DF上课讲义

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*黏著促進劑(Adhesion Promoter) 黏著促進劑(Adhesion Thiohydrazide、 例：Thiohydrazide、Diphenyl Carbazone 2-Mercaptobenzothiazole 其主要目的為增進乾膜底部與銅面密著，主要成 其主要目的為增進乾膜底部與銅面密著， 分為含氮之雜環化合物(Hetero 分為含氮之雜環化合物(Hetero Cylic Nitrogen Pounds)。其注意要點如下： COM Pounds)。其注意要點如下： a.安定性 不可妨礙乾膜其他元素之進行。 安定性a.安定性-不可妨礙乾膜其他元素之進行。 b.污染性 不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。 污染性b.污染性-不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。
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*溶劑(Solvent) 溶劑(Solvent) Acetone、 Ketone、 例：Acetone、Methyl Ethyl Ketone、 Acetate、Xylene、 Methyl Acetate、Xylene、Ethyl Acetate 其主要用途在溶解各成份，使組成均勻，以利塗 其主要用途在溶解各成份，使組成均勻， (Coating)操作 操作。 膠(Coating)操作。
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*光反應單體(Photomonomer) 光反應單體(Photomonomer) 單官能基(Monofunctional)BA (Monofunctional)BA、 例：單官能基(Monofunctional)BA、EA 雙官能基(Difunctional)HDDA TPGDA、 (Difunctional)HDDA、 雙官能基(Difunctional)HDDA、TPGDA、 PEGDA 多官能基(Multifunctional)TMPTA (Multifunctional)TMPTA、 多官能基(Multifunctional)TMPTA、 PETA、 PETA、DTMPTA 含未飽和雙鍵的單體或寡聚體(Oligomer) 含未飽和雙鍵的單體或寡聚體(Oligomer)，目的 (Oligomer)， 在使曝光時進行自由基鏈聚合反應 (ChainReactຫໍສະໝຸດ Baiduon)。其注意要項如下： (ChainReaction)。其注意要項如下： a.黏度 可與連結劑共同調整乾膜至適當黏度， 黏度a.黏度-可與連結劑共同調整乾膜至適當黏度，而 得到良好貼膜性且避免流膠。 得到良好貼膜性且避免流膠。 b.毒性 沸點高、揮發性低、對皮膚刺激性低。 毒性b.毒性-沸點高、揮發性低、對皮膚刺激性低。 c.反應性 自由基鏈聚合反應速率越快越佳。 c.反應性-自由基鏈聚合反應速率越快越佳。 反應性d.互溶性 與其他元素組成互溶性需佳。 互溶性d.互溶性-與其他元素組成互溶性需佳。
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1.3.曝光製程 1.3.曝光製程 1.3.1.曝光前底片檢查 曝光前底片檢查、 1.3.1.曝光前底片檢查、清潔 1.3.2.曝光 1.3.2.曝光 1.3.3.曝光後靜置 1.3.3.曝光後靜置 1.4.顯影製程 1.4.顯影製程 2.無塵室管理 2.無塵室管理 2.1.何謂無塵室 2.1.何謂無塵室 2.2.無塵室等級區分 2.2.無塵室等級區分 2.3.無塵室人員及物品進出之管理與清潔 2.3.無塵室人員及物品進出之管理與清潔 2.3.1.人員及物品進出 2.3.1.人員及物品進出 2.3.2.無塵室清潔 2.3.2.無塵室清潔 2.4.無塵室人員穿著 2.4.無塵室人員穿著
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*染料(Dye) 染料(Dye) Violet、 例：Acid Green 、Ethyl Violet、 Green、 Methyl Green、Mehtyl Violet 染料可使乾膜本身具有顏色以便於辨識，一般以 染料可使乾膜本身具有顏色以便於辨識， 藍色或綠色為主。其注意要點如下： 藍色或綠色為主。其注意要點如下： a.吸光性 避免和光起始劑吸收相同波長的光。 吸光性a.吸光性-避免和光起始劑吸收相同波長的光。 b.污染性 不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。 污染性b.污染性-不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。
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*可塑劑(Plasticizer) 可塑劑(Plasticizer) 例：Plthalic Esters 、Glycol Esters Phosphoric Esters 可塑劑可增加壓膜時乾膜的流動性、增加填孔隙 可塑劑可增加壓膜時乾膜的流動性、 能力，促進乾膜與銅面的密著度。其注意要點如 能力，促進乾膜與銅面的密著度。 下： a.相容性 須與其他組成混合呈均勻狀態。 相容性a.相容性-須與其他組成混合呈均勻狀態。
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*光起始劑(Photoinitiator) 光起始劑(Photoinitiator) Benzoin、Benzophenone、 907、 例：Benzoin、Benzophenone、Irgacure 907、 651、 369、ITX、 Irgacure 651、Irgacure 369、ITX、 CTX、 CTX、DETX 起始劑吸收UV光後形成自由基型態， 起始劑吸收UV光後形成自由基型態，目的在提供 UV光後形成自由基型態 光反應單體聚合所需的自由基。 光反應單體聚合所需的自由基。通常會含有數種 起始劑以便吸收不同波長的UV UV光 起始劑以便吸收不同波長的UV光。其注意要點如 下： a.反應性 反應性a.反應性-在越低曝光能量下仍有高濃度自由基生 成。 b.熱安定性 儲存、 熱安定性b.熱安定性-儲存、生產壓膜時不可有自由基生成 。
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前者是指乾膜受到感光刺激的部分會發生分解作 用而被顯影液所洗掉； 用而被顯影液所洗掉；未感光的部分則留在物體 表面上。 表面上。後者是指乾膜受到感光的部分會發生聚 合作用而硬化， 合作用而硬化，未感光處則為原來的單體分子而 被顯像液所洗掉。目前乾膜製程以使用後者為主。 被顯像液所洗掉。目前乾膜製程以使用後者為主。 乾膜依效能發展先後大致可分為下列三種： 乾膜依效能發展先後大致可分為下列三種： *溶劑顯像型 *半水溶液顯像型 *鹼(全)水溶液顯像型 目前業界均以使用鹼水溶液顯像型為主， 目前業界均以使用鹼水溶液顯像型為主，前兩者 已近乎淘汰。 已近乎淘汰。
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乾膜光阻主要以下列三種不同材料夾心而成 *蓋膜層(Cover Sheet材質為聚酯類Polyester， 蓋膜層(Cover Sheet材質為聚酯類Polyester， 材質為聚酯類Polyester 簡稱PET 商名為Mylar) PET， Mylar)。 簡稱PET，商名為Mylar)。 *感光阻劑層(Photopolymer Resist)。 感光阻劑層(Photopolymer Resist)。 *隔膜層(Separator Sheet材質為聚乙烯 隔膜層(Separator Sheet材質為聚乙烯 Polyethyleve)
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5.乾膜各製程機台保養程序 5.乾膜各製程機台保養程序 5.1.刷磨機 5.1.刷磨機 5.2.壓膜機 5.2.壓膜機 5.3.曝光機 5.3.曝光機 5.4.顯影機 5.4.顯影機
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【1.乾膜光阻製程】 1.乾膜光阻製程 乾膜光阻製程】 早在1950 1950年代左右乾膜使用於印刷工業上取 早在1950年代左右乾膜使用於印刷工業上取 代非感光性溼膜阻劑之塗佈作為影像轉移。到了 代非感光性溼膜阻劑之塗佈作為影像轉移。 1968年美國杜邦公司首度發展出應用於電子工業 1968年美國杜邦公司首度發展出應用於電子工業 的感光性聚合物乾性移像膜，PCB製造也開始步入 的感光性聚合物乾性移像膜，PCB製造也開始步入 另一個里程碑。而杜邦公司的專利權到1984 1984年結 另一個里程碑。而杜邦公司的專利權到1984年結 束後， 束後，陸續有多家世界級的公司也發展出自有品 牌加入商場競爭。例：Morton、Eternal…等。 牌加入商場競爭。 Morton、Eternal… 乾膜依其機轉作用可分為正片工作膜(Positive 乾膜依其機轉作用可分為正片工作膜(Positive Image)及負片工作膜 Work Film or Positive Image)及負片工作膜 Image)兩種 (Negative Work Film or Negative Image)兩種
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*安定劑(Stabilizer) 安定劑(Stabilizer) Hydroquinone、Nitrobenzene、 例：Hydroquinone、Nitrobenzene、 toluquinone、 P-toluquinone、Cuprous Chloride 安定劑主要防止乾膜熱壓時 而產生聚合。它也 而產生聚合。 可延長乾膜儲存期限。其注意要點如下： 可延長乾膜儲存期限。其注意要點如下： a.安定性 不可妨礙乾膜其他元素之進行。 安定性a.安定性-不可妨礙乾膜其他元素之進行。 b.污染性 不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。 污染性b.污染性-不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。
長興干膜
教 育 訓 練 課 程
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【課程大綱】 課程大綱】
1.乾膜光阻製程 1.乾膜光阻製程 1.1.銅面前處理製程 1.1.銅面前處理製程 1.1.1.外觀檢查 1.1.1.外觀檢查 1.1.2.酸洗 1.1.2.酸洗 1.1.3.銅面處理 1.1.3.銅面處理 1.1.4.水洗 1.1.4.水洗 1.1.5.吸乾吹乾 吸乾吹乾、 1.1.5.吸乾吹乾、烘乾 1.2.壓膜製程 1.2.壓膜製程 1.2.1.壓膜前清潔 1.2.1.壓膜前清潔 1.2.2.壓膜 1.2.2.壓膜 1.2.3.壓膜後清潔 1.2.3.壓膜後清潔
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3.設備參數 3.設備參數 3.1.刷磨機 3.1.刷磨機 3.2.壓膜機 3.2.壓膜機 3.3.曝光機 3.3.曝光機 3.4.顯影機 3.4.顯影機 4.乾膜製程缺點預防及改善方法 4.乾膜製程缺點預防及改善方法 4.1.刷磨製程 4.1.刷磨製程 4.2.壓膜製程 4.2.壓膜製程 4.3.曝光製程 4.3.曝光製程 4.4.顯影製程 4.4.顯影製程
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*變色劑(Color Changing Agent) 變色劑(Color Violet、 例：Leuco Crystal Violet、Diphenylamine Triphenylaniline、 Triphenylaniline、Dibenzylaniline 變色劑可促使乾膜在曝UV光時由無色變為有色， 變色劑可促使乾膜在曝UV光時由無色變為有色， UV光時由無色變為有色 以利作業員辨識。其注意要點如下： 以利作業員辨識。其注意要點如下： a.吸光性 避免和光起始劑吸收相同波長的光。 吸光性a.吸光性-避免和光起始劑吸收相同波長的光。 b.污染性 不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。 污染性b.污染性-不可有滲出情形，以免影響電鍍操作。 c.發色率 變色要深，一般為藍色。 發色率c.發色率-變色要深，一般為藍色。
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感光阻劑層為附著於銅面上之主體，下列針對其 感光阻劑層為附著於銅面上之主體， 結構作一介紹： 結構作一介紹： *連結劑(Binder) 連結劑(Binder) Polyacrylate、 例：Polyacrylate、Polyurehanes Polystyrene、 Polystyrene、Polycarbonates Copolyester、 Copolyester、Epoxy 主要為含酸基的線型熱可塑性高分子， 主要為含酸基的線型熱可塑性高分子，目的在使 乾膜組成具成膜性， 乾膜組成具成膜性，並提供酸基供乾膜顯像及剝 膜時與鹼液作用。其應注意要項如下： 膜時與鹼液作用。其應注意要項如下： a.玻璃軟化程度(Tg)、 玻璃軟化程度(Tg) a.玻璃軟化程度(Tg)、壓膜時膠在銅面上流動性 填孔隙能力、儲存時流膠程度。 、填孔隙能力、儲存時流膠程度。 B.分子量 乾膜蓋孔性(Tenting)能力。 分子量(Tenting)能力 B.分子量-乾膜蓋孔性(Tenting)能力。 C.酸價 顯像和剝膜速度及耐鹼能力。 酸價C.酸價-顯像和剝膜速度及耐鹼能力。 d.溶劑 毒性、生產時烘乾操作條件。 溶劑d.溶劑-毒性、生產時烘乾操作條件。