半导体物理试卷A

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电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案

电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案

电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案半导体物理课程考试题A卷(120分钟)考试形式:闭卷考试日期2022年元月18日课程成绩构成:平时10分,期中5分,实验15分,期末70分一、选择题(共25分,共25题,每题1分)A)的半导体。

A.不含杂质和缺陷B.电阻率最高C.电子密度和空穴密度相等D.电子密度与本征载流子密度相等2、如果一半导体的导带中发现电子的几率为零,那么该半导体必定(D)。

A.不含施主杂质B.不含受主杂质C.不含任何杂质D.处于绝对零度3、对于只含一种杂质的非简并n型半导体,费米能级EF随温度上升而(D)。

A.单调上升B.单调下降C.经过一个极小值趋近EiD.经过一个极大值趋近Ei4、如某材料电阻率随温度上升而先下降后上升,该材料为(C)。

A.金属B.本征半导体C.掺杂半导体D.高纯化合物半导体5、公式某/mqτμ=中的τ是半导体载流子的(C)。

A.迁移时间B.寿命C.平均自由时间D.扩散时间6、下面情况下的材料中,室温时功函数最大的是(A)A.含硼1某1015cm-3的硅B.含磷1某1016cm-3的硅C.含硼1某1015cm-3,磷1某1016cm-3的硅D.纯净的硅7、室温下,如在半导体Si中,同时掺有1某1014cm-3的硼和1.1某1015cm-3的磷,则电子浓度约为(B),空穴浓度为(D),费米能级为(G)。

将该半导体由室温度升至570K,则多子浓度约为(F),少子浓度为(F),费米能级为(I)。

(已知:室温下,ni≈1.5某1010cm-3;570K时,ni≈2某1017cm-3)A、1某1014cm-3B、1某1015cm-3C、1.1某1015cm-3D、2.25某105cm-3E、1.2某1015cm-3F、2某1017cm-3G、高于EiH、低于EiI、等于Ei8、最有效的复合中心能级位置在(D)附近;最有利陷阱作用的能级位置在(C)附近,常见的是(E)陷阱。

半导体试题(A)

半导体试题(A)

陕西科技大学试题纸课程半导体物理班级学号姓名一、选择题(15)1. 金属-半导体接触整流理论:扩散理论和热电子发射理论分别只适用于()。

(A)厚阻挡层和薄阻挡层(B)薄阻挡层和厚阻挡层(C)正向厚阻挡层和正向薄阻挡层(D)反向厚阻挡层和反向薄阻挡层2突变耗尽层的条件是()(A)外加电压和接触电势都降落在耗尽层上(B)耗尽层中的电荷是由电力施主和电力受主的电荷组成(C)耗尽层外的半导体是电中性的(D)(A)、(B)(C)3自补偿效应的起因是()(A)材料中先以存在某种深能级杂质(B)材料中先以存在某种深能级缺陷(C)掺入的杂质是双性杂质(D)掺杂导致某种缺陷产生4某半导体中导带中发现电子的几率为零,则该半导体必定()。

(A)不含施主杂质(B)不含受主杂质(C)不含任何杂质(D)处于绝对零度5实际上,在非平衡条件下,往往起重要作用的是()。

(A)多数载流子(B)少数载流子(C)多数和少数载流子(D)非平衡少数载流子6硅中掺金的工艺主要用于制造()器件。

(A)高可靠性(B)高反压(C)高频(D)大功率7欲在掺杂适度的无表面态n型硅(W m=4.25eV)上做欧姆接触,以下四种金属中最适合的是().(A)In(W m=3.8eV) (B)Cr(W m=4.6eV) (C)Au(W m=4.8eV) (D)Al(W m=4.2eV)8在光电转换过程中,硅材料一般不如砷化镓量子效率高,因其()。

(A)禁带较窄(B)禁带是间接跃迁型(C)禁带较宽(D)禁带是直接跃迁型9. 公式 *m qBn C =ω中的m n *( )。

(A )对硅取值相同 (B )对GaP取值相同 (C )对GaA S取值相同 (D )对Ge取值相同 10. 轻空穴指的是( )。

(A )质量较小的原子组成的半导体中的空穴(B )价带顶附近曲率较大的等能面上的空穴 (C )价带顶附近曲率较小的等能面上空穴 (D )自施-轨道耦合分裂出来的能带上的空穴 11根据费米分布函数,空穴占据(E F +kT) 能级的几率( )。

半导体物理期末试卷(含部分答案

半导体物理期末试卷(含部分答案

一、填空题1.纯净半导体Si 中掺V 族元素的杂质,当杂质电离时释放 电子 。

这种杂质称 施主 杂质;相应的半导体称 N 型半导体。

2.当半导体中载流子浓度的分布不均匀时,载流子将做 扩散 运动;在半导体存在外加电压情况下,载流子将做 漂移 运动。

3.n o p o =n i 2标志着半导体处于 平衡 状态,当半导体掺入的杂质含量改变时,乘积n o p o 改变否?不变 ;当温度变化时,n o p o 改变否? 改变 。

4.非平衡载流子通过 复合作用 而消失, 非平衡载流子的平均生存时间 叫做寿命τ,寿命τ与 复合中心 在 禁带 中的位置密切相关,对于强p 型和 强n 型材料,小注入时寿命τn 为 ,寿命τp 为 .5. 迁移率 是反映载流子在电场作用下运动难易程度的物理量, 扩散系数 是反映有浓度梯度时载 qn n 0=μ ,称为 爱因斯坦 关系式。

6.半导体中的载流子主要受到两种散射,它们分别是电离杂质散射 和 晶格振动散射 。

前者在 电离施主或电离受主形成的库伦势场 下起主要作用,后者在 温度高 下起主要作用。

7.半导体中浅能级杂质的主要作用是 影响半导体中载流子浓度和导电类型 ;深能级杂质所起的主要作用 对载流子进行复合作用 。

8、有3个硅样品,其掺杂情况分别是:甲 含铝1015cm -3 乙. 含硼和磷各1017 cm -3 丙 含镓1017 cm -3 室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是 乙 甲 丙 。

样品的电子迁移率由高到低的顺序是甲丙乙 。

费米能级由高到低的顺序是 乙> 甲> 丙 。

9.对n 型半导体,如果以E F 和E C 的相对位置作为衡量简并化与非简并化的标准,那么 T k E E F C 02>- 为非简并条件; T k E E F C 020≤-< 为弱简并条件; 0≤-F C E E 为简并条件。

10.当P-N 结施加反向偏压增大到某一数值时,反向电流密度突然开始迅速增大的现象称为 PN 结击穿 ,其种类为: 雪崩击穿 、和 齐纳击穿(或隧道击穿) 。

半导体物理与器件考核试卷

半导体物理与器件考核试卷
A.氧化
B.硅化
C.硼化
D.镍化
17.在半导体工艺中,以下哪些步骤属于前道工艺?()
A.光刻
B.蚀刻
C.离子注入
D.镀膜
18.以下哪些材料常用于半导体器件的互连?()
A.铝
B.铜导线
C.镓
D.硅
19.在半导体物理中,以下哪些现象与载流子的复合有关?()
A.发射
B.复合
C.陷阱
D.所有上述现象
20.以下哪些因素会影响半导体激光器的阈值电流?()
半导体物理与器件考核试卷
考生姓名:__________答题日期:__________得分:__________判卷人:__________
一、单项选择题(本题共20小题,每小题1分,共20分,在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的)
1.半导体的导电性能介于导体和绝缘体之间,主要因为其()
C. Nitrogen(氮的)
D. Excess electrons(过剩电子)
5. P-N结在反向偏置时,其内部的电场强度()
A.减小
B.增大
C.消失
D.不变
6.以下哪个不是太阳能电池的工作原理?()
A.光电效应
B.热电效应
C.光生伏特效应
D.量子效应
7.在MOSFET(金属-氧化物-半导体场效应晶体管)中,MOS电容的C-V特性曲线中,积累区对应于()
18. A, B
19. D
20. D
三、填空题
1.禁带
2.电子
3.降低
4.金属-氧化物-半导体
5.温度
6.栅氧化层质量
7.紫外光
8.能级
9.玻尔兹曼分布
10.温度

半导体物理试题及答案

半导体物理试题及答案

半导体物理试题及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电能力介于导体和绝缘体之间,这是由于()。

A. 半导体的原子结构B. 半导体的电子结构C. 半导体的能带结构D. 半导体的晶格结构答案:C2. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带需要()。

A. 吸收能量B. 释放能量C. 吸收光子D. 释放光子答案:A3. PN结形成的基础是()。

A. 杂质掺杂B. 温度变化C. 压力变化D. 磁场变化答案:A4. 半导体器件中的载流子主要是指()。

A. 电子B. 空穴C. 电子和空穴D. 光子答案:C5. 半导体的掺杂浓度越高,其导电性能()。

A. 越好B. 越差C. 不变D. 先变好再变差答案:A二、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体的导电性能可以通过改变其________来调节。

答案:掺杂浓度2. 半导体的能带结构中,价带和导带之间的能量差称为________。

答案:带隙3. 在半导体中,电子和空穴的复合现象称为________。

答案:复合4. 半导体器件中的二极管具有单向导电性,其导通方向是从________到________。

答案:阳极阴极5. 半导体的PN结在外加正向电压时,其内部电场会________。

答案:减弱三、简答题(每题10分,共30分)1. 简述半导体的掺杂原理。

答案:半导体的掺杂原理是指通过向半导体材料中掺入少量的杂质元素,改变其电子结构,从而调节其导电性能。

掺入的杂质元素可以是施主杂质(如磷、砷等),它们会向半导体中引入额外的电子,形成N型半导体;也可以是受主杂质(如硼、铝等),它们会在半导体中形成空穴,形成P型半导体。

2. 描述PN结的工作原理。

答案:PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。

在PN结中,P型半导体的空穴会向N型半导体扩散,而N型半导体的电子会向P型半导体扩散。

由于扩散作用,会在PN结的交界面形成一个内建电场,该电场会阻止更多的载流子通过PN结。

成电半导体物理期末考试试卷A及参考答案

成电半导体物理期末考试试卷A及参考答案

成电半导体物理期末考试试卷A及参考答案一、选择填空(22分)1、在硅和锗的能带结构中,在布里渊中心存在两个极大值重合的价带,外面的能带( B ),对应的有效质量( C ),称该能带中的空穴为( E )。

A. 曲率大;B. 曲率小;C. 大;D. 小;E. 重空穴;F. 轻空穴2、如果杂质既有施主的作用又有受主的作用,则这种杂质称为(F )。

A. 施主B. 受主C.复合中心D.陷阱 F. 两性杂质3、在通常情况下,GaN呈( A )型结构,具有( C ),它是(F )半导体材料。

A. 纤锌矿型;B. 闪锌矿型;C. 六方对称性;D. 立方对称性;E.间接带隙;F. 直接带隙。

4、同一种施主杂质掺入甲、乙两种半导体,如果甲的相对介电常数εr是乙的3/4,m n*/m0值是乙的2倍,那么用类氢模型计算结果是( D )。

A.甲的施主杂质电离能是乙的8/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的3/4B.甲的施主杂质电离能是乙的3/2,弱束缚电子基态轨道半径为乙的32/9C.甲的施主杂质电离能是乙的16/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的8/3D.甲的施主杂质电离能是乙的32/9,的弱束缚电子基态轨道半径为乙的3/85、.一块半导体寿命τ=15µs,光照在材料中会产生非平衡载流子,光照突然停止30µs后,其中非平衡载流子将衰减到原来的(C )。

A.1/4 ; B.1/e ; C.1/e2; D.1/26、对于同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体,在温度足够高、n i>> /N D-N A/ 时,半导体具有( B )半导体的导电特性。

A. 非本征 B.本征7、在室温下,非简并Si中电子扩散系数Dn与ND有如下图(C )所示的最恰当的依赖关系:DnDnDnDn8、在纯的半导体硅中掺入硼,在一定的温度下,当掺入的浓度增加时,费米能级向(A )移动;当掺杂浓度一定时,温度从室温逐步增加,费米能级向( C )移动。

最新华工半导体物理试卷a(。7)

最新华工半导体物理试卷a(。7)

,考试作弊将带来严重后果!华南理工大学期末考试《半导体物理学》试卷A1. 考前请将密封线内各项信息填写清楚;所有答案请直接答在试卷上(或答题纸上);.考试形式:闭卷;.本征半导体是指的半导体。

.不含杂质与缺陷.电子密度与空穴密度相等.电阻率最高.电子密度与本征载流子密度相等.砷化镓的导带极值位于布里渊区。

.中心.<111>方向近边界处.<100>方向近边界处.<110>方向近边界处.公式μ=qτ/ m* 中的τ是载流子的。

.渡越时间.寿命.平均自由时间.扩散系数.半导体中载流子扩散系数的大小决定于其中的。

.复合机构.散射机构.能带机构.晶体结构在光电转换过程中,硅(Si)材料一般不如砷化镓(GaAs)量子效率高,因其。

.禁带较窄.禁带是间接跃迁型.禁带较宽.禁带是直接跃迁型二、解释下列概念(10分,每题2分)1、空穴2、非平衡载流子3、费米能级4、迁移率5、霍耳效应三、回答问题(共20分,每题10分)1、由同一种元素的原子组成的二维晶体,如图所示。

(1)画出布拉菲格子;(2)画出两种不同形式的原胞,并指出每个原胞中含的原子数。

2、画出半导体Si的能带结构示意图,并简述其晶体结构的特点。

四、证明题(20分)试用一维非均匀掺杂(掺杂浓度随x 的增加而下降),非简并p 型半导体模型导出爱因斯坦关系式: 0pp D k T qμ=五、计算题(20分)用适当频率的光照射掺杂浓度ND=1.0×1015/cm3的n型Si片,在晶片中均匀产生非平衡载流子,产生率Gp =5×1019/cm3·s,空穴寿命τp=1μs,设无表面复合,求:(1)光照开始后,非平衡空穴浓度随时间t变化的规律;(2)光照达到稳定态后,晶片中非平衡载流子浓度和导电率。

(室温时,硅的电子和空穴迁移率μn =1350 cm2/(V·s) , μp=500 cm2/(V·s) )六、计算题(20分)由金属-SiO 2-P 型硅组成得MOS 结构,当外加电压使半导体表面少数载流子浓度n S 与内部多数载流子浓度p p0相等时作为临界强反型条件。

半导体物理试卷

半导体物理试卷

半导体物理试卷一、选择题(每题3分,共30分)1. 本征半导体是指()的半导体。

A. 不含杂质和缺陷B. 电子浓度等于空穴浓度。

C. 导电性介于导体和绝缘体之间D. 以上都是。

2. 在半导体中,导带底附近的电子有效质量()。

A. 大于零B. 小于零C. 等于零D. 可正可负。

3. 对于N型半导体,其多数载流子是()。

A. 电子B. 空穴C. 离子D. 光子。

4. 杂质半导体中的杂质能级位于()。

A. 禁带中B. 导带中C. 价带中D. 以上都有可能。

5. 半导体的费米能级随温度升高()。

A. 向禁带中央移动B. 向导带底移动。

C. 向价带顶移动D. 不确定,取决于半导体类型。

6. 当PN结正向偏置时,()。

A. 势垒高度降低,扩散电流大于漂移电流。

B. 势垒高度升高,扩散电流小于漂移电流。

C. 势垒高度不变,扩散电流等于漂移电流。

D. 势垒高度降低,扩散电流小于漂移电流。

7. PN结的电容包括()。

A. 势垒电容和扩散电容B. 仅势垒电容。

C. 仅扩散电容D. 寄生电容。

8. 在半导体中,空穴的运动是()。

A. 实际的粒子运动B. 电子运动的等效。

C. 离子运动的等效D. 光子运动的等效。

9. 半导体的电导率与()有关。

A. 载流子浓度和迁移率B. 禁带宽度。

C. 杂质浓度D. 以上都是。

10. 以下哪种现象不是半导体的特性()。

A. 光电导效应B. 压阻效应。

C. 超导现象D. 热电效应。

二、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体的晶格结构主要有_____和_____(举两种)。

2. 根据杂质在半导体中提供载流子的类型,杂质可分为_____杂质和_____杂质。

3. 半导体的载流子散射机制主要有_____散射、_____散射等。

4. 在热平衡状态下,半导体中的电子浓度和空穴浓度的乘积为_____(表达式)。

5. PN结的空间电荷区是由_____和_____形成的。

6. 半导体的霍尔效应中,霍尔系数与载流子浓度和_____有关。

半导体物理试题库及答案

半导体物理试题库及答案

半导体物理试题库及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带所需能量的最小值称为:A. 禁带宽度B. 费米能级C. 载流子浓度D. 电子亲和能答案:A2. 下列哪种半导体材料的禁带宽度大于硅?A. 锗B. 砷化镓C. 硅D. 碳化硅答案:D3. PN结在正向偏置时,其导电性能主要取决于:A. 电子B. 空穴C. 杂质D. 复合答案:B4. 半导体器件中,二极管的导通电压通常为:A. 0.2VB. 0.7VC. 1.5VD. 3.3V答案:B5. 在半导体物理学中,霍尔效应可以用来测量:A. 载流子浓度B. 载流子迁移率C. 载流子类型D. 所有以上答案:D二、多项选择题(每题3分,共15分)1. 下列哪些因素会影响半导体的载流子浓度?(多选)A. 温度B. 光照C. 杂质浓度D. 材料类型答案:ABCD2. 半导体器件的能带结构包括:A. 价带B. 导带C. 禁带D. 费米能级答案:ABC3. 下列哪些是半导体材料的特性?(多选)A. 导电性介于导体和绝缘体之间B. 导电性随温度升高而增加C. 导电性随光照强度增加而增加D. 导电性随杂质浓度增加而增加答案:ABCD三、填空题(每空1分,共20分)1. 半导体材料的导电性可以通过掺杂来改变,其中掺入____类型的杂质可以增加载流子浓度。

答案:施主2. 在PN结中,当外加电压的方向与PN结内电场方向相反时,称为______偏置。

答案:反向3. 半导体材料的导电性随温度升高而______。

答案:增加4. 半导体器件的能带结构中,价带和导带之间的区域称为______。

答案:禁带5. 霍尔效应测量中,当载流子受到垂直于电流方向的磁场作用时,会在垂直于电流和磁场的方向上产生______。

答案:霍尔电压四、简答题(每题5分,共10分)1. 简述半导体材料的导电机制。

答案:半导体材料的导电机制主要涉及价带中的电子获得足够能量跃迁到导带,从而成为自由电子,同时在价带中留下空穴。

(整理)中山大学半导体物理级其中考试试卷-标准答案.

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精品文档中山大学考试试卷 ( 期中卷 A ): 半导体物理 教师: 陈弟虎 : 第 13 周星期 ( 11 月 30 日)题号 一 二 三 四 五 六 七 八 九 十 总分得分评分人3分、共30分). 在能带顶电子的有效质量是 负 的,而空穴的有效质量是 正 的。

. 在半导体中,杂质所形成的电子态一般都是位于 禁 带中; 当半导体在电场的作用下,其能带必然发生 变化或顷斜 。

. 在掺杂半导体中,载流子浓度主要取决于 杂质浓度 和 温度 两种因素。

在强电离区,载流子浓度为 有效杂质浓度。

杂质浓度 ,而在高温本征区,载流子浓度为 本征载流子浓度 。

. 在半导体中,导带电子和价带空穴遵从玻尔兹曼分布或费米分布。

其简并化条件为:当E F 非常接近或进入导带(价带)时,称为 简并 半导体,载流子浓度服从 费米 分布;而当E C -E F 》kT 或E F -E V 》kT 时,称为 非简并 半导体,载流子浓度服从 玻尔兹曼 分布。

.根据费米能级的位置填写下面空白(大于、等于或小于)(a) np > n i 2 (b) np = n i 2 (c) np < n i 2 .在热平衡条件下,温度T 大于0K ,电子能量位于费米能级时,电子态的占有几率是 1/2 。

若E F 位于E C ,试计算状态在E C +kT 时发现电子的几率为 (1+e)-1。

在E C +kT 时,若状态被占据的几率等于状态未被占据的几率。

此时学 院: 理工学院 专 业: 学 号: 姓 名:装 订 线精品文档费米能级位于何处 F F =E C +kT ?7.导出能量在E c 和E c +γkT 之间时,γ是任意常数,导带上的有效状态总数(状态数/cm 3)的表达式为(8πV/3)⨯[(2m *n γkT/h 3)]3/2。

8.在半导体导带底之上能量为E=E C +k 0T 的电子状态被电子占据的几率为e -10, 则该半导体材料内费米能级的位置为 B :(A ) E F =E C , (B )E C -E F =9k 0T, (C) E C -E F =10k 0T (D)E F =E C +k 0T 9.在保持300K 温度时,硅器件显示出如下能带图,使用该能带图回答下列问题: (数值计算取n i =1010/cm 3, k 0T=0.0259eV) (6分)(1) 半导体处于平衡态吗?( A ) (A )平衡 (B )不平衡 (C )不能确定 (2) 半导体在何处是简并的?( C ) (A )在靠近X =0处 (B )在323Lx L ≤≤ (C )在靠近x=L 处 (D )任何地方都不是 (3)在x=x 2处,p=? ( B ) (A)7.63⨯106/cm3(B)1.35⨯1013/cm3(C)1010/cm 3 (D)1.72⨯1016/cm 3(4)流过x=x 1处,电子的电流密度J n 为 ( A ) (A )0 (B )LE n gi n μ (C )LE n gi n μ-(D )Ln x n D n)]0()([2-(5) 流过x=x 1处,空穴的漂移电流密度J Ep 为: ( B ) (A )0 (B )LE n gi p μ (C )LE n gi p μ-(D )L qTk N q Dp 0μ大于能带图中,标出下列能级的通常位置(为避免出现错误可填加必要的说明)受主能级型材料时,位于施主能级上电子冻结过程的示意图像.型掺杂的硅半导体中,载流子浓度和费米能级的位置随温度的变化曲线.型半导体内的费米能级,并说明该表面是电子势阱还是电子势垒. 精品文档[解]:(1)(2)(3)(4)E CE DE TE iE AE VE FECE iEDT E精品文档精品文档精品文档精品文档精品文档。

半导体物理试卷a答案

半导体物理试卷a答案

一、名词解释(本大题共5题每题4分,共20分)1. 受主能级:通过受主掺杂在半导体的禁带中形成缺陷能级。

正常情况下,此能级为空穴所占据,这个被受主杂质束缚的空穴的能量状态称为受主能级。

2. 直接复合:导带中的电子越过禁带直接跃迁到价带,与价带中的空穴复合,这样的复合过程称为直接复合。

3. 空穴:当满带顶附近产生P0个空态时,其余大量电子在外电场作用下所产生的电流,可等效为P0个具有正电荷q和正有效质量m p,速度为v(k)的准经典粒子所产生的电流,这样的准经典粒子称为空穴。

4. 过剩载流子:在光注入、电注入、高能辐射注入等条件下,半导体材料中会产生高于热平衡时浓度的电子和空穴,超过热平衡浓度的电子△n=n-n0和空穴△p=p-p0称为过剩载流子。

5.费米能级、化学势答:费米能级与化学势:费米能级表示等系统处于热平衡状态,也不对外做功的情况下,系统中增加一个电子所引起系统自由能的变化,等于系统的化学势。

处于热平衡的系统有统一的化学势。

这时的化学势等于系统的费米能级。

费米能级和温度、材料的导电类型杂质含量、能级零点选取有关。

费米能级标志了电子填充能级水平。

费米能级位置越高,说明较多的能量较高的量子态上有电子。

随之温度升高,电子占据能量小于费米能级的量子态的几率下降,而电子占据能量大于费米能级的量子态的几率增大。

二、选择题(本大题共5题每题3分,共15分)1.对于大注入下的直接辐射复合,非平衡载流子的寿命与(D )A. 平衡载流子浓度成正比B. 非平衡载流子浓度成正比C. 平衡载流子浓度成反比D. 非平衡载流子浓度成反比2.有3个硅样品,其掺杂情况分别是:含铝1×10-15cm-3乙.含硼和磷各1×10-17cm-3丙.含镓1×10-17cm-3室温下,这些样品的电阻率由高到低的顺序是(C )甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙 D. 丙甲乙3.有效复合中心的能级必靠近( A )禁带中部 B.导带 C.价带 D.费米能级4.当一种n型半导体的少子寿命由直接辐射复合决定时,其小注入下的少子寿命正比于(C )A.1/n0B.1/△nC.1/p0D.1/△p5.以下4种半导体中最适合于制作高温器件的是( D )A. SiB. GeC. GaAsD. GaN三、填空:(每空2分,共20分)1)半导体的晶格结构式多种多样的,常见的Ge 和Si 材料,其原子均通过共价键四面体相互结合,属于 金刚石 结构;与Ge 和Si 晶格结构类似,两种不同元素形成的化合物半导体通过共价键四面体还可以形成 闪锌矿 和 纤锌矿 等两种晶格结构。

半导体物理复习试题及答案复习资料

半导体物理复习试题及答案复习资料

半导体物理复习试题及答案复习资料一、选择题1、下面关于晶体结构的描述,错误的是()A 晶体具有周期性的原子排列B 晶体中原子的排列具有长程有序性C 非晶体的原子排列没有周期性D 所有晶体都是各向同性的答案:D解释:晶体具有各向异性,而非各向同性。

2、半导体中的施主杂质能级()A 位于导带底附近B 位于价带顶附近C 位于禁带中央D 靠近价带顶答案:A解释:施主杂质能级靠近导带底,容易向导带提供电子。

3、本征半导体的载流子浓度随温度升高而()A 不变B 减小C 增大D 先增大后减小答案:C解释:温度升高,本征激发增强,载流子浓度增大。

4、下面关于 PN 结的描述,正确的是()A PN 结空间电荷区中的内建电场方向由 N 区指向 P 区B 正向偏置时,PN 结电流很大C 反向偏置时,PN 结电流很小且趋于饱和D 以上都对答案:D解释:PN 结空间电荷区中的内建电场方向由 N 区指向 P 区,正向偏置时多数载流子扩散电流大,反向偏置时少数载流子漂移电流小且趋于饱和。

5、金属和半导体接触时,如果形成阻挡层,那么半导体表面是()A 积累层C 反型层D 以上都可能答案:B解释:形成阻挡层时,半导体表面通常是耗尽层。

二、填空题1、常见的半导体材料有_____、_____和_____等。

答案:硅、锗、砷化镓2、半导体中的载流子包括_____和_____。

答案:电子、空穴3、施主杂质的电离能_____受主杂质的电离能。

(填“大于”或“小于”)答案:小于4、当半导体处于热平衡状态时,其费米能级_____。

(填“恒定不变”或“随温度变化”)答案:恒定不变5、异质结分为_____异质结和_____异质结。

答案:突变异质结、缓变异质结1、简述半导体中施主杂质和受主杂质的作用。

答:施主杂质在半导体中能够提供电子,使其成为主要的导电载流子,增加半导体的电导率。

受主杂质能够接受电子,产生空穴,使空穴成为主要的导电载流子,同样能提高半导体的电导率。

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案

半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。

A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。

A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。

A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。

A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。

A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。

A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。

7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。

A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。

A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。

A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。

电子科技大学半导体物理A考试试题与参考答案

电子科技大学半导体物理A考试试题与参考答案

12、欧姆接触是指( D )的金属-半导体接触。
2
A、Wms=0
B、Wms <0
C、W ms >0
D、阻值较小并且有对称而线性的伏-安特性
13、在 MIS 结构的金属栅极和半导体上加一变化的电压,在栅极电压
由负值增加到足够大的正值的的过程中,如半导体为 P 型,则在半导
体的接触面上依次出现的状态为( B )。
C、电阻率最高; C、电子密度与本征载流子密度相等。
5、简并半导体是指( A )的半导体
A、(EC-EF)或(EF-EV)≤0 B、(EC-EF)或(EF-EV)≥0
C、能使用玻耳兹曼近似计算载流子浓度
D、导带底和价带顶能容纳多个状态相同的电子
1
6、当 Au 掺入 Si 中时,它引入的杂质能级是( A )能级,在半
二 0 0 五 至 二 0 0 六学 年 第 一 学期
一、选择填空(含多选题)(18 分)
1、重空穴是指( C

A、质量较大的原子组成的半导体中的空穴
B、价带顶附近曲率较大的等能面上的空穴
C、价带顶附近曲率较小的等能面上的空穴
D、自旋-轨道耦合分裂出来的能带上的空穴
2、硅的晶格结构和能带结构分别是( C )
E, 产生漂移电流:
j漂 = qµ p p0E
稳定时两者之和为零,即:
−qDp
dp0 dx
+
qµ p
p0 E
= 0
而 E = − dV ,有电场存在时,在各处产生附加势能-qV(x),使得能带发生倾斜。 dx
在x处的价带顶为:E V(x)=E V-qV(x),则x处的空穴浓度为:
3
= p0 (x)
NV
exp(−

《半导体物理学》期末考试试卷(A卷)-往届

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赣 南 师 范 学 院2010–2011学年第一学期期末考试试卷(A 卷)开课学院:物电学院 课程名称:半导体物理学 考试形式:闭卷,所需时间:120分钟注意事项:1、教师出题时请勿超出边界虚线;2、学生答题前将密封线外的内容填写清楚,答题不得超出密封线;3、答题请用蓝、黑钢笔或圆珠笔。

一、填空题(共30分,每空1分)1、半导体中有 和 两种载流子,而金属中只有 一种载流子。

2、杂质原子进入材料体内有很多情况,常见的有两种,它们是 杂质和 杂质。

3、根据量子统计理论,服从泡利不相容原理的电子遵从费米统计率,对于能量为E 的一个量子态,被一个电子占据的概率为()f E ,表达式为 ,()f E 称为电子的费米分布函数,它是描写 的一个统计分布函数。

当0F E E k T ->>时,费米分布函数转化为()B f E ,表达式为 ,()B f E 称为电子的玻尔兹曼分布函数。

在0F E E k T ->>时,量子态被电子占据的概率很小,这正是玻尔兹曼分布函数适用的范围。

费米统计率与玻尔兹曼统计率的主要差别在于 ,而在0F E E k T ->>的条件下,该原理失去作用,因而两种统计的结果变成一样了。

4、在一定温度下,当没有光照时,一块n 型半导体中, 为多数载流子, 是少数载流子,电子和空穴的浓度分别为0n 和0p ,则0n 和0p 的关系为 ,当用g h E ν>>(该半导体禁带宽度)的光照射该半导体时,光子就能把价带电子激发到导带上去,此时会产生 ,使导带比平衡时多出一部分电子n ,价带比平衡时多出一部分空穴p ,n 和p 的关系为 ,这时把非平衡电子称为非平衡 载流子,而把非平衡空穴称为非平衡 载流子。

在一般小注入情况下,在半导体材料中,非平衡 载流子带来的影响可忽略,原因是 ,而非平衡 载流子却往往起着重要作用,原因是 。

5、非平衡载流子的复合,就复合的微观机构讲,大致可分为两种,直接复合和间接复合,直接复合是指 ,间接复合是指 。

《半导体物理学》期末考试试卷(A卷)-往届

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2010–2011学年第一学期期末考试试卷(A 卷)开课学院:物电学院 课程名称:半导体物理学 考试形式:闭卷,所需时间:120分钟注意事项:1、教师出题时请勿超出边界虚线; 2、学生答题前将密封线外的内容填写清楚,答题不得超出密封线; 3、答题请用蓝、黑钢笔或圆珠笔。

一、填空题(共30分,每空1分) 1、半导体中有 电子 和 空穴 两种载流子,而金属中只有 电子 一种载流子。

2、杂质原子进入材料体内有很多情况,常见的有两种,它们是 替代式 杂质和间隙式 杂质。

1、 3、根据量子统计理论,服从泡利不相容原理的电子遵从费米统计率,对于能量为E 的一个量子态,被一个电子占据的概率为()f E ,表达式为 ,()f E 称为电子的费米分布函数,它是描写 在热平衡状态下,电子在允许的量子态上如何分布 的一个统计分布函数。

当0F E E k T ->>时,费米分布函数转化为()B f E ,表达式为 ,()B f E 称为电子的玻尔兹曼分布函数。

在0F E E k T ->>时,量子态被电子占据的概率很小,这正是玻尔兹曼分布函数适用的范围。

费米统计率与玻尔兹曼统计率的主要差别在于 前者受泡利不相容原理的限制 ,而在0F E E k T ->>的条件下,该原理失去作用,因而两种统计的结果变成一样了。

4、在一定温度下,当没有光照时,一块n 型半导体中, 电子 为多数载流子, 空穴 是少数载流子,电子和空穴的浓度分别为0n 和0p ,则0n 和0p 的关系为 大于 ,当用g h E ν>>(该半导体禁带宽度)的光照射该半导体时,光子就能把价带电子激发到导带上去,此时会产生 电子空穴对 ,使导带比平衡时多出一部分电子n ,价带比平衡时多出一部分空穴p ,n 和p 的关系为 ,这时把非平衡电子称为非平衡 多数 载流子,而把非平衡空穴称为非平衡 少数 载流子。

在一般小注入情况下,在半导体材料中,非平衡 多数 载流子带来的影响可忽略,原因是 注入的非平衡多数载流子浓度比平衡时的多数载流子浓度小得多 ,而非平衡 少数 载流子却往往起着重要作用,原因是 2、 注入的非平衡少数载流子浓度比平衡时的少数载流子浓度大得多。

电子科技大学半导体物理期末考试试卷a试题答案..讲解学习

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电子科技大学二零 九 至二零 一零 学年第 一 学期期 末 考试半导体物理 课程考试题 A 卷 ( 120分钟) 考试形式: 闭卷 考试日期 2010年 元月 18日课程成绩构成:平时 10 分, 期中 5 分, 实验 15 分, 期末 70 分一、选择题(共25分,共 25题,每题1 分)A )的半导体。

A. 不含杂质和缺陷B. 电阻率最高C. 电子密度和空穴密度相等D. 电子密度与本征载流子密度相等2、如果一半导体的导带中发现电子的几率为零,那么该半导体必定( D )。

A. 不含施主杂质B. 不含受主杂质C. 不含任何杂质D. 处于绝对零度3、对于只含一种杂质的非简并n 型半导体,费米能级E F 随温度上升而( D )。

A. 单调上升B. 单调下降C. 经过一个极小值趋近EiD. 经过一个极大值趋近Ei4、如某材料电阻率随温度上升而先下降后上升,该材料为( C )。

A. 金属 B. 本征半导体 C. 掺杂半导体 D. 高纯化合物半导体5、公式*/m q τμ=中的τ是半导体载流子的( C )。

A. 迁移时间 B. 寿命 C. 平均自由时间 D. 扩散时间6、下面情况下的材料中,室温时功函数最大的是( A ) A. 含硼1×1015cm -3的硅 B. 含磷1×1016cm -3的硅 C. 含硼1×1015cm -3,磷1×1016cm -3的硅 D. 纯净的硅7、室温下,如在半导体Si 中,同时掺有1×1014cm -3的硼和1.1×1015cm -3的磷,则电子浓度约为( B ),空穴浓度为( D ),费米能级为( G )。

将该半导体由室温度升至570K ,则多子浓度约为( F ),少子浓度为( F ),费米能级为( I )。

(已知:室温下,n i ≈1.5×1010cm -3;570K 时,n i ≈2×1017cm -3)A 、1×1014cm -3B 、1×1015cm -3C 、1.1×1015cm -3D 、2.25×105cm -3E 、1.2×1015cm -3F 、2×1017cm -3G 、高于EiH 、低于EiI 、等于Ei8、最有效的复合中心能级位置在( D )附近;最有利陷阱作用的能级位置在( C )附近,常见的是( E )陷阱。

半导体物理试卷及答案

半导体物理试卷及答案

《 半导体物理 》课程考试试卷( A )开课二级学院:,考试时间: 年____月____日 时考试形式:闭卷√、开卷□,允许带 计算器 入场考生姓名: 学号: 专业: 班级:一、选择题(每小题2分,共10分) 1、室温下一硫化镉样品的可动载流子密度为16310cm -,迁移率为2100/cm Vs ,则此样品的电导率是 1()cm -Ω。

A .16 B .17 C .18 D .192、一块2cm 长的硅片,横截面是20.1cm ,用于测量电子迁移率。

已知掺杂浓度为15310D N cm -=,测得电阻值为90Ω,则其电子迁移率为 2/cm Vs 。

A .1450 B .550 C .780 D .1390 3、室温下,费米分布函数在F E 处的值为 A .0 B .0.5 C .0.56 D .1 4、对某块掺杂硅材料在整个温度范围内测量霍尔系数,结果均为0H R <,则该材料的导电类型为 A .N 型 B .P 型 C .本征 D .不确定 5、一个零偏压下的PN 结电容,每单位面积的耗尽层电容20.772/d C mF m =,硅的介电常数s ε为1211.88.8510/F m -⨯⨯,则耗尽层宽度是A .135m μB .125m μC .135nmD .125nm 二、判断题(每小题2分,共10分) 1、载流子的扩散运动产生漂移电流。

( ) 2、简并化半导体的主要特点是掺杂浓度很低。

( ) 3、SiC 是宽带隙的半导体材料。

( ) 4、弗仑克尔缺陷是指空位和间隙原子成对出现的缺陷。

( ) 5、对于窄禁带半导体材料,热电击穿是重要的击穿机制。

()三、填空题(每空2分,共10分)1、有效的陷阱中心能级在附近。

n p= 。

2、一定温度下,非简并半导体的热平衡载流子浓度的乘积003、最初测出载流子有效质量的实验名称是。

4、金属半导体接触可分为两类,分别是和欧姆接触。

5、不含任何杂质和缺陷的理想半导体称为半导体。

半导体物理打印版

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半导体物理 电科04级 A 卷 一、填空题:(每空2分,共20分)1. 一个金刚石结构的晶胞内含多少个原子________。

2. 微观粒子具有波粒二象性,波矢描述了其波动性,波矢大小和方向是______ 3. 一个杂质半导体,少子为空穴,那么它为_____型半导体。

4. 热平衡半导体,当用适当波长的光照射半导体,额外产生的载流子称为______载流子。

5. __________方程是漂移运动和扩散运动同时存在时载流子所遵循的运动方程,是研究半导体器件原理的基本方程之一。

6. 半导体中空穴是一个假想的带正电荷的粒子,其有效质量是指_______。

7. 状态密度g(E)是指单位能量间隔的________。

8. 半导体中载流子迁移率是指________。

9. 半导体的主要散射机构有_________和______。

10.半导体复合理论中所述的间接复合是指:________通过复合中心的复合。

二、单项选择题:(每题2分,共20分)1.半导体禁带宽度 绝缘体禁带宽度。

A.大于 B.等于 C.小于2.下列半导体材料中,属于P 型半导体的是 。

A.硅中掺入镓 B.锗掺入砷 C. 硅掺入碳3.半导体中费米能级是描述载流子分布的重要物理量,那么在费米能级以上电子出现的概率 1/2。

A.大于 B.小于 C.等于 4.制造半导体器件时,应使半导体内杂质处于 状态。

A.低温弱电离 B.常温强电离 C.高温本征激发 5.温度一定时,对半导体照射光强升高,平衡载流子浓度 。

A.增大 B.减小 C.不变 6. 温度一定时,半导体掺杂浓度增加其导电性 。

A.增大 B.减小 C.不变7.半导体材料中,少数载流子随杂质浓度增加而 。

A.减少 B.增加 C.不变 8.N 型半导体,随着掺杂浓度减少,费米能级 。

A.上升 B.下降 C.不变9.非平衡载流子通过复合中心的复合称为 。

A.直接复合 B.间接复合 C.俄歇复合 10.宽势垒区的PN 结在强电场作用下易发生: 。

半导体物理测试试题

半导体物理测试试题

半导体物理试题————————————————————————————————作者:————————————————————————————————日期:半导体物理学考题 A (2010年1月)解答一、(20分)简述下列问题:1.(5分)布洛赫定理。

解答:在周期性势场中运动的电子,若势函数V(x)具有晶格的周期性,即:)x (V )na x (V =+,则晶体中电子的波函数具有如下形式:)x (u e )x (k ikx=ψ,其中,)x (u k 为具有晶格周期性的函数,即:)x (u )na x (u k k =+2.(5分)说明费米能级的物理意义;试画出N 型半导体的费米能级随温度的变化曲线。

解答:费米能级E F 是反映电子在各个能级中分布情况的参数。

能量为E F 的量子态被电子占据的几率为1/2。

N 型半导体的费米能级随温度变化曲线如右图所示:(2分)3、(5分)金属和N 型半导体紧密接触,接触前,二者的真空能级相等,S M W W <。

试画出金属—半导体接触的能带图,标明接触电势差、空间电荷区和内建电场方向。

解答:4.(5分)比较说明施主能级、复合中心和陷阱在半导体中的作用及其区别。

解答:施主能级:半导体中的杂质在禁带中产生的距离能带较近的能级。

可以通过杂质电离过程向半导体导带提供电子,因而提高半导体的电导率;(1分)复合中心:半导体中的一些杂质或缺陷,它们在禁带中引入离导带底和价带顶都比较远的局域化能级,非平衡载流子(电子和空穴)可以通过复合中心进行间接复合,因此复合中心很大程度上影响着非平衡载流子的寿命。

(1分)陷阱:是指杂质或缺陷能级对某一种非平衡载流子的显著积累作用,其所俘获的非平衡载流子数目可以与导带或价带中非平衡载流子数目相比拟。

陷阱的作用可以显著增加光电导的灵敏度以及使光电导的衰减时间显著增长。

(1分)浅施主能级对载流子的俘获作用较弱;有效复合中心对电子和空穴的俘获系数相差不大,而且,其对非平衡载流子的俘获几率要大于载流子发射回能带的几率。

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广东工业大学考试试卷
课程名称: 考试时间题 号 一
评卷得分 评卷签名
复核得分 复核签名
一、(20分)名词解释(每题布喇菲格子,离子晶体,二、(10分)硅晶体为金刚石结构,晶格常数为位面积上的原子数。

三、(10分)已知一维晶体的电子能带可以写成 )(2
2a m h k E o =其中a 为晶格常数。

求能带的宽度。

四、(10分)晶格常数为场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。

五、(10分)设E 计算电子占据该能级的概率。

这样的复合过程称为间接复合。

二、解:已知硅为金刚石结构,(110)面上原子排列如图
由此可以计算出单位面积上的原子数为4/(5.43×5.43×1.414×10-20)(cm-2)
=9.6×1014cm-2
三、
四、晶格常数为0.25nm 的一维晶格,当外加102V/m ,107V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。

[解] 设电场强度为E ,∵F =h dt dk
=q E (取绝对值) ∴dt =qE h dk
∴t=⎰t
dt
=

a qE h 210
dk =a qE h 21
代入数据得:
t =E ⨯⨯⨯⨯⨯⨯--10
19-34105.2106.121062.6=E 6103.8-⨯(s )
当E =102 V/m 时,t =8.3×10-8(s );E =107V/m 时,t =8.3×10-13(s )。

五、解:费米分布函数为
T k E E F e E f 0/)(11)(-+=
当E -EF 等于1.5k 0T 时,f =0.182 玻耳兹曼分布函数为T
k E E B o F
e
E f --=)(
当E -EF 等于1.5k 0T 时,f =0.223
上述结果显示在费米能级附近费米分布和玻耳兹曼分布有一定的差距。

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