半导体光电器件基础解析

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第一章--半导体器件讲解

第一章--半导体器件讲解


RB 入
UEE
电 路
输 出
IE 电

共射极放大电路
2、三极管内部载流子的传输过程
a)发射区向基区注入电子,
形成发射极电流 iE
b)电子在基区中的扩散与复 IB
合,形成基极电流 iB c)集电区收集扩散过来的电
RB
子,形成集电极电流 iC
UBB
IC N RC
P UCC N
IE
另外,集电结的反偏也形成集电区中的少子空穴 和基区中的少子电子的漂移运动,产生反向饱和电流 ICBO。
1.3 半导体三极管
一、三极管的结构及类型
半导体三极管是由两个背靠背的PN结 构成的。在工作过程中,两种载流子(电 子和空穴)都参与导电,故又称为双极型 晶体管,简称晶体管或三极管。
两个PN结,把半导体分成三个区域。 这三个区域的排列,可以是N-P-N,也可以 是P-N-P。因此,三极管有两种类型:NPN 型和PNP型。
第一章 半导体器件
1.1 半导体基础知识 1.2 PN结(半导体二极管) 1.3 半导体三极管
1.1 半导体基础知识
半导体器件是用半导体材料制成的电 子器件。常用的半导体器件有二极管、三 极管、场效应晶体管等。半导体器件是构 成各种电子电路最基本的元件。
一、半导体的导电特征
导体:金、银、铜铁、铝等容易传导电流的物质 绝缘体: 橡胶、木头、石英、陶瓷等几乎不传导电流的物质 半导体:导电性能介于导体和绝缘体之间的物质, 如硅、锗、硒、砷化钾等。
稳压管是一种用特殊工艺制造的半导体二极管,稳 压管的稳定电压就是反向击穿电压。稳压管的稳压作用 在于:电流增量很大,只引起很小的电压变化。
i/mA
8
4

半导体物理与器件的基本原理解析

半导体物理与器件的基本原理解析

半导体物理与器件的基本原理解析半导体是一种能够在一定条件下既能导电又能绝缘的物质,因其在电子学领域的广泛应用而备受关注。

本文将对半导体物理及器件的基本原理进行解析,为读者提供更全面的了解。

一、半导体物理基础1. 原子结构半导体是由原子构成的,涉及到原子的结构和性质非常重要。

原子包含了原子核和绕核运动的电子。

每个原子都有自己的特定电子结构和能级分布。

2. 能带理论能带理论是解释电子在固体中运动的模型。

根据能带理论,固体的电子能级可以分为多个能带,其中最高填充的被称为价带,最低未被填充的被称为导带。

价带与导带之间的能量间隙称为禁带宽度。

3. 共价键与禁带在半导体中,原子通过共价键形成晶体。

共价键是由原子之间的电子互相共享形成的。

晶体中的共价键形成了价带,而禁带宽度是导带和价带之间的能隙。

二、半导体器件原理解析1. P-N 结P-N 结是最基本也是最重要的半导体器件。

它由一片N型半导体和一片P型半导体组成。

在P-N 结中,P型半导体中的空穴与N型半导体中的电子发生重组,产生了一个空穴-电子对。

这种特殊的结构和电子重组现象使得P-N 结具有二极管特性。

2. 二极管二极管是一种基本半导体器件,它由P-N 结组成。

二极管具有一个P型区域和一个N型区域,其中P型区域为阳极,N型区域为阴极。

正向偏置时,电流可以流过二极管;反向偏置时,电流无法通过二极管。

3. 晶体管晶体管是一种用来放大和开关电信号的半导体器件。

它由三个区域构成:发射极(Emitter)、基极(Base)和集电极(Collector)。

晶体管的工作原理是通过外加电压控制基区的电流,从而控制集电极和发射极之间的电流流动。

4. MOSFETMOSFET(金属-氧化物-半导体场效应晶体管)是一种常见的半导体器件,用于放大和开关电信号。

MOSFET由金属栅极、绝缘层和半导体通道构成。

通过改变栅极电压,可以控制通道中的电流。

5. 整流器整流器是一种将交流电转换为直流电的设备。

半导体光电材料基础-4PPT课件

半导体光电材料基础-4PPT课件

:电子的亲和能
W:电子的功函数 Eg:禁带宽度
两种半导体紧密
接触时,电子
(空穴)将从
n(p)型半导体流
向p(n)型半导体,
直至费米能级相
P型
N. 型
等为止。
5
5.1 异质结及其能带图
(1)不考虑界面态时的能带图 突变反型(pn)异质结能带图(形成异质结后)
交界面两边形成空间电 荷区(x1-x2),产生内建电 场。
EcEv0.76eV
交界面两侧半导体中的 内建电势差VD1,VD2由掺 杂浓度、空间电荷区 (势垒区)宽度和相对 . 介电常数共同决定。 8
5.1 异质结及其能带图
(1)不考虑界面态时的能带图 突变反型(np) 异质结能带图
N型
P型
形成异质结前
.
N型
P型
形成异质结后 9
5.1 异质结及其能带图
异质结具有许多同质结所所不具有的特性,往往具 有更高的注入效率。
反型异质结:由导电类型相反的两种不同的半导体 单晶材料构成。如:p-nGe-GaAs(p型Ge与n型GaAs)
同型异质结:由导电类型相同的两种不同的半导体 单晶材料构成。如:n-nGe-GaAs(n型Ge和n型GaAs)
异质结的能带图对其特性起着重要作用。在不考虑
导带阶 Ec 12
价带阶
E v E g 2 E g 1 1 2
E c E vE g2E g1
以上式子对所有突变异
P型
N型.
质结普适 7
5.1 异质结及其能带图
(1)不考虑界面态时的能带图 突变p-nGe-GaAs异质结能带图
n-GaAs
Ec 0.07eV
Ev 0.69eV

半导体器件基础 第1章(第二版)PPT课件

半导体器件基础 第1章(第二版)PPT课件

电 子的浓度是一定的,反向电流在一定
的电压范围内不随外界电压的变化而
子 变化,这时的电流称为反向饱和电流,第
技 以IR(sat) 表示。

术 章



少数载流子的浓度很小,由
子 此而引起的反向饱和电流也很小, 技 但温度的影响很大。表1.2.1是硅 第
管的反向电流随温度的变化情况 一
术 章


三、PN结的伏安特性

术 温度每升高8℃,硅的载流子浓度增加一倍。


+4
+4
+4
+4
+4
+4 自


+4
+4
+4
+4
+4
+4 电

空穴
+4
+4
+4
+4
+4
+4
1.1.3 杂质半导体的导电特性

掺杂后的半导体称为杂质半导体,
子 杂质半导体按掺杂的种类不同,可分为N 第
技 型(电子型)半导体和P型(空穴型)半

术 导体两种。
1.2.1 PN结的形成

当P型半导体和N型半
子 导体相互“接触”后,在
它们的交界面附近便出现

技 了电子和空穴的扩散运动。

术 N区界面附近的多子电子将 基 向P区扩散,并与P区的空
同样,P区界面形章 成一个带负电的薄电
础穴复合,N区界面附近剩下 荷层。于是在两种半 了不能移动的施主正离子, 导体交界面附近便形
成了一个空间电荷区,

半导体光电子器件讲解ppt

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包括外延生长型、集成型、混合型等。
按制造工艺分
半导体光电子器件的结构
常见的半导体光电子器件结构包括:衬底、活性层、电极等。
衬底通常选用半导体材料,如硅、锗、三五族化合物等。
活性层是光电子器件的核心部分,用于实现光吸收、载流子产生、光电器件的作用。
电极的作用是收集和导出活性层产生的载流子。
半导体光电子器件的工作原理是当加电压时,即势垒降低,有大量电子从N区注入到P区,形成一定的电流,当没有光照时,只有热平衡反向电流,当有光照时,会形成附加的光生电流,从而实现了光电转换。
半导体光电子器件的工作原理
04
半导体光电子器件的性能参数
03
迁移率
指半导体材料中载流子的平均漂移速度,反映了半导体材料导电性能的好坏。
半导体光电子器件的电学参数
01
载流子浓度
指半导体材料中自由电子和空穴的浓度,可以反映半导体材料的导电性能。
02
电阻率
指半导体材料电阻的大小,通常与材料的载流子浓度和迁移率有关。
xx年xx月xx日
半导体光电子器件讲解ppt
CATALOGUE
目录
引言半导体光电子器件的基本原理半导体光电子器件的种类与结构半导体光电子器件的性能参数半导体光电子器件的生产与制造半导体光电子器件的应用案例
0器件简介
2
3
半导体光电子器件是利用半导体材料和器件实现光-电信号转换的器件。
半导体材料通常包括硅、锗、砷化镓、磷化铟等。
半导体光电子器件具有体积小、重量轻、稳定性好、寿命长等特点。
半导体光电子器件的历史发展
半导体光电子器件的起源可以追溯到20世纪60年代。
20世纪80年代,随着光纤通信技术的发展,半导体光电子器件在光纤通信领域得到广泛应用。

半导体的基础知识与结

半导体的基础知识与结

半导体的基础知识与结构1. 引言半导体是一种在电子学中具有关键作用的材料。

它们具有介于导体和绝缘体之间的电导率,因此在各种电子器件中得到了广泛的应用。

本文将介绍半导体的基础知识和结构,包括半导体的定义、种类、晶体结构和禁带宽度等方面。

2. 半导体的定义半导体是一种材料,在特定条件下具有介于金属导体和非金属绝缘体之间的电导率。

与金属导体相比,半导体的导电性较低;与非金属绝缘体相比,半导体的导电性较高。

半导体的电导率可以通过控制温度、掺杂和施加电场等方式进行调节。

3. 半导体的种类半导体可以分为两类:本征半导体和掺杂半导体。

3.1 本征半导体本征半导体是指未经掺杂的纯净半导体材料。

典型的本征半导体包括硅(Si)和锗(Ge)等。

在本征半导体中,导带和价带之间的能隙较小,电子可以在导带和价带之间跃迁,从而导致电导率的增加。

3.2 掺杂半导体掺杂半导体是指在本征半导体中引入少量杂质的半导体材料。

通过掺杂可以改变半导体的电导率和电性能。

根据掺杂杂质的类型,掺杂半导体可以分为N型和P型。

•N型半导体:通过引入杂质,增加了自由电子的浓度,从而提高了导电性能。

典型的N型半导体材料是磷化硼(BP)和砷化镓(GaAs)等。

•P型半导体:通过引入杂质,增加了空穴的浓度,从而提高了导电性能。

典型的P型半导体材料是砷化铝(AlAs)和磷化镓(GaP)等。

4. 半导体的晶体结构半导体通常以晶体结构存在。

晶体结构对半导体的电导率、导电型(N型或P 型)以及其他性能有很大影响。

常见的半导体晶体结构有立方晶体、钻石晶体和六方晶体等。

4.1 立方晶体立方晶体是半导体中最常见的晶体结构。

在立方晶体中,晶体结构可以分为简单立方、体心立方和面心立方。

简单立方晶体结构的典型材料有铍(bismuth)和硫化镉(cadmium sulfide)等。

4.2 钻石晶体钻石晶体结构也是一种常见的半导体晶体结构。

钻石晶体结构由碳原子组成,具有非常高的热导率和电导率。

半导体器件基础知识

半导体器件基础知识

半导体器件基础知识目录一、半导体器件概述 (2)1.1 半导体的定义与特性 (3)1.2 半导体的分类 (3)1.3 半导体的应用领域 (4)二、半导体器件基础理论 (5)2.1 二极管 (6)2.1.1 二极管的分类与结构 (8)2.1.2 二极管的特性与应用 (9)2.2 晶体管 (10)2.2.1 晶体管的分类与结构 (11)2.2.2 晶体管的特性与应用 (13)2.3 集成电路 (15)2.3.1 集成电路的分类与结构 (16)2.3.2 集成电路的特性与应用 (18)三、半导体器件制造工艺 (19)3.1 晶圆制备 (20)3.2 淀积与光刻 (21)3.3 蚀刻与退火 (22)3.4 封装与测试 (23)四、半导体器件设计 (24)4.1 设计流程与方法 (24)4.2 特征尺寸与制程技术 (25)4.3 低功耗设计 (27)4.4 高性能设计与优化 (28)五、半导体器件测试与可靠性 (29)5.1 测试方法与设备 (30)5.2 可靠性评估与提升 (32)5.3 环境与寿命测试 (33)六、新兴半导体器件与发展趋势 (34)6.1 量子点半导体器件 (36)6.2 纳米半导体器件 (37)6.3 光电半导体器件 (38)6.4 三维集成与先进封装技术 (39)一、半导体器件概述半导体器件是现代电子工业中的核心组件,它们在各种电子设备中发挥着至关重要的作用。

半导体器件基于半导体材料,如硅(Si)和锗(Ge),这些材料的导电性介于导体和绝缘体之间。

通过控制半导体器件中掺杂离子的浓度和类型,可以实现其电学特性的精确调整,从而满足不同电子系统的需求。

半导体器件广泛应用于放大器、振荡器、开关、光电器件、传感器等多种功能模块。

集成电路(IC)是半导体器件的一种重要形式,它将成千上万的半导体器件紧密地封装在一个微小的芯片上,形成了一个高度集成化的电子系统。

集成电路在计算机、手机、汽车电子等领域的应用尤为广泛,极大地推动了信息技术的发展。

半导体器件基础最新课件

半导体器件基础最新课件

半导体器件基础最新课件
2、三极管的开关特性 截止工作状态
c b
e
调节偏流电阻RP的阻 值,使基极的电流为零 或很小时,三极管的两 个PN结都处于反向偏置, 集电极中没有电流通过, 三极管处于截止状态, 集电极与发射极之间电 阻很大,相当开关断开。
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饱和工作状态
调节偏流电阻RP的阻值, 使基极电流充分大时,集电 极电流也随之变得非常大, 三极管的两个PN结则都处于 正向偏置。集电极与发射极 之间的电压很小,小到一定 程度会削弱集电极收集电子 的能力,这时Ib再增大, Ic也不能相应地增大了, 三极管处于饱和状态,集电 极和发射极之间电阻很小, 相当开关接通。
放大、截止和饱和三种工作状态。
1、三极管的放大作用
三极管的放大作用是在一定的外部条件控 制下,通过内部载流子的传输体现出来。
外部条件:发射结正偏,集电结反偏。
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三极管内部载流子的传输过程
▪发射区:发射载流子 ▪集电区:收集载流子 ▪基区:传送和控制载流子
发射区的多数载流子自 由电子不断通过发射结扩 散到基区,形成发射极电
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2、反向截止特性:
给二极管加反向电压,则处于截止状态,二极管 两引脚之间的电阻很大,反向电流很小,相当于开关 断开。
当反向电压不超过某一范围时,反向电流的大小 基本保持不变,所以通常把反向电流又称为反向饱和 电流,但反向电流会随温度的升高而增长很快。
硅二极管的反向电流只有锗二极管的几十分之一 或几百分之一,所以硅管的温度稳定性比锗管好。
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3、二极管反向击穿:
当所加的反向电压增大到一定数值时, 反向电流迅速增大,这种现象称为反向击穿, 二极管失去单向导电性,发生击穿时的反向电 压叫反向击穿电压。此时如果没有适当的限流 措施,因电流过大会使二极管过热而被烧毁。

光电器件基础 第一章 半导体光学基础知识

光电器件基础 第一章 半导体光学基础知识

1.1.3 光电子技术的应用 从光电子技术研究初期开始,人们就不停地探索其应用价值,而且军事应用被优先考
虑,并投入大量的人力、物力、财力。20 世纪 50 年代末,美军将光电探测器用于代号为响 尾蛇的空空导弹,取得了明显的作战效果;之后,美、英、法等国相继开发了中波(3~5μm) 和长波(8~10μm)红外多元探测器组件、红外焦平面阵列等,广泛应用于夜视、侦查、观 瞄、火控、制导等系统;1961 年,第一台激光测距仪问世;70 年代初,美军在对越战争中 用激光制导炸弹一举摧毁了曾用普通炸弹付出很大代价都没有炸毁的一座桥梁,当时还盛 传美军准备在越南战场使用激光致盲武器,谋求取得心理威慑作用。
大多伦多大学等报道了其光计算机研究的重大进展。
21 世纪。我们正在步入信息化社会,信息与信息交换量的爆炸性增长对信息的采集、
传输、处理、存储与实现都提出了严峻的挑战,国家经济与社会的发展、国防实力的增强
等都更加依赖于信息的广度、深度和速度,而这取决于我们获取、传输、处理和存储信息
的能力与水平。随着现代科学技术的迅速发展,在空间科学、现代防御体系、生命科学、
现在,激光器的波长覆盖了从软 X 射线到远红外的各个波段,峰值功率达到 1014W, 最高平均功率达到兆瓦级,最窄脉宽为 10-16s 量级,最高频率稳定度达到 10-15,调谐范围 从 190nm 到 4μm,同时其结构、工艺日趋成熟,稳定性、可靠性和可操作性显著改进。激 光器尤其是半导体激光器的进步带动了整个光电子技术的研究、开发与应用领域的飞速发 展。光电子技术具有许多优异的性能特征,具有很大的使用价值,概括如图 1.4 所示。
进了相应各学科,特别是半导体光电子学、导波光学和非线性光学的发展和彼此之间的相
互渗透,而且还和数学、物理学、材料学等基础学科交叉,形成新的边缘领域,如半导体

半导体光电子器件课件

半导体光电子器件课件
阈值电流的影响因素
主要有半导体材料的能带结构、载流子类型和浓度、光吸收系数等。
降低阈值电流的方法
优化材料和结构,提高材料的质量和纯度,采用多量子阱结构等。
响应速度
响应速度
指光电子器件对输入光信号的反应速度,即输出电流或电压对输 入光信号的响应时间。
响应速度的限制因素
主要包括载流子的寿命、扩散长度、载流子注入和收集的效率等。
发射极是半导体光电子器件中的重要 组成部分,负责产生光子。
详细描述
发射极通常由掺杂的半导体材料制成, 通过注入载流子并经过一系列物理过 程,产生光子。发射极的性能直接影 响器件的发光效率和光谱特性。
增益介 质
总结词
增益介质是半导体光电子器件的核心部分,提供光放大作用。
详细描述
增益介质是半导体光电子器件中用于放大光信号的部分,通 常由多种不同掺杂浓度的半导体材料组成。在光的激发下, 增益介质中的载流子发生跃迁,释放出光子,实现光信号的 放大。
03 半导体光电子器件的材料
直接带隙半导体材料
直接带隙半导体材料的特点是导带和价带之间的跃迁是允许的,因此可以直接吸 收光子产生电子-空穴对。常见的直接带隙半导体材料有硅(Si)、锗(Ge)、 硫化铅(PbS)等。
直接带隙半导体材料在光电子器件中应用广泛,如发光二极管(LED)、激光器 (LD)等。
02
宽禁带半导体材料在高温、高功 率光电子器件中具有优异性能, 如高亮度LED、高功率激光器等。
04 半导体光电子器件的制造 工艺
外延生长技术
总结词
外延生长技术是制造半导体光电子器 件的关键工艺之一,它通过在单晶衬 底上生长一层或多层具有所需晶体结 构和掺杂类型的单晶材料,实现器件 的制造。

半导体光电器件

半导体光电器件
当前,在信号传输和存储的新技术是有效应用光信号,如光通信、计算机网络、声像演唱机用的CD或VCD,计算机的CD—ROM等光电子系统。这种光信号和电信号的接口需要一些特殊的器件,即半导体光电器件。
采用不同材料、工艺和结构制造的,用于光、电能量或信号转换的半导体电子器件统称为半导体光电器件。
这类器件种类很多,如发光二极管、激光二极管、光电二极管、光电三极管、光偶合器等。
1.8 半导体光电器件
1.8.1 光敏二极管
1.结构及原理
光敏二极管俗称光电二极管,是一种将光信号转换为电信号的受光器件。其图形符号为:
光电二极管的基本结构是一个PN结,它的管壳上设置有一个光线入射的玻璃窗口。光电二极管工作在PN结的反向特性。
在无光照射时,反向电流很小,此电流称暗电流。当有光照射时,由于PN结的光敏特性,产生光生载流子,在反向电压的作用下,光生载流子参与导电,形成比无光照射时大得多的反向电流,此电流称光电流。
3.应用
发光二极管广泛用于信号显示和传输。它单个作成矩形、圆形用,也可多个组成某种形状,如七段数码管。
共阴极连接
共阳极连接

1.8.4 光耦合器
1.结构
2.特点
1)隔离强电与弱电系统,绝缘电阻高。
2)抗干扰能力强.
输入
输出
由于输入与输出之间没有直接电气联系,信号传输是通过光耦合的,所以也称其为光电隔离器。
1.结构及原理
2.技术参数
双极型光敏三极管俗称光电三极管,其结构与普通三极管相似。光电三极管的有三个引脚,两个引脚结构的。两个引线结构中,聚光窗口即为基极。其图形符号为:
1.8.3 发光二极管
1.原理及结构
2.技术参数
发光二极管是一种将电能直接转换成光能的发光器件,简称LED,其图形符号为:

半导体光电器件原理及参数简介

半导体光电器件原理及参数简介

半导体光电器件原理及参数简介半导体光电子器件包括将电能转换成光能的发光器件和将光能转换成电能的光电探测器件。

光电器件种类很多,发光器件有发光二极管(LightEMittingDiode,简称LED)、半导体激光器(LaserDiode,简称LD)等,光电探测器件有光电二极管或称光敏二极管(photodiode or photosensitivediode)、太阳电池(solarcell)等。

它们与集成电路的结合出现了各种光电耦合器件,智能显示器件,专用光传感器,电荷耦合摄像器件,各种光电子模块等等。

半导体光电器件广泛地应用在光通信、激光、数字图像显示、自动控制、计算机、国防等领域,在21世纪将获得更迅速的发展和更广泛的应用。

1.物理基础● 电子、空穴与能带半导体是由大量原子组成的晶体,由于原子之间距离很近,相邻原子上的电子轨道将发生一定程度的交迭,电子不再属于某个原子而可以穿行于整个晶体,由此导致了原子能级分裂为能带。

以最常用的半导体硅为例,硅的最外层有4个价电子,每个硅原子近邻有4个硅原子,这样每两个相邻原子之间有一对电子,它们与两个原子核都有吸引作用,称为共价键。

它们所处的能带为价带,比价带能量更高的能带是导带,它们中间隔着不允许存在的能量状态区域称为禁带。

当共价键内的束缚电子获得足够能量(例如热能,光能),可以摆脱共价键的束缚成为自由电子,我们称此时价带中的电子跃迁到了导带。

电子跃迁后,在原来的位置上留下了一个空位—“空穴”,邻键上的电子随时可以转移过来填补这个空位,共价键中这种束缚电子的移动用“空穴”的移动来表示。

自由电子和空穴都能参与导电,统称为载流子。

● 电子跃迁与吸收波长、发光波长电子的跃迁是和能量的交换分不开的。

电子必须吸收能量才能从低能级跃迁到高能级,电子从高能级跃迁到低能级则必须放出多余的能量。

电子跃迁过程中交换的能量若是热运动的能量,称为热跃迁,若是光的能量,称为光跃迁。

半导体光电器件的原理就是基于光跃迁的。

《半导体器件基础》课件

《半导体器件基础》课件

计算机的CPU、内存等核心硬件都离不开半导体器件,如晶体管、电容
、电阻等。
03
消费电子中的半导体器件
手机、电视、音响等消费电子产品中,半导体器件广泛应用于信号处理
、显示控制等方面。
光电器件在通信与显示领域的应用
光纤通信中的光电器件
光纤通信系统中的光电器件,如激光器、光电探测器等,用 于实现高速、大容量的信息传输。
成。
工作原理ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
02
通过改变栅极电压来控制源极和漏极之间的电流。
特性
03
具有低噪声、高速、低功耗等优点,常用于高频率信号处理。
04
半导体器件的工作原理
半导体的能带模型
原子能级与能带
描述原子中的电子能级如何形成连续的能带结构。
价带与导带
解释半导体的主要能带特征,包括价带和导带的定义与特性。
禁带宽度
讨论禁带宽度对半导体性质的影响,以及如何利用禁带宽度进行电 子跃迁。
半导体器件的交流参数
阐述半导体器件的交流参数,如频率响应、噪 声系数等。
半导体器件的可靠性参数
介绍半导体器件的可靠性参数,如寿命、稳定性等。
05
半导体器件的应用
电子设备中的半导体器件
01
集成电路中的半导体器件
集成电路是现代电子设备的基础,其中的晶体管、二极管等半导体器件
起着关键作用。
02
计算机硬件中的半导体器件
ABCD
通过掺入不同元素,可以 调控半导体的导电类型( N型或P型)和导电性能 。
在实际应用中,通常将硅 或锗基体材料进行掺杂, 以实现所需的导电性能。
宽禁带半导体材料
宽禁带半导体的特点是其具有高热导率、高击 穿场强和高电子饱和速度等优异性能。

半导体激光器与半导体光电器件

半导体激光器与半导体光电器件

半导体激光器与半导体光电器件半导体激光器和半导体光电器件是现代光电技术中两个重要的组成部分。

它们在信息通信、医疗、材料加工等领域有着广泛的应用。

本文将介绍半导体激光器和半导体光电器件的基本原理、结构和应用。

一、半导体激光器半导体激光器是利用半导体材料的能带结构,通过电子与空穴的复合辐射出具有高单色性和高亮度的激光光束的装置。

其工作原理基于反向注入和激光放大效应。

半导体激光器的结构主要由两个半导体材料层组成,即n型和p型半导体。

当在p-n结形成时,通过外界电流注入,载流子在活性层内复合,产生受激辐射。

出射光束经由同轴光纤或反射镜进行耦合和提取,形成激光输出。

半导体激光器具有小型化、高效率、功耗低等优点,广泛应用于光通信、激光雷达、医疗美容以及材料加工等领域。

例如,它们在光存储设备中起到了至关重要的作用,可以实现高密度的数据写入和读取。

二、半导体光电器件半导体光电器件是将光信号转化为电信号或将电信号转化为光信号的器件。

根据其功能,半导体光电器件主要可分为光电二极管、光电探测器和光电发射器。

1. 光电二极管光电二极管是一种将光信号转化为电信号的器件。

它的结构与常规的二极管类似,但添加了响应光的材料。

当光照射到光电二极管上时,光能被吸收并通过光电效应转化为电能。

这种转化可以用于光电测量、光通信和光电传感等应用。

2. 光电探测器光电探测器是一种在低光下将光信号转化为电信号的器件。

它通常由光电二极管和放大电路组成。

光照射到光电探测器上后,产生的微弱电流通过放大电路放大,从而得到较大的输出信号。

光电探测器在低光条件下具有较高的灵敏度,广泛应用于夜视、红外探测等领域。

3. 光电发射器光电发射器是一种将电信号转化为光信号的器件。

它的结构与半导体激光器相似,通过激活半导体材料产生受激辐射,将电能转化为光能。

光电发射器常用于光通信和光纤传输等领域,将电信号转化为光信号后,可以通过光纤远距离传输,并在接收端进行光电转换。

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§1.2 半导体的光电导
1、附加电导率
0 q(nn0 p p0 ) q[n (n0 n) p ( p0 p)]
q(nn0 p p0 ) q(nn p 态光电导及其弛豫过程
(1)定态光电导( △σs ):恒定光照下产生的光电导。
2、光电池(太阳电池)及光电二极管的基本原理
hv
p
IF I
IL
n
E自
3、光电池的电流电压特性
ns In , p I p
则定态光电导为:
s qI (nn p p )
△n
△n =βαI t
△ns
t
光生载流子浓度随时间的变化
(2)光电导弛豫现象
光照下光电导率逐渐上升和光照停止后光电导率逐 渐下降的现象,称为光电导弛豫现象。
• 小注入情况光电导上升和下降函数为:
t
s (1 e ),
7.41109 s
光电导增益:
ph
n t
(1
p n
)
106 7.41109
(1
480 ) 1350
1.83102
光电导增益与频率相应的开关速度矛盾,须折衷考虑。
4、复合和陷阱效应对光电导的影响
(1)复合对光电导的影响
(2)陷阱效应对光电导的影响
少数载流子陷阱作用:增加定态光电导灵敏度; 多数载流子陷阱作用:使光电导弛豫时间增长。
(2)光电导增益因子 G n , t
l2 t nV
流过半导体的电流密度: J (J0 J L ) (0 )E
均匀光照,即稳态情况下: n GLn
光生电流为: IL J L A AE qGLn (n p ) AE
如电子迁移率为μn,电极间距为l,则渡越时间为:
t
l nE
光电导增益为:
设 I 表示以光子数计算的光强度,α为样品的吸收系数, 则单位时间单位体积内吸收的光能量与光强度 I 成正比。
dI I dx
αI 等于单位体积内光子的吸收率,从而电子-空穴对的 产生率可写为:
Q I
β为量子产额
t 时刻光生载流子的浓度为:
n p It
设光生电子和空穴的寿命分别为τn和τp,则定态光生载 流子浓度为:
(x)
Iv0
Iv(x)
Iv(x)+dIv(x)
积分得, Iv (x) Iv0ex
式中
2k 4k
k是媒质的消 dx
c
光系0 数。
x
α为吸收系数,表示单位距离的光吸收。单位:cm-1。
Iv Iv0
α4 α3 α2
α4>α3>α2>α1
α1
0
x
不同吸收系数光强与距离的关系
2、反射系数与透射系数
半导体光电器件基础
学习重点:
1、半导体的光吸收 2、半导体光生伏特效应 3、半导体发光
§1.1 半导体的光吸收
1、光吸收系数
媒质中光的衰减与光强度成正比,
Iv
(x
dx)
Iv
(x)
dIv (x) dx
光在媒质中传播1/α距
d离x时 能量Iv减(x弱)d到x 原来
能量的1/e。
dIv (x) dx
Iv
• 激子消失途径
(3)自由载流子吸收 自由载流子在同一带内的跃迁所引起的吸收,称为自由
载流子吸收。 (4)杂质吸收
束缚在杂质能级上的电子吸收光子跃迁到导带能级;空 穴吸收光子而跃迁到价带,这种光吸收称为自由杂质吸收。
h0 EI
EI为杂质能级上电子或空穴的电离能。
(5)晶格振动吸收
光子能量直接转换为晶格振动动能的吸收,称为晶格振 动吸收。
△σ
t
se
△σs
01 2 3 0 1 2 3
t
(上升时间)
(下降时间)
光电导的弛豫过程
• 强注入情况光电导上升和下降函数为:
n
I
1/ 2
tgh
(Ir)1/ 2 t
r
n
r I
1 1/ 2
rt
I r
1/ 2
1
1
(
Ir)1/
2
t
3、光电导灵敏度及光电导增益
(1)光电导灵敏度:单位光照度引起的光电导。
h h 0 Eg
h 0:能够引起本征吸收的最低限度光子能量。 0 c / 0:称为半导体的本征吸收限。
hc
1.24
0 Eg (eV ) Eg (eV ) (m)
半导体禁带宽度Eg与λ0的对应关系
• 直接跃迁 电子跃迁的选择定则:电子吸收光子产生跃迁时波矢保
持不变。 直接跃迁:本征吸收过程中,保持电子波矢不变的跃迁
称为直接跃迁。
• 间接跃迁 间接跃迁:本征吸收过程中,除了吸收光子外还与晶格
交换能量的非直接跃迁称为间接跃迁。
几种不同半导体的吸收系数与波长的关系
(2)激子吸收
当光子能量小于半导体禁带宽度时,价带电子受激发后 虽然跃出了价带,但还不足以进入导带而成为自由电子,仍 然受到空穴的为库仑场作用。受激电子和空穴互相束缚而结 合在一起成为一个新的系统,这种系统称为激子。这样的光 吸收称为激子吸收。
将电能转换成光能的器件,如发光二极管(LED)和激光 二极管。
§1.3 半导体光生伏特效应
1、p-n结的光生伏特效应
p-n结势垒区中存在的由n区指向p区的内建电场作用于 结两边的光生少子,各自向相反方向运动:p区的电子穿过 p-n结进入n区;n区的空穴进入p区,p端电势升高,n端电 势降低,于是p-n结两端产生光生电动势,这就是p-n结的 光生伏特效应。
IL
ph
qGILLnt
qGL Al
(1 p ) Al
n(1n p
t
n
)
例题:计算硅光电导体的增益。 n型硅,长度l = 100 um,横 截面A=10-7cm2 ,少子寿命 p=10-6s,所加电压 V=10 (V)。
解:
电子渡越时间为:
t
l nE
l2 nV
(100104 )2 (1350)(10)
反射系数:R
(n 1)2 (n 1)
k2 k2
透射系数:T 透射光强度 (1 R)2 ed 入射光强度
RI v0
(1 R)Iv0 Iv0
R(1
R)I
ed
v0
(1 R)2 Iv0ed
(1 R)Iv0ed
3、半导体的光吸收
(1)本征吸收
半导体中电子通过导带与价带之间的跃迁所形成的吸 收过程称为本征吸收。
5、本征光电导的光谱分布
对应于不同的波长,光电导响应灵敏度的变化关系。
6、杂质光电导
光照使束缚于杂质能级上的电子或空穴电离,因而增加 了导带或价带的载流子浓度,产生杂质光电导。
半导体光电器件的类型
补充内容
光电转换目的是探测或获取光能信息。如pn结光电二极 管、PIN光电二极管、雪崩二极管等。
光电转换的目的是产生能量,这种器件称为光电池,或太 阳能电池。
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