半导体物理学 半导体中的杂质和缺陷

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Si
Si
Li
P
Si
Si
Si
杂质分类
浅能级杂质
深能级杂质
N型半导体
P型半导体
复合中心
陷阱
杂质能级位于禁带中
浅能级 Eg
施主杂质 施主能级
浅能级
Ec
Ei 受主杂质 受主能级 Ev
2、元素半导体的杂质
(1)VA族的替位杂质——施主杂质
在硅Si中掺入P
Si
Si
Si
磷原子替代硅原
子后,形成一个 正电中心P+和一 个多余的价电子
B获得一个电子变成 负离子,成为负电中 心,周围产生带正电 的空穴。
EA
B具有得到电子的性质,这类杂质称为受主杂质。 受主杂质向价带提供空穴。 受主浓度:NA
受主电离能和受主能级
受主电离能△EA=空穴摆脱受主杂质束缚成为导电 空穴所需要的能量
束缚态
Ec
离化态
- EA + Ev
EA EA EV
受主杂质的电离能小,在
实际半导体
实际半导体中原子并不是静止在具有 严格周期性的晶格位置上,而是在其平 衡位置附近振动;
实际半导体并不是纯净的,而是含有 杂质的;
实际的半导体晶格结构并不是完整无缺 的,而是存在着各种形式的缺陷,点缺 陷,线缺陷,面缺陷;
杂质和缺陷可在禁带中引入能级,从而对半 导体的性质产生了决定性的作用
施主和受主浓度:ND、NA
等电子杂质
N型半导体
特征:
a 施主杂质电离,导带中 出现施主提供的导电电子
- - - - EC + + + + ED
b 电子浓度n 〉空穴浓度p
Eg
P 型半导体
特征:
a 受主杂质电离,价带中 出现受主提供的导电空穴
----
++++
EA EV
b空穴浓度p 〉电子浓度n
N型和P型半导体都称为极性半导体
b:替位式杂质 特点:杂质原子的大小与被替代的晶格原子大小
可以相比,价电子壳层结构比较相近,Ⅲ和Ⅴ族元 素在Si,Ge中都是替位式
单位体积中的杂质原子数称为杂质浓度
A: 间隙式→杂质位于间隙
位置。
Si
Li:0.068nm
B:替位式→杂质占据格点 Si
位置。大小接近、电子
壳层结构相近
Si
Si:r=0.117nm B:r=0.089nm P:r=0.11nm
常温下基本上为价带电离 的电子所占据——空穴由 受主能级向价带激发。

杂质
体B
Al Ga
Si 0.045 0.057 0.065
Ge 0.01 0.01 0.011
含有受主杂质的半导体,其导电的载流子主要 是空穴——P型半导体,或空穴型半导体。
定义:
受主杂质 III族元素在硅、锗中电离时能够接受电子而 产生导电空穴并形成负电中心,称此类杂质 为受主杂质或p型杂质。
Si
P+
Si
Si
Si
Si
束缚态—未电离 离化态—电离后
(a)电离态 •
(b)中性施主态
过程:
1.形成共价键后存在正电中心P+;
2.多余的一个电子挣脱束缚,在晶格中自由动; 杂质电离
3. P+成为不能移动的正电中心;
杂质电离,杂质电离能,施主 杂质(n型杂质),施主能级
施主杂质 施主能级
电离时,P原子能够提供导电电子并形成正电
中心,——施主杂质。
被施主杂质束缚的电子
的能量比导带底Ec低,
称为施主能级,ED。
施主杂质少,原子间相
ED
互作用可以忽略,施主
能级是具有相同能量的
孤立能级.
施主浓度:ND
施主电离能
施主电离能△ED=弱束缚的电子摆脱杂质原子 束缚成为晶格中自由运动的 电子(导带中的电子)所需 要的能量
束缚态
离化态
- EC + ED
EV
△ED =EC- ED
施主杂质的电离能小, 在常温下基本上电离。

杂质
体 P As Sb
Si 0.044 0.049 0.039
Ge 0.012 0.012 0.009
6
7
6
含有施主杂质的半导体,其导电的载流子主要 是电子——N型半导体,或电子型半导体
定义:
施主杂质 V族元素在硅、锗中电离时能够释放电子而 产生导电电子并形成正电中心,称此类杂质 为施主杂质或n型杂质。
1、杂质与杂质能级 杂质:半导体中存在的与本体元素不同 的其它元素。
{ 杂质的来源: 有意掺入 无意掺入
根据杂质在能级中的位置不同:
{ 替位式是杂质 间隙式杂质
以硅为例说明
在金刚石型晶体中,晶胞中原子的体积百分数为 34%,说明还有66%是空隙。Si 中的杂质有两种存在 方式,
a:间隙式杂质 特点:杂质原子一般较小,锂元素
施主电离 施主杂质释放电子的过程。
施主能级 被施主杂质束缚的电子的能量状态,记为ED, 施主电离能量为ΔED。
n型半导体 依靠导带电子导电的半导体。
3、受主能级:举例:Si中掺硼B
• 在Si单晶中,Ⅲ族受主替位杂质两种电荷状态的价键
(a)电离态
(b)中性受主态
Leabharlann Baidu
在Si中掺入B
+ B--
受主电离 受主杂质释放空穴的过程。
受主能级 被受主杂质束缚的空穴的能量状态,记为EA。 受主电离能量为ΔEA
p型半导体 依靠价带空穴导电的半导体。
小结!
施主:Donor,掺入半导体的杂质原子向半 导体中提供导电的电子,并成为带正电的离 子。如Si中掺的P 和As
受主:Acceptor,掺入半导体的杂质原子向 半导体提供导电的空穴,并成为带负电的离 子。如Si中掺的B
多子——多数载流子
少子——少数载流子
N型半导体导带电子数由施主决定,半导体 导电的载流子主要是电子。电子为多子,空 穴为少子。
P型半导体价带空穴数由受主决定,半导体 导电的载流子主要是空穴。空穴为多子,电 子为少子。
3. 杂质半导体
杂质激发
杂质向导带和价带提供电子和空穴的过程(电 子从施主能级向导带的跃迁或空穴从受主能级 向价带的跃迁)称为杂质电离或杂质激发。具 有杂质激发的半导体称为杂质半导体
第二章 半导体中的 杂质和缺陷
理想半导体:
1、原子严格周期性排列,具有完整的晶格 结构。
2、晶体中无杂质,无缺陷。 3、电子在周期场中作共有化运动,形成允
带和禁带——电子能量只能处在允带中的 能级上,禁带中无能级。 本征半导体——晶体具有完整的(完美的) 晶格结构,无任何杂质和缺陷。由本征激 发提供载流子。
主要内容
§2-1 元素半导体中的杂质能级
1. 浅能级杂质能级和杂质电离; 2. 浅能级杂质电离能的计算; 3. 杂质补偿作用 4. 深能级杂质的特点和作用
§2-2 化合物半导体中的杂质能级
1、等电子杂质; 2、Ⅳ族元素起两性杂质作用
§2-3 缺陷能级
点缺陷对半导体性能的影响
§2.1 Si、Ge晶体中的杂质能级
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