MEMS考试复习题最终版
微系统MEMS-复习资料(北理考试)
MEMS考试复习资料、总结一、名词解释微系统:“个”小功能却强大的微装置。
微机电系统(MEMS:Micro Electromechanical System)①是在微电子技术(半导体制造技术)基础上发展起来的,融合了光刻、腐蚀、薄膜、LIGA、硅微加工、非硅微加工和精密机械加工等技术制作的高科技电子机械器件,②是集微传感器、微执行器、微机械结构、微电源微能源、信号处理和控制电路、高性能电子集成器件、接口、通信等于一体的独立智能微型系统。
③其内部结构一般在微米甚至纳米量级,微型化、智能化、多功能、高集成度和适于大批量生产。
热管理:控制温度在合理范围的散热管理系统。
多芯片组件(MCM:Multi-Chip Module)①是将多块半导体裸芯片组装在一块布线基板上的一种封装技术。
②其余混合集成电路产品并没有本质区别,只不过多芯片组件具有更高的性能、更多的功能和更小的体积,可以说多芯片组件属于高级混合集成电路产品。
CSP(Chip Scale Package)封装:芯片级封装> BGA封装:球栅阵列封装与BGA封装相比,同等空间下CSP封装可以将存储容量提高。
SSI:小规模集成电路(Small Scale Integration )通常指含逻辑门数小于10 门(或含元件数小于100个)。
根据集成电路规模的大小,通常将其分为SSI 、MSI 、LSI 、VLSI。
分类的依据是一片集成电路芯片上包含的逻辑门个数或元件个数。
陀螺仪(gyroscope):①人们利用陀螺的力学性质、运动特性所制成的各种功能的陀螺装置称为陀螺仪②陀螺仪是用高速回转体的动量矩敏感壳体相对惯性空间绕正交于自转轴的一个或二个轴的角运动检测装置。
利用其他原理制成的角运动检测装置起同样功能的也称陀螺仪。
数据融合:数据融合是指利用计算机对按时序获得的若干观测信息,在一定准则下加以自动分析、综合,以完成所需的决策和评估任务而进行的信息处理。
mems期末试题及答案
mems期末试题及答案【正文】MEMS期末试题及答案一、选择题(每题2分,共20分)1. 下列关于MEMS的说法正确的是:A. MEMS是一种电子器件B. MEMS只能用于传感器领域C. MEMS是一种微纳技术D. MEMS无法用于生物医学应用领域答案:C2. MEMS技术的主要特点是:A. 小尺寸B. 低成本C. 高效能D. 非可靠性答案:A、B、C3. MEMS是以下哪些学科的交叉融合?A. 机械工程B. 电子工程C. 材料科学D. 生物医学答案:A、B、C4. 压电效应被广泛应用于MEMS的领域是:A. 加速度计B. 血压计C. 光学元件D. 微机械臂答案:A5. 以下哪种测量原理常用于MEMS传感器?A. 磁敏效应B. 光电效应C. 压电效应D. 热敏效应答案:A、B、C、D6. MEMS器件中常用的制造工艺是:A. 电子束光刻B. 离子刻蚀C. 激光切割D. 干法腐蚀答案:A、B、D7. MEMS的应用范围包括以下哪些领域?A. 生物医学B. 人工智能C. 科学研究D. 工业制造答案:A、C、D8. MEMS技术对现代社会的影响主要体现在:A. 提高生产效率B. 创造新的应用领域C. 降低成本D. 减少环境污染答案:A、B、C9. MEMS器件的最小尺寸可以达到:A. 0.1mmB. 0.01mmC. 0.001mmD. 0.0001mm答案:C10. MEMS技术的发展趋势是:A. 更高的集成度B. 更小的尺寸C. 更低的功耗D. 更高的可靠性答案:A、B、C、D二、简答题(每题10分,共40分)1. 什么是MEMS技术?请简要介绍其基本原理。
答案:MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems),即微电子机械系统,是一种以微纳制造技术为基础,通过集成电路制造技术和微机械工艺制造微米尺度的机械结构和器件的技术。
其基本原理是通过微纳加工的方法,将微机械结构和电子、光电器件集成在一起,实现机械与电子的合一。
石墨在微电子机械系统(MEMS)的设计考核试卷
4.石墨烯在MEMS中的制备方法中,______法适合大规模生产。
5.石墨在MEMS中的热稳定性主要取决于其______。
6.下列材料中,______是石墨烯的一种重要衍生物,具有良好的光学性能。
7.石墨在MEMS中作为结构材料时,其______是设计时需要重点考虑的性能指标。
C.石墨的厚度
D.石墨的取向
12.下列哪种方法不适合石墨烯的转移?()
A.聚合物辅助转移
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱB.蒸镀转移
C.湿法转移
D.直接印刷转移
13.石墨烯在MEMS中用作传感器时,主要检测以下哪类信号?()
A.生物信号
B.光学信号
C.热学信号
D.机械信号
14.石墨在MEMS中的应用,以下哪种情况不需要考虑其生物相容性?()
A.储能材料
B.导电油墨
C.生物兼容涂层
D.磁性材料
18.以下哪些是石墨烯在能源领域的应用?()
A.锂离子电池
B.燃料电池
C.太阳能电池
D.风能转换
19.石墨在MEMS中作为结构材料时,需要考虑以下哪些因素?()
A.机械强度
B.刚度
C.耐腐蚀性
D.热膨胀系数
20.以下哪些技术可以用于石墨烯的表征?()
A.内置医疗器件
B.外置传感器
C.微型泵
D.微型电机
15.下列哪种材料与石墨烯在MEMS中的应用无关?()
A.硅
B.金
C.二氧化硅
D.聚合物
16.石墨烯在MEMS中的导电性主要受到以下哪个因素的影响?()
A.层数
B.尺寸
电子测量仪器的微机电系统技术考核试卷
考生姓名:__________答题日期:______/______/_____得分:_________判卷人:_________
一、单项选择题(本题共20小题,每小题1分,共20分,在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的)
1.微机电系统(MEMS)主要指的是:()
A.尺寸进一步缩小
B.功能更加集成
C.性能更加稳定
D.应用领域更加广泛
三、填空题(本题共10小题,每小题2分,共20分,请将正确答案填到题目空白处)
1.微机电系统(MEMS)是一种利用半导体加工技术制造微小机械结构和电子系统的技术,其英文名称是_______。
2. MEMS技术的核心是微加工技术,其中最常用的微加工技术是_______。
A.尺寸
B.材料特性
C.环境适应性
D.成本
15.以下哪些是MEMS技术在汽车行业中的应用实例?()
A.发动机控制系统
B.碰撞传感器
C.轮胎压力监测
D.导航系统
16.以下哪些是MEMS器件常见的封装类型?()
A.陶瓷封装
B.塑料封装
C.玻璃封装
D.金属封装
17. MEMS技术中,以下哪些方法可以用来进行表面处理?()
B.功能性测试
C.计算机辅助设计
D.精密机械测量
12. MEMS技术可以用于以下哪些类型的传感器?()
A.压力传感器
B.磁场传感器
C.光学传感器
D.温湿度传感器
13.以下哪些环境因素对MEMS器件有影响?()
A.离子辐射
B.气体腐蚀
C.温度变化
D.湿度
14. MEMS器件在设计时需要考虑以下哪些因素?()
微机电系统开发考核试卷
B.湿度
C.离子辐射
D.电磁干扰
14.以下哪些技术是MEMS制造中的表面微加工技术?()
A.光刻
B.蚀刻
C.化学气相沉积
D.离子注入
15.以下哪些是MEMS在医疗领域的应用?()
A.心脏起搏器
B.内窥镜
C.生物传感器
D.药物输送系统
16.以下哪些是MEMS在航空航天领域的应用?()
A.导航系统
2. MEMS制造主要包括光刻、蚀刻、沉积等工艺,这些工艺直接影响产品的尺寸、精度和可靠性。如光刻工艺的精度决定了器件的最小特征尺寸。
3.设计MEMS传感器时需考虑物理原理、材料特性、环境因素等,这些因素影响传感器的灵敏度、精度和稳定性。
4.我国MEMS产业处于快速发展阶段,面临的挑战包括技术创新、市场开拓和产业链完善。发展策略应聚焦于技术研发、产业协同和人才培养。
C.压力
D.光学
6.下列哪种材料不适合用于MEMS制造?()
A.硅
B.铜铝合金
C.塑料
D.玻璃
7.以下哪种技术不是MEMS制造的关键技术?()
A.光刻技术
B.蚀刻技术
C.射频技术
D.化学气相沉积
8. MEMS技术在以下哪个领域应用广泛?()
A.生物医学
B.航空航天
C.信息技术
D.所有以上领域
9.以下哪个不是MEMS产品的优点?()
微机电系统开发考核试卷
考生姓名:答题日期:得分:判卷人:
一、单项选择题(本题共20小题,每小题1分,共20分,在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的)
1.微机电系统(MEMS)主要是基于以下哪项技术?()
A.电子技术
MEMS复习题(附参考答案)
08’MEMS复习题1.MEMS的概念,MEMS产品应用。
MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)是指微型化的器件或器件组合,把电子功能与机械的、光学的或其他的功能形结合的综合集成系统,采用微型结构(集微型传感器、微型执行器、信号处理和控制电路、接口电路、通信系统以及电源),使之能在极小的空间内达到智能化的功效。
MEMS 是Micro Electro Mechanincal System 的缩写,即微机电系统,专指外形轮廓尺寸在毫米级以下,构成它的机械零件和半导体元器件尺寸在微米至纳米级,可对声、光、热、磁、压力、运动等自然信息进行感知、识别、控制和处理的微型机电装置。
微机电系统(MEMS)主要特点在于:(1)体积小、精度高、质量轻;(2)性能稳定、可靠性高;(3)能耗低,灵敏度和工作效率高;(4)多功能及智能化;(5)可以实现低成本大批量生产。
民用:MEMS对航空、航天、兵器、水下、汽车、信息、环境、生物工程、医疗等领域的发展正在产生重大影响,将使许多工业产品发生质的变化和飞跃。
军用:精确化、轻量化、低能耗是武器装备的主要发展趋势,这些特点均需以微型化为基础。
微型化的单元部件广泛应用于飞行器的导航和制导系统、通信设备、大气数据计算机、发动机监测与控制、“智能蒙皮”结构和灵巧武器中。
由硅微机械振动陀螺和硅加速度计构成的MEMS惯性测量装置已用于近程导弹,并显著提高导弹的精确打击能力。
微型化技术在武器装备上的另一个重要发展是微小型武器,如微型飞行器、微小型水下无人潜水器、微小型机器人和微小型侦察传感器等。
具体应用:打印机喷嘴——用于打印机;微加速度计和角速度计——应用于汽车安全气囊;微加工压力传感器——用于进气管绝对压力传感器;由硅微振动陀螺和硅加速度计构成的MEMS惯性测量装置——用于军品中的近程导弹。
2.湿法刻蚀和干法刻蚀的概念,两者异同点以及在MEMS中的应用。
微电子学概论复习题及答案(详细版)
第一章 绪论1.画出集成电路设计与制造的主要流程框架。
2.集成电路分类情况如何?⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎪⎪⎪⎩⎪⎪⎪⎪⎨⎧⎩⎨⎧⎪⎩⎪⎨⎧按应用领域分类数字模拟混合电路非线性电路线性电路模拟电路时序逻辑电路组合逻辑电路数字电路按功能分类GSI ULSI VLSI LSI MSI SSI 按规模分类薄膜混合集成电路厚膜混合集成电路混合集成电路B iCMOS B iMOS 型B iMOS CMOS NMOS PMOS 型MOS双极型单片集成电路按结构分类集成电路3.微电子学的特点是什么?微电子学:电子学的一门分支学科微电子学以实现电路和系统的集成为目的,故实用性极强。
微电子学中的空间尺度通常是以微米(m, 1m =10-6m)和纳米(nm, 1nm = 10-9m)为单位的。
微电子学是信息领域的重要基础学科微电子学是一门综合性很强的边缘学科涉及了固体物理学、量子力学、热力学与统计物理学、材料科学、电子线路、信号处理、计算机辅助设计、测试与加工、图论、化学等多个学科微电子学是一门发展极为迅速的学科,高集成度、低功耗、高性能、高可靠性是微电子学发展的方向微电子学的渗透性极强,它可以是与其他学科结合而诞生出一系列新的交叉学科,例如微机电系统(MEMS)、生物芯片等4.列举出你见到的、想到的不同类型的集成电路及其主要作用。
集成电路按用途可分为电视机用集成电路、音响用集成电路、影碟机用集成电路、录像机用集成电路、电脑(微机)用集成电路、电子琴用集成电路、通信用集成电路、照相机用集成电路、遥控集成电路、语言集成电路、报警器用集成电路及各种专用集成电路。
5.用你自己的话解释微电子学、集成电路的概念。
集成电路(integrated circuit)是一种微型电子器件或部件。
集成电路的微机电系统(MEMS)技术考核试卷
8. MEMS封装的主要目的是为了提供_______保护、电气连接和防止污染。()
9.目前MEMS技术的主要应用领域包括消费电子、_______、医疗和汽车等。()
10.随着技术的不断发展,MEMS技术的未来发展趋势将更加注重_______、_______和_______。()
A.空气bag传感器
B.发动机控制系统
C.轮胎压力监测系统
D. GPS导航系统
19.以下哪种材料最适合用于MEMS的润滑?()
A.石蜡
B.氟化物
C.硅油
D.水
20.关于MEMS技术的未来发展趋势,以下哪个描述是不正确的?()
A.更高的集成度
B.更低的成本
C.更小的尺寸
D.更少的应用领域
二、多选题(本题共20小题,每小题1.5分,共30分,在每小题给出的四个选项中,至少有一项是符合题目要求的)
5. A, B, C, D
6. A, B, D
7. A, B, C, D
8. A, B, C, D
9. A, B, C, D
10. A, B, C, D
11. A, B, C
12. A, B, C
13. A, B, C, D
14. A, B, D
15. B, D
16. A, B, C
17. A, B, C
10.低成本、低功耗、多功能(Low cost, Low power consumption, Multi-function)
四、判断题
1. ×
2. ×
3. √
4. √
5. √
6. √
微电子机械系统MEMS设计与制造考核试卷
8.在所有的应用场景中,MEMS器件的尺寸越小越好。(×)
9. MEMS技术在生物医学领域的应用前景非常广阔。(√)
10.所有MEMS器件都可以采用硅微加工技术制造。(×)
五、主观题(本题共4小题,每题10分,共40分)
1.请简述MEMS技术的定义及其主要特点,并举例说明MEMS器件在日常生活中的应用。
A.微型加速度计
B.微型麦克风
C.微型太阳能电池
D.微型温度传感器
2. MEMS的全称是?()
A. Micro Electrical Machine System
B. Micro Electronic Machine System
C. Micro Electro Mechanical System
D. Micro Engineered Mechanical System
A.硅
B.玻璃
C.铝
D.钨
6. MEMS设计流程中,哪些环节是必要的?()
A.设计与仿真
B.原型制作
C.测试与优化
D.市场调研
7.以下哪些技术可以用于MEMS器件的封装?()
A.金线键合
B.铝线键合
C.焊接
D.粘接
8. MEMS器件的测试主要包括哪些方面?()
A.电学性能测试
B.机械性能测试
C.环境适应性测试
A.加速度计
B.心率传感器
C.温度传感器
D. GPS模块
13.提高MEMS器件耐磨性的方法包括以下哪些?()
A.硅化物涂层
B.氧化物涂层
C.纳米材料涂层
D.防腐蚀涂层
14.以下哪些是MEMS技术面临的主要挑战?()
机器人制造中的微机电系统技术考核试卷
B.光通信
C.内窥镜检查
D.激光打印
( )
16.以下哪些是压电MEMS的特点?
A.高响应速度
B.低功耗
C.小尺寸
D.易于集成
( )
17. MEMS加速度计在智能手机中的应用包括哪些?
A.摔落检测
B.屏幕旋转
C.游戏控制
D.位置定位
( )
18.以下哪些技术可以用于MEMS的表面改性?
A.化学气相沉积
C.多晶硅沉积
D.牺牲层技术
( )
18. MEMS技术在智能手机中的应用主要是?
A.电池管理
B.屏幕显示
C.指纹识别
D.无线充电
( )
19.下列哪种技术不是MEMS制造过程中的封装技术?
A.硅通孔技术(TSV)
B.环氧树脂封装
C.键合技术
D.焊接技术
( )
20.以下哪个不是MEMS微执行器的驱动方式?
B.等离子体处理
C.激光加工
D.热氧化
( )
19. MEMS在航空航天领域的应用包括哪些?
A.飞行控制系统
B.环境监测
C.导航系统
D.结构健康监测
( )
20.以下哪些是MEMS产品的商业化挑战?
A.成本控制
B.可靠性
C.标准化
D.市场接受度
( )
三、填空题(本题共10小题,每小题2分,共20分,请将正确答案填到题目空白处)
A.电磁驱动
B.热驱动
C.声波驱动
D.光驱动
( )
7.以下哪些是MEMS陀螺仪的特点?
A.尺寸小
B.成本低
C.功耗低
D.灵敏度高
( )
MEMS设计与制造题库
第一章2.MEMS器件的尺寸范围是 1。
10.“芯片上的实验室”是。
11.现代微加工技术的起源是 10。
14.单词“LIGA.”是指 8。
18.微系统部件的“深宽比”被定义为之比16。
二、简单题:3.微系统和微电子技术之间最明显的区别是什么?1210.根据你的学术和背景,描述你在这个多学科微系统技术中能扮演的角色。
第二章一、填空题14.形状记忆合金材料有如下特性 48、64。
15.压电驱动工作原理 49、64。
16.电极之间间隙减小,静电驱动力 50、64。
二、简答题3.简述微型压力传感器三种信号变换方法的原理。
最少各举出一个优点和一个缺点。
(39~44)4.微传感器、致动器和流体器件的主要作用。
(62)9.简述四种微器件常用的驱动技术。
每种技术至少举出一个优点和一个缺点。
()第三章一、填空题31.电解液是电解工艺中传导电流的 81。
二、简答题5.确定在扩散工艺中实现掺杂砷、磷和硼时,硅基底的最佳温度。
以及在这些最佳温度下掺杂剂的溶解度。
7.确定在硅基底中掺杂剂所需要的时间,要求掺杂后深度2m μ处硅的电阻率为cm ∙Ω-310。
10.解释微流体流动中的毛细效应,为什么常规的机械泵不能驱动有毛细效应的小管道中的流体。
11.描述量子物理学在MEMS 和微系统设计中的角色。
第四章一、填空题4.从力学角度来看,最适合的微传感器薄片的几何形状为 。
6.微器件的固有频率是由它的 所决定的。
7.理论上微器件有 个固有频率。
8.对微器件中的几个或者所有固有频率的分析被称做 。
9.当激励力的频率 器件的任一固有频率时,该器件会发生共振。
10.在质量弹簧系统中缓冲器可以对系统起到 的作用。
15.在 的情况下,机械约束的微器件组件中将感应出热应力。
16.在由不同的材料制造的微器件中感应出热应力的原因是。
18.材料的蠕变在下变得严重。
24.微结构里的失效力学分析需要描述内部的应力状态。
26.有限元分析的第一步是。
28.用有限元分析应力的主要未知量是。
MEMS考试重点
1What’s MST ?what’s micro-machine ? MEMS, NEMS, micro-system? and explain them simply ?(P2)答MEMS is simultaneously a toolbox, a physical product, and a methodology, all in one:A micro-system is an intelligent miniaturized system comprising sensing, processing and actuating functions. These would normally combine two or more of the following: electrical, mechanical, optical, chemical, biological, magnetic or other properties integrated into a single or multichip hybrid.MST is Microsystems technology, it's a name of technology called in Europe, and the technology is called microelectromechanical systems (MEMS). NEMS: Nano-Electromechanical system, it’s feature sizes in 1-10 nm, combined mechanical and electrical, new effect devices and systems based on nano structure. Micro machining is the set of design and fabrication tools that precisely machine and form structure and elements at a scale well below the limits of our human perspective faculties – the micro-scale.MEMS micro- electro – mechanical systems is a technology that in its most general form can be defined as miniaturized mechanical and electro-mechanical elements that are made using the techniques of micro-fabrication.2,What are advantages of microtechnology? Why are different governments interested in MEMS?答: Advantages:∙It is a brand-new field has to consider a variety of physical fields of the mixing action research, compared with the traditional mechanical technologies.∙The size much smaller, 0.1~100um, its thickness much smaller.∙Use the silicon material, which has good electrical performance, strength, hardness, and Young Modules are similar with iron. Good heat transfer rate.∙Can use in production of the mature of IC technology, process, make high-volume , low-cost production.∙Higher level functions, integrate smaller function together into one package for great utility.∙Brings cost benefits directly through low unit pricing by cutting silica and maintenance costs.Micro electrical mechanical structures and systems miniature devices that enable the operation of complex systems. They exist today in many environments, especially auto motive, medical, consumer, industrial and aerospace. Their potential for future penetration into a broad range of applications is real supported by strong development activities. At many companies and fabrication processes. The development of MEMS is inherently inter disciplinary, necessitating and understanding of the tool box as well as of the end application.3 What are main application fields of MEMS? Explain these fields respectively (speak out at least four fields). You may take some example to support your ideas.(P3)答:Four application fields.(1).In the commercial application1)Drug delivery systems.2)RF and wireless electronics.3)Engine and propulsion control.(2).In the military application1)Head-and night-display systems.2)Low-power,high-density mass data storage devices.3)Embedded sensors and actuators for condition-based maintenance.(3).In car industry application1)MEMS pressure sensors.2)MEMS brake sensors.3)MEMS acceleration sensors.4)Auto motive safety braking and suspension systems.(4).In biochemical and medical application1)Miniature biochemical analytical.2)Invasive and noninvasive biomedical sensors.3)Medical imaging.4)minimally invasive surgery.4 Introduction one basic process tools.(P34)答: OxidationHigh-quality amorphous silicon dioxide is obtained by oxidizing silicon in either dty oxygen or in steam at elevated temperatures(8500C-11500C).Oxidation mechanism have showing final oxide thickness as function of temperature,oxidizing environment,and time are widely available.Thermal oxidation of silicon generates compressive stress in the silicon dioxide film.There are two reasons for the stress:silicon dioxide molecules take more volume than silicon atoms,and there is a mismatch between the coefficients of thermal expansion of silicon and silicon dioxide.The compressive stress depends on the total thickness of the silicon dioxide layer and can reach hundreds of Mpa.As a result,thermally grown oxide films cause bowing of the underlying substrate.Moreover,freestanding membranes and suspended cantilevers made of thermally grown silicon oxide tend to warp or curl due to stress variation through the thickness of the film.5 Introduction photolithography process.(P40)答: Lithography involves three sequential steps:∙Application of photoresist, which is photosensitive emulsion layer;∙Optical exposure to print an image of the mask onto the resist;∙Immersion in an aqueous developer solution to dissolve the exposed resist and render visible the latent image.Photolithography is the process of transferring shapes on a mask to the surface of a silicon wafer. The steps involved in the photolithography process are wafer cleaning; barrier layer formation; photoresist application; soft baking; mask alignment; exposure and development; and hard-baking. 6.Brief explanations of the difference between isotropic(各向同性的) and anisotropic(各项异性的).(P45)答:Isotropic etchants etch uniformly in all directions, resulting in rounded cross-sectional features. By contrast, anisotropic etchants etch in some directions preferentially over others, resulting in trenches or cavities delineated by flat and well-defined surfaces, which need not be perpendicular to the surface of the wafer. The etch medium (wet versus dry) plays a role in selecting a suitable etch method. Wet etch in aqueous solution offer the advantage of low-cost batch fabricaton--25to50 100-mm-diameter wafers can be etched simultaneously—and can be either of the isotropic or anisotropic type. Dry etching involves the use of reactant gases, usually in a low-pressure plasma, but nonplasma gas-phase etching is also used to a small degree. It can be isotropic or vertical. The equipment for dry etching is specialized and requires the plumbing of ultra-clean pipes to bring high-purity reactant gases into the vacuum chamber.Isotropic etchants etch uniformly .in all directions, resulting in rounded cross-sectional features. By contrast, anisotropic etchants etch in some directions preferentially over others, resulting in trenches or cavities delineated by flat and well-defined surfaces, which need not be perpendicular to the surface of the wafer. (page 45)各项同性蚀刻剂在各个方向的蚀刻都有一致性,形成了圆形的横截面特征。
MEMS复习参考
考试范围:1,MEMS的定义应用。
2,光刻的过程,及相关工艺。
3,湿法刻蚀中的各向异性刻蚀工艺,及自终止技术。
4,CVD PVD工艺及其相关薄膜技术。
5,MEMS三大工艺:体加工,表面微加工,键合工艺。
相关过程和应用。
6,封装形式。
1.MEMS的概念,MEMS产品应用。
MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)是指微型化的器件或器件组合,把电子功能与机械的、光学的或其他的功能形结合的综合集成系统,采用微型结构(集微型传感器、微型执行器、信号处理和控制电路、接口电路、通信系统以及电源),使之能在极小的空间内达到智能化的功效。
MEMS 是Micro Electro Mechanincal System 的缩写,即微机电系统,专指外形轮廓尺寸在毫米级以下,构成它的机械零件和半导体元器件尺寸在微米至纳米级,可对声、光、热、磁、压力、运动等自然信息进行感知、识别、控制和处理的微型机电装置。
微机电系统(MEMS)主要特点在于:(1)体积小、精度高、质量轻;(2)性能稳定、可靠性高;(3)能耗低,灵敏度和工作效率高;(4)多功能及智能化;(5)可以实现低成本大批量生产。
民用:MEMS对航空、航天、兵器、水下、汽车、信息、环境、生物工程、医疗等领域的发展正在产生重大影响,将使许多工业产品发生质的变化和飞跃。
军用:精确化、轻量化、低能耗是武器装备的主要发展趋势,这些特点均需以微型化为基础。
微型化的单元部件广泛应用于飞行器的导航和制导系统、通信设备、大气数据计算机、发动机监测与控制、“智能蒙皮”结构和灵巧武器中。
由硅微机械振动陀螺和硅加速度计构成的MEMS惯性测量装置已用于近程导弹,并显著提高导弹的精确打击能力。
微型化技术在武器装备上的另一个重要发展是微小型武器,如微型飞行器、微小型水下无人潜水器、微小型机器人和微小型侦察传感器等。
具体应用:打印机喷嘴——用于打印机;微加速度计和角速度计——应用于汽车安全气囊;微加工压力传感器——用于进气管绝对压力传感器;由硅微振动陀螺和硅加速度计构成的MEMS惯性测量装置——用于军品中的近程导弹。
哈工大MEMS复习资料
1、体硅工艺:(腐蚀工艺)从硅圆片上去除材料的过程。
4个特点:a. Typically wet etched 典型湿法腐蚀b. Traditional MEMS industry 传统MEMS工业c. Artistic design, inexpensive equipment 设计美观,设备廉价d. Issues with IC compatibility 与IC兼容自停止腐蚀PPT26页的补充:a. 采用各向异性腐蚀可以进行硅的高精度加工b. 硅也具有较强的压阻效应c. 压力传感器和加速度计是首先被发展起来的。
(碱性腐蚀液:~)2、表面微机械加工(iMEMS,POST-CMOS工艺):硅片本身不被腐蚀,在硅片上用连续生长功能层、结构层、牺牲层的工艺来制作微机械结构,借助多次光刻-套刻实现图形复制和层间对准,依靠牺牲层技术控制结构的分离与衔接。
a.Typically plasma etched(典型等离子刻蚀)b.IC-like design philosophy, relatively expensive equipment(IC设计理念,相当昂贵)c.Different issues with IC compatibility (不兼容)牺牲层技术:所谓“表面牺牲层”技术,即在形成微机械结构的空腔或可活动的微结构过程中,先在下层薄膜上用结构材料淀积所需的各种特殊结构件,再用化学刻蚀剂将此层薄膜腐蚀掉,但不损伤微结构件,然后得到上层薄膜结构(空腔或微结构件)。
由于被去掉的下层薄膜只起分离层作用,故称其为牺牲层。
3、DRIE(ICP):(深槽反应离子刻蚀技术)去除衬底层,但看起来与表面微机械加工相似。
工艺过程:钝化----刻蚀---钝化----刻蚀LIGA:(深刻电铸模造技术)LIGA技术是一种基于X射线光刻技术的MEMS加工技术,主要包括X光深度同步辐射光刻、电铸制模和注模复制三个工艺步骤。
MEMS技术与器件考核试卷
5. MEMS技术在__________领域的应用尤为广泛。()
6.传统的半导体加工技术与MEMS加工技术的主要区别在于__________。()
7. MEMS器件的__________是指其在特定环境下的性能稳定性。()
C.微流量传感器
D.微湿度传感器
13. MEMS技术中,哪种加工技术可以实现高深宽比的结构?()
A.光刻
B.干法刻蚀
C.湿法刻蚀
D.离子注入
14.下列哪种MEMS器件可以用于无线通信系统?()
A.微加速度计
B.微麦克风
C.微天线
D.微温度传感器
15. MEMS器件在生物医学领域主要用于以下哪个方面?()
MEMS技术与器件考核试卷
考生姓名:__________答题日期:__________得分:__________判卷人:__________
一、单项选择题(本题共20小题,每小题1分,共20分,在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合题目要求的)
1. MEMS是以下哪项技术的缩写?()
A. MicroElectrical Mechanical System
B. MacroElectrical Mechanical System
C. MiniElectrical Mechanical System
D. MegaElectrical Mechanical System
2.下列哪个不是MEMS技术的特点?()
A.尺寸小
B.成本高
C.集成度高
D.可批量生产
3. MEMS传感器通常采用哪种加工技术?()
MEMS考试
《微机电系统》课程复习提纲1.什么叫微机电系统?该学科的特点是什么?写出微机电系统在美国、日本和欧洲的英文术语。
2.给出微机电系统常用材料,并说明硅及其合金材料的特点。
3.尺寸微小是微机电系统的基本特征,简述微尺寸效应给MEMS带来的五种影响因素。
4.微尺寸效应对于微机械系统信号检测的影响是什么?并写出从设计上考虑需要遵循的原则。
5.说明微机电系统的制造与集成电路制造技术的联系与区别,并写出微机电系统的专用制造方法。
6.硅材料分单晶硅、多晶硅和非晶硅,写出单晶硅和多晶硅的区别和联系;并写出硅单晶在晶面上原子密度、扩散速度以及腐蚀速度的大小关系。
7.分别阐述应用于MEMS制造的体微细加工技术中湿法和干法加工技术的原理和特点。
8.在集成电路制造中经常使用掺杂技术,掺杂的目的是什么?主要采用哪两种技术?并说明其工作原理。
9.为什么外延生长技术在硅单晶薄膜制造中很重要?并说明汽相外延的定义,写出四氯化硅氢还原法和硅烷热分解法外延的化学反应式。
10.写出光刻工艺中曝光、显影和后烘的目的。
11.说明光刻工艺的基本原理,并阐述在光刻工艺中使用的负/正性光刻胶的区别。
12.左图是一差分对电路图,右图是某一版图设计师设计的版图,你觉得合适吗?如果不能满足工艺的要求,请说明不对的原因,并给出解决办法。
答:“栅极掩蔽”的效应: 这个效应是在源/漏区注入过程中由多晶硅栅极造成的。
因为注入物(或者说硅大晶片)有7°的倾斜以防止沟道效应的产生,这样一来,在源区或漏区的一条窄带会有少量的注入,对注入区热处理后,在源极和漏极边上的扩散会产生微小的不对称。
(10分)图(b)中把两个晶体管按不同方向放置,将会影响器件间的匹配。
因为在光刻和硅片制造流程中的许多工序都表现出沿不同方向的行为特征。
图(c)和(d)提供了两种可以接受的解决方案。
13.在版图设计中,大多数其他的尺寸都由“设计规则”设定。
也就是说,尽管工艺流程的每一步都存在着各种偏差,但这一套规则保证了合格晶体管的制作和互连。
MEMS考试复习提纲2016
1.解释微系统技术与微电子技术的差异2.比较MEMS封装与IC封装的不同3.介绍BioMEMS的分类及其典型结构的工作原理4.介绍微型电动机的工作原理,介绍微型加速度计的典型配置及其工作原理5.解释硅被优先选择作为MEMS衬底材料的原因。
6.MEMS材料中压电晶体材料、聚合物类材料各自特点及应用;如何使聚合物导电?7.介绍化学气相沉积的工作原理8.比较干法腐蚀和湿法腐蚀的不同之处9.等离子体在微加工中的作用10.叙述体硅微制造、表面微加工和LIGA工艺的特点及其优缺点11.表面微加工由几个的组成部件组成?对于表面微加工过程主要存在哪些力学问题,分别阐述其原因12.分析表面微加工中防止粘连产生的原因. 防止粘连的主要方法主要有哪三类?13.介绍LIGA工艺过程,在LIGA工艺过程中为什么电铸是必要的?LIGA对光刻胶有什么要求14.描述DRIE工艺并分析DRIE如何获得近乎完美垂直腐蚀结构15.比较体硅微制造与表面微加工工艺技术的异同点。
16.MEMS微系统封装主要难点17.键合技术主要应用领域,微系统元件键合的难点18.介绍粘合剂键合、共晶键合特点及工艺过程检测和控制要求19.介绍局部加热键合的主要方法,采用激光进行局部加热键合有何显著优点?20.介绍三种导线键合方法和特点,对导线键合过程控制检测要求有哪些21.为何对于MEMS器件制造,密封工序是要重点考虑的对象?按照材料分类,密封分为哪两类,各有何特点?22.集成密封过程的主要优点、步骤。
23.使用中间层进行晶片键合其工艺过程的主要特征。
使用中间层进行晶片键合的主要步骤。
24.判断真空密封好坏的依据。
阳极键合工艺与局部CVD沉积结合的真空密封步骤。
25.微组装过程中微观操作与宏观尺寸操作不同,具体叙述其特点26.比较微组装过程中,串行微组装与并行微组装的不同27.微组装系统设计一般准则及主要流程28.简述自动微组装系统的主要组成部分29.压力传感器封装设计的几个主要步骤30.简述图示的集成密封工艺过程。
mems期末试题及答案
mems期末试题及答案一、选择题(每题2分,共20分)1. MEMS技术中,"M"代表什么?A. MicroB. MacroC. MegaD. Mini答案:A2. 下列哪项不是MEMS传感器的常见应用?A. 汽车B. 医疗C. 航空D. 农业答案:D3. MEMS加速度计通常用于测量什么?A. 速度B. 加速度C. 温度D. 湿度答案:B4. 在MEMS制造过程中,下列哪项技术不常用?A. 光刻B. 蚀刻C. 焊接D. 沉积答案:C5. 下列哪种材料不是MEMS制造中常用的材料?A. 硅B. 玻璃C. 塑料D. 铁答案:D6. MEMS陀螺仪通常用于什么目的?A. 测量温度B. 测量压力C. 测量角速度D. 测量湿度答案:C7. 在MEMS技术中,"封装"指的是什么?A. 将MEMS器件放入保护壳中B. 将MEMS器件与外部电路连接C. 将MEMS器件与电源连接D. 将MEMS器件与计算机连接答案:A8. MEMS技术的一个主要优点是什么?A. 高成本B. 低功耗C. 低精度D. 低可靠性答案:B9. 下列哪项不是MEMS传感器的常见类型?A. 加速度计B. 陀螺仪C. 压力传感器D. 温度计答案:D10. MEMS技术可以应用于以下哪个领域?A. 消费电子B. 工业自动化C. 军事D. 所有以上答案:D二、填空题(每题2分,共20分)1. MEMS技术是一种利用______技术制造极小尺寸机械系统的技术。
答案:微电子2. 一个典型的MEMS传感器由______、执行器和控制电路组成。
答案:传感器3. 在MEMS制造中,______是一种常用的制造技术,用于创建微小结构。
答案:光刻4. MEMS传感器通常需要______来转换机械信号为电信号。
答案:转换器5. 一个MEMS加速度计可以测量______、______和______方向的加速度。
答案:X轴、Y轴、Z轴6. MEMS技术的一个主要应用是______,用于检测和测量运动。
MEMS考试复习题最终版
MEMS考试复习题(占80%)第一章 绪论1.微电子工业与MEMS的关系(网上搜索)教材总结:微电子工业与MEMS的关系主要有以下几点:1)对于MEMS的发展而言,微电子工业集成电路技术是起始点,集成电路产业按照摩尔定律一直发展到今天,推动着信息社会的迅速发展。
2)电子器件小型化和多功能集成是微加工技术的推动力。
3)MEMS是由集成电路技术发展而来的。
它经过了大约20年的萌芽阶段,在萌芽时期,主要是开展一些有关MEMS的零散研究。
PPT:1)微系统是从微传感器发展而来的,已有几次突破性的进展。
70年代微机械压力传感器产品问世,80年代末研制出硅静电微马达,90年代喷墨打印头,硬盘读写头、硅加速度计和数字微镜器件等相继规模化生产,充分展示了微系统技术及其微系统的巨大应用前景。
2)MEMS用批量化的微电子技术制造出尺寸与集成电路大小相当的非电子系统,实现电子系统和非电子系统的一体化集成,从根本上解决信息系统的微型化问题,实现许多以前无法实现的功能。
3)今天的MEMS与40年前的集成电路类似,MEMS对未来的社会发展的推动已经逐步显现,它也是21世纪初一个新的产业增长点。
2.几种主要的商业化MEMS器件及其优点(列举两到三种)1)MEMS压力传感器 优点:具有较高的测量精度、较低的功耗和极低的成本。
2)喷墨打印头 优点:廉价,性能好,可以提供高品质的彩色打印。
(高分辨率,高对比度)3)数字光处理器(DLP) 优点:与LCD投影相比,DLP具有更高的像素填充因子,更高的亮度、灰度和对比度,光利用效率高,对比度和色彩平衡的长期稳定性好。
4)集成惯性传感器(高灵敏度,低噪声,低使用成本,满足了汽车市场使用的需要)5)加速度传感器(对地震监测的超高灵敏度,高可靠性与长期稳定性)3.热墨喷头的结构(组成)和工作原理结构组成:喷墨嘴、加热条、墨汁腔热喷墨技术其工作原理是通过喷墨打印头(喷墨室的硅基底)上的电加热元件(通常是热电阻),在3微秒内急速加热到300摄氏度 ,使喷嘴底部的液态油墨汽化并形成气泡,该蒸汽膜将墨水和加热元件隔离,避免将喷嘴内全部墨水加热。
期末清华大学微电子MEMS 期末考题 王喆垚
发信人: Zero (如果云知道), 信区: Pretest标题: MEMS试题(王喆垚2009年6月19日10:38:21)发信站: 自由空间 (Fri Jun 19 10:37:50 2009), 站内1.用公式说明为什么硅的亚阻系数比Al大。
2.说明表面微加工和体加工的微陀螺在性能上有哪些优缺点。
3.时分复用DRIE刻蚀的深槽与表面夹角85°,问怎样调节能使角度调节为90°。
4.写出可变间距和可变面积电容式传感器的灵敏度。
并简述电容式传感器和压阻式传感器的优缺点。
5.平板电容器固定电压V,长宽和极板间距均减小一个数量级,问静电力怎样变化。
6.课本P496:微针的加工过程。
为什么侧面一面是倾斜的,而周围是垂直的。
7.课本P123:铰链的加工过程。
8.梳状差值电容,上下极板固定,分别加+V和-V的电压。
中间极板垂直无位移,水平可动。
已知极板的长宽L、W、中央极板厚t、上极板与中央极板间距g1、下极板与中央极板间距g0.求中央极板受到的静电力。
(估计是用能量求导的方法。
注意是估计。
)9.平行板静电执行器,上下极板分别由4个悬臂梁支撑。
加电压V。
上面的悬臂梁尺寸L1、W1、H1;下面的悬臂梁尺寸L2、W2、H2,极板初始间距g0、面积A.求临界电压。
(电容在位移过程中保持水平,不会被击穿)(可以看成两个弹簧并联)发信人: xyzwhat (what?), 信区: Pretest标题: MEMS与微系统王喆垚 2006.6.16发信站: 自由空间 (Fri Jun 16 17:09:51 2006), 站内1,解释时分复用DRIE的RIE-lag现象,说明贝壳状侧壁的原因2,表面微加工工艺的主要步骤,粘连的原因3,小强从10米摔下来为什么没事4,传感器的五种敏感原理5,音叉制作过程6,知道Si、SiO2体积比,525um厚的Si,氧化一层2umSiO2,求此时总厚度7,KOH刻蚀的题8,给出胫骨直径、长度、弹性模量、最大应力,人的体重,求a,人站立时的应力应变,b,身高减小多少,c,最大体重9,计算一块平行板电容的下拉电压10,已知上极板的长宽厚,下极板固定,求并联开关的下拉电压王老师还是很厚道的,虽然考试前大家感觉很恐怖发信人: hahaha (wahaha), 信区: Pretest标题: Re: MEMS与微系统王喆垚 2006.6.16发信站: 自由空间 (Fri Jun 16 17:34:53 2006), 站内第五题ms是麦克风的制作过程。
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MEMS考试复习题(占80%)第一章 绪论1.微电子工业与MEMS的关系(网上搜索)教材总结:微电子工业与MEMS的关系主要有以下几点:1)对于MEMS的发展而言,微电子工业集成电路技术是起始点,集成电路产业按照摩尔定律一直发展到今天,推动着信息社会的迅速发展。
2)电子器件小型化和多功能集成是微加工技术的推动力。
3)MEMS是由集成电路技术发展而来的。
它经过了大约20年的萌芽阶段,在萌芽时期,主要是开展一些有关MEMS的零散研究。
PPT:1)微系统是从微传感器发展而来的,已有几次突破性的进展。
70年代微机械压力传感器产品问世,80年代末研制出硅静电微马达,90年代喷墨打印头,硬盘读写头、硅加速度计和数字微镜器件等相继规模化生产,充分展示了微系统技术及其微系统的巨大应用前景。
2)MEMS用批量化的微电子技术制造出尺寸与集成电路大小相当的非电子系统,实现电子系统和非电子系统的一体化集成,从根本上解决信息系统的微型化问题,实现许多以前无法实现的功能。
3)今天的MEMS与40年前的集成电路类似,MEMS对未来的社会发展的推动已经逐步显现,它也是21世纪初一个新的产业增长点。
2.几种主要的商业化MEMS器件及其优点(列举两到三种)1)MEMS压力传感器 优点:具有较高的测量精度、较低的功耗和极低的成本。
2)喷墨打印头 优点:廉价,性能好,可以提供高品质的彩色打印。
(高分辨率,高对比度)3)数字光处理器(DLP) 优点:与LCD投影相比,DLP具有更高的像素填充因子,更高的亮度、灰度和对比度,光利用效率高,对比度和色彩平衡的长期稳定性好。
4)集成惯性传感器(高灵敏度,低噪声,低使用成本,满足了汽车市场使用的需要)5)加速度传感器(对地震监测的超高灵敏度,高可靠性与长期稳定性)3.热墨喷头的结构(组成)和工作原理结构组成:喷墨嘴、加热条、墨汁腔热喷墨技术其工作原理是通过喷墨打印头(喷墨室的硅基底)上的电加热元件(通常是热电阻),在3微秒内急速加热到300摄氏度 ,使喷嘴底部的液态油墨汽化并形成气泡,该蒸汽膜将墨水和加热元件隔离,避免将喷嘴内全部墨水加热。
加热信号消失后,加热陶瓷表面开始降温,但残留余热仍促使气泡在8微秒内迅速膨胀到最大,由此产生的压力压迫一定量的墨滴克服表面张力快速挤压出喷嘴。
随着温度继续下降,气泡开始呈收缩状态。
喷嘴前端的墨滴因挤压而喷出,后端因墨水的收缩使墨滴开始分离,气泡消失后墨水滴与喷嘴内的墨水就完全分开,从而完成一个喷墨的过程。
4.比例尺度定律的定义有些在宏观尺度下非常显著的物理效应,当器件尺寸变小以后,性能可能会变得很差。
与之相反,有些对宏观器件可忽略的物理效应,在微观尺寸范围内会突然变得很突出,这称之为比例尺度定律。
5.MEMS传感器与执行器件设计应该考虑的因素传感器的重要特性:1)灵敏度2)线性度3)响应特性4)信噪比5)动态范围6)带宽7)漂移8)传感器的可靠性9)串扰和干扰10)开发成本和时间执行器的相关指标:1)扭矩和力的输出能力2)行程3)动态响应速度和带宽4)材料来源及加工难易程度5)功耗和功率效率6)位移与驱动的线性度7)交叉灵敏度和环境稳定性8)芯片占用面积6.MEMS本质特征(3M)1)小型化2)微电子集成3)高精度的批量制造4)智能化(附)7.MEMS换能器工作的能量域传感器主要分为两类:物理传感器与生/化传感器。
传感器和执行器统称为换能器(transducers),换能器可实现一种能量到另一种能量的转换。
主要的能量域有6个:1)电能(E),2)机械能(Mec),3)化学能(C),4)辐射能(R),5)磁能(Mag),6)热能(T)第二章 微制造导论8.MEMS基于微电子硅基工艺的理由微电子工艺已经建立了成熟的工艺技术,并且在工艺控制和质量管理上也有良好的基础,所以MEMS 器件首先在硅圆片上发展起来。
(在技术和生产上成本比较低廉)9.传统制造与微制造的主要区别,如材料、处理、工艺等1)硅是MEMS和集成电路的主要衬底材料,机械特性较脆,不能用机械切割工具成形;2)MEMS和集成电路制作在平面晶片上;(MEMS的平坦化得到了较高的均匀性和分辨率,圆片的平整度也保证了整个圆片表面有相同的晶向)3)MEMS芯片或元件一般很小,现有的机器人设备很难夹住、有效处理和装配它们。
10.M EMS所特有或新兴的工艺及其优点1)体微机械加工 优点:体微机械加工工艺包括选择性的去除体(硅衬底)材料形成特定的三维结构或机械元件,还可以与圆片键合以形成更复杂的三维结构。
2)表面微机械加工 优点:通过去除薄膜结构下的支撑层来获得可动的机械单元,而不是在衬底下面加工。
这层间隔称为牺牲层。
11.D RIE、LPCVD、LIGA、牺牲层腐蚀工艺(名词解释)DRIE:深反应离子刻蚀,一种微电子干法腐蚀工艺。
LPCVD:低压化学气相淀积LIGA:光刻电镀成型工艺,代表其工艺的主要步骤:深层X射线光刻(lighography)、电镀(galvo)和注模(abformung) 。
【光刻、电镀、塑铸】牺牲层腐蚀工艺:首先淀积和图形化牺牲层,接着在牺牲层之上淀积结构层。
之后选择性地去除牺牲层以释放顶部的结构层。
这种工艺称为牺牲层腐蚀工艺。
CVD:使用一种或数种物质的气体以某种方式激活后,在衬底发生化学反应,并淀积出所需固体薄膜的生长技术。
12.M EMS工艺中需考虑哪些因素(在教材中,只需要列举2至3个)1)材料的淀积速率和刻蚀速率2)淀积速率和刻蚀速率在圆片上的均匀性。
3)过刻蚀的敏感度(选择性)。
4)刻蚀的选择性。
5)温度兼容性。
6)全部加工工艺时间和工序数。
7)环境的洁净度要求。
8)淀积和刻蚀的分布。
13.画出一种MEMS器件(微加工压力传感器)的工艺流程图,要求至少包含三种单项工艺涂覆光刻胶,烘烤,曝光,显影,然后光刻胶作为掩膜刻蚀下层,最后取出光刻胶。
(26)体加工的应用——压力传感器(流程图见书上图2-6、4-10。
图4-8,4-9,4-11也可以用)主要步骤:1)清洗裸片2)高温炉形成二氧化硅保护膜3)淀积薄胶,软烘4)光刻胶曝光,显影5)硬烘6)除胶7)湿法腐蚀8)键合另一硅片9)减薄圆片顶部,形成薄膜10)完成掺杂区第四章 静电敏感与执行原理14.静电敏感与执行的基本原理静电型换能器的基本依据来自电容器,电容器一般定义为可以存储相反电荷的两个导体,它既可用作传感器,也可用作执行器。
换能原理当电容两极的间距和相对位置因外加激励而变化时,其电容值也随之变化,这就是电容(静电)敏感机理。
相反地,当一定电压(或电场)施加在两导体上,导体之间产生静电力,这定义为静电执行。
(静电敏感:当电容器的间距或相对位置因外加激励而改变时,它的电容值也随之变化静电执行:当电压或电场施加于两个导体上时,导体之间会产生静电力。
)15.静电敏感与执行的主要优点与缺点1)结构简单 易于实现仅需两个导电表面,无需专门的功能材料,易于实现,与其他敏感方式相比敏感与执行原理简单。
2)低功耗静电执行依赖于电压差而并非电流,低频时不存在电流,有很高的能效,高频时会产生偏置电压的位移电流,有一定的功耗。
3)响应快转换速度由电容充放电时间常数决定,对于良导体,这一时间极短,故静电敏感与执行可获得较高的动态响应。
4)所需电压高几百伏驱动电压较为常见,会带来一些负面影响。
16.简述静电微马达的工作原理和制作工艺流程(最好画图 书图4-1,p74)(组成:静电微马达由转子以及一组固定电极组成,转子放置于固定在衬底的轴承上,固定电极称为定子,位于转子外围。
定子成组施加同步偏置电压,比如可以将四个电极分为一组。
)工作原理:首先对一组定子电极施加偏置电压(由电极旁边的箭头符号可以判断电极在电压偏置下所处的状态),该组中任一给定定子与其相邻的转子齿轮之间会产生面内电场,并在它们之间产生静电引力,从而使齿轮与定子对准。
在上百伏电压的作用下,产生的转矩在皮牛顿米(pN·m)的量级,这足以克服磨擦。
转子小角度运动后,此时电压偏置转移到下一组定子电极上,在相同运动方向引起另一次的小角度位移。
通过分组连续激励定子电极,转子可以实现持续的运动。
17.P ull-in电压与吸合距离的估算(不考计算题)讲述吸合距离如何得到:Pull-in电压:在某一特定偏置电压作用下,机械回复力曲线与静电力曲线相交于一个切点,该切点处机械回复力与静电力平衡。
静电力常数(由交点处梯度给出)的大小等于机械力常数。
弹簧的等效力常数为零,也就是极端柔软。
这一特殊条件通常应该小心处理。
满足这一条件的偏置电压称为pull-in电压(Up)吸合距离的估算:PPT160~173,书p79~p8318.平行板电容器的主要应用类型有哪几类1)惯性传感器2)压力传感器3)流量传感器4)触发传感器5)平行板执行器19.电容式压力传感器的工作方式有哪些电容式压力传感器有两种工作模式,一种为非接触式方式,另一种为接触式方式,接触式压力传感器用来提高电容式压力传感器的线性度,并提供过载保护。
非接触式压力传感器在测量范围内两极板不相互接触,依靠极板间距的变化来获得电容值的变化量,电容的变化量与极板间距成反比,因此非接触式压力传感器线性度较差;接触式压力传感器采用了不同的传感器原理,两极板在测量范围内相互接触,之间由介质层隔离,通过接触面积的变化获得不同的电容变化量,当极板接触后,电容值随压力成线形变化,通过优化设计,使得传感器的线性度和灵敏度都得到相应提高。
20.电容式压力传感器与电路集成的主要方式有哪两种?目前出现的集成绝对压力传感器的主要类型为:(1)CMOS工艺与表面牺牲层工艺相结合加工而成的集成绝对压力传感器;(2)CMOS工艺和微机械体加工工艺以及硅-玻璃阳极键合相结合加工而成的压力传感器。
(1,表面加工工艺与COMS工艺结合。
2,COMS工艺与体硅微机械加工工艺结合,并采用阳极键合实现真空密封。
)第五章 热敏感与执行原理21.热量传递的四种机制(ppt上有)1)传导,即当存在温度梯度时,热量通过固体媒介传递。
2)自然对流,即热量从表面传递到静止流体内部,流体里的温度梯度通浮力引起了液体的局部流动,流体质量的运动促进了热传递。
3)强迫对流,即热量传递到运动流体的内部,这种内部流体运动比自然热对流引起的热传递增强。
4)辐射,即通过真空或空气中传播的电磁辐射引起热量的损失或增加。
22.列举三种热传感器和热执行器的应用热传感器的应用:1)惯性传感器●基于热传递原理的加速度计●没有可动质量块的热加速度计2)流量传感器●热线式风速计●热传递切应力传感器3)红外传感器●用于红外敏感的双金属结构热执行器的应用:1)喷墨打印机2)双层片人工纤毛执行器3)横向热执行器23.简述热双层片人工纤毛执行器的工作原理在循环的开始,两组执行器都抬高以举起微小的物体。