晶体缺陷理论

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晶体缺陷知识点

晶体缺陷知识点

晶体缺陷知识点晶体缺陷是固体材料中晶格出现的非理想性质,通常由于外界因素或内部原子位置错配引起。

晶体缺陷可以对材料的性质和行为产生显著影响,因此对晶体缺陷的认识和理解对于材料科学和工程领域至关重要。

本文将主要介绍晶体缺陷的类别、产生原因以及对材料性能的影响等相关知识点。

一、点缺陷点缺陷是晶体中最常见的缺陷之一,它包括空位、附加原子和原子间隙等。

空位是晶体中原子缺失的位置,它可能由于热振动、离子辐照或经历一系列化学反应等因素而形成。

附加原子是晶体中多余的原子,它可以是来自杂质或外界加入的额外原子。

原子间隙是晶体中原子之间的间隙空间,它的存在会导致晶体结构的变形和变化。

二、线缺陷线缺陷是晶体中延伸成线状的缺陷,包括位错和螺旋排列。

位错是晶体中原子错位或排列不当导致的线性缺陷,它可以通过晶体的滑移和或扩散过程产生。

螺旋排列是沿晶体某个轴线方向发生的原子错位,在某些晶体材料中常见。

三、面缺陷面缺陷是晶体中存在的平面或界面缺陷,包括晶界、层错和孪晶等。

晶界是晶体中两个晶粒的交界面,它由于晶体生长或晶体结构不匹配引起。

层错是晶体中原子层次错位排列的缺陷,通常发生在层状晶体结构中。

孪晶是晶体中两个晶粒具有相同的晶格方向但是镜像对称的缺陷。

四、体缺陷体缺陷是晶体中三维空间内存在的缺陷,主要包括孔洞和包裹物。

孔洞是晶体中的空隙空间,可以影响晶体的密度和物理性质。

包裹物是晶体中包裹其他原子或分子的空间,它可以是点状、线状或面状。

晶体缺陷的产生原因多种多样,包括热力学因素、机械应力和外部影响等。

温度和压力的变化可以导致晶体中原子位置发生偏移或畸变,进而产生缺陷。

机械应力也可以引起晶体的位错和断裂等缺陷。

此外,电磁辐射、化学环境和放射性衰变等因素也会影响晶体的结构和缺陷形成。

晶体缺陷对材料的性能和行为产生重要影响。

例如,点缺陷的存在可以改变材料的电导率、热导率和光学性能。

线缺陷和面缺陷可以导致晶体的强度和塑性发生变化,并影响晶体的断裂行为。

固体物理基础第2章 缺陷理论

固体物理基础第2章 缺陷理论

并考虑到N>>ns,即可得到
us
ns Ne kBT
10
第2章 缺陷理论
2.1.3 间隙(填隙)原子 同样是由于晶格的热运动,如果晶体表面格点上的原子
移动到晶格内部的间隙位置,则会在晶体内部形成间隙原子 这种缺陷。根据间隙原子的形成过程,有时也把这种缺陷称 为反肖特基缺陷。间隙原子的计算公式为
式中,ui
27
第2章 缺陷理论
图2.5 晶体中位错缺陷的形成过程
28
第2章 缺陷理论 从上面两种位错的形成过程不难看出,位错的形成主要
与晶体中存在的应力和形变有关,因此位错主要对晶体的机 械性能产生影响,并且在晶体生长中起着重要作用。另外, 由于位错线上的原子具有断裂的化学键(称为悬挂键),这种 未饱和的悬挂键可以通过向晶体释放电子或者从晶体中俘获 电子,从而对晶体的电学性质产生影响。由于位错线上的原 子化学性质比较活泼,因此其化学腐蚀速度比其他区域快, 当晶体表面经过一定的化学腐蚀液的腐蚀后,就会在有位错 的地方形成腐蚀坑,结合晶体的各向异性,这些腐蚀坑往往 具有特殊的形状,正如第1章中讲到的金刚石结构(100)和 (111)晶面的化学腐蚀坑分别为正方形和正三角形。
ui
ni Ne kBT
(2.3)
11
第2章 缺陷理论 从上面三种缺陷的形成过程不难理解,一个费仑克尔缺
陷其实就包含一个肖特基缺陷和一个间隙原子,即uf=us+ui, 而相对于肖特基缺陷,形成间隙原子时所引起晶格局部畸变 的程度更大,因此必然有uf>ui>us。同时我们还可以想到, 当晶体中存在肖特基缺陷时,相邻格点上的原子跳跃进入该 空位所需要的能量是很小的,即空位(肖特基缺陷)的迁移能
以肖特基缺陷为例,设晶体由N个原子构成,温度为T

材料科学中的晶体生长和晶体缺陷理论

材料科学中的晶体生长和晶体缺陷理论

材料科学中的晶体生长和晶体缺陷理论晶体生长与晶体缺陷理论在材料科学领域具有重要的地位,对于材料性能的研究和改善都有着深远的影响。

在本文中,我们将从晶体生长和晶体缺陷两方面对这一领域进行探讨。

晶体是一种具有有序排列的原子或离子组成的晶体固体,具有高度的对称性和空间结构性。

晶体生长指的是在一定条件下,材料中的原子或分子按照特定的方式排列形成晶体的过程。

晶体生长的过程通常分为三个阶段:核心形成、晶体发育和晶体定向。

其中,核心形成是晶体生长的起点,当溶液中存在足够稳定的固体相时,会促使溶液中的溶质进行结晶形成固体颗粒。

这些颗粒叫做晶粒,在固体颗粒表面上会形成新的原子或分子吸附下来,从而实现晶体的生长。

晶体发育是晶体生长的关键过程,晶体生长的方式是由界面和物质之间的相互作用来决定的。

而晶体定向是晶体生长的最后阶段,当晶体的晶面定向达到一定程度后,晶体就可以沿着这个方向快速生长。

晶体缺陷是指在晶体生长过程中出现的原子或离子的缺失、杂质原子的掺入或晶体结构的偏差等问题,它对于晶体的性能和质量有着重要影响。

晶体缺陷包括点缺陷、线缺陷和面缺陷。

点缺陷是指晶体中原子或离子的缺失或替代,它对于晶体的化学性质和导电性等产生了显著影响。

线缺陷是指晶体中原子或离子的不连续性,它常常用于晶体生长的控制和调节。

面缺陷是指晶体层面上的错误或曲率,它对于晶体的生长及其后续的应用有重要的影响。

晶体生长和晶体缺陷的研究具有重要的意义,可以通过控制生长条件和晶体缺陷类型来调节材料的结构和性能,从而实现材料的精确设计和制造。

近年来,随着先进制造技术的快速发展,晶体生长和晶体缺陷的研究已经成为材料科学领域的热点领域之一。

总的来说,晶体生长和晶体缺陷理论是材料科学非常重要的研究方向,它们对于材料的性质和质量的控制与提升都有着重要的影响。

随着科学技术的不断进步和发展,晶体生长和晶体缺陷理论将继续成为热门研究方向,为材料科技和科学研究的发展做出更大贡献。

《材料科学基础》课件之第四章----04晶体缺陷

《材料科学基础》课件之第四章----04晶体缺陷

41
刃位错:插入半原子面,位错上方,原子间距变小, 产生压应变,下方原子间距变大,拉应变。过渡处 切应变,滑移面处有最大切应力,正应力为0。x NhomakorabeaGb
2 (1 )
y(3x2 (x2
y2) y2 )2
y
Gb
2 (1
)
y(x2 y2) (x2 y2)2
z ( x y )
x
xy
Gb
2 (1 )
21
刃位错b与位错线 垂直
螺位错b与位错线 平行
bb
l
l


b
b
右旋
左旋
任意一根位错线上各点b相同,同一位错只有一个b。
有大小的晶向指数表示
b a [uvw] 模 n
b a u2 v2 w2 n
22
Burgers矢量合成与分解:如果几条位错线在晶体内
部相交(交点称为节点),则指向节点的各位错的伯氏矢量 之和,必然等于离开节点的各位错的伯氏矢量之和 。
不可能中断于晶体内部(表面露头,终止与 晶界和相界,与其他位错相交,位错环)
半原子面及周围区域统称为位错
18
2. 螺位错
晶体在大于屈服值的切应力作用下,以某晶面为滑移面发生滑移。由于位错线周围 的一组原子面形成了一个连续的螺旋形坡面,故称为螺位错。
几何特征:位错线与原子滑移方向相平行;位错线周围原子的配置是螺旋状的。
d
34
六、位错应变能
位错原子偏移正常位置,产生畸变应力, 处于高能量状态,但偏移量很小,晶格为弹 性应变。
位错心部应变较大,超出弹性范围, 但这部分能量所占比例较小, <10%,可以近似忽略。
35
1. 理论基础:连续弹性介质模型

晶体缺陷理论课件 - 第1章 位错的基本性质

晶体缺陷理论课件 - 第1章 位错的基本性质
晶体缺陷理论
第1章 位错的基本性质
合肥工业大学 宣天鹏
§1 §2 §3
引言 弹性力学基础知识 位错的应力场
§4
§5 §6
位错的弹性能、自由能及线张力
位错受力 位1章动画\刃位错.wmv
螺形位错移动方向与 b 垂直, b // t => 通过位错 线并包含 b 的所有晶面都可以成为滑移面,螺形 位错在原滑移面受阻时,可转移到与之相交的 另 一滑移面--交叉滑移 第1章动画\螺位错
第1章动画\与刃型位 错的交互作用导致 其负攀移.swf
攀移运动引起了晶体体积的变化——非保守运动
由于螺位错的正应变等于零,所以其体膨胀 率等于零,即形成螺位错时体积不发生变化。
We/Ws=
=
一般金属材料的υ≈1/3,所以 We/Ws≈1.5
2. 柏氏矢量的物理意义及特征 ★柏氏矢量--位错强度 ★柏氏矢量反映柏氏回路包含的 位错引起点阵畸变的总积累 ★位错能量、位错的受力、应力 场、位错反应都与柏氏矢量有关 柏氏矢量表示出晶体滑移的大小 和方向
柏氏矢量特征
3.混合位错
第2章 位错的点阵模型
滑移运动不引起晶体体积的变化——保守运动
同号位错相互排斥,异号位错相互吸引。
2.平行刃位错之间的相互作用
位错 I 作用于 ( x , y ) 处的应力,σyx使位错 II 滑移,压应力σxx使位错 II 正攀移, Fy 与反号
3.平行刃位错和螺位错之间的相互作用
§6.位错的攀移力
KT/b3
.wmv 第1章动画\螺形位 错形成.swf
二、 柏氏矢量 1. 柏氏矢量的确定方法 位错线由纸面向外为正,以大拇指指示, 按右手螺旋定则确定柏氏回路 :避开位错 严重畸变的区域作一 回路,同样方法在完 整晶体作同一步数的回路,终点到起点的矢 量就是 柏氏矢量 柏氏矢量与起点无关,与路径无关-- 一根不分叉的任何形状的位错只有一个柏氏 矢量

晶体缺陷的原理及应用

晶体缺陷的原理及应用

晶体缺陷的原理及应用1. 晶体缺陷的概述•定义:晶体缺陷是指晶体中存在的非理想排列的原子、离子或分子。

•分类:通常可分为点缺陷、线缺陷和面缺陷。

•形成原因:晶体缺陷的形成可能是由于晶体的生长过程中的错误、外界的作用或者晶体内部的自发性变化引起的。

2. 点缺陷的原理和应用•定义:点缺陷是晶体中原子、离子或分子的位置发生变化所产生的缺陷。

•原理:–空位:晶体中某个原子、离子或分子的位置处没有原子、离子或分子存在。

–间隙原子:晶体中某个未占据位置上存在多余的原子、离子或分子。

–杂质原子:外来原子、离子或分子取代了晶体中的一些位置。

•应用:–半导体器件:点缺陷可以改变晶体的导电性能,用于制备半导体器件,如二极管、晶体管等。

–光电设备:点缺陷可以调控晶体的光电性能,应用于制备光电器件,如太阳能电池、光电传感器等。

3. 线缺陷的原理和应用•定义:线缺陷是晶体中原子、离子或分子分布不连续所形成的线状缺陷。

•原理:–缺陷线:晶体中原子、离子或分子的排列存在断裂或者位错。

–缺陷管道:晶体中原子、离子或分子的排列形成管道状结构。

•应用:–强化材料:通过控制线缺陷的分布和形态,可以增强材料的力学性能,应用于制备强化材料。

–电子束材料加工:线缺陷的存在可以引起晶体的脆性破坏,在电子束材料加工中可以实现精确切割。

4. 面缺陷的原理和应用•定义:面缺陷是晶体中原子、离子或分子排列发生变化形成的平面缺陷。

•原理:–位错面:晶体中原子、离子或分子的平面产生了错位。

–晶界:两个晶体颗粒之间的界面存在一些原子、离子或分子的不连续性。

•应用:–新型材料研究:通过调控晶体的面缺陷,可以制备具有特殊性能的新型材料,如高强度陶瓷材料、催化剂等。

–能源材料:面缺陷对材料的导电性和离子传输性能有重要影响,应用于制备能源材料,如电池、燃料电池等。

5. 晶体缺陷的性质研究和控制•晶体缺陷的性质研究:晶体缺陷对材料的性能具有重要影响,因此需要进行晶体缺陷的性质研究,如晶体缺陷的生长机制、扩散行为等。

晶体缺陷理论.

晶体缺陷理论.
填隙原子 (间隙原子);空位;杂质原子
按缺陷产生的原因分类
热缺陷;杂质缺陷;非化学计量结构缺陷 本征缺陷和非本征缺陷
点缺陷有时候对材料性能是有害的
锗酸铋 (BGO) 单晶无色透明,在室温下有 很强的发光性能,是性能优异的新一代闪烁晶体
材料,可以用于探测 X 射线、 射线、正电子和
带电粒子等,在高能物理、核物理、核医学和石 油勘探等方面有广泛的应用。
有的晶体材料是需要尽可能地消除点缺陷, 而更多的晶体材料是需要人们有计划、有目的地 人为地制造种种点缺陷。
点缺陷可以影响晶体的性质,在晶体中有 计划地制造出各类点缺陷,可以使晶体的性质产 生各种各样的变化,以此造就各种性能的晶体材 料来满足五彩缤纷的物质世界的需要。
三、热缺陷及其浓度计算
金属晶体
按溶质原子在溶剂晶格中的位置分类
置换性固溶体、填隙型固溶体
按溶质原子在溶剂晶体中的溶解度分类
连续固溶体、有限固溶体
在Al2O3晶体中溶入Cr2O3,由于Cr3+能产 生受激辐射,使得原来没有激光性能的白 宝石 (-Al2O3) 变为了有激光性能的红宝 石。
碳钢中的铁素体是 C 在 -Fe 中的填隙固 溶体,属体心立方结构。C 只是随机地填 入其间的一些八面体空隙。
缺陷反应方程
阴中离一既 就子般然会C的很存 首aC半 难在 先l2径 再阳 填溶很 挤离 充解大 入子 空到, 间的 位K阴隙空,C离阴l位而中子离,不有密子C是三a堆。挤2+种结一到可构般间能性
隙 加位置去C使a得C晶2l体的K 不C 稳l 定C因a•K素增VK 2ClCl CaC2lK C l Ca•K ClClCli CaC2lK C l Cai••2VK 2ClCl
Schottky 缺陷就是金属离子空位

[理学]第三章 晶体缺陷

[理学]第三章 晶体缺陷
起晶体的膨胀和收缩. <2>螺型位错所产生的切应力分量只与r有关<成反比>,而与
θ、z无关.只要r一定,τzθ就为常数.因此,螺型位错的应力场是 的对称的,即与位错等距离的各处,其切应力值相 等,并随着与位错距离的增大,应力值减小.
注意,这里当r→0时, τzθ → ∞,显然与实际情况不符,这说明 上述结果不适用位错中心的严重畸变区.
型位错可分为右旋〔以右拇指表示螺旋面前进方向,四指表示螺 旋面旋转方向〕和左旋螺型位错.
<3>螺型位错线与滑移矢量平行,因此一定是直线,而且位错线 的移动方向与晶体滑移方向互相垂直.
<4>纯螺型位错的滑移面不是唯一的.凡是包含螺型位错线的 平面都可以作为它的滑移面.但实际上,滑移通常是在那些原子密 排面上进行.
3、伯氏矢量的表示方法
b a uvw n为正整数 n
b b 1 b 2 a n u 1 v 1 w 1 a n u 2 v 2 w 2 a n u 1 u 2 v1 v2 w1 w2]
位错的强度,称为柏氏矢量的大小或模: ba u2v2w2
n
b1 b2 b3
b12b2 2 b3 2
3.2.3 位错的运动
、空位的平衡浓度
空位形成能:在晶体内取出一个原子放在晶体表面上〔但不改 变晶体的表面积和表面能〕所需要的能量.空位的出现破坏了 其周围的结合状态,因而造成局部能量的升高,由空位的出现而 高于没有空位时的那一部分能量称为"空位形成能".
空位的出现提高了体系的熵值 在一摩尔的晶体中如存在n个空位,晶体中有
2、伯氏矢量的特性
伯氏矢量与位错类型的关系:
刃型位错 柏氏矢量与位错线相互垂直.<依方向关系可分 正刃和负刃型位错>

晶体缺陷

晶体缺陷

KF = exp( EF
T——绝对温度 绝对温度
KF
)
K—波尔兹曼常数 波尔兹曼常数K=1.38×10-33J/K 波尔兹曼常数 ×
由此得
ni = N N i exp( Ef RT )
在晶体中N= Ni,则 在晶体中
ni = exp( Ef ) 2 RT N
式中n 式中 i/N——弗仑克尔缺陷的浓度 弗仑克尔缺陷的浓度 该式表示弗仑克尔缺陷浓度与缺陷生成能及 温度有关系。 温度有关系。
′ ′ ′ ′ V Na + Vcl = (V NaVcl )
缺陷作为化学物质, 缺陷作为化学物质 , 则可同一般化学反 应一样可应用质量作用定律。 应一样可应用质量作用定律。 在写缺陷反应方程式时, 在写缺陷反应方程式时 , 必须遵循以下 原则: 原则: 1、位置关系 化学物M X=a: 化学物MaXb中,M:X=a:b永远不变 Mg:O=1 MgO Mg:O=1:1
Cacl 2 ( S ) → CaL + Vk + 2Cl Cl
Kcl
式中不带电,实际上,都是离子性材料,应为 式中不带电,实际上,都是离子性材料, CaCl2,KCl均为强离子材料,考虑到氧化 均为强离子材料, 均为强离子材料
Kcl Cacl 2 ( S ) → Ca ′′ + 2Vk′ + 2Cl Cl
缺陷深度不大时,nv< N
nv Es = exp( ) N 2 RT
与弗仑克尔公式相比,具有一样的形式, 与弗仑克尔公式相比,具有一样的形式, 则可以归纳为: 则可以归纳为:
n E = exp( ) N 2 RT
式中: 式中:n/N——缺陷浓度 缺陷浓度 E——缺陷生成能 缺陷生成能

浅谈晶体缺陷

浅谈晶体缺陷

浅谈晶体缺陷摘要:晶体缺陷成就了性能的多样性。

晶体缺陷对晶体生长、晶体的力学性能、电学、磁学和光学性能等均有着极大影响,在生产上和科研中都非常重要,是固体物理、固体化学、材料科学等领域的重要基础内容。

研究晶体缺陷因此具有了尤其重要的意义。

针对晶体缺陷的概念、理论研究过程及进展、晶体缺陷与晶体性能的关系、关于晶体缺陷一些重要概念的理解,进行了文献查阅和资料整理,并结合个人看法,形成论文一篇。

关键词:晶体缺陷、概念描述、分类方法、理论研究、性能影响、概念区分一、晶体缺陷的概念在理想完整晶体中,原子按一定的次序严格地处在空间有规则的、周期性的格点上。

但在实际的晶体中,由于原子(分子或离子)的热运动、晶体形成条件、冷热加工过程及其它辐射、杂志等因素的影响,原子的排列不可能那样完整和规则,往往存在偏离了理想晶体结构的区域。

我们把实际晶体中偏离理想完整点阵的部位或结构称为晶体缺陷(defects of crystals)。

它的存在破坏了晶体的完美性和对称性。

二、晶体缺陷的分类(一)按缺陷的几何形态分类1.点缺陷(又称零维缺陷):缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,即三维方向上缺陷的尺寸都很小。

固体材料中最基本和最重要的晶体缺陷是点缺陷,包括空位(vacancy)、间隙原子(interstitial particle)、异类原子(foreign particle)等本征缺陷和杂质缺陷。

2.线缺陷(又称一维缺陷、位错):在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向较长,另外二维方向上很短。

3.面缺陷(又称二维缺陷):在二维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在第三维方向上很小。

4.体缺陷(又称三维缺陷):晶体中在三维方向上相对尺度比较大的缺陷,和基质晶体已经不属于同一物相,是异相缺陷。

(二)按缺陷产生的原因分类1.热缺陷(又称本征缺陷):由热起伏的原因所产生的空位或间隙质点(原子或离子)。

《晶体缺陷理论》试卷答案及评分标准

《晶体缺陷理论》试卷答案及评分标准

《晶体缺陷理论》试卷(20XX 级材料科学与工程研究生)一、基本概念(20分,每小题4分)1.不全位错与扩展位错2.柏氏矢量和压杆位错3.内禀层错和外延层错4.柯氏气团和胞状亚结构5.F-R 空间位错源和Bardeen-Herring 位错源二、简要回答下列问题,并说明原因。

(共20分)1.一根位错线形状发生改变时,柏氏矢量是否也随之发生改变?2.不同类型的位错运动时,滑移矢量与位错线的关系如何?3.位错的存在都会导致晶体体积发生变化?4.在密排六方结构中,密排面上的原子仅靠一次滑移能否产生层错。

5.小角度晶界都是由位错所构成的吗?6.凡是位错都能发生交滑移和双交滑移吗?7.面心立方结构中的肖克莱不全位错只可能是刃型位错吗?8.造成刃型位错攀移的是正应力σyy 吗?三、Peierls-Nabarro 点阵模型(10分)1.在何种条件下,P-N 模型与连续介质模型结果相近?2.何为位错宽度?位错宽度与P-N 力的关系?密排结构金属的P-N 力是大还是小?3.P-N 模型成功之处何在?四、螺型位错在z 轴上,位错线和柏氏矢量指向z 轴正向;正刃型位错与螺型位错平行,柏氏矢量指向x 轴正向,由Peach-Koehler 公式求螺型位错与刃型位错之间的相互作用力。

(10分)五、令位错的攀移作用力为渗透力Fs ,攀移阻力为Fm 。

(10分)1.当位错仅在渗透力Fs 作用下发生攀移时的空位浓度C 应为何值?2.如果样品从T 1淬火到T 2(T 1﹥ T 2),Fs 与Fm 和△T (△T =T 1-T 2)关系如何? 六、在面心立方()111上全位错柏氏矢量为[]a 2011,()111面上全位错柏氏矢量为[]a 2110,两根位错运动到两个面交汇处形成了新的位错,该新位错的柏氏矢量和可动性如何?若两位错相遇前就分解成扩展位错,在两个面交汇处,不全位错能否反应?可动性又如何?写出反应式。

(20分)七、在密排六方晶体中,最常观察到的层错是哪一种?为什么?不全位错切动能否使E 型层错转化为I 1型层错,若可以,请指出该不全位错的类型和柏氏矢量,画出切动示意图。

晶体缺陷理论_位错间相互作用

晶体缺陷理论_位错间相互作用

知识回顾 Knowledge Review
3.平行螺位错之间的相互作用力
(位错A A´对位错BB´的作用)
(1)A A´位错的应力场:
0
A


0


A zx
0 0

A xz
A yz


A zy
0
Y
(2) BB´位错的柏氏矢量与位错线:

bB (0 0 bBz )
dlB (0 0 dlz )
B bB
bA
A´ 0
令:A= ( xxbx yxby zxbz ) ,B= ( xybx yyby zybz )
C= ( xzbx yzby zzbz ) 有:
b = A iHale Waihona Puke + B j + C k
所以 dF 可以表示为:
i jk
dF (Ai Bj Ck )(dlxi dly j dlzk ) = A B C

(1)A A´位错的应力场:
bB
B
A




A xx
A yx
A xy
A yy
0
0

A´ 0 bA
X
0
0

A zz

A Z
(2) BB´位错的柏氏矢量与位错线:
bB (bBx 0 0) bBxi
dlB (0 0 dlz )
代入(7)式:
dF dlz

bBx xx(
位错之间作用力
作用在位错上力的一般公式
1.Peach-Koehler公式

晶体缺陷

晶体缺陷

二 点缺陷
⑴类型: 类型:
①空位— 在晶格结点位置应有原子的地方空缺,这 空位 在晶格结点位置应有原子的地方空缺, 种缺陷称为“空位” 种缺陷称为“空位”。 在晶格非结点位置, ②间隙原子 — 在晶格非结点位置,往往是晶格的间 出现了多余的原子。它们可能是同类原子, 隙,出现了多余的原子。它们可能是同类原子,也 可能是异类原子。 可能是异类原子。 在一种类型的原子组成的晶格中, ③异类原子 — 在一种类型的原子组成的晶格中,不 同种类的原子替换原有的原子占有其应有的位置。 同种类的原子替换原有的原子占有其应有的位置。
三 线缺陷
位错的原子模型: 1 位错的原子模型:
线缺陷的具体形式就是晶体中的位错,分类如下: 线缺陷的具体形式就是晶体中的位错,分类如下:
(b)
(c)
①刃型位错:
i 将晶体的上半部分向左
移动一个原子间距, 移动一个原子间距, 再按原子的结合方式 连接起来(b) (b)。 连接起来(b)。除分界 线附近的一管形区域 例外, 例外,其他部分基本 都是完好的晶体。 都是完好的晶体。在 分界线的上方将多出 半个原子面, 半个原子面,这就是 刃型位错。 刃型位错。 图(1)
2)大角度晶界 晶界两 侧的晶粒位向差较大, 侧的晶粒位向差较大, 不能用位错模型。 不能用位错模型。关 于大角度晶界的结构 说法不一, 说法不一,晶界可视 3(5)个原子的过 为2—3(5)个原子的过 3(5) 渡层, 渡层,这部分的原子 排列尽管有其规律, 排列尽管有其规律, 但排列复杂, 但排列复杂,暂以相 对无序来理解。 对无序来理解。 3)堆垛层错 离子堆垛过程中发生了层次错动,出现堆垛层错, ) 离子堆垛过程中发生了层次错动,出现堆垛层错, 如面心立方堆积形式ABCABCA……→ABCACBABC中间 如面心立方堆积形式 中间 层和C层发生了层次错动 的B层和 层发生了层次错动,出现缺陷。 层和 层发生了层次错动,出现缺陷。

金属晶体微观缺陷及其电子结构的理论分析

金属晶体微观缺陷及其电子结构的理论分析

金属晶体微观缺陷及其电子结构的理论分析金属材料是工业生产中常用的材料之一,它们的性质与结构密切相关。

在金属材料的制备和使用过程中,晶体缺陷是一个不可避免的问题。

微观缺陷的形成和演化会直接影响材料的性能和寿命。

因此,对于金属晶体微观缺陷及其电子结构的理论分析具有重要的理论和实践意义。

1. 晶体缺陷的分类晶体缺陷包括点缺陷、线缺陷和面缺陷三种类型。

其中,点缺陷是指空位、间隙原子、固溶原子和杂质原子等单个原子缺陷,它们对金属材料的性质影响最为显著。

线缺陷包括螺瑞缺陷和位错,面缺陷则包括晶界、堆垛层错和孪晶等。

点缺陷是晶体中最基本的缺陷类型。

空位缺陷是晶体中缺少原子的位置,它会导致晶格的畸变和局部应力的增加。

间隙原子缺陷则是晶体中存在的未占据的空位,它也会导致晶格畸变和降低材料的强度。

固溶原子缺陷是一种固溶体中扩散过程的结果,与晶格的畸变和分布有关。

杂质原子缺陷是晶体中非金属原子或杂质原子的存在,它会影响晶体中电子和原子的相互作用,从而影响材料的导电性和热导性。

2. 电子结构的影响金属晶体体系中的电子结构密集地反映了原子缺陷引致的晶体缺陷现象。

通过研究电子结构,可以深入探寻材料缺陷的影响,揭示缺陷的形成和演化规律,为调控材料性能提供理论支撑。

空位缺陷的引入会导致晶格畸变,进而影响电子的结构和运动。

空位缺陷对能带的影响主要体现在能量位移和能带密度的变化上。

间隙原子缺陷则会引起局部电荷密度的扰动,介电常数的变化以及局部电位的变化。

这些效应可以导致金属材料在局部存在电子富集和缺陷区域电子密度的增大,在某些情况下形成局部磁性。

固溶原子缺陷的产生与扩散往往与材料的内禀缺陷密切相关。

固溶原子的引入会影响电子的结构和能带密度,同时也会引起比热等物理量的变化。

杂质原子缺陷则会影响电子的能级和磁性,影响材料的热电性能和热容量等性质。

3. 新型材料的研究针对现有材料的缺陷,研究人员通过微观控制和优化制备方法等手段,得到了发展潜力更大的新型材料。

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单位位错:面心立方
原子的堆垛方式
面心立方与密排六方的配位数、致密度相
同 ,就引发出不同结构晶体中原子排列的 问题。

纸面为
8 7
0 1 1
8
111
7
6 5
6 5
4
3 2
211
4 3 2
1 AB C A B C A B C A B C A B
111
DC→Dα + αC
a a a 121 011 112 2 6 6
a a a 121 2 1 1 110 6 6 6
α δ
a 新位错为BC,柏氏矢量为 110 ,滑移面为 6
§2密排六方晶体中的位错
抽去一层+平移
堆垛层错--正常的堆垛顺序被扰乱 层错破坏了晶体的周期性,使能量增加,但层错不产 生点阵畸变,层错能比晶界能低得多
★见弗兰克 不全位错swf
E
P
A [111] R;Q
(110)
J;F
I;H;G
•位错反应--位错之间的相互转化 •位错的能量越低越稳定
1 1 1 1 000、 2 0 2 、 0 2 2 、 (1)晶胞中选取四个近邻原子位置, 1 1 2 2 0 ,分别为D、B、A、C点。 (2)A、B、C、D相连构成正四面体,为Thmpson。 (3)BCD面中心α、ACD面中心β、ABD面中心 γ、 ABC面中心 δ。 (4)四面体面为滑移面,2个英文字母表示全位错柏 氏矢量1/2<110>,如AB等12组;同面英文-希腊字 母表示Shockley不全位错柏氏矢量1/6<112>,如Aδ 等24组;异面英文-希腊字母表示Frank不全位错柏 氏矢量1/3<111>,如Aα等8组;2个希腊字母表示的 不全位错柏氏矢量1/6<110>,如αδ等12组。
插一层不同位置的原子
纸面为
8 7
1100
0001
E型堆垛层错
8 7
6 5
6 5
插入
4
3 2
1 1 00
4 3 2
1 AB C A B C A B C A B C A B
0001
1 AB C A B C A B C A B C A B
hcp: ABABAB….. hcp:ABABCABABAB…... 在第5层插入C原子,第6层以上原子逐层上移一个原子间距……,产生3个次 近邻层错ABC、BCA和CAB.
(5)各个面的法线指向四面体外,为正向;
指向四面体内为负向。2个负面之间夹角为 锐角,2个正面之间夹角为钝角,1个正面和 1个负面之间的夹角为锐角。
扩展位错
扩展位错的运动——先需要束集
扩展位错的束集
交滑移
a a a 10 1 2 1 1 112 2 6 6
晶体缺陷理论
第4章 典型晶体结构中的位错
合肥工业大学 宣天鹏
§1
面心立方晶体中的位错 密排六方晶体中的位错 体心立方晶体中的位错
§2
§3
第4章 典型结构金属中的位错
位错能量正比于b2
=> 实际晶体中存在的柏氏 矢量限于少数最短的平移矢量 ( 最近邻的原 子间距 ) ,具有这种柏氏矢量的位错称为 单 位位错 α<110> /2 ,体心立方 <111> α/2 ,密排六方 α<1120> /3 ,平行于 晶体的最密排方 向,该位错扫过之后滑移面 上下原子排列整齐,故又称全位错或完整位 错
1.写出不全位错? 2.在DC处,领先位错反应生成的位错? 3.新位错可动性如何?
B C1 D C2 C
A
1.BC=Bα+αC
CA=Cβ + β A 2. αC+ Cβ = αβ
a a a 110 21 1 121 2 6 6
a a a 10 1 1 12 21 1 2 6 6
纸面为
8 7
1100
0001
I2型堆垛层错
8 7
6 5
6 5
滑移
4
3 2
1 00
4 3 2
1 AB C A B C A B C A B C A B
0001
1 AB C A B C A B C A B C A B
hcp: ABABAB….. hcp:ABABCACAC…... 第5层原子由A位置滑移到C位置,第6层以上原子依次滑移一个原子间距…… ,产生2个次近邻层错ABC和BAC
1 AB C A B C A B C A B C A B
在切应力作用下,第4层原子由A位置滑移到B位置,其上各层原子依 次滑移,排列成为了ABCBCABC,出现了内禀层错,即在fcc结构中 形成了BCBC的hcp结构,及BCB与CBC孪晶。与抽出型层错相同。
不全位错 部分位错 --柏氏矢量小于最短的平移矢量 不全位错 --柏氏矢量不等于最短的平移矢量的整 数倍,层错与正常晶体的交界处 不全位错扫过之后,滑移面上下原子产生错排,形成 层错
滑移
纸面为
8 7
1100
0001
I1型堆垛层错
8 7
6 5
6 5
4
3 2
1 1 00
抽出+切动
4 3 2
1 AB C A B C A B C A B C A B
0001
1 AB C A B C A B C A B C A B
hcp: ABABAB….. hcp:ABACACAC…... 抽去第4层B原子,第5层原子下落,再切动滑移到C位置,第6层原子下落, 切动滑移到A位置……,产生一个次近邻层错BAC
§3体心立方晶体中的位错
(110)
(112)
1 11
111
B
E
D A C
B A D C E
1 10
a a b 10 1 BCD面上有位错C1, ;ACD面上有位错C2, b 110 2 2
在切应力作用下,向DC运动。在相遇之前,2根全位错分解 成扩展位错。
在第4与第5层之间插入一层的C位置原子,第5层以上原子逐层上一 个原子间距,排列成为了ABCACBCABC,出现了外延层错,即在fcc 结构中形成了CAC和CBC的hcp结构,及孪晶。
1 2 11 6
8 7 8 7

6 5
6 5
4
3 2
4 3 2
滑移
1 AB C A B C A B C A B C A B
抽去第4层的A位置原子,原第5层B以上的原子逐层落下 来,排列成为了ABCBCABC,出现了内禀层错,即在fcc 结构中形成了BCBC的hcp结构,及BCB与CBC孪晶。
8 7
8 7
6 5
6 5
1 111 3
插入
4
3 2
4 3 2
1 AB C A B C A B C A B C A B
1 AB C A B C A B C A B C A B
a a a 01 1 121 1 12 6 6 6
3.新位错αβ是混合位错,在密排面上,可动。
1 AB C A B C A B C A B C A B
fcc: ABCABCAB….. hcp:ABABABAB…... 从第1层到第8层的原子排列
8 7
8 7
6 5
6 5
1 111 3


4
3 2
4 3 2
抽出
1 AB C A B C A B C A B C A B
1 AB C A B C A B C A B C A B
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