4-PCB碱性蚀刻液
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
影响蚀刻速率的因素
3.溶液PH值的影响 蚀刻液的PH值应保持在8.0~8.8之间。当PH值降到8.0
以下时,一方面是对金属抗蚀层不利。另一方面,蚀刻液 中的铜不能被完全络合成铜氨络离子,溶液要出现沉淀, 并在槽底形成泥状沉淀。这些泥状沉淀能在加热器上结成 硬皮,可能损坏加热器,还会堵塞泵和喷嘴,给蚀刻造成 困难,如果溶液PH值过高,蚀刻液中氨过饱和,游离氨释 放到大气中,导致环境污染。另一方面,溶液的PH值增大 也会增大侧蚀的程度,而影响蚀刻的精度。
PH值
蚀刻液的 温度
影响蚀刻速率的因素
1.Cu2+浓度的影响 因为Cu2+是氧化剂,所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主 要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明:在0-11盎司 /加仑时,蚀刻时间长;在11-16盎司/加仑时,蚀刻速率 较低,且溶液控制困难;在18-22盎司/加仑时,蚀刻速率 高且溶液稳定;在22-30盎司/加仑时,溶液不稳定,趋向 于产生沉淀。
自动控制调整
随着蚀刻的进行,蚀刻液中铜含量不断增加,比 重逐渐升高,当蚀刻液中铜浓度达到一定高度时就要 即使调整。在自动控制补加装置中,是利用比重控制 器控制蚀刻液的比重。当比重升高时,带动比重控制 器浮球上升,当比重达到某一程度时启动自动添加系 统,子液添加到工作液中,自动排放比重过高的溶液, 并添加新的补加液,比重降低而带动浮球下降,到某 一程度时添加系统即自动关闭,使蚀刻液的比重调整 到允许的范围。补加液要事先配制好,放入补加桶内, 使补加桶的液面保持在一定的高度。
影响蚀刻速率的因素
4.温度的影响 蚀刻速率与温度有很大关系,蚀刻速率随着温度的
升高而加快。蚀刻液温度低于40℃,蚀刻速率很慢,而 蚀刻速率过慢会增大侧蚀量,影响蚀刻质量。温度高 于60℃,蚀刻速率明显增大。但NH3的挥发量也大大增 加,导致污染环境并使蚀刻液中化学组份比例失调。 故一般应控制在45℃~55℃为宜。
注:1加仑(美制)=3.785升 1盎司=28.35克 1盎司/加仑 =28.35/3.785=7.5G/1
影响蚀刻速率的因素
2.氯化铵含量的影响
通过蚀刻再生的化学反应可以看出:[Cu(NH3)2]1+的再 生需要有过量的NH3和NH4Cl存在。如果溶液中缺乏 NH4Cl,而使大量的[Cu(NH3)2]1+得不到再生,蚀刻速率就 会降低,以至失去蚀刻能力。所以,氯化铵的含量对蚀 刻速率影响很大。随着蚀刻的进行,要不断补加氯化铵。 但是,溶液中Cl-含量过高会引起抗蚀层被浸蚀。一般蚀 刻液中NH4Cl含量在180g/l左右。
蚀刻液再生原理 碱性蚀刻液再生反应:
2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2 O2 →2Cu(NH3)4Cl2+H2O
从上述反应可看出,每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2 克分子氯化铵。因此,在蚀刻过程中,随着铜的溶解,应不断补 加氨水和氯化铵,因而蚀刻槽工作液(也叫母液)会不断增加。 由于所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀刻能力, 所以必须排除部分母液,增加新的子液(子液不含铜离子)来满 足蚀刻要求。
培训课题:PCB碱性蚀刻液 讲 师: 培训时间:
蚀刻
印制电路板(PCB)加工的典型工艺采用“图 形电镀法”。即先在板子外层需保留的铜箔部分上 (是电路的图形部分)预镀一层铅锡抗蚀层,然后 用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉,称为蚀刻。
PCB蚀刻分为碱性和酸性两种,一为盐酸双氧 水体系(酸性);二为氯化铵氨水体系(碱性)。
蚀刻过程中常出现的问题
蚀刻速率降低 这个问题与许多因素有关。要检查蚀刻条件,例如:
温度、喷淋压力、溶液比重、PH值和氯化铵的含量等,使 之达到适宜的范围。
抗蚀层被浸蚀 由于蚀刻液PH值过低或Cl含量过高所造成的。
铜的表面发黑,蚀刻不动 蚀刻液中NH4Cl的含量过低所造成的。
谢 谢!
本PPT主要针对碱性蚀刻液进行讲解。
蚀刻液原理
在蚀刻过程中,板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子 氧化,其蚀刻反应如下:
Cu(NH3)4Cl2+Cu →2Cu(NH3)2Cl
所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀 刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下,能很快地被空 气中的O2所氧化,生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络 离子。
碱性蚀刻液各组分作用
国内目前大多采用下列配方
CuCl2·2H2O 100~150g/l
NH4Cl 100g/l
NH3·H2O 670~700ml/12
配制后溶液PH 值在9.6左右
溶液中各组份的作用:
NH3*H2O的作用是作为络合剂,使铜保持在溶液里。 NH4Cl的作用是能提高蚀刻速率、溶铜能力和溶液的稳
定性。 (NH4)3PO4的作用是能保持抗蚀镀层及孔内清洁。
碱性蚀刻液进行蚀刻的典型工艺流程
镀覆金属抗蚀层的
印制板(金、镍、锡 铅、锡、锡镍等镀
层)
去膜
水洗
水洗
用不含Cu2+的 补加液二次蚀
刻
碱性蚀刻
吹干 检查修板
检查
浸亮(可选ຫໍສະໝຸດ Baidu)
水洗
吹干
影响蚀刻速率的因素
蚀刻速率因素
Cu2+的浓 度
氯化铵浓 度