等离子清洗机常见问题

等离子清洗机常见问题

美国Plasma Etch Inc

等离子处理为什么需要真空环境?

在真空环境产生等离子体的原因很多,主要有有两个原因：

引入真空室的气体在压力环境下不会电离, 在充入气体电离产生等离子体之前必须达

到真空环境。

另外,真空环境允许我们控制真空室中气体种类，控制真空室中气体种类对等离子处理体过程的可重复性是至关重要的。

处理效果可以保持多长时间?

如处理表面保持干净和干燥，大多数等离子处理后效果可以保持大约48小时，。但保持时间根据处理过程和产品存放环境而改变。

如果需要更长时间保持处理效果,清洗完成后立即真空袋包装将延长保质期。

真空等离子处理是如何进行?

要进行等离子处理产品,首先我们产生等离子体。首先，单一气体或者混合气体被引入密封的低压真空等离子体室。随后这些气体被两个电极板之间产生的射频（RF）激活，这些气体中被激活的离子加速,开始震动。这种振动“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。

在处理过程中,等离子体中被激活的分子和原子会发出紫外光，从而产生等离子体辉光。

温度控制系统常用于控制刻蚀速率。60 - 90摄氏度温度之间刻蚀，是室温刻蚀速度的四倍。对温度敏感的部件或组件,等离子体蚀刻温度可以控制在15摄氏度。

我们所有的温度控制系统已经预编程并集成到等离子体系统的软件中间。设置保存每个等离子处理的程序能轻松复制处理过程。

可以通过向等离子体室中引入不同气体，改变处理过程。常用的等离子处理气体包括O2、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多数实验室，基本上都使用这五种气体单独或者混合使用，进行等离子体处理。

等离子体处理过程通常需要大约两到十分钟。当等离子体处理过程完成时,真空泵去除等离子室中的污染物，室里面的材料是清洁,消过毒的,可以进行粘接或下一步程序。

什么是等离子体清洗?

等离子体清洗是利用用一个叫做等离子体的电离气体去除材料表面所有有机物的过程，通常是在真空室中利用氧气和氩气进行。清洗过程是一个环境安全的过程,不使用有毒害的化学物质。

去除杂质和污染

我们构建一个完整的等离子体处理系统。

低压等离子清洗器是一种经济的表面处理方式，一致性好,完全安全,干净。只从处理部分去除表面的污染物，不影响其它部分材料属性。等离子体处理过程在电路板行业被广泛使用,。

等离子体处理比其他表面清洗技术提供了重要的优势。

•它适用于大范围的材料(金属、塑料、玻璃、陶瓷等)。

•它是环保的选择。等离子体清洗不需要有害化学溶剂。显著节约成本，可不需要解决其他处理方法对环境危害的问题。氧气体通常是一个合适的处理气体。

•溶剂处理后会留下剩余物，等离子清洗能够提供一个完全无残留无的最终产品残。

处理消除了脱模剂、抗氧化剂、碳残留物,油,和所有种类的有机化合物。

一、小型及实验室等离子设备

(PE-50)

电极配置：水平，平面3.5” 宽x 7”

长, 2.5”高度

间隔

4.5”W x 6”D,

2”高度间隔

7”W x 8”D ，

2”高度间隔

11.5”W x 11”D,

5.5”高度间隔

RF射频电源150W x 50 KHz 150 W x 50 KHz 400 W x 50 KHz 400 W x 50 KHz

气体流量- 1路模拟转子流量计0-25 cc/min,

第2路选项

0-25 cc/min，

第2路选项

0-25 cc/min；

第2路选项

0-25cc/min，

第2路选项

真空计，

热电偶

0-1 Torr 0-1 Torr 0-1 Torr 0-1 Torr 显示屏幕包含包含包含包含

微处理器控制

系统

有，PLC 有, PLC 有, PLC 有, PLC

JB油真空泵，

氧气服务，

2级直驱

5 CFM 5 CFM 5 CFM 5 CFM

建议处理最大

样品

3”x 6”样本4”x 6”样本7”样本8”样本

该系列可选系统功能包括

1、射频电源：

100W 13.56 MHz （高频）射频电源，带自动匹配网络

150W 13.56 MHz （高频）射频电源，带自动匹配网络

300W 13.56 MHz （高频）射频电源，带自动匹配网络

400W 50 KHz （低频）射频电源升级包

爱德华真空泵 RV12，2级，氧气服务 8 CFM

爱德华真空泵 XDS-10 干式涡旋真空泵（无油） 6.5 CFM

爱德华真空泵 XDS-10 干式泵消声器

JB油真空泵，双级，氧气服务（可以不配增空泵，减去相应价格）

JB油真空泵油净化器

JB油真空泵排气过滤器

3、信号塔

4、Venus选项

PE-25 Venus，PE-50 Venus，PE-50XL Venus，PE-75 Venus

Venus选项

•基于PC的控制系统

•支持2个工作序列编程

•过程数据采集

•硬拷贝过程数据记录

•过程数据压缩打包

•在线监控过程趋势图

•VENUS选项包含笔记本和控制软件

二、桌面式等离子设备

（PE-100）

Plasma Etch有一列适合科研实验室的小型清洗机，具有体积小，集成化高，运行简单，可靠耐用的特点，以上是我们的几款常用的标准机型，如有需要，请联系我们。