tanner L-edit 软件基本操作知识
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（12）修改对象：可选择编辑 ---编辑物项命令，在 Show box 表框中选择 bottom left corner and dimensions选项， 如图 所示，再将 Width 微 调框改为2.000，单击“确 定”按钮，即可修改完成。 也可以利用 Alt 键加鼠标拖 曳的方式来修改对象大小。 修改宽度为两个格点后， 再进行设计规则检查，这 时已无错误
三、使用L_EDIT绘制版图
（8）选择绘图形状： 绘制布局图，除了 选择要绘制的图层 外，还要在 Drawing 工具栏中 选择绘图方式，如 右图所示：
三、使用L_EDIT绘制版图
（9）选择绘图形状：绘制布局图， 除了选择要绘制的图层外，还 要在 Drawing 工具栏中选择绘 图方式，如图 10.9 所示，例 如，选择工具，按鼠标左键拖 曳可画方形。如要绘制一个方 形的 Poly 图层，横向占据1个 格点(1um), 纵方向占据 10 个 格点(10um)，结果如图，注意 左下角有状态栏，标明绘制的 形状、图层、宽度(W)、高度 (H)、面积(A)与周长(P)。按住 “Home”键可以全屏显示
三、使用L_EDIT绘制版图
（10）设计规则检查： 由于绘制的图样是要 制作集成电路的掩膜 图样，必须配合设计 规则绘制图层，才能 确保制程时的效率。 选择 工具---DRC 命令， 打开 Design Rule Check 对话框，如右图 所示，报错“最小宽 度少于两个Lambda”
三、使用L_EDIT绘制版图
三、使用L_EDIT绘制版图
（6）编辑组件L-Edit 编辑方式是以 组件(Cell)为单位而不是以文件 (File)为单位的，每一个文件可有 多个 Cell, 而每一个 Cell 可表示 一种电路布局图或说明， 每次打 开新文件时也自动打开一个 Cell 并将之命名为 Ce110其中，编辑 画面中的十字为坐标原点。
• 详细安装过程可以参看我编写的Tanner13.0安装 流程（13.0版图在windows7里面可以安装，下面 表格为Tanner对电脑的要求）
三、使用L_EDIT绘制版图
（1）打开 L-Edit 程序：在“开始”菜单“程序”里可以 找到，也可以在桌面创建快捷方式。
（2）出现界面如下
（3）L-Edit 会自动将工作文件命名为 Layoutl.sdb 并显示 在窗口的标题栏上，如上图所示
wenku.baidu.com
三、使用L_EDIT绘制版图
（13）修改对象：此 已经无错误
三、使用L_EDIT绘制版图
（14）绘制多边型： 在长方形 Poly旁间 隔 1 个格点处，选 择 Drawing 工具栏 中的多边形工具， 可利用鼠标左键拖 曳并点出多边型的 端点，单击结束， 如右图
三、使用L_EDIT绘制版图
（14）设计规则检查 DRC报错，查看 DRC设置，发现两 个相邻poly之间距 离最小为2个 lambda
三、使用L_EDIT绘制版图
（13）修改对象：可选择编辑 ---编辑物项命令，在 Show box 表框中选择 bottom left corner and dimensions选项， 如图 所示，再将 Width 微 调框改为2.，单击“确定” 按钮，即可修改完成。也 可以利用 Alt 键加鼠标拖曳 的方式来修改对象大小。 修改为宽度为两个格点后， 再进行设计规则检查，这 时已无错误
一、Tanner软件简介：
Tanner Pro 是一套集成电路设计软件，包括 SEdit, T-Spice, W-Edit, L-Edit与 LVS, 各软件的主要功 能整理如表 1.1 所示。
TANNER软件简介
Tanner Pro的设计流程可 以用右图 1.1 来表示。
三、TANNER软件的安装
（11）检查错误：打开 “设置”--DRC设置， 则可以观看详细的设 计规则，， 从Rules list列表框中选择3.1
Poly Minimum Width 选项中可以观看该条 设计规则设定poly最小 宽度为2个lambda，依 此修改poly宽度为2个 lambda，那么如何修 改呢？
三、使用L_EDIT绘制版图
三、使用L_EDIT绘制版图
（15）改错、移动对 象：点中多边形， 选择菜单栏中的 “画”，然后“移 动至..”，如右图 设置x为1.000，即 右移一格即可或者 选中多边形后，按 住鼠标中间键不放 向右移动一格也可。 再做DRC检查则无 错误。
四、使用L_EDIT绘制PMOS版
图
（1）选取图层：在画面左边有一个 Layers 面板，其中有一个下拉列表， 可选取要绘制的图层，例如，Poly, 则 Layers 面板会选取代表 Poly图层的红 色。在 L-Edit 中的 Poly图层 代表制作 集成电路中多晶硅(Poly Silicon)所需要 的掩膜图样。 本范例绘制 PMOS 布局 图会用到的图层包括(N Well 图层)、 (Active 图层)、(N Select 图层)、(P Select 图层)、(Poly 图层)、(Metal1 图 层)、(Metal 2 图层)、(Active Contact图 层)、(Via 图层)，其各自的绘制
（4）文件---保存，保存在自己所选目录下，注意不含中文， 这里选择E:\L_edit，并命名为EX1。
三、使用L_EDIT绘制版图
（5）取代设定：选择 “文件”--“替换设 置”，从Browse选 择“D:\Program
Files\Tanner EDA\L-
Edit and
LVS\SPR\Lights\Lay out\lights.tdb”，主要 是采用其内的DRC 信息、layers信息。
三、使用L_EDIT绘制版图
（7）环境设定：绘制布局图， 必须要有确实的大小，因此 绘图前先要确认或设定坐标 与实际长度的关系。选择 “设置”命令，打开 “设计” 对话框，在其中的 Technology 选项卡中出现使用技术的名 称、单位与设定，本范例中 的技术单位 Technology units 为以 Lambda 为单位， 而 Lambda单位与内部单位 Internal Unit的关系可在 Technology setup选项组中进 行设定，我们设定一个 Lambda 为1000个 Internal Unit， 也设定一个 Lambda 等于一个 Micron。
三、使用L_EDIT绘制版图
（8）选择绘图形状： 绘制布局图，除了 选择要绘制的图层 外，还要在 Drawing 工具栏中 选择绘图方式，如 右图所示：
三、使用L_EDIT绘制版图
（9）选择绘图形状：绘制布局图， 除了选择要绘制的图层外，还 要在 Drawing 工具栏中选择绘 图方式，如图 10.9 所示，例 如，选择工具，按鼠标左键拖 曳可画方形。如要绘制一个方 形的 Poly 图层，横向占据1个 格点(1um), 纵方向占据 10 个 格点(10um)，结果如图，注意 左下角有状态栏，标明绘制的 形状、图层、宽度(W)、高度 (H)、面积(A)与周长(P)。按住 “Home”键可以全屏显示
三、使用L_EDIT绘制版图
（10）设计规则检查： 由于绘制的图样是要 制作集成电路的掩膜 图样，必须配合设计 规则绘制图层，才能 确保制程时的效率。 选择 工具---DRC 命令， 打开 Design Rule Check 对话框，如右图 所示，报错“最小宽 度少于两个Lambda”
三、使用L_EDIT绘制版图
三、使用L_EDIT绘制版图
（6）编辑组件L-Edit 编辑方式是以 组件(Cell)为单位而不是以文件 (File)为单位的，每一个文件可有 多个 Cell, 而每一个 Cell 可表示 一种电路布局图或说明， 每次打 开新文件时也自动打开一个 Cell 并将之命名为 Ce110其中，编辑 画面中的十字为坐标原点。
• 详细安装过程可以参看我编写的Tanner13.0安装 流程（13.0版图在windows7里面可以安装，下面 表格为Tanner对电脑的要求）
三、使用L_EDIT绘制版图
（1）打开 L-Edit 程序：在“开始”菜单“程序”里可以 找到，也可以在桌面创建快捷方式。
（2）出现界面如下
（3）L-Edit 会自动将工作文件命名为 Layoutl.sdb 并显示 在窗口的标题栏上，如上图所示
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三、使用L_EDIT绘制版图
（13）修改对象：此 已经无错误
三、使用L_EDIT绘制版图
（14）绘制多边型： 在长方形 Poly旁间 隔 1 个格点处，选 择 Drawing 工具栏 中的多边形工具， 可利用鼠标左键拖 曳并点出多边型的 端点，单击结束， 如右图
三、使用L_EDIT绘制版图
（14）设计规则检查 DRC报错，查看 DRC设置，发现两 个相邻poly之间距 离最小为2个 lambda
三、使用L_EDIT绘制版图
（13）修改对象：可选择编辑 ---编辑物项命令，在 Show box 表框中选择 bottom left corner and dimensions选项， 如图 所示，再将 Width 微 调框改为2.，单击“确定” 按钮，即可修改完成。也 可以利用 Alt 键加鼠标拖曳 的方式来修改对象大小。 修改为宽度为两个格点后， 再进行设计规则检查，这 时已无错误
一、Tanner软件简介：
Tanner Pro 是一套集成电路设计软件，包括 SEdit, T-Spice, W-Edit, L-Edit与 LVS, 各软件的主要功 能整理如表 1.1 所示。
TANNER软件简介
Tanner Pro的设计流程可 以用右图 1.1 来表示。
三、TANNER软件的安装
（11）检查错误：打开 “设置”--DRC设置， 则可以观看详细的设 计规则，， 从Rules list列表框中选择3.1
Poly Minimum Width 选项中可以观看该条 设计规则设定poly最小 宽度为2个lambda，依 此修改poly宽度为2个 lambda，那么如何修 改呢？
三、使用L_EDIT绘制版图
三、使用L_EDIT绘制版图
（15）改错、移动对 象：点中多边形， 选择菜单栏中的 “画”，然后“移 动至..”，如右图 设置x为1.000，即 右移一格即可或者 选中多边形后，按 住鼠标中间键不放 向右移动一格也可。 再做DRC检查则无 错误。
四、使用L_EDIT绘制PMOS版
图
（1）选取图层：在画面左边有一个 Layers 面板，其中有一个下拉列表， 可选取要绘制的图层，例如，Poly, 则 Layers 面板会选取代表 Poly图层的红 色。在 L-Edit 中的 Poly图层 代表制作 集成电路中多晶硅(Poly Silicon)所需要 的掩膜图样。 本范例绘制 PMOS 布局 图会用到的图层包括(N Well 图层)、 (Active 图层)、(N Select 图层)、(P Select 图层)、(Poly 图层)、(Metal1 图 层)、(Metal 2 图层)、(Active Contact图 层)、(Via 图层)，其各自的绘制
（4）文件---保存，保存在自己所选目录下，注意不含中文， 这里选择E:\L_edit，并命名为EX1。
三、使用L_EDIT绘制版图
（5）取代设定：选择 “文件”--“替换设 置”，从Browse选 择“D:\Program
Files\Tanner EDA\L-
Edit and
LVS\SPR\Lights\Lay out\lights.tdb”，主要 是采用其内的DRC 信息、layers信息。
三、使用L_EDIT绘制版图
（7）环境设定：绘制布局图， 必须要有确实的大小，因此 绘图前先要确认或设定坐标 与实际长度的关系。选择 “设置”命令，打开 “设计” 对话框，在其中的 Technology 选项卡中出现使用技术的名 称、单位与设定，本范例中 的技术单位 Technology units 为以 Lambda 为单位， 而 Lambda单位与内部单位 Internal Unit的关系可在 Technology setup选项组中进 行设定，我们设定一个 Lambda 为1000个 Internal Unit， 也设定一个 Lambda 等于一个 Micron。