Proe阵列实例讲解(二)--尺寸+关系阵列

ProeCreo尺寸阵列中关系式的妙用（2）：错位阵列

ProeCreo尺寸阵列中关系式的妙用（2）：错位阵列最终完成后如下图所示。

方法：
1.首先点击拉伸，绘制如下图所示的矩形。

2.选择上一步拉伸实体的上表面上绘制如下图所示草绘。

3.再次点击拉伸，选择上一步的草绘作为拉伸截面，设置拉伸高度为10mm。

4.将草绘和拉伸2进行“分组”，如下图所示。

5.选择上一步组特征，点击“阵列”按钮，类型选择“尺寸”。

1）依次选择下图的两个尺寸作为方向1和方向2的驱动尺寸，增量值分别为15mm和30mm，阵列数量分别为5和6，如下图所示。

2）选择下图所示的尺寸，然后勾选“按关系定义增量”，最后点击“编辑”按钮，如下图所示。

此时弹出如下图所示的窗口。

输入以下的关系式：
•
memb_i=20*sin(60)
3）激活方向1，按住Ctrl键选择下图红色圆圈中的尺寸，然后勾选“按关系定义增量”，最后点击“编辑”按钮，如下图所示。

输入以下的关系式：
•
•
•
•
•
if mod(idx1,2)==0 memb_v=15else memb_v=30endif
点击确定，结果如下图所示。

将下图红色圆圈中的两个阵列实例取消激活。

完成。

PROE阵列操作详解

1阵列的填充方式有：尺寸，方向，轴，填充，表，参照，曲线1.1尺寸驱动：可选择特征的尺寸作为项目，要选择个数
1.2方向驱动：要选择两个方向参照（可以是基准），要选择个数
1.3填充驱动：要草绘出一个区域，填充。

(如果是草绘线，就是各种形状和草绘线相交的位置有填充)
1.3.1正方形填充：选择间距；选择距区域边部距离；选择倾斜角度
1.3.2菱形填充：选择间距；选择距区域边部距离；选择倾斜角度
1.3.3螺旋填充：选择间距；选择距区域边部距离；选择倾斜角度；选择螺距
1.3.4曲线填充：要草绘出曲线；要输入间距。

1.3.5原形填充：输入间距；边部距离；角度；半径距离
1.4曲线驱动：要草绘曲线（注意起点）；可选个数
1.5轴驱动：要选择轴；角度；个数；圈数；圈距离。

1阵列的填充方式有：尺寸，方向，轴，填充，表，参照，曲线
1.1尺寸驱动：可选择特征的尺寸作为项目，要选择个数
1.2方向驱动：要选择两个方向参照（可以是基准），要选择个数
1.3填充驱动：要草绘出一个区域，填充。

(如果是草绘线，就是各种形状和草绘线相交的位置有填充)
1.3.1正方形填充：选择间距；选择距区域边部距离；选择倾斜角度
1.3.2菱形填充：选择间距；选择距区域边部距离；选择倾斜角度
1.3.3螺旋填充：选择间距；选择距区域边部距离；选择倾斜角度；选择螺距
1.3.4曲线填充：要草绘出曲线；要输入间距。

1.3.5原形填充：输入间距；边部距离；角度；半径距离
1.4曲线驱动：要草绘曲线（注意起点）；可选个数
1.5轴驱动：要选择轴；角度；个数；圈数；圈距离。

PROE 关系阵列

1.本教程以题六喇叭孔形状为例并延伸，详细说明其阵列步骤。

通过简单讲解，希望对PEOE关系式阵列有所了解，并对其参数各项内容有所认识并灵活应用于实际案例，熟练掌握各种类型的PATTERN技巧将对设计效率大有提升，如有错误欢迎指正交流。

谢谢！图一：最终实际效果图二：阵列变量关系[阵列分析]：此PATTERN是以A点为基圆，在一方向里含有三个变量的阵列参数；第一圈以120度变量均匀阵列出三个；当IDX1>2时，即从第四个圆开始，跳至B点以30度为旋转变量。

与此同时，另外二个变量是圆的位置以间距3.7MM为间隔变量，每一环的圆心间隔为3.7MM和圆的直径大小，以指定圆的大小，在每一环的大小有所不同；分别为：1.6、2.2、2.5、3.0MM为指定变量。

阵列个数为39个。

图三：阵列起始点[阵列步骤]：本题以PROE2001版本为例，用曲线进行阵列。

1、按图示尺寸绘制直径为3.0的中心圆曲线。

如下图：2、以中心圆为定位参考，绘制直径为1.6MM的基圆（阵列的起始圆）。

如上图二所示：3、基本图元画好，开始阵列。

首先添加圆旋转角度的变量关系式。

关系式：memb_v=idx1*-120if idx1>2memb_v=idx1*-30endif[参数详解]：memb_I和memb_v的不同在于，memb_v是指定在同一方向里，指定变量的最终驱动尺寸，比如说在此参数中，恒定的角度设为120度，当以120度阵列到IDX1>2时，则以每30度进行阵列。

其中IDX1是指以指定变量索引的个数。

大于2则理解为以基圆算起，以120度旋转到第三个时，即IDX1>2。

此中的-120中的负号则代指方向性。

并非数值正负。

本例中起始度为360度，则以-120度的变量旋转。

若起始为0度，则以120度为变量旋转。

Endif 即关系式结束语句。

关系式编辑完成后，保存确认退出。

然后再对圆的间距进行阵列，同在一个方向下。

关系系如下：memb_v=3.7if idx1>2memb_v=7.4endifif idx1>14memb_v=11.1endifif idx1>26memb_v=14.8endif其中memb_v=3.7或7.4、11.1、14.8是以草绘中的尺寸位置算起。

proe阵列教程(二)——利用关系式定义阵列

proe阵列教程（二）——利用关系式定义阵列[复制链接]作者：proe技巧分类：proe技巧标签：proe proe阵列第一步新建文件File > New > Part > 输入文件名称：pattern_1> OK第二步建立一个实体Feature > Create > Solid> Protrusion > Extrude | Done > One Side | Done > 选择绘图平面：TOP > Okay > Default> 绘制如图1 所示的剖面>勾选确定> Blind | Done > 输入厚度：25 > OK > 完成截面的绘制>View > Default > 回3D 视图，如图2 所示第三步建立一个CUT特征Create > Solid > Cut >Extrude | Solid | Done > One Side | Done> 选择实体上表面为绘图平面> Okay > Default> 绘制如图3 所示的剖面> OK> Thru all | Done> OK第四步对CUT特征进行pattern> pattern> 选择CUT特征>General >| Done >Value > 选尺寸40 >输入尺寸增量:60 >为第一方向选取另一尺寸> Relation > 选尺寸Φ30 > Edit >输入关系式如下：if idx1>=3memb_v=45elsememb_v=18endif保存关系式>| Done > 输入在此方向的实例总数(包括原始的):6 | Done最后结果：本例要点：1.通常pattern利用Value输入尺寸增量，只能获得尺寸逐步增大或减少的效果，但通过利用关系式来定义则可获得特殊的尺寸。

Pro／E阵列方法应用

Pro／E在阵列技术中的应用摘要：介绍利用Pro／E提供的环形阵列以解决易于实现的简单结构，高级阵列(组阵列、曲线阵列和关系阵列)实现以常用阵列方法难以解决的复杂结构(如链条等)的阵列，可以帮助设计人员较为简便地完成复杂分布有多个相同形状结构的零件设计。

关键词：PRO/E；环形阵列；关系循环结构0 引言美国参数拙术公司（PTC)的PRO/E是在我国机械行业广为应用的CAD软件。

在机械结构设计的过程中，常常会遇到许多按一定规律分布的相似结构，如齿轮、轴承等。

绘制这些结构，在Pm／E中，一般都是采用所供线性阵列和环形阵列来实现的，如果被阵列的结构分布比较简单，阵列很容易实现，但如果被阵列结构排列比较复杂，如链条等，实现阵列时就比较困难。

有时甚至无法实现，经过反复摸索实践，我们找到了一些简便可行的方法，下面介绍1 环形阵列的五种方法不管用什么方法进行环形阵列，环形阵列的关键是用极坐标（ρ，θ）如图1（a）所示，图1（b）所示的错误注法是阵列不成功的主要原因。

图1(a)2．1 用径向参照的方法制作被阵列的特征如果对回转体特征进行环形阵列．如嗣2（a）。

这可以直接用孔制作命令并选用“径向” 或“直径”参照就行了。

2．2 用参考圆的方法制作被阵列特征在制作任卷任意截面形状特征的环形阵列时，这种方法非常的简便可靠，具体步骤如下：1）制作一条用于环形阵列的轴线；2)制作被阵列的特征．在绘制被阵列特征的截面时．选择环形阵列的轴线为参照，并删除其他参照；3）在绘制被阵列特征的戡面时．先绘制一个与环形阵列重合的圆和一条过圆心到圆周的直线，用“切换结构”命令将圆和直线转换为考圆和参考轴，截而形状的位置尺寸由参考同的直径和参考轴的角度决定；2．3 在基准曲线上制作环形阵列特征①用曲线阵列的方法，也可以进行环形阵列，只是把曲线定为圆形就行了，这种方法可以方便地实现被阵列特征随主特征大小尺寸的改变进行自适应调整。

2．4 用旋转复制的方法制作被阵列特征②如果被阵列的特征已经制作完成，因为没有角度尺寸为驱动尺寸，要想进行环形阵列，必须用“复制一移动一旋转”命令制作一个被阵列特征的副本，获得一个角度驱动尺寸，然后对被阵列特征的副本进行环形阵列，在环形阵列总数上减去一个特征。

PROE阵列详细教程

? ?? ?? ???阵列详细教程主要内容：1、阵列理论? ?? ?? ?2、创建方向阵列? ?? ?3、创建轴阵列? ?? ?? ?4、创建尺寸阵列? ???5、创建填充阵列? ?? ?6、创建表阵列7、创建参照阵列? ???8、创建曲线阵列? ?? ?9、创建关系阵列相同：子、父特征的尺寸大小、参照必须完全相同，各特征之间不可相交；∙可变：子、父特征的尺寸大小、参照可以不同，但各个特征之间不可相交；∙一般：子、父特征的尺寸大小、参照可以不同，各个特征之间可以相交。

? ?如图所示能一些proe老手喜欢用尺寸阵列。

∙填充阵列：在指定草绘区域内按照某种排列方式创建阵列。

也是WildFire新引入的。

通过指定一个草绘的阵列区域，Proe就会自动用原始特征根据所给的形状及参数来填满整个区域.∙参照阵列：用于创建依附与已有阵列特征上的阵列。

∙表阵列：通过选取一定数量的驱动尺寸，从而形成一个阵列表，由表格里的尺寸去驱动阵列里每个成员的尺寸。

优点：尺寸更加灵活，适用于创建不规则形状的阵列；缺点：效率低。

曲线阵列：可将原始特征沿某条曲线进行阵列。

该类型为WildFire3.0以后新增加的阵列类型。

所有类型的阵列都可以附加可变化的尺寸。

1.5其他在创建好的阵列特征上单击鼠标右键，弹出下图所示快捷菜单删除：删除原始特征和所有阵列实例删除阵列：删除所有阵列实例，保留原始特征要修改已经阵列好的特征，只能在原始特征上修改。

? ?2.1创建一个方向的方向阵列1)打开配套文件：dir_pattern_1st.prt2)右键单击“拉伸2”，选择“阵列”，启动阵列工具3)在操控板中，将阵列类型改为“方向”4)选择长方体左边实体边（右图红色部分）作为第一方向的方向参照（亦可选择其他参照）5）在操控板中输入第一个方向的成员数：4，如阵列方向不是预期效果可单击反向按钮，输入第一个方向阵列成员的间距：10，确定。

最终效果如下图16）右键单击刚刚做出来的阵列特征，选择编辑，将阵列拉伸数从4该为8（右图2），再生，效果如右图3所示6）单击操控板“方向2参照收集器”，选择长方体水平边作为第二个方向参照，在操控板中输入第一个方向的成员数：5，输入第二个方向阵列成员的间距：18，确定。

CREO经典阵列实例解析(高级篇)

CREO 阵列经典实例解析（高级篇）——BY 落枫之影（413624704）一．阵列的定义：通过重复复制、改变某一个（或一组）特征的指定尺寸，根据设定的变化规律和数量，自动生成一系列具有参数相关性的特征(组）在 CREO 软件中，阵列的方式有以下八种：1.尺寸阵列：需选取特征尺寸，并指定这些尺寸的增量变化以及阵列中特征实体数。

2.方向阵列：需选取平整面、线、轴来定义方向，同时也可以使用特征尺寸增量来控制阵列实体的形状及位置的变化。

3.轴阵列：通过围绕一个选定的旋转轴（基准轴等）创建特征副本的阵列方式。

4.填充阵列：指定的物体表面或部分表面区域，生成均匀的阵列。

5.表阵列：使用表格的方式设定阵列特征的空间尺寸和本身尺寸。

6.参考阵列：借助已有的阵列实现新阵列的方法，参考阵列操作对象必须与已有阵列的源实体有定位尺寸关系。

7.曲线阵列;指定阵列成员间距离或成员个数，来沿着草绘曲线创建其阵列特征。

8.点阵列：通过创建基准点或草绘几何点来创建其阵列特征。

温馨提示：1.阵列特征不能直接使用【删除】命令来删除，因为这样会连你的原始特征也一起删掉，如果要保留原始特征，请使用【删除阵列】命令来删除2.阵列预览中的黑点代表要进行阵列的位置，单击黑点将其变成白点，表示此位置不需要阵列。

3.若阵列的特征有多个，需将这些特征编组，然后再进行阵列idx1idx2二．CREO 软件阵列操作界面三．需要使用关系来控制阵列时，你会用到以下符号:memb_v - 指定方向中的关系驱动最终尺寸memb_i - 指定方向中的关系驱动增量lead_v - leader 值(选择尺寸确定方向)-阵列实例索引在第一方向(代表当前实例特征在阵列中的位置，其值从 0 开始，第一方向第一个实例特征 idx1=0,第五个实例特征 idx1=4）-阵列实例索引在第二方向(同上，只是方向不同而已）不能在同一关系中使用 memb_v 和 memb_i ，这些符号所代表的含义我将会在下面的这些实例中详细说明。

pro阵列详细讲解

pro阵列详细讲解阵列详细教程主要内容：1、阵列理论2、创建方向阵列3、创建轴阵列4、创建尺寸阵列5、创建填充阵列6、创建表阵列7、创建参照阵列8、创建曲线阵列9、创建关系阵列10、阵列实例1.阵列理论：阵列特征即将单个特征、特征组或阵列特征按照某种规则排列，生成大量形状相同或相近的特征。

常用于快速、准确地创建数量较多、排列规则且形状相同或相近的一组结构。

注意：阵列只能对单个特征进行阵列，要想对多个特征进行阵列，须将多个特征编为一个组进行阵列。

1.1执行阵列方法方法一：右键单击要阵列的特征或特征组（该特征称之为“阵列导引”），在快捷菜单中选择阵列方法二：选中要阵列的特征或特征组，单击工具栏阵列按钮：方法三：选中要阵列的特征或特征组，单击编辑菜单——阵列1.2阵列操控板简介1.3 阵列再生选项——相同、可变、一般选定用于阵列的特征或特征组称之为“阵列导引”（原始特征）.阵列出来的其他副本称之为阵列成员.原始特征和阵列成员遵循父子关系，每个阵列成员都从属于原始特征，即原始特征（父特征）发生变化时，阵列成员（子特征）相应也发生变化。

在预览时，阵列导引的预览边界始终比其他阵列成员粗许多。

如下图。

相同：子、父特征的尺寸大小、参照必须完全相同，各特征之间不可相交；可变：子、父特征的尺寸大小、参照可以不同，但各个特征之间不可相交；一般：子、父特征的尺寸大小、参照可以不同，各个特征之间可以相交。

如图所示1.4阵列的类型在proe4.0中，阵列的类型共有七种，分别是尺寸阵列(Dimension)、方向阵列(Direction)、轴心阵列(Axis)、填充阵列(Fill)、表阵列(Table)、参考阵列(Reference)和曲线阵列。

首先我们应对这些阵列的类型有所了解，才会选择合适的阵列类型。

方向阵列：用于创建线性阵列或叫矩形阵列，阵列出来的特征呈直线排列，可以创建一个方向上的阵列，也可以创建两个方向上的阵列。

轴阵列：用于创建环形阵列，即圆周方向上的阵列，该阵列也有两个方向：圆周方向和半径方向。

proe(阵列教程)pattern

简单的pattern阵列(利用关系式定义阵列尺寸)第一步新建文件File > New > Part > 输入文件名称：pattern_1> OK第二步建立一个实体Feature > Create > Solid> Protrusion > Extrude | Done > One Side | Done > 选择绘图平面：TOP > Okay > Default> 绘制如图1所示的剖面>> Blind | Done > 输入厚度：25 > OK > 完成截面的绘制>View > Default > 回3D视图，如图2所示第三步建立一个CUT特征Create > Solid > Cut >Extrude | Solid | Done > One Side | Done> 选择实体上表面为绘图平面> Okay > Default> 绘制如图3所示的剖面>> OK> Thru all | Done> OK第四步对CUT特征进行pattern> pattern> 选择CUT特征>General >| Done >V alue > 选尺寸40 >输入尺寸增量:60 >为第一方向选取另一尺寸> Relation > 选尺寸Φ30 > Edit >输入关系式如下：if idx1>=3memb_v=45elsememb_v=18endif保存关系式>| Done > 输入在此方向的实例总数(包括原始的):6 | Done最后结果：本例要点：1.通常pattern利用V alue输入尺寸增量，只能获得尺寸逐步增大或减少的效果，但通过利用关系式来定义则可获得特殊的尺寸。

ProE经典阵列教程集

列导引用加以标明。(注，阵列引导是不允许跳过的)
图 1-9 跳过成员功能及阵列结果
² 其它方面野火 2.0 允许对阵列进行成组，再阵列，实现阵列阵列野火 3.0 可直接阵列阵列
图 1-10 野火 2.0 的阵列阵列
第6页
Pro/ENGINEER 阵列教程
1.1.5 阵列应用举例
作者：cboye
² 方向 (Direction) - 通过指定方向并使用拖动控制滑块设置阵列增长的方向和增量来创建自由形式阵列。方向阵列可以为单向或双向。(野火 2.0)
² 轴 (Axis) - 通过使用拖动控制滑块设置阵列的角增量和径向增量来创建自由形式径向阵列。也可将阵列拖动成为螺旋形。(野火 2.0)
² 表 (Table) - 通过使用阵列表并为每一阵列实例指定尺寸值来控制阵列。
变化阵列
变化阵列比相同阵列要复杂得多。系统对变化阵列做如下假设： ² 实例大小可变化。 (即变化尺寸可以包括形状尺寸)
² 实例可放置在不同曲面上。（可用于做随形阵列）
² 没有实例与其它实例相交，否则再生时会出错
对于变化阵列，Pro/ENGINEER 分别为每个特征生成几何，然后一次生成所有交截。变化阵列与零件几何相交，作为一个完整的组。其结果是，如果要在延伸到下一个曲面的特征上使用变化阵列，将只有一个创建方向用来确定下一个曲面，从而会得到不希望的结果。为避免这种情况，对于延伸到下一个曲面的特征，只能使用一般或相同阵列。
3. 在第一方向选取用于阵列的尺寸。图形窗口中的组合框打开，其中尺寸增量的初始值等于尺寸值。键入或选取一个值作为尺寸增量。
注意：指定后，尺寸增量将无法通过图形窗口进行访问。要对其进行修改，可使用“尺寸”(Dimensions) 上滑面板中相应的“增量”(Increment) 字段。

proe阵列详解

尺寸阵列的元素：
驱动尺寸阵列数量
第一方向增量
阵列增量
第二方向增量
第一方向阵列数量阵列类型和变化尺寸数
第二方向阵列数量和变化尺寸数
注意同一个方向上允许有多个变化的尺寸值.要添加多个变化尺寸值,可以按住Ctrl键选择多个要作为变化尺寸的尺寸值.比如下图,在第一方向上除了水平距离发生变化外,柱子的直径也逐渐增大
填充阵列(Fill) 草绘区域
方形圆形
菱形曲线
三角形螺旋形
表阵列(Table)
表阵列通常应用于阵列的特征参数(形状)一致或类似但排布或尺寸的变化无统一规律的情况.也就上说当你用其他阵列方法找不到一个统一的阵列规律的描述的时候就该考虑使用表阵列了.在表阵列中,添加可变尺寸的方法和其他的一样,不过要修改尺寸值就要选定表然后点编辑(Edit).如下图所示
组操作：选取特征，按住右键
阵列的阵列
子阵列
总阵列
方法其实很简单,我们只需要选取子阵列进行再一次阵列就可以了,不过第二次阵列的尺寸变化值不能和第一次的重合
阵列特征的屏蔽
选取屏蔽的黑点可再次选取实例特征的白点
作业练习题
proe练习\练习文件\patten
Patten_patten
Fill_patten
第一方向
方向阵列(Direction) 驱动特征
方向阵列的元素
方向阵列数量
阵列增量
可变尺寸1
第一方向增量
第二方向阵列数量
第一方向
第第二二方方向向
增量
第一方向阵列数量
可变尺寸2
轴向阵列(Axis) 轴向阵列的元素
驱动特征轴阵列数量阵列增量

CREO高级阵列解析篇二(demon_love)

CREO高级阵列经典实例解析（二）在上一期教程中，通过一些实例，详细介绍了在CREO软件中八种阵列方式的应用。

本期除了要完成上期未完成的实例，另外增加了图形阵列和渐变阵列的使用，以弥补上期的缺憾。

-、上期未完成的实例解析：从上面三视图中，可以看出此实例涉及到的知识点有：1.球体越来越密集，球杆直径越来越细，以及球杆高度呈规律变化，需用到尺寸阵列，并配合阵列关系完成2.螺旋线获取方式（可以用曲线方程，也可以间接使用变截面扫描）解题恩路：绘制一条螺旋线，在其上创建一基准点，然后在基准点处绘制立杆与圆球，最后编组阵列。

此题不宜用曲线阵列，曲线阵列特点是：间距不可变，也就是阵列成员之间的距离是定值；阵列的成员尺寸不可更改，比如说球杆变细、变高等。

它只适用于那些大量重复性的实体特征。

在阵列特征中，仅尺寸阵列、方向阵列和轴阵列可以使用关系及增量来变更阵列成员的形状尺寸或位置尺寸。

表阵列则采用另一种方式（表格方式）来设定阵列特征的空间位置和本身尺寸，表尺寸仅在使用表阵列时，方可激活使用。

1.螺旋线获取方式方法一：曲线方程选择来自方程的曲线，进入曲线方程操作面板。

仔细观察发现，螺旋线应该在平行于XZ平面上（相对于坐标系为demon_love来讲)。

所以方程应写成：x=(65-20*t)*cos(t*360*2+180)z=(65-20*t)*sin(t*360*2+180)y=10其中65-20*t为螺旋半径，t*360*2+180表示螺旋有2圈，从180度的位置开始（这里之所以加了180度，是为了与下面变截扫描所得曲线一致,可以不加，其结果不会发生任何变化)t为曲线方程中的变量,其变化范围从0到1.方法二：变截面扫描选择ftont或right平面作为草绘平面绘制一条扫描轨迹线，线长度无所谓选择选择变截面扫描曲面，拾取扫描轨迹线，进入草绘截面草绘一条直线，按如图标注尺寸，输入关系式sd8=90+trajpar*360*2sd5=65-20*trajparsd8作为角度驱动，sd5则负责螺旋变化退出变截面，选择投影工具，将曲面轮廓投影到圆盘端面上。

你真的了解ProeCreo轴阵列吗？

你真的了解ProeCreo轴阵列吗？
轴阵列是Proe中最简单的阵列方式，但是你真的会使用吗？以下图为例简单介绍如何使用轴阵列。

一、普通圆轴阵列
1.选择要进行阵列的特征，点击【编辑】-【阵列】，弹出下面的控制面板。

阵列类型选择【轴】，点击图中的轴。

如下图中的箭头，第一方向是以轴为中心的圆的周向方向，成员的数量为10个，均匀的分布在一个整圆上；第二方向是以轴为中心的圆的径向方向，成员数量为2，即说明有两圈，径向距离为30。

点击勾号，完成。

2.螺旋轴阵列
在上面的基础上，点击控制面板的【尺寸】，点击单击此处添加项目，在方向1添加如下尺寸，增量为3，这意味着阵列对象将以轴为圆心，半径在40的基础上，以3为增量不断增加。

点击勾号，完成。

3.在阵列的同时，改变阵列对象的尺寸。

1）在2的基础上，在【尺寸】选项卡的方向2添加阵列对象的高度尺寸，那么阵列对象的高度会在原来的基础上，以10为增量不断变高，如下图。

点击勾号完成。

2）增加圆柱的直径。

如下图。

1））
2））若按下图设置，结果如下，体会二者之间的差别。

PROE阵列详细教程

阵列详细教程主要内容：1、阵列理论2、创建方向阵列3、创建轴阵列4、创建尺寸阵列5、创建填充阵列6、创建表阵列7、创建参照阵列8、创建曲线阵列9、创建关系阵列10、阵列实例1.阵列理论：阵列特征即将单个特征、特征组或阵列特征按照某种规则排列，生成大量形状相同或相近的特征。

常用于快速、准确地创建数量较多、排列规则且形状相同或相近的一组结构。

注意：阵列只能对单个特征进行阵列，要想对多个特征进行阵列，须将多个特征编为一个组进行阵列。

1.1执行阵列方法方法一：右键单击要阵列的特征或特征组（该特征称之为“阵列导引”），在快捷菜单中选择阵列方法二：选中要阵列的特征或特征组，单击工具栏阵列按钮：方法三：选中要阵列的特征或特征组，单击编辑菜单——阵列1.2阵列操控板简介1.3 阵列再生选项——相同、可变、一般选定用于阵列的特征或特征组称之为“阵列导引”（原始特征）.阵列出来的其他副本称之为阵列成员.原始特征和阵列成员遵循父子关系，每个阵列成员都从属于原始特征，即原始特征（父特征）发生变化时，阵列成员（子特征）相应也发生变化。

在预览时，阵列导引的预览边界始终比其他阵列成员粗许多。

如下图。

∙相同：子、父特征的尺寸大小、参照必须完全相同，各特征之间不可相交；∙可变：子、父特征的尺寸大小、参照可以不同，但各个特征之间不可相交；∙一般：子、父特征的尺寸大小、参照可以不同，各个特征之间可以相交。

如图所示1.4阵列的类型在proe4.0中，阵列的类型共有七种，分别是尺寸阵列(Dimension)、方向阵列(Direction)、轴心阵列(Axis)、填充阵列(Fill)、表阵列(Table)、参考阵列(Reference)和曲线阵列。

首先我们应对这些阵列的类型有所了解，才会选择合适的阵列类型。

∙方向阵列：用于创建线性阵列或叫矩形阵列，阵列出来的特征呈直线排列，可以创建一个方向上的阵列，也可以创建两个方向上的阵列。

∙轴阵列：用于创建环形阵列，即圆周方向上的阵列，该阵列也有两个方向：圆周方向和半径方向。

ProE关系式阵列金字塔

Pro/E关系式阵列-- 金字塔很显然Pro/E中的普通阵列是不能达到图(1)阵列的目的，Wildfire版本的填充阵列也不够灵活。

或许你是会觉得这是一个“超低能”的问题，就那几个圆跟本不值得使用阵列。

若然右图不是21个圆柱而是上百个呢？“劲搞笑”吧！下文是详细讲解实现金字塔形状的Pro/E关系阵列。

读者首先要对关系式阵列有初步认识，并了解lead_v、memb_v、memb_i、idx1、idx2的含义，否则看下去会十分痛苦。

图(2)需然是一个最简单的只有一个方向的阵列，仍可用下面的关系式来实现：memb_v = lead_v + inc_h * idx1或memb_i = inc_h，虽然用memb_i更加简便，但接下来更复杂的例子memb_i将无法实现此关系式很好理解，不作解释，接着再看下图的变形。

对于图(3)我恳请大家不要理解为有idx1和idx2两个方向的阵列，这是很关键的一步。

实际上上图是只有idx1的一个方向的阵列，只用idx1分别控制两个增量尺寸inc_h和inc_v。

水平方向可理解为与图(2)相比未作变更，关系式与图(2)一样，如下：memb_v = lead_v + inc_h * idx1垂直方向与图(2)相比向上移了位，关系式如下：group = floor ( idx1/5 )memb_v = lead_v + inc_v * groupfloor是Pro/E的内部符号，以舍去的方式取整的意思，如A = floor ( 3.2583 )，即A = 3。

group是用来识别每5个一组而用的一个临时参数，下表为根据idx1的编号而得到的group 和memb_v的值idx1 group 垂直方向的memb_v 0 -- 4 0 lead_v 5 -- 9 1 lead_v + inc_v *1 10 -- 14 2 lead_v + inc_v *2 15 --19 3 lead_v + inc_v *3 20 -- …… 4 lead_v + inc_v *4完全理解上面的关系式后，将图(3)按下图(4)的形式变形得到图(5)。

Proe阵列实例讲解(二)--尺寸+关系阵列

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