真空蒸镀工艺原理及蒸镀工艺
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真空蒸镀工艺原理及蒸镀工艺
真空蒸镀工艺是一种将金属或非金属材料沉积到基材表面的技术。其原理是通过将目标材料加热至其蒸汽压力，然后使蒸汽沉积在基材表面形成薄膜。真空蒸镀工艺的优点是产生的薄膜非常均匀，具有优异的机械、光学和电学性能。在工业生产中，真空蒸镀工艺广泛应用于电子、光学、化学、医药等领域。本文将详细介绍真空蒸镀工艺的原理、蒸镀设备、蒸镀材料以及应用领域等内容。
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