm)。

AAO 薄膜在300-500 nm范围内几乎是透明的,没有吸收,在500 nm 附近的吸收峰是由于固体光散射造成的。

曲线Fig. 1b 为激发光谱四碘荧光素-AAO 样品,470 nm处的吸收峰扣除AAO薄膜的背景吸收应该归因为槲皮素的吸收。

红移被观察到和溶液中的吸收峰相比较(maximum peak at 450 nm, 10-4 M). 这和发射光谱具有相同的趋势。

Figure 1. Excitation spectra: (a) quercetin in ethanol solution (1.0×10-4 M), emission wavelength (Em) at 500 nm; (b) quercetin-AAO composites (AAO membrane soaked in quercetin-Al3+complex solution), Em at 550 nm; (c) quercetin-AAO composites (AAO membrane soaked in quercetin solution), Em at 550 nm; (d) blank AAO membrane, Em at 550 nm.按照激子理论[12],染料分子之间的偶极偶极相互作用可以导致H or J二聚体和多聚体的形成,由此导致一个红移或者蓝移地出现( 或者倾斜的J聚集可以导致谱带的分裂) 和单分子吸收作用相比。

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