铁素体不锈钢的耐蚀性

敏化程度
Fig.11 不同热处理条件样品的敏化程度 ir/ia 变化
循环动电位极化曲线
Fig. 12 1160℃ 固溶处理 20 min 后样品的循 环动电位极化曲线。箭头表示极化方向，EP 为点蚀电位。
循环动电位极化曲线
Fig. 13 800℃ 时效处理 10 min 后样品的循 环动电位极化曲线
汇报内容
一、引言 二、实验过程
三、结果与分析
四、结论
制样
片状（10mm× 10mm× 1.6mm）
430 铁素体不锈钢 1160℃ 固溶处理 水冷
800℃ 时效处理
保温时间：10、20、50、80、 160、320 min 水冷
砂磨至 600 目
抛光到粗糙度为1μm
样品的化学成分（wt%）
表征
三、结果与分析
四、结论
结 论

1160℃ 固溶处理和水冷后的样品容易发生晶间腐蚀； 800℃ 时效处理 10 min 后样品的敏化程度下降，20 min 后样品的 耐晶间腐蚀能力恢复；

1160℃ 固溶处理的样品的点蚀电位比在 800℃ 时效处理 10 min 的 样品高，而时效 20 min 后，耐点蚀性能得到恢复；
对热处理后的样品进行金相抛光
用 0.5 mol/L 的 H2SO4 刻蚀 20min 之后用 SEM 观察样品显微结构
电化学测试：
方法 W1 处理后进行结构观察 双环电化学动电位再活化测试（DL-EPR） 循环动电位极化测试
方法W：铁素体不锈钢晶间腐蚀敏感性检测的标准方法中的一种
电化学测试1 方法W
Practice W
（a）
（b）
Fig.5 1160℃ 固溶处理 20 min 的样品经过 W 处理后的 OM 图像，（a） 表示晶粒显微 结构，（b） 表示晶界处的沟槽。
Practice W
Fig.6 800℃ 时效处理 10 min 的样品经过W Fig.7 800℃ 时效处理 320 min 的样品经过 处理后的 OM 图像，晶粒受到了侵蚀，晶界 W 处理后的 OM 图像，晶粒全部遭到侵蚀。 被溶解。
800℃时效处理铁素体不锈钢的敏化与耐点蚀性
刘**
汇报内容
一、引言 二、实验过程
三、结果与分析
Fra Baidu bibliotek四、结论
引言
不锈钢在400℃～850℃的温度范围内时，会有高铬碳化物析出，消 耗晶界周边基体铬，形成贫化区，造成敏化，容易受到晶间腐蚀的 影响。时效处理可以消除敏化，因为在热处理时铬的扩散使得贫化 区铬含量增加，贫化区消失。同时，时效处理也会对耐点蚀性产生 一定的影响。时效处理对不锈钢的耐蚀性有利还是有弊？为了探究 这个问题，本文作者进行了相关实验。
ir/ia 表征敏化程度
最大阳极电流 ia
最大再活化电流 ir
DL-EPR曲线
电化学测试3 循环动电位极化测试
固溶样品 时效样品
浸入 3.5% NaCl 溶液中 300 s
阳极极化在开路电 位处开始扫描，在 电流密度为 10-3 A/cm2 处回扫，在扫 描电位回到开路电 位时停止扫描
砂面样品的扫描速率分别为 1 mV/s 和 0.2 mV/s 抛光面样品的扫描速率为 1 mV/s 循环动电位 极化曲线
Fig. 14 800℃ 时效处理 320 min 后样品的 循环动电位极化曲线
点蚀电位
Fig. 15 不同热处理条件样品的点蚀电位变化
敏化程度与点蚀电位
Fig. 17 800℃ 时效处理后样品的敏化程度与点 蚀电位的关系
点蚀电位
Fig. 16 扫描速率和表面条件对点蚀电位的影响
汇报内容
一、引言 二、实验过程

材料的耐点蚀性能取决于钝化膜特性，基体与碳化物之间界面增
加，造成铬的消耗，则耐点蚀性下降；

耐点蚀性与材料的表面条件息息相关，而扫描速率对点蚀电位的
影响不大。
谢
谢！
DL-EPR
Fig. 8 1160℃ 固溶处理 20 min 后样品的 DL-EPR曲线。ia 表示最大阳极电流密度 ， ir 表示最大再活化电流密度，箭头表示极化 方向。
DL-EPR
Fig. 9 800℃ 时效处理 10 min 后样品的 DLEPR 曲线
Fig. 10 800℃ 时效处理 20 min 后样品的 DL-EPR 曲线
固溶样品 时效样品
抛光至1μm 并用酒精洗涤 热风吹干
用光学显 微镜观察 样品的表 面情况 将样品浸入 10% 的 草酸溶液中，通上 1A/cm2 的电流 90 s
电化学测试2 DL-EPR
固溶样品 时效样品
磨砂至 600 目 浸入 0.5M H2SO4 中 300s
阳极极化在开路电 位处开始扫描，在 500 mVSCE 处回扫， 在扫描电位回到开 路电位时停止扫描。
汇报内容
一、引言 二、实验过程
三、结果与分析
四、结论
SEM表征分析
Fig.1 1160℃ 固溶处理 20 min 后样品的 SEM 图像
Fig.2 16.0% Cr 时 430 钢的相图
SEM表征分析
Fig.3 800℃ 时效处理 10 min 后样品的SEM Fig.4 800℃ 时效处理 320 min 后样品的 图像，箭头 1 表示晶界处侵蚀点，箭头 2 SEM 图像，晶界和晶粒内均有碳化物析出， 表示的是晶粒内的侵蚀点。 基体全部被腐蚀。