半导体物理-第五章-2012
半导体物理_第五章
右图所示 为锗、硅 及砷化镓 单晶材料 中电子和 空穴的漂 移运动速 度随着外 加电场强 度的变化 关系。
从可以看出,在低电场条件下,漂移速度与外加 电场成线性变化关系,曲线的斜率就是载流子的迁移 率;而在高电场条件下,漂移速度与电场之间的变化 关系将逐渐偏离低电场条件下的线性变化关系。以硅 单晶材料中的电子为例,当外加电场增加到30kV/cm 时,其漂移速度将达到饱和值,即达到107cm/s;当 载流子的漂移速度出现饱和时,漂移电流密度也将出 现饱和特性,即漂移电流密度不再随着外加电场的进 一步升高而增大。 对于砷化镓晶体材料来说,其载流子的漂移速度 随外加电场的变化关系要比硅和锗单晶材料中的情况 复杂得多,这主要是由砷化镓材料特殊的能带结构所 决定的。
因此,在上述低电场的情况下,载流子的平均自由 运动时间基本上由载流子的热运动速度决定,不随电 场的改变而发生变化,因此低电场下载流子的迁移率 可以看成是一个常数。 当外加电场增强为7.5kV/cm之后,对应的载流子定 向漂移运动速度将达到107cm/s,已经与载流子的平 均热运动速度持平。此时,载流子的平均自由运动时 间将由热运动速度和定向漂移运动速度共同决定,因 此载流子的平均自由运动时间将随着外加电场的增强 而不断下降,由此导致载流子的迁移率随着外加电场 的不断增大而出现逐渐下降的趋势,最终使得载流子 的漂移运动速度出现饱和现象,即载流子的漂移运动 速度不再随着外加电场的增加而继续增大。
其中μ称为载流子的迁移率。因此对于价带中的空穴来 说,其漂移电流密度可表示为:
同样,对于导带中的电子来说,其漂移电流密度可表 示为: μn、μp分别是电子和空穴的迁移率。
下表所示为室温下几种常见半导体材料中的载流子迁 移率。
2. 迁移率效应 前面我们给出了半导体材料中载流子迁移率的定义, 即载流子平均的定向漂移速度与外加电场之间的比值。 对于空穴而言,则有:
半导体物理第五章(教材)
05 半导体的热电性质
热电效应与温差电器件
热电效应
当半导体材料两端存在温度差时,会产生热电势差,即热电效应。热电效应是半导体材料热电转换的基础。
温差电器件
利用半导体材料的热电效应,可以制作出温差电器件,如温差发电器和温差制冷器。这些器件在能源转换和温度 控制等领域有广泛应用。
塞贝克效应与温差电偶
半导体材料与器件的绿色化
发展环保、低能耗的半导体材料和器件,以适应体技术与其他领域(如生物、医学、环境等)的交叉融合,将 产生新的应用方向和产业机遇。
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感谢您的观看
致冷器件
利用帕尔贴效应,可以制作出致冷器 件,如半导体制冷器。这些器件在电 子设备冷却、局部制冷等领域有广泛 应用。
06 第五章总结与展望
关键知识点回顾
半导体能带结构
包括价带、导带和禁带的概念,以及半导体中电子和空 穴的能量分布。
半导体中的复合与产生
阐述了半导体中电子和空穴的复合过程以及载流子的产 生机制。
03
半导体器件的伏安特性曲线和 参数
02 半导体中的载流子
载流子的类型与特性
载流子类型
半导体中的载流子主要包括电子和空穴两种类 型。
电子特性
电子带负电荷,具有较小的有效质量和较高的 迁移率。
空穴特性
空穴带正电荷,具有较大的有效质量和较低的迁移率。
载流子的浓度与分布
载流子浓度
半导体中载流子的浓度与温度、掺杂 浓度和禁带宽度等因素密切相关。
半导体物理第五章教材
目 录
• 第五章概述 • 半导体中的载流子 • 半导体中的电流 • 半导体的光电性质 • 半导体的热电性质 • 第五章总结与展望
《半导体物理第五章》课件
第六节:PN结的非平衡态
PN结非平衡态简析
简单剖析非平衡态下PN结的电压 -电流特性。
简单PN结非平衡态的VE特性 光电导效应的非平衡态
研究非平衡态下PN结的电压-电 流特性。
探究非平衡态下光电导效应在PN 结中的特点与应用。
探讨PN结太阳能电池的构造和独特特点。
3 PN结太阳能电池的主要性能参数
深入了解PN结太阳能电池的重要性能参数及其影响因素。
第五节:PN结的热平衡态
PN结的热平衡态简析
简要分析PN结的热平衡态及其 相关特性。
热平衡态下PN结的IV特性
详细讨论热平衡态下PN结的电 流-电压特性。
自扩散效应的热平衡 态
详细讨论电子和空穴在PN结中的运动方式。
光谱响应及其特征
探究PN结对光谱的响应,以及其特征与应用。
第二节:P-N结的动态响应
PN结的快速响应
探索PN结在快速响应方面的特性 与应用。
PN结快速开关电路
介绍PN结在快速开关电路中的工 作原理与应用。
鼓型PN结
研究鼓型PN结的结构和相关特点。
第三节:PN结的光探测器
1
光电导效应及其应用
深入解析光电导效应在光探测器中的应用。
2
光电二极管的工作原理
详细讨论光电二极管的工作原理和特性。
3及其在光能转换中的应用。
第四节:单晶硅PN结太阳能电池
1 太阳能电池的基本原理
详细介绍太阳能电池的基本原理和工作方式。
2 PN结太阳能电池的构造及其特点
《半导体物理第五章》 PPT课件
这是《半导体物理第五章》的PPT课件,旨在介绍半导体物理的相关知识。通 过本次分享,我们将深入探讨半导体的基本性质、动态响应、光探测器、太 阳能电池、热平衡态以及非平衡态等内容。
半导体物理与器件第五章
μn为1350cm2/(V·s),外加电场为75V/cm时,则漂移速度为
105cm/s,其值为热运动速度的1%。可见外加电场不会显著改
变电子的能量。
• 强场,载流子从电场获得能量较多,其速度(动量)有较大 改变,造成平均自由时间减小,散射增强,最终导致迁移率 下降,速度饱和。
第五章 载流子输运现象
20
vd
1 2
e cp
mcp
E
• 在考虑了统计分布影响的精确模型中,上式中将没
有因子1/2,则
vdp
e cp
mcp
E
• 因而:
p
dp
E
e cp
mcp
第五章 载流子输运现象
8
同理,电子的平均漂移速度为:
n
e cn
mcn
其中,τcn为电子受到碰撞的平均时间间隔。
根据迁移率和速度及电场的关系,可知:
移电流密度。
解:因为Na=0,Nd=1016cm-3>ni,所以 n Nd 1016 cm3
p ni2 Nd
1.8 106 1016
2
3.24 104 cm3
漂移电流为 Jdrf e nn p p E ennE
1.61019 85001016 10 136 A cm2
非本征半导体中,漂移电流密度基本上取决于多数载流子。
第五章 载流子输运现象
5
(2)迁移率
• 用有效质量来描述空穴加速度与外加电场关系
F
mcp a
mcp
dv dt
eE
其中,e表示电子电荷电量,a代表加速度,E表示电场, mcp*为空穴的有效质量。v表示空穴平均漂移速度(不包括 热运动速度)。
• 假设粒子初始速度为0,对上式积分得
半导体物理与器件5
5.4 霍尔效应Hall Effect
5.4 霍尔效应Hall Effect
磁场力与感生电场力相等时,达到稳定状态
对于空穴 霍尔系数
可测量空穴浓度
对于电子
5.4 霍尔效应
可测量电子浓度
可测量空穴迁移率 可测量电子迁移率
• P131 5.9 • P133 5.24
作业
第五章 载流子输运现象 Carrier Transport Phenomena
➢输运是指半导体中电子和空穴的净流动,这种流动将 产生电流。
➢ 漂移运动(Drift)是指由电场引起的载流子运动 ➢ 扩散运动(Diffusion)是指由浓度梯度引起的载流子运 ➢半导体的温度梯度也能引起载流子运动,但由于半导
晶格散射 电离杂质散射
硅
5.1.3电导率(Conductivity)
S/cm
对本征半导体 对P型半导体 对n型半导体
5.1.4 饱和速度Velocity Saturat
T=300K时,随机热运动的平均能量
dn=- nE
5.2 载流子扩散
5.2.1 扩散电流密 度
5.2.1 扩散电流密度
5.2.2 总电流密度
一维情况
推广到三维情况
5.3 杂质梯度分布Graded Impurity Distributi
5.3.1 感生电场Induced Electric Field
准电中性
5.3.2 爱因斯坦关系
非均匀掺杂半导体中,在没有外加电场下,电子电流和空穴电流 分别等于零 准电中性
爱因斯坦关系
dp =(e p) pE
电子漂移电流密度 Jn drf=(-en) dn
dn=- nE Jn drf=(-en) (- nE) = (e n) nE
半导体物理第5章_图文(精)
半导体物理 SEMICONDUCTOR PHYSICS 编写:刘诺独立制作:刘诺电子科技大学微电子与固体电子学院微电子科学与工程系刘诺第五篇非平衡载流子 §5.1 非平衡载流子的注入与复合一、非平衡载流子及其产生非平衡态:系统对平衡态的偏离。
相应的:n=n0+ ⊿n p=p0+ ⊿p 且⊿n= ⊿p 非平衡载流子:⊿n 和⊿p(过剩载流子)刘诺当非平衡载流子的浓度△n和△p《多子浓度时,这就是小注入条件。
结论⇒小注入条件下非平衡少子∆p对平衡少子p0的影响大非平衡载流子⇐非平衡少子刘诺二、产生过剩载流子的方法光注入电注入高能粒子辐照… 刘诺注入的结果产生附加光电导σ = nq µ n + pq µ p = (n0 qµn + p0 qµ p + (∆nqµn + ∆pqµ p = (n0 + ∆n qµn + ( p0 + ∆p qµ p = σ 0 + ∆σ 故附加光电导∆σ 0 = ∆nqµ n +∆pqµ p = ∆nq (µ n + µ p 刘诺三、非平衡载流子的复合光照停止,即停止注入,系统从非平衡态回到平衡态,电子空穴对逐渐消失的过程。
即:△n=△p 0 刘诺§5.2 非平衡载流子的寿命 1、非平衡载流子的寿命寿命τ ⇐非平衡载流子的平均生存时间1 τ ⇐单位时间内非平衡载流子的复合几率⎧1 ⎯→ ⎪τ ⎯单位时间内非平衡电子的复合几率⎪ n ⎨ 1 ⎪⎯单位时间内非平衡空穴的复合几率⎯→⎪τ p 刘诺⎩例如d [∆p (t ] 则在单位时间内非平衡载流子的减少数= − dt ∆p 而在单位时间内复合的非平衡载流子数= τp 如果在t = 0时刻撤除光照在小注入条件下,τ为常数.解方程(1得到则d [∆p (t ] ∆p − = ⎯ (1 ⎯→ dt τp − t ∆p(t = ∆p(0e − t τp ⎯ (2 ⎯→ 同理也有∆n(t = ∆n(0 e 刘诺τn ⎯ (3 ⎯→对 (2 式求导 2、寿命的意义∆p (t d [∆ p (t ] = − τp ∞ dt ⇒衰减过程中从 t到 t + dt 内复合掉的过剩空穴因此⇐(∆p 0 个过剩载流子的平均可生存时间为∫ td [∆p(t ]= τ t= ∫ d [∆p(t ] − 0 ∞ 0 p ⎯ (3 同理⎯→∫ td [∆n(t ] = τ t= ∫ d [∆n(t ] ∞ − 0 ∞ 0 n ⎯ (4 ⎯→τ − ⎧ 1 τ ⎯→ ⎪ ∆ p (τ = (∆ p 0 e = (∆ p 0 ⎯ (5 ⎪ e 可见⎨τ − ⎪ ∆ n (τ = (∆ n e τ = 1 (∆ n ⎯ (6 0 0 ⎯→ ⎪ e ⎩ 1 ⇒ τ就是∆p (t 衰减到(∆p 0的所需的时间刘诺 e§5.3 准费米能级非平衡态的电子与空穴各自处于热平衡态准平衡态,但具有相同的晶格温度: 1 ⎧⎯⎯→ (1 E−E ⎪ f n (E = ⎪⎪ 1 + e k 0T ⎨ 1 ⎪ f p (E = ⎯⎯→(2 p EF −E ⎪⎪ 1 + e k 0T ⎩ n EF ⎯电子准费米能级⎯→ p 刘诺 EF ⎯空穴准费米能级⎯→ n F刘诺§5.4 复合理论(2)间接复合 Ec 1、载流子的复合形式:(1)直接复合刘诺 Ev复合率 R=rnp 2、带间直接复合:(1)其中,r是电子空穴的复合几率,与n 和p无关。
半导体物理第五章教材
Gp s (Nt nt )
➢s+为空穴激发概率(空穴发射系数) ; ➢空穴产生率与空复合中心浓度(未被电子占据的复合中心的
用半导体的光磁电效应的原理,该方法适合于测量短的寿 命,在砷化镓等Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体中用得最多; ✓还有扩散长度法、双脉冲法及漂移法等。
不同的材料寿命很不相同。纯度和完整性特别好硅、锗 材料,寿命分别可达103μs、104μs;砷化镓的寿命极短,约为 10-5~10-6μs,或更低。即使是同种材料,在不同的条件 下,寿命也可在—个很大的范围内变化。
11
➢ 热平衡不是绝对静止的状态。就半导体中的载流子而言, 任何时候电子和空穴总是不断地产生和复合。在热平衡状 态,产生和复合处于相对的平衡,每秒种产生的电子和空 穴数目与复合掉的数目相等,从而保持其浓度稳定不变;
➢ 光照半导体时,打破了产生与复合的相对平衡,产生超过 复合而导致一定的净产生,在半导体中产生了非平衡载流 子,半导体处于非平衡态;
➢电子产生率与复合中心能级上的电子浓度nt(被电子占据的 复合中心的浓度)成比例;
➢考虑非简并情况,导带基本是空的,产生率与n无关。
40
3. 电子俘获和发射互逆过程的内在联系 热平衡状态下,这两个微观过程互相抵消,即电子产生
率等于电子俘获率。设n0和nt0分别为平衡时导带电子浓度和 复合中心能级上的电子浓度,则有:
33
1. 小注入情况
34
2. 大注入情况
35
四、间接复合
非平衡载流子通过复合中心(杂质和缺陷在禁带中形成一 定的能级,有促进电子和空穴复合的作用,称为复合中心)的 复合。
36
在两步复合过程中,共有四个微观过程:
互逆过程 互逆过程
①俘获电子
2012半导体物理第五章-4+
上式描写了非平衡少子空穴的扩散规律,称为扩散
定律。
表面注入的空穴,不断向样品内部扩散,在扩散过 程中,不断复合而消失。 用恒定光照射样品,表面处非平衡载流子浓度将保
持恒定值(Δp) 0。
由于表面不断有注入, 半导体内部各点空穴浓度也不随 时间改变,形成稳定的分布,称 为稳定扩散。
现在研究一维稳定扩散情况下,非平衡少子空穴的变 化规律 一般情况下,扩散流密度Sp随位臵x而变化。
( 71 5 )
小注入下,杂质能级电子的积累可由下式导出
积累变化! nt nt nt ( )n ( )p 0 0 n p
偏微取平衡时值
nt N t
(nrn p1rp ) rn (n n1 ) rp ( p p1 )
Δn和Δp的影响认为是相互独立,且电子和空穴在形式 上对称,能级积累电子作用,考虑上式中任项可以。
A B (p) 0
W W A exp( ) B exp( ) 0 Lp Lp
p( x) A exp( x x ) B exp( ) Lp Lp
(5 87)
W (Δp)0
Δp=0
解此联方程得A,B
A (p ) 0 W W exp( ) exp( ) Lp Lp W exp( ) Lp B (p ) 0 W W exp( ) exp( ) Lp Lp exp( W ) Lp
均匀掺杂
用适当波长光均匀照射材料一面(如图),在表面 薄层内,光大部吸收。表面薄层内将产生非平衡载流子 ,而内部非平衡流子很少,即半导体表面非平衡载流子 浓度比内部高,这必然会引起非平衡开流子自表面向内 部扩散。 具体分析注入非平衡少数载流子空穴的扩散运动
半导体物理与器件-第五章 载流子输运现象
考虑非均匀掺杂半导体,假设没有外加电场,半导体处于热 平衡状态,则电子电流和空穴电流分别等于零。可写为:
Jn
0
enn Ex
eDn
dn dx
(5.41)
设半导体满足准中性条件,即n≈Nd(x),则有:
Jn
0
eNd
x nEx
eDn
dNd x
dx
(5.42)
将式 5.40代 入上式:
0
eNd
x n
kT e
1
Nd x
dNd x
dx
eDn
dNd x
dx
(5.43) 爱因斯
Dn kT (5.44a) Dp kT (5.44b)
n e
p e
Dn Dp kT
坦关系
(5.45)
n p e
25
5.3杂质的浓度梯度
典型迁移率及扩散系数
注意: (1)迁移率和扩散系数均是温度的函数; (2)室温下,扩散系为迁移率的1/40。
移电流密度为
Jdrf d 单位:C/cm2s或A/cm2
空穴形成的漂移电流密度 JP drf epdp (5.2)
e单位电荷电量;p:空穴的数量;vdp 为空穴的平均漂移速度。
4
5.1载流子的漂移运动 漂移电流密度
弱电场条件下,平均漂移速度与电场强度成正比,有
dp pE (5.4) μp称为空穴迁移率。单位cm2/Vs
迁移率与电场大小什么关系?
10
5.1载流子的漂移运动 迁移率
载流子的散射:
声子散射和电离杂质散射
当温度高于绝对零度时,半导体中的原子由于具有一定的热 能而在其晶格位置上做无规则热振动,破坏了势函数,导致载 流子电子、空穴、与振动的晶格原子发生相互作用。这种晶格 散射称为声子散射。
半导体物理_05非平衡载流子
引入准费米能级后,光照下导带电子与价带空穴浓度可以写为:
Ec EFN n N c exp k 0T E FP Ev p N v exp k0T
注入条件对准费米能级的影响:对于n型半导体,小注入条件 (p0<<Δp= Δn <<n0) EFN与EF很接近,而EFP与EF有显著的差别 ND=1015cm-3的n型Si,注 入 水 平 Δp=1011cm-3 时 的 准费米能级和热平衡态的 费米能级:
- - - - - - - -
EC
EV
光注入非平衡载流子浓 度: △n =△p 光照下载流子的浓度: n=n0+△n p=p0+△p
平衡态
+
光注入
△p
吸收光子hv>Eg
+ + +
p0
+
Байду номын сангаас
三、非平衡载流子的产生(光照下非平衡载流子的注入) 讨论(光注入对载流子浓度的影响): 1、小注入:p0<<△n=△p<<n0 多子:n=n0+△n≈n0——变化小(可忽略) 少子:p=p0+△p≈△p——变化大(不可忽略) 小注入条件下,非平衡少子的影响远大于多子
小注入
由于非平衡少子的影响更重要,通常所说的非平衡载流子都 指非平衡少数载流子
三、非平衡载流子的产生(光照下非平衡载流子的注入) 讨论(光注入对载流子浓度的影响): 2、大注入:△n=△p>>n0
实际很少用到
多子:n=n0+△n≈△n——变化大(不可忽略)
少子:p=p0+△p≈△p——变化大(不可忽略) 多子、少子的影响都很大
半导体物理第五章 非平衡载流子
③在外界作用撤除以后,复合率超过产生率,结果使 非平衡载流子逐渐减少,最后恢复到热平衡状态。
G0 R0
由此,可得出产生率
G G0 rn0 p0 rni2
§5.4 复合理论
§5.4.1 直接复合
2. 净复合率和寿命
非平衡情况下,G≠R,电子-空穴对的净复合率
Ud为
Ud R G rnp n0 p0
把 n n0 和n p 代p入0 上p式,在 的情况n下 ,p 有:
Ud rn0 p0 pp
§5.4 复合理论
§5.4.1 直接复合
导带的电子直接跃迁到价带中的空状态,实现电 子-空穴对的复合, 这就是直接复合过程,其逆过程是 电子由价带跃迁到导带产生电子-空穴对。如图中它 们用a来表示,其逆过程就是本征激发过程(如图中 b)
Ec
a
b
Ev
§5.4 复合理论
§5.4.1 直接复合
1. 直接复合的复合率和产生率(主要考虑非简并)
§5.3 准费米能级
在热平衡的非简并半导体中,电子和空穴浓度以及它 们的乘积可以分别表示为
n0
Nc
exp
Ec EF kT
p0
Nv
exp
EF Ev kT
n0 p0 ni2
在热平衡情况下可以用统一的费米能级EF描述半
导体中电子在能级之间的分布,当有非平衡载流子存在 时,不再存在统一的费米能级,在这种情况下,处于非平 衡状态的电子系统和空穴系统,可以定义各自的费米能 级,称为准费米能级,它们都是局部的费米能级,包括 导带(电子)准费米能级EFn和价带(空穴)准费米能 级EFP。
半导体物理第5章非平衡载流子
热平衡态: 产生率等于复合率,△n =0; 外界作用: 非平衡态,产生率大于复合率,△n 增大; 稳定后: 稳定的非平衡态,产生率等于复合率,△n 不变; 撤销外界作用: 非平衡态,复合率大于产生率,△n 减小; 稳定后 : 初始的热平衡态(△n =0)。
2. 非平衡载流子的检验
费米能级相同的原因:
半导体处于热平衡状态,即从价带激发 到导带的电子数等于从导带跃迁回价带的电子 数,使得导带中的电子的费米能级和和价带中 空穴的费米能级产生关联,即相等。
从而使得电子和空穴的浓度满足:
np
NC
NV
exp-
Eg K0T
=n
2 i
当半导体处于非平衡态时,有附加的载流 子产生。此时电子和空穴间的激发和复合的 平衡关系被破坏,导带中的电子分布和价带 中的空穴分布不再有关联,也谈不上它们有 相同的费米能级。
可见,EF和n E的Fp 偏离的大小直接反映出 (n或p )
与 相n0差p0的程度n,i2 即反映出半导体偏离热平衡
态的程度。
若两者靠得越近,则说明非平衡态越 接近平衡态。
对于n型半导体,准费米能级偏离平衡费米能级 示意图如下图所示:
EC
EF
EFn
EFp
特点:
EV
E
n F
- EF
EF
EFp
课堂练习5 证明对于n型半导体,准费米能级偏离平衡费米能级满足
恢复平衡态 产生率=复合率
n0、p
不变
0
非平衡载流子复合过程的两种基本形式:
直接复合: 电子在导带和价带之间直接跃迁而产生复合
间接复合:
Ec
电子和空穴通过禁带的能级进行复
半导体物理学——非平衡载流子
半导体物理学黄整平衡载流子在热平衡状态下的载流子称为平衡载流子¾非简并半导体处于热平衡状态的判据式200in p n=(只受温度T 影响)2由于受外界因素如光、电的作用,半导体中载流子的过剩载流子分布偏离了平衡态分布,称这些偏离平衡分布的载流子为过剩载流子,也称为非平衡载流子电子和空穴增加和消失的过程称为载流子的产生和复过剩载流子不满足费合米-狄拉克统计分布且n pΔ=Δ2innp=不成立3电中性与电导率平衡过剩电中性:载流子载流子n pΔ=Δ0n n n=+Δ=+Δ过剩载流子的出现导致半导体电导率增大0p p p=n pnq pq σμμΔΔ+Δ()=n p pq μμΔ+4小注入条件一般情况下,注入的非平衡载流子浓度比平衡时的多数载流子浓度小得多n n Δ<<N 型材料0n n ≈P 型材料p p Δ<<0p p ≈5np n p e=n e=00C E FnE E i F产生和复合产生¾电子和空穴(载流子)被创建的过程复合¾电子和空穴(载流子)消失的过程产生和复合会改变载流子的浓度,从而间接地影响电流12产生直接产生R-G 中心产生载流子产生与碰撞电离13复合A 直接复合间接复合Auger 复合禁带宽度小的半导体材料窄禁带半导体及高温情况下具有深能级杂质的半导体材料14)间接复合禁带中存在复合中心,电子与空穴的复合分为两步第步E c E t•(一)第一步电子由导带E 进入复合中心E E v(二)子带c 复中t第二步电子由复合中心E t 进入价带E V (或空穴被俘获)18E c -E t 之间电子的俘获和发射E •n 、p :非平衡态下的电子和空穴浓度N t :复合中心的浓度c E t(一)(二)n t :复合中心上的电子浓度N -n 未被电子占有的复合中心浓度(复合中心的E vt t :未被子占有复中浓度复中空穴浓度)r 电子俘获率()n n t t R r n N n =−n 称为电子俘获系数电子产生率s -为电子激发几率n tQ s n −=19•般地空穴的产生率E c E t(一)一般地,空穴的产生率()p t t Q s N n +=−E v(二)−1()p t t r p N n =1()p p t p t t U r n p r p N n =−−空穴的尽俘获率22表面复合表面复合率少子的寿命受半导体的形状和表面状态的影响单位时间流过单位表面积的非平衡载流子ΔΔs su s p =⋅Δ1/s cm 21/cm 3p s 为样品表面处单位体积的非平衡载流子数(表面处的非平衡载流子浓度1/cm 3)比例系数s ,表征表面复合的强弱,具有速度的32量纲,称为表面复合速度。
半导体物理第5章
3 过程中 只有已被电子占据的复合中心才能俘获空穴.
空穴俘获率=rppnt
rp称为空穴俘获系数 p:价带空穴浓度
4 过程中
价带中电子只能激发到空的复合中心能级. 只有空着的复合中心才能向价带发射空穴. 空穴产生率=s+ (Nt-nt) s+称为空穴激发概率 平衡时,空穴俘获率=空穴产生率
一般地说,禁带宽带越小,直接复合的几率越大。
所以,在锑化铟(0.18eV)和碲( 0.3eV )等小禁带 宽度的半导体中,直接复合占优势。
实验发现,砷化镓的禁带宽度虽然比较大一些,但直接 复合机构对寿命有着重要的影响,这和它的具体能带结 构有关。
砷化镓是直接带隙半导体。
把直接复合理论用于锗、硅,得到的寿命值比实验结果 大的多。
于是,
n0
Nc
exp
Ec EF k0T
nt 0
exp
Nt Et EF
k0T
1
s
rn Nc
exp
Ec Et k0T
rnn1
其中,
n1
Nc
exp
Ec Et k0T
ni
exp
Et Ei k0T
n1恰好等于费米能级EF与复合中心能级Et重合时的平衡电子浓度。 电子生产率 rnn1nt
这说明对于硅、锗寿命还不是由直接复合过程所决定, 一定有另外的复合机构起着主要作用,决定着材料的导体禁带中形成能级,它们不但影响半导体 导电性能,还可以促进非平衡载流子的复合而影响其寿命。
实验表明半导体中杂质和缺陷越多,载流子寿命就越短。 通常把具有促进复合作用的杂质和缺陷称为复合中心。 复合中心的存在使电子-空穴的复合可以分为两个步骤,先是
)
半导体物理 第五章 JFET 图文
5.1 JFET的基本结构和工作原理
三、JFET的基本工作原理:
SG
D
SG
D
栅极PN结反偏
SCR向沟道内部扩展
沟道截面积变小,电导变小。
可见:源漏之间流过的电流受栅极电压调制,这种通过表面电 场调制半导体电导的效应,称为场效应。
5.1 JFET的基本结构和工作原理
三、JFET的基本工作原理:
VG= 0的JFET特性
个欧姆结之间的电流控制。
二、JFET的特点:
属于单极器件。即只由多数载流子承担电流的输运。
三、MESFET与JFET的区别与联系:
将JFET的PN结用MS结代替作为栅结,就构成MESFET。 二者的工作原理基本相同。
5.1 JFET的基本结构和工作原理
一、JFET的基本结构:
S
G
D
SG
D
外延—扩散工艺
5.8 JFET 和 MESFET的类型
一、四种类型:
1. N沟道耗尽型: VG= 0时,有沟道; VG< 0 , VD> 0 时,沟道夹断。
2. P沟道耗尽型: VG= 0时,有沟道; VG > 0 , VD< 0 时,沟道夹断。
3. N沟道增强型: VG= 0时,无沟道; VG > 0 , VD< 0 时, 沟道形成。
5.1 JFET的基本结构和工作原理
三、JFET的基本工作原理:
VG= 0的JFET特性
SG
D
SG
D
VD< VP
VD= VP
6.如果忽略沟道长度调制效应,沟道夹断后,漏极电流将不再增加而处于饱和
状态。漏电压,VDS; 7.沟道夹断后的漏极电流称为饱和漏电流, IDS 。
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)
丙:俘获空穴过程;
空穴俘获率=r p
pnt
丁:发射空穴过程: 空穴产生率=s+ (Nt nt )
平衡时,丙、丁两个微观过程相互抵消。
s (Nt nt0 ) rp p0nt0
s
rp
p1,
p1
Nc
exp(
Et Ev k0T
)
空穴产生率=rp p1(Nt nt )
稳定情况下,甲、乙、丙、丁四个过程必须保持复合 中心上的电子数不变,即nt不变。由于乙、丁两个过程 造成复合中心上电子的积累,而甲、丙两个过程造成电 子的减少。因此,稳定条件为:
设t 0, p(0) (p)0
p(t) (p)0 et
非平衡载流子浓度随时间按指数衰减的规律
p(t) (p)0 et
t 0 tdp(t) 0 dp(t)
tet dt et dt
0
0
p(t ) p(t) e
t 0, p( ) (p)0 e
非平衡载流子随时间的衰减
不同的材料寿命很不相同。一般地说,锗比硅更容 易获得较高的寿命,而砷化镓的寿命要短很多。
Ge ~ 104 s, Si ~ 103 s,GaAs ~ 10 8 109 s
5.3 准费米能级
半导体中电子系统处于热平衡状态时,在整个半导体中有统一 的费米能级,电子和空穴都用它来描述。 非简并情况下:
当外界的影响破坏了热平衡,使半导体处于非平衡状态 时,就不再存在统一的费米能级。由于电子的热跃迁非常频 繁,极短时间就可以导致一个能带内的热平衡,所以可以认 为价带中的空穴和导带中电子,各自处于平衡态,而导带和 价带之间处于不平衡态。引入“准费米能级”。
--非平衡载流子的复合过程。
值得注意的是,热平衡并不是一种绝对静止的状态。 在半导体中,任何时候电子和空穴总是不断地产生和 复合,在热平衡状态,产生和复合处于动态平衡。
光照
热平衡
光照结束
非平衡态
热平衡
5.2 非平衡载流子的寿命
上节说明,小注入时,电压的变化就反映 了过剩少子浓度的变化。因此,可以利用 此实验来观察光照停止后,非平衡少子浓 度随时间变化的规律。
5.4 复合理论
复合
非平衡态
平衡态
复合的微观机构主要分为两种: 1)直接复合; 2)间接复合。--体内复合和表面复合
复合放出能量的方式有三种:
发射光子、发射声子和将能量给予其他载流子 (俄歇复合)。
5.4 复合理论
复合
非平衡态
平衡态
复合的分类
1、直接复合
产生率=G
热平衡时,产生率必须等于复合率。 G rn0 p0 rni2
)
可以看出,无论是电子还是空穴,非平衡载流子越多, 准费米能级偏离Ef就越远,但其偏离程度是不同的。
对于n型半导体,在小注入条件下
准费米能级偏离能级的情况(a)热平衡;(b) n型半导体
np
n0
p0
exp(
EFn EFp k0T
)
ni2
exp(
EFn EFp k0T
)
显然,准费米能级之间的偏离可反映出系统的不 平衡状态。
n
Nc
exp(
EC EFn k0T
)
p
Nv
exp(
EFp EV k0T
)
n
Nc
exp(
EC EFn k0T
)
n0
exp(
EFn EF k0T
)
ni
exp(
EFn Ei k0T
)
p
Nv
exp(
EFp EV k0T
)
p0
exp( EF EFp k0T
)
ni
exp( Ei EFp k0T
光注入
在一般情况下,注入的非平衡载流子浓度比平衡时的多 子浓度小得多。对n型半导体,
n n0 , p n0
小注入条件
如在1欧姆.厘米的n型硅中,
n0 5.5*1015 cm3, p0 3.1*104 cm3
若注入非平衡载流子 n p 1010 cm3
n n0
p p0
小注入条件 非平衡少子浓度变化极大
直接净复合率
Ud R G r(np ni2 ) n n0 n, p p0 p, n p
Ud r(n0 p0 )p r(p)2
非平衡载流子寿命为: 小注入条件下
p
1
Ud r[(n0 p0 ) p]
1
r(n0 p0 )
甲:发射电子过程: 电子产生率=s-nt 乙:俘获电子过程; 电子俘获率=rnn(Nt nt )
s , rn 分别表示电子激发概率和电子俘获系数。
平衡时,甲、乙两个微观过程相互抵消。
snt0 rnn0 (Nt nt0 )
nt 0
Nt
f
(Et )
Nt
exp( Et
1
EF
)
1
k0T
n0
Nc
exp(
EF Ec k0T
)
s
rn Nc
exp( Et Ec k0T
)
rnn1, n1
Nc
exp( Et Ec k0T
半导体的热平衡状态是相对的。如果对半导体施 加外界作用,破坏了热平衡状态,称为非平衡状 态。比平衡状态多出来的载流子,称为非平衡载 流子,或者过剩载流子。
如在一定温度下,无光照,对n型半导体有 n0 p0
用适当波长的光照射半导体时,只要光子的能量大于半导 体的禁带宽度,那么光子就能把价带电子激发到导带上去, 产生电子--空穴对,使导带电子和价带空穴比平衡状态 多。
半导体物理
第五章 非平衡载流子
5.1 非平衡载流子的注入与复合 5.2 非平衡载流子的寿命 5.3 准费米能级 5.4 复合理论 5.5 陷阱效应 5.6 载流子的扩散运动、漂移运动 5.7 连续性方程式
5.1 非平衡载流子的注入与复合
处于热平衡下的半导体,在一定温度下,载流子 浓度是一定的。
实验表明,光照结束后,过剩少子浓度按 指数规律减少,说明非平衡载流子并不是 立刻消失,而是有一定的存在时间。
非平衡载流子寿命:
非平衡载流子的平均生存时间,用 表示。一
般更关注少数载流子寿命(少子寿命)。
少子寿命
1 复合概率
p 单位时间单位体
积的净复合率
dp(t) p(t)
dt
p(t) Cet
光注入必然导致半导体电导率 增大,即引起附加电导率:
nqn pq p nq(n p )
半导体上压降:
V Ir
1
1
0
2 0
r l l
S
S
2 0
V Ir p
光注入引起附加光电导
R r
产生过剩少子的两种方式:光注入和电注入。
当光照结束后,注入的非平衡载流子开始复合,即原 来激发到导带的电子又回到价带,电子和空穴成对地 开始消失。最后,载流子浓度恢复到平衡态。