(完整版)半导体物理学期末复习试题及答案一,推荐文档
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一、选择题
1.与绝缘体相比,半导体的价带电子激发到导带所需要的能量(
B )。
A. 比绝缘体的大
B.比绝缘体的小
C. 和绝缘体的相同
2.受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向
半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。
A. 电子和空穴
B.空穴
C. 电子
3.对于一定的N型半导体材料,在温度一定时,减小掺杂浓度,
费米能级会( B )。
A.上移
B.下移
C.不变
4.在热平衡状态时,P型半导体中的电子浓度和空穴浓度的乘积为
常数,它和( B )有关
A.杂质浓度和温度
B.温度和禁带宽度
C.杂质浓度和禁带宽度
D.杂质类型和温度
5.MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型(
B )。
A.相同
B.不同
C.无关
6.空穴是( B )。
A.带正电的质量为正的粒子
B.带正电的质量为正的准粒子
C.带正电的质量为负的准粒子
D.带负电的质量为负的准粒子
7.砷化稼的能带结构是( A )能隙结构。
A. 直接
B.间接
8.将Si 掺杂入GaAs 中,若Si 取代Ga 则起(
A )杂质作用,若Si 取代As 则起(
B )杂质作用。
A. 施主
B. 受主
C. 陷阱
D. 复合中心
9.在热力学温度零度时,能量比小的量子态被电子占据的概率
F E 为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比小
F E 的量子态被电子占据的概率为(
A )。A. 大于1/2 B. 小于1/2 C. 等于1/2 D. 等于1 E. 等于0
10. 如图所示的P 型半导体MIS 结构
的C-V 特性图中,AB 段代表
( A ),CD 段代表(B )。
A. 多子积累
B. 多子耗尽
C. 少子反型
D. 平带状态11. P 型半导体发生强反型的条件( B
)。A. B. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=i A S n N q T k V ln 0⎪⎪⎭
⎫ ⎝⎛≥i A S n N q T k V ln 20C. D. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=
i D S n N q T k V ln 0⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛≥i D S n N q T k V ln 2012. 金属和半导体接触分为:( B )。
A. 整流的肖特基接触和整流的欧姆接触
B. 整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触
C. 非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触
D.非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触
13.一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照
忽然停止后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A =
tτ
)。
A. 1/e
B. 1/2
C. 0
D. 2/e
14.载流子的漂移运动是由( A )引起的,反映扩散运动
强弱的物理量是( B )。
μP Dτ
A.电场
B.浓度差
C.热运动
D.
E.
F.
15.对掺杂的硅等原子半导体,主要散射机构是:(B )。
A.声学波散射和光学波散射
B.声学波散射和电离杂质散射
C.光学波散射和电离杂质散射
D.光学波散射
二、证明题
对于某n型半导体,试证明其费米能级在其本征半导体的费米
能级之上。即E Fn>Ei。
三、计算画图题
1.三块半导体Si 室温下电子浓度分布为,
,(N C =163103430102031.010, 1.010, 1.010n cm n cm n cm ---=⨯=⨯=⨯3*1019cm -3,N V =1*1019cm -3,n i =1010cm -3,ln3000=8, ln1000=6.9)则
(1)、计算三块半导体的空穴浓度
(2)、画出三块半导体的能带图
(3)、计算出三块半导体的费米能级相对与的位置C V E E 或(要求n 型半导体求E C -E F ,p 型半导体求E F -E v )(15分)
2.室温下,本征锗的电阻率为47cm ΩA ,试求本征载流子浓度。若锗原子的浓度为2234.410cm -⨯,掺入施主杂质,使每610个锗原子中有一个杂质原子,计算室温下电子浓度和空穴浓度(设杂质全
部电离)。试求该掺杂锗材料的电阻率。设,s V cm n ⋅=/36002
μ
且认为不随掺杂而变化。
s V cm p ⋅=/17002μ若流过样品的电流密度为252.3/mA cm ,求所加的电场强度。
3.画出金属和N 型半导体接触能带图(,且忽略间隙),并m s
W W >分别写出金属一边的势垒高度和半导体一边的势垒高度表达式。
4.如图所示,为P 型半导体MIS 结构形成的能带图,画出对应的
电荷分布图。(6分)
5.光均匀照射在电阻率为6cm ⋅Ω的n 型Si 样品上,电子-空穴对
的产生率为4×1021cm -3s -1,样品寿命为8µs 。试计算光照前后样品的电导率。(,)s V cm n ⋅=/36002μs V cm p ⋅=/17002μ