第2章 材料科学基础晶体结构缺陷
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
注意:
①位置关系强调形成缺陷时,基质晶体中正 负离子格点数之比保持不变,并非原子个数 比保持不变。
②在上述各种缺陷符号中,VM、VX、MM、 XX、MX、XM等位于正常格点上,对格点数 的多少有影响,而Mi、Xi、e,、h·等不在正 常格点上,对格点数的多少无影响。
(2)质量平衡:与化学反应方程式相同,缺陷反应方 程式两边的质量应该相等。需要注意的是缺陷符号 的右下标表示缺陷所在的位置,对质量平衡无影响。
原子热振动
点缺陷与材料 的电学性质、 光学性质、材 料的高温动力 学过程等有关。
部分原子获得足够高的能量
克服约束,迁移到新的位置
形成
空位,间隙原子
引起
引起局部点阵畸变
一、点缺陷的类型 1.金属晶体中的点缺陷 金属晶体中常见的点缺陷有 ①空位(vacancy) ②间隙原子(interstitial atom) ③置换原子(substitutional atom)
研究缺陷的意义:由于缺陷的存在,才使晶体表现出各种 各样的性质,使材料加工、使用过程中的各种性能得以有 效控制和改变,使材料性能的改善和复合材料的制备得以 实现。因此,了解缺陷的形成及其运动规律,对材料工艺 过 缺程陷的对控材制料,性对能材的料影性响能举的例改: 善,对于新型材料的设计、 研 材究料与的开强发化具,有如重钢要—意—义是。铁中渗碳
(a)单质中弗仑克尔缺陷的形成 (空位与间隙质点成对出现)
(b)单质中肖特基缺陷的 形成
图2-1 热缺陷产生示意图
V
空位的运动
图2-2 点缺陷的类型 1-大的置换原子 4-复合空位 2-肖特基空位 5-弗兰克尔空位 3-异类间隙原子 6-小的置换原子
图2-3 点缺陷类型1
图2-4 点缺陷类型2
多余半排原子面在滑移面上方的称正刃型位错, 记为“┻”;
相反,半排原子面在滑移面下方的称负刃型位 错,记为“┳”
2、刃型位错的分类 图2-9 刃型位错的分类
3、刃型位错的结构特征 ①有一额外的半原子面,分正和负刃型位错; ②可理解为是已滑移区与未滑移区的边界线,可是直线也 可是折线和曲线,但它们必与滑移方向和滑移矢量垂直;
基本规律:
低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负 电荷,为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙 正离子。
高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正 电荷,为了保持电中性,会产生正离子空位或间隙 负离子。
T iO2 Al2O3 Y2O3 ZrO2
2TiO2 Al2O3 2TiAl 3OO O i
1.淬火 高温时晶体中的空位浓度很高,经过淬火后,空 位来不及通过扩散达到平衡浓度,在低温下仍保持了较 高的空位浓度。
2.冷加工 金属在室温下进行压力加工时,由于位错交割 所形成的割阶发生攀移,从而使金属晶体内空位浓度增 加。
3.辐照 当金属受到高能粒子(中子、质子、α粒子、电子 等)辐照时,晶体中的原子将被击出,挤入晶格间隙中, 由于被击出的原子具有很高的能量,因此还有可能发生 连锁作用,在晶体中形成大量的空位和间隙原子。
3.电阻率 金属的电阻主要来源于离子对传导电子的散射。正常情况下, 电子基本上在均匀电场中运动,在有缺陷的晶体中,晶格的周期性被 破坏,电场急剧变化,因而对电子产生强烈散射,导致晶体的电阻率 增大。 点缺陷对金属力学性能的影响较小,它只通过与位错的交互作用,阻 碍位错运动而使晶体强化。但在高能粒子辐照的情形下,由于形成大 量的点缺陷而能引起晶体显著硬化和脆化(辐照硬化)。
(3)电中性:电中性要求缺陷反应方程式两边的 有效电荷数必须相等。晶体必须保持电中性 。
2.缺陷反应实例
(1)杂质(组成)缺陷反应方程式──杂质在 基质中的溶解过程 杂质进入基质晶体时,一般遵循杂质的正负离 子分别进入基质的正负离子位置的原则,这样 基质晶体的晶格畸变小,缺陷容易形成。
例1·写出NaF加入YF3中的缺陷反应方程式
介电常数等。 1.比容 形成肖特基空位时,原子迁移到晶体表
面上的新位置,导致晶体体积增加。 单位质量的物质所占有的容积称为比容,用符
号"V"表示。其数值是密度的倒数
2.比热容 形成点缺陷需向晶体提供附加的能量(空位生成焓),因而引 起附加比热容。 比热容又称比热容量,简称比热,是单位质量物质的热容量,即 使单位质量物体改变单位温度时的吸收或释放的内能。
第2章 材料科学基础晶体结构缺陷
二.本章重点及难点 ➢ 1、点缺陷的平衡浓度公式. ➢ 2、位错类型的判断及其特征、柏氏矢
量的特征. ➢ 3、晶界的特性(大、小角度晶界)、孪
晶界、相界的类型.
缺陷的含义:通常把晶体点阵结构中周期性势场的畸变称为 晶体的结构缺陷。 理想晶体:质点严格按照空间点阵排列。 实际晶体:存在着各种各样的结构的不完整性。
3TiO2 Al2O3 3TiAl
6OO
V
A
l
Y2O3 ZrO2 2YZr 3OO VO
2Y2O3
ZrO2
3YZ
r
6OO
Yi
(2)热缺陷反应方程式
例3· MgO形成肖特基缺陷
MgO形成肖特基缺陷时,表面的Mg2+和O2-离 子迁移到表面新位置上,在晶体内部留下空位:
MgMg surface+OO surfaceMgMg new surface+OO new sVurfM 'a'ceg+ VO..
六、点缺陷的符号表征
以MX型化合物为例: 1.空位(vacancy)用V来表示,符号中的右下标表示缺陷所在
位置,VM含义即M原子位置是空的。 2.间隙原子(interstitial)亦称为填隙原子,用Mi、Xi来表示,
其含义为M、X原子位于晶格间隙位置。 3. 错位原子 错位原子用MX、XM等表示,MX的含义是M原子
③面缺陷(planar defect):特征是在一个方
面上尺寸很小,另外两个方面上很大,又称二 维缺陷,包括表面、晶界、亚晶界、相界、孪 晶界等。 ④体缺陷:在三维方向上缺陷尺寸都较大。如镶 嵌块、空洞等。 2、根据缺陷的形成原因 ①热缺陷②杂质缺陷③非化学计量缺陷等。
点缺陷的形成原因
2.1 点缺陷
③在运动过程中,当间隙原子与一个空位相遇时,它将落入 该空位,而使两者都消失,这一过程称为复合。
图2-7 点缺陷运动示意图
五、点缺陷对晶体材料性能的影响 一般情形下,点缺陷主要影响晶体的物理性
质,如比容(specific volume)、比热容(specific
heat volume)、电阻率(resistivity)、扩散系数、
VV
(a)离子晶体中的弗仑克尔缺陷的形 成(空位与间隙质点成对出现)
V+
(b)离子晶体中的肖特基缺陷 的形成(正负离子空位对成对出现)
图2-5 离子晶体中的点缺陷
二、点缺陷的浓度
1、平衡点缺陷(equilibrium point defect)及其浓度
cne Ae Ev
n
kT
ne — 平衡空位数
陶瓷材料的增韧
半导体掺杂
第2章 晶体缺陷
分类方式:
1、根据缺陷的作用范围把真实晶体缺陷分四类:
①点缺陷(point defect):特征是三维空间的各 个方面上尺寸都很小,尺寸范围约为一个或几 个原子尺度,又称零维缺陷,包括空位、间隙 原子、杂质和溶质原子。
②线缺陷(line defect):特征是在两个方向上 尺寸很小,另外一个方向上很大,又称一维缺 陷,如各类位错。
N aY 3 F FN Y ''a F F 2 V F . 3N Y a 3 FN FY ''a 2N .i 3F a F
例2·写出CaCl2加入KCl中的缺陷反应方程式
C2 a C K ClC l.K aC C llC i' l C2 a C K ClC l .K aV K ' 2 C Cll
b、间隙原子
处于晶格间隙中的原子即为间隙原子。在 形成弗仑克尔空位的同时,也形成一个间隙原 子,另外溶质原子挤入溶剂的晶格间隙中后, 也称为间隙原子,他们都会造成严重的晶体畸 变。间隙原子也是一种热平衡缺陷,在一定温 度下有一平衡浓度,对于异类间隙原子来说, 常将这一平衡浓度称为固溶度或溶解度。
以零O(naught)代表无缺陷状态,则:
O
V'' Mg
VO..
例4· AgBr形成弗仑克尔缺陷
其中半径小的Ag+离子进入晶格间隙,在其 格点上留下空位,方程式为:
AgAg Agi• VA' g
一般规律:
当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结 构,容易形成肖特基缺陷;当晶体中剩余 空隙比较大时,如萤石CaF2型结构等,容 易产生弗仑克尔缺陷。
a、空位 空位是一种热平衡缺陷,即在一定温度下,空位有一定的平
衡浓度。空位在晶体中的位置不是固定不变的,而是不断运动 变化的。空位是由原子脱离其平衡位置而形成的,脱离平衡 位置的原子大致有三个去处: (1)迁移到晶格的间隙中,这样所形成的空位叫弗仑克尔空位; (2)迁移到晶体表面上,这样所产生的空位叫肖特基空位; (3)迁移到其他空位处,这样虽然不产生新的空位,但可以使空 位变换位置。
2.2 线缺陷 一、刃型位错
1、刃型位错形成的原因
Gb
A
图2-8 晶体局部滑移造成的刃型位错
晶体中已滑移区与未滑移区的边界线(即位错 线)若垂直于滑移方向,则会存在一多余半排原 子面,它象一把刀刃插入晶体中,使此处上下两 部分晶体产生原子错排,这种晶体缺陷称为刃型 位错(edge dislocation)。
七、缺陷反应表示法
对于杂质缺陷而言,缺陷反应方程式的一般式:
杂质基 质产生的各种缺陷
1.写缺陷反应方程式应遵循的原则
与一般的化学反应相类似,书写缺陷反应方程 式时,应该遵循下列基本原则: (1)位置平衡 (2)质量平衡 (3)电荷平衡
(1)位置关系:
在化合物MaXb中,无论是否存在缺陷,其 正负离子位置数(即格点数)之比始终是一个 常数a/b,即:M的格点数/X的格点数=a/b。如 NaCl结构中,正负离子格点数之比为1/1, Al2O3中则为2/3。
c、置换原子
占据在原来基体原子平衡位置上的异类原子称为置换 原子。由于原子大小的区别也会造成晶格畸变,置换原子 在一定温度下也有一个平衡浓度值,一般称之为固溶度或 溶解度,通常它比间隙原子的固溶度要大的多。
2.离子晶体中点缺陷 肖特基缺陷:在离子晶体中,由于要维持电价平 衡,因此一个正离子产生空位,则邻近必有一个 负离子空位,这样的一个正负离子空位对; 弗仑克尔缺陷:一个正离子跳入离子晶体的间隙 位置,则出现了一个正离子空位,这种空位-间 隙离子对。
n — 原子总数
Ev — 每增加一个空百度文库能量的变化
k — 玻尔兹曼常数,约为8.62×10-5ev/K或1.38×10-23J/K
T — 绝对温度
其中:A由振动熵决定的系数,取1~10,通常取1。
T↑ ---c↑
三、过饱和点缺陷(supersaturated point defect)的 产生
在点缺陷的平衡浓度下晶体的自由能最低, 系统最稳定。当在一定的温度下,晶体中点缺 陷的数目明显超过其平衡浓度时,这些点缺陷 称为过饱和点缺陷,通常它的产生方式有三种:
占据X原子的位置。XM表示X原子占据M原子的位置。
4. 自由电子(electron)与电子空穴 (hole)
分别用e和h • 来表示。其中右上标中的 一撇“/”代表一个单位负电荷,一个圆 点“·”代表一个单位正电荷。
5.带电缺陷
在NaCl晶体中,取出一个Na+离子,会在原来
的位置上留下一个电子e,写成 VNa ,即代表Na+离
子空位带一个单位负电荷。同理,Cl-离子空位记为 V C l •
带一个单位正电荷。
6、其它带电缺陷:
1)CaCl2加入NaCl晶体时,若Ca2+离子位于Na+离 子位置上,其缺陷符号C a N为a • ,此符号含义为Ca2+离 子占据Na+离子位置,带有一个单位正电荷。
2) C表aZr示Ca2+离子占据Zr4+离子位置,此缺陷带有 二个单位负电荷。
四、点缺陷的运动
晶体中的点缺陷并不是固定不动的,而是处于不断的运动过程 中。
三种运动形式:
①空位周围的原子,由于热激活,某个原子有可能获得足够 的能量而跳入空位中,并占据这个平衡位置。这时,在该原 子的原来位置上,就形成了一个空位。这一过程可以看作空 位向邻近阵点位置的迁移(空位的运动)。
②由于热运动,晶体中的间隙原子也可由一个间隙位置迁移 到另一个间隙位置(间隙原子的运动)。