硼磷共扩散法制备硅背电场太阳电池
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
词:太阿1电池/,\1背电场,共扩敬^I佰m萄
:一 :
前言蚓
啊一·
1
降低太m电池的制造成本是推r应刚消沾的^刚能的天键问题之~。共扩散法制备太刚电池设备 ,而且一玖扩散可以同时扩散很多片子,无需bI挺11勺保护气体.冈而有望降低低太阳电池成本。
报道㈣:,磷(P)、铝(AL)和删(B)共扩敞技术,可以增加这些扩散原子的活性,导致形成高
目1 #2 #3
“
Ⅳ5 “6 #7 Ⅳ8 49
Voc (mY)
548 s47 550 558 551 552 553 558 554
lsc
(mA/cm4)
24 25
29.60
26.89
2725
25.40
27.4I
27.4l
27 54
27 89
f
q
(%)
10.10 12.22 11 17 11.53 10.73 ll 26 1l 64 Il 78 11.59
硼磷共扩散法制各硅背电场太阳电池
,
魏光普余万涛唐则祈+袁晓t刘宝元+t
(上海大学材料科学与工程学院无机材料系)
(·上海航天局空间电源研究所)
(+{上海硅材料厂)
;婚p;0
(上海市嘉定区 201800)
o
t
要:硼、磷批扩散方法是制作硅背电场(BSF)太Rl电池的有希望的降低成本方法。共扩散方法
+
也有很多值得研究的地方。本文叙述了我们川硼、磷兆扩散法制备硅背电场太阳电池的研究结果。
表1示出了用950。C共扩散方法制作的9个砖背电场太阳电池的光电参数。闰3是一个典型的这
种背电场太阳电池的电压——电流曲线,显示出12.2%的光电转换效率.填充因子也达到78q‘以上。
“。唾“坩针?^“
如果硅片进得更薄一些,多做一些试验,效率还可能做得更高。
为了观察背面硼扩散区对杂质的吸附效麻,我”J测jt了共扩散片基医的少子寿命,也测量了单是
FF
(%)
76.O 1B' 75.5 75 S 76.7 744 76 S 766 75.O
对比共扩散千¨单一磷扩散斤.所得的扩散层的薄层电阻,可发现如果扩散温度和时间相同的话, 共扩散和单一磷扩散后的石幸片止面(即光面)的薄层电阻儿乎是相同的。扩散层的薄层电阻和结深可 以Hj控制扩散温度和时间的办法加以控制。在制备太…l也池时,耍以受光面(磷扩面)的磷扩散浓度 和深度为主来考虑扩散温度利时问。实验表明这种姓扩散方法得到的扩散层的薄层电阻的均匀性非常 好,适宜制作硅背电场太刚电池。
刖电池中扩散自}质的有利分布。共扩散引入的杂质吸收效果还可以故善PN结特性,提高太刚电 率。此外光热快速。r扩散方法还有望实现太Ri Lb池的连续生产。本文研究了硼、磷在硅中的共扩 性.利朋扩散层的薄层lb阻的测餐及少数载流f寿命的删肇,证明共扩散方法可以形成结深利浓 力便控制的均匀扩散层,井可用米制备背I也场徘A…电池。
,j
电阻的测试结果表明.共扩散法可以在碎片的上表面和F表面同时形成均匀、稳定的扩散层(发
f
和背电场区),其扩敞浓度和深度可H』控制扩散时间平¨温度的办法米控制,利tl{{|这种共扩散技术
制得光电转换效率为12.2%(埘I)的叱池。对扩敞』亓的硅片进行少子寿命测量的结果.表明硅
1
面的硼扩散层在扩散过程中能吸收硅片内部的重金属杂质,故善卧结特性。
H“Il_"u博”i畦体鞋n¨什娃H褂N玮M诣《—鼗盱q,“。■
67
8
硼磷共扩散法制备硅背电场太阳电池
作者: 作者单位:
魏光普, 余万涛, 唐则祈, 袁晓, 刘宝元 魏光普,余万涛(上海大学材料科学与工程学院无机材料系), 唐则祈,袁晓(上海航天局空间电源研究所), 刘宝元(上海硅材料厂)
本文链接:http://d.g.wanfangdata.com.cn/Conference_283629.aspx 授权使用:同济大学图书馆(tjdxtsg),授权号:42aac715-6df6-41e6-b42b-9ddf00e0bcc6
五.致谢
上海航天局空间I乜源研究所平『l上海硅材料厂,在太帅乜池Lb极制做平¨数据测量上给予大力支持.
谨表衷心感谢。
文献参考
[1]B.Hartiti,S.Sivoththaman,R.Schindler,j.Hijs,5.C,Mu】JeT and P,Siffert:”Low
Temperatuer Formation of Emitter and BSF by Rapid Thermal Co—diffusion of P,A1 or
.Appl.Phys.Lett,V01.63,No,9(1993),1249—1251.
‰?辑。鼍囊磐焱藿霪∽誉;§
[3]R.Sharangpani.R.Singh:”Role of rapid photo—thermal processing in environmen
tally conscious semiconductor manufacturing”,J.Mater.Res.V01.13,No.1(1998),61—
试验过程
磷、硼共扩散实验川电阻炉进行。厚0,4mm IUm率为】一10 o cm的P碰硅片作为基片,含有磷 的化合物的片状俐态扩散源(由中国科学院‘}:J二海冶金研究所提供)做川作扩散源。砗片和含磷、 的片状毫!《f被叠起来安置]"JJn蔫的干i英舟中(Ii英问与盖之间有一定缝隙)。每两个硅片的光面(止 之间夹八磷扩散渊,毛面(反面)之间夹入删扩散游。 扩散温度根据实验要求控制在850—1150C。可利川一U-燥的氮气乖l空气流作为硅片的环境保护气氛。 检测共扩散的结果.测姑了扩散后硅片止面利j:豆面的薄面电阻,以及砘片基区(去除扩散层后的 )|1勺少数载流于寿命。洲培少数载流子寿命之iji:『.{i#片HJ硝酸和氢氟酸的混合液腐蚀以后去除表 散层。 用这种批扩散方法.制备了数批砘背电场电池,IU极HJ真空镀麒法制成,钛氧化物被川作抗反射
下载时间:2010年8月27日
B”.The proceedings of First WCPEC,Dec.5-9.1994,Hawaii,1519—1522.
[2]B.Hartiti,A.Slaoui.J.C^_luller and P Siffert:”Large dit。fusion length enhancement
in s儿icon by rapid thermal CO—diffusion of phosphorus and aluminum”
j;¨。i◇鲢般黔融舾髓燃葩齄i
Fig I:Schematic oflhe c。·dU'fusion method
i沓聚蠖羞
IY._#
AR Coating
Finger Electrode
P—Si
Rear EleO.rode
Fig.2:Schematic ofthe s蛐cnlre ofBSF solar cell
在正表面进行磷扩散的硅片的基区少子寿命(测鹫前扩散层已用腐蚀液去除)。测得的结果如图4所
肆
示,从重可见共扩散片基区的少子寿命比较K=.证实了删扩散层对降低少于寿命的重金属原子的吸附
砖
效应的存在。
∞
四.结论
根据以上实验结果可得以F结论: (I)利用批扩散方法可咀获得均匀、稳定和可控制的扩散层: (2)扩散层的薄层电阻和扩散层深度可以州改变共扩散温度及时间的办法加以控制; (3)共扩敞片的薄层电阻的均匀性很好: (4)共扩散方法适于制作背电场太阳电池,可简化背电极的r艺; (5)稚片背面的硼扩散具有吸附重金属j々质原f的效果,从而可以改善太阳电池PN结特性: (6)用拭扩散方法采J=I』一般屯极制作笛r艺已经制成效率12%(埘1)以上的硅背电场太阳电池。 所以我们可以总结说,.1{;|共扩散方法制作硅背LH场电池,可咀提高生产效率,降低生产成本。
三.结果与讨论
根据不薄层电阻的测试结果,发现用共扩散方法可以形成所要求的均匀、稳定的扩散层,扩散浓 度乖l深度都可自由控制。而且可以认为两种杂质在U!反两面的扩敞几乎是相互独立地完成的,相互影 响很少。
表l,删9 5 0℃共扩散方=}去制作的9个硅背电场太阳电池的光电参数.
~sa、m、p避Biblioteka Baidu竺e\“e.‘
Voo(mv)
Fig.3:Typicjd I-V c,haxacterisfic ofco-dj舶sio柏silioon BSF solar cell.
7
before
850
900
gSO
1000
1050
晴h叶.0=瞎H;珏?-譬,¨叶0
黜挈删“缸酬融岫咖“嘶“m‘m酬觚Ⅻand删eP t∞一ture(℃) diffLlIi。“diffu#ion