高磷化学镀镍光亮剂的

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化学镀镍工艺技术简介

化学镀镍工艺技术简介

HPA
60ml/L
HPB
180ml/L
温度
86.0 g/L
一般铝合金:3-4MTO;钢铁件、铜件5-7MTO
镀层耐腐蚀性、耐药性和耐变色性能好,槽液稳 定性佳;镀速10-12微米/小时
化学镀镍工艺流程
1、铁件、铜件的化学镀镍 工件→除油→水洗→酸洗活化→水洗→预镀镍→水洗→化学镀镍→水洗→钝化→水洗→干燥
钢/铝 钢/铝 合金钢
钢 铝合金

提高耐磨性
25
提高耐磨性
25
提高耐腐蚀、耐磨性
18
提高耐腐蚀、均匀、润滑性
25
提高耐磨性
25
提高耐腐蚀、均匀性
化学镀镍的分类
类别(按镀层磷含量)
低磷化学镍
中磷化学镍
高磷化学镍
电镀镍
镀层含磷量
1-4%
5-8%
9-13%
0
PH
7.0-8.0
4.2-5.4
4.2-5.4
3.8-4.6
沉积镀速
12-16微米/小时
10-15微米/小时
5-7微米/小时
25-50微米/小时
耐中性盐雾(黄铜件基材, 镀层6微米)
24-48h
3、石油化工、航天行业
石油化工、航空零部件 过滤器原件 热交换器 涡轮叶片
各种形式的阀门
基体金属 铁 铁 钢 钢
油管和泵

镀层厚度(微米) 25 75 75
25-75
50
使用目的 提高耐腐蚀、耐磨性 提高耐腐蚀 提高耐腐蚀、耐磨性 提高耐腐蚀、润滑性
提高耐腐蚀、耐磨性
除水阀 多向接头 压缩机叶片 伺服阀 活塞头 油嘴元件
使用目的 镀层耐磨 镀层耐腐蚀 镀层耐磨 镀层耐腐蚀饰和润滑 镀层耐磨、耐腐蚀饰和润滑 镀层耐磨 镀层耐磨 镀层耐腐蚀、钎焊、均匀 镀层耐腐蚀、装饰效果 镀层耐磨 镀层耐磨

镀镍光亮剂配方

镀镍光亮剂配方

镀镍光亮剂配方镀镍是一种高科技的金属表面处理工艺,它可以使金属表面达到异乎寻常的光洁度和抗腐蚀性。

镀镍光亮剂是一种可用来提高以镀镍处理过的金属表面光洁度和韧性的特殊添加剂,其配方包括一些成分: 1.化镁:氧化镁是一种白色粉末,具有良好的能量转换能力。

它能够形成在金属表面形成保护膜,是保护镀镍表面和提高光洁度的重要组成部分。

2.基磺酸钠:它是一种金属表面处理的主要成分,它的作用是减少金属表面的摩擦,同时还能够表面防止氧化。

3.代磷酸钠:它是一种溶于水的无机盐,采用氯代磷酸钠在镀镍光亮剂中可以提高金属表面的耐磨性。

4.胺:苯胺是一种高效的抗腐蚀剂,它能有效抑制金属表面的氧化,同时还可以增加金属表面的光洁度和耐腐蚀性。

5.吡咯:这是一种抗碱性剂,可以使表面形成氧化铝,具有优良的耐腐蚀性和隔热性。

6.酸钠:硫酸钠是一种抗氧化剂,具有很高的抗氧化性和抗磨损性,可以有效抑制金属表面的氧化和腐蚀,从而提高金属表面的光洁度和耐腐蚀性。

配制这种镀镍光亮剂的过程非常复杂,必须在正确的温度、有限的时间内,以及适当的pH值条件下,精确调配上述成分的比例。

最终的镀镍光亮剂可以通过涂抹或焊接的方式来在金属表面上形成一层保护膜,对金属表面的抗腐蚀性和光洁度有显著的改善效果。

同时,由镀镍光亮剂形成的保护膜也可以提高金属表面的韧性,从而有效防止表面受到碰撞,擦伤等物理损伤。

镀镍光亮剂是一种特殊的金属表面处理技术,它不仅能够使金属表面达到异乎寻常的光洁度,而且还能够有效抵抗各种外界因素,如氧化、腐蚀、碰撞等,从而大大提高金属表面的耐用性。

然而,由于镀镍光亮剂配方的成分特性和配制过程的复杂性,质量合格的镀镍光亮剂的制造需要有一定的技术要求,为此,就必须仔细掌握其配方,在合适的环境下,按照规定的精度对每一种成分进行加入,以保证产品的质量,使之能够更好地满足表面处理者的需求。

化学镀镍溶液光亮剂实验研究

化学镀镍溶液光亮剂实验研究
【 la c] B刊 ao o eprn ̄ . e0tl f m li i t s c c l tl s l lig l tle A ̄ - t a a t fxe r u t pmL o u tn f r h etn i e r e — p t e ry l Je t h s 帅 r a o o bg i a  ̄ e c o s N P a n e c ot
维普资讯
22 月 0 年6 0
表 面 技 术
第3卷 第3 1 期
2 1
化学镀镍溶液光亮剂 实验研究
宋影伟 , 曲彦平 , 李德 高 ( 沈阳工业 大学材料科学 与工程学院 , 宁 沈 阳 l02 ) 辽 103
Hale Waihona Puke [ 要] 通过 大量实验 . 摘 筛选 出了酸性化 学镀镍液 中光 亮剂的最佳配 方, 并对加 光亮荆和 来加光 亮i的镀后 } 6
Ex rm e t lS u y o i h e e o e t o e s pe i n a t d n Br g t n r f r El c r l s NiP a i g Elc r l t — Pl tn e t o y e
S G Yn- e, rnp . / - ̄ ON i wi Q g a- ̄ L De o g
l th fa e咖 c 山a rs , erms tne,orso ss n eo i ot gw t dhe  ̄ ae I / sp r r a t H I L 吕w a Ja c croinr ia c fN — cei i b g tn r o ̄ u e o . de s e t P a h n i
辅 助络 台剂 I 辅助 络 合剂 Ⅱ 缓 冲剂
D H值
温 度

电镀镍光亮剂配方比例

电镀镍光亮剂配方比例

电镀镍光亮剂配方比例
电镀镍光亮剂是一种用于电镀镍的化学药剂,能够使镀层表面更加光滑、均匀和亮丽。

在制备电镀镍光亮剂时,需要按照一定的比例混合不同的化学药剂,以达到最佳的效果。

通常情况下,制备电镀镍光亮剂需要用到以下几种化学药剂:硝酸镍、硼酸、乙二胺四乙酸(EDTA)、异丙醇、聚乙二醇(PEG)和水。

这些化学药剂需要按照一定的比例进行混合,才能制备出高质量的电镀镍光亮剂。

一般来说,电镀镍光亮剂的配方比例可以根据具体的要求而有所不同。

以下是一种常见的配方比例:
- 硝酸镍:100g
- 硼酸:50g
- EDTA:10g
- 异丙醇:10ml
- PEG(分子量5000):10g
- 水:适量
将以上的化学药剂按照上述比例混合,搅拌均匀后即可得到一定量的电镀镍光亮剂。

需要注意的是,在混合这些化学药剂时,需要遵循一定的工艺流程与安全措施,避免发生意外事故。

总之,制备高质量的电镀镍光亮剂需要严格按照一定的配方比例进行混合,以确保其制备的效果达到最佳。

- 1 -。

高磷镍电镀工艺

高磷镍电镀工艺

高磷镍电镀工艺高磷镍电镀工艺是一种常用的表面处理技术,可以提供优异的耐腐蚀性和机械性能,被广泛应用于多个领域。

本文将介绍高磷镍电镀工艺的原理、工艺流程和应用。

一、高磷镍电镀工艺原理高磷镍电镀是通过在基体表面电化学沉积一层富含磷的镍合金层,从而改善基体的性能。

高磷镍合金层的主要成分是镍和磷,其中磷的含量可达8%以上。

这种合金层具有较高的硬度、良好的耐磨性和耐腐蚀性,能够有效保护基体。

高磷镍电镀工艺主要包括预处理、电镀、后处理等步骤。

1. 预处理需要对基体进行适当的预处理。

预处理的目的是去除表面的油污、氧化物和杂质,以确保电镀层与基体的附着力。

常见的预处理方法包括碱洗、酸洗和激活等。

2. 电镀在预处理完成后,将基体浸入电镀液中,进行电镀。

高磷镍电镀液的主要成分包括镍盐、磷酸盐和一些添加剂。

在电镀过程中,通过在电极上施加电流,将镍和磷离子还原为金属镍和磷化物,从而形成高磷镍合金层。

3. 后处理完成电镀后,还需要进行后处理。

后处理的目的是去除电镀过程中可能产生的缺陷,如气泡、杂质等。

常见的后处理方法包括热处理、机械抛光和清洗等。

三、高磷镍电镀工艺的应用高磷镍电镀工艺由于其优异的性能,被广泛应用于多个领域。

1. 机械制造业高磷镍电镀可用于改善机械零件的表面性能,提高其耐磨性和耐腐蚀性,延长使用寿命。

常见应用包括轴承、齿轮、模具等。

2. 汽车工业汽车零部件需要具备较高的耐腐蚀性和耐磨性。

高磷镍电镀可以在汽车发动机零部件、排气系统等组件表面形成保护层,提高其抗腐蚀性能。

3. 电子工业高磷镍电镀可用于电子器件的封装和连接。

其合金层具有较好的导电性和耐腐蚀性,可以提高电子器件的可靠性。

4. 航空航天工业航空航天领域对材料的要求极高,高磷镍电镀可以应用于航空发动机零部件、航天器零部件等,提供优异的防腐蚀和耐磨性能。

高磷镍电镀工艺是一种常用的表面处理技术,具有良好的耐腐蚀性和机械性能。

通过适当的预处理、电镀和后处理步骤,可以在基体表面形成富含磷的镍合金层,从而提高材料的性能。

化学镀镍磷方法

化学镀镍磷方法

化学镀镍磷介绍一、化学镀镍溶液的成分分析为了保证化学镀镍的质量,必须始终保持镀浴的化学成分、工艺技术参数在最佳范围(状态),这就要求操作者经常进行镀液化学成分的分析与调整。

1.Ni2+浓度镀液中镍离子浓度常规测定方法是用EDTA络合滴定,紫脲酸胺为指示剂。

试剂(1)浓氨水(密度:0.91g/ml)。

(2)紫脲酸胺指示剂(紫脲酸胺:氯化钠=1:100)。

(3)EDTA容液 0.05mol,按常规标定。

分析方法:用移液管取出10ml冷却后的化学镀镍液于250ml的锥形瓶中,并加入100ml蒸馏水、15ml浓氨水、约0.2g指示剂,用标定后的EDTA溶液滴定,当溶液颜色由浅棕色变至紫色即为终点。

镍含量的计算:C Ni2+= 5.87 M·V (g/L)式中 M——标准EDTA溶液的摩尔浓度;V——耗用标准EDTA溶液的毫升数。

2.还原剂浓度次亚磷酸钠NaH2PO2·H2O浓度的测定其原理是在酸性条件下,用过量的碘氧化次磷酸钠,然后用硫代硫酸钠溶液反滴定自剩余的碘,淀粉为指示剂。

试剂(1)盐酸 1:1。

(2)碘标准溶液0.1mol按常规标定。

(3)淀粉指示剂1%。

(4)硫代硫酸钠0.1mol按常规标定。

分析方法:用移液管量取冷却后的镀液5ml于带盖的250mL锥形瓶中;加入盐酸25mL碘标准溶液于此锥形瓶中,加盖,置于暗处0.5h(温度不得低于25℃);打开瓶盖,加入1mL淀粉指示剂,并用硫代硫酸钠标准溶液滴定至蓝色消失为终点。

计算:C NaH2PO2·H2O = 10.6(2M1V1-M2V2) (g/L)式中 M1——标准碘溶液的摩尔浓度;V1——标准碘溶液毫升数;M2——标准硫代硫酸钠溶液的摩尔浓度;V2——耗用标准硫代硫酸钠溶液毫升数。

3.NaHPO3·5H2O的浓度化学镀镍浴还原剂反应产物中影响最大的是次磷酸钠的反应产物亚磷酸钠。

其他种类的还原剂的反应产物的影响较小甚至几乎无影响,如DMAB。

高磷化学镍配方之耐蚀光亮型PM-936

高磷化学镍配方之耐蚀光亮型PM-936

高磷化学镍配方之耐蚀光亮型PM-936(周生电镀导师)高磷化学镍配方比起中磷来说难点在稳定性。

一个好的高磷化学镍配方既要镀速稳定还要保持后续补加时的添加剂成分含量波动小,这样才能满足大规模的商用。

PM-936 是一种很经济的化学镀镍工艺,可得到均匀的、光亮的高磷镍合金镀层,适用于各种基体,包括铝合金、不锈钢、碳及合金钢、铜合金等,以及某些非导电基体。

采用PM-936 工艺,所得到的镀层可满足下列要求:1.在酸性环境下,具有很强的耐蚀性能;2.盐雾实验达到180小时(25.4微米);3.周生电镀导师之(@q):(3)(8)(0)(6)(8)(5)(5)(0)(9)4.镀层防腐性能高。

电镀导师之[(微)(Xin)]:(1)(3)(6)(5)(7)(2)(0)(1)(4)(7)(0)3.能通过硝酸实验;4.镀层具有压应力;5.镀层无磁性;6.镀液具有高稳定性,使用寿命长;7.镀层防锈。

按三种组份供应:PM-936 A、B及C。

A 和B用于开缸,A 和C 用于维护。

需要注意的是:我们的配方是量产的成熟商业配方,网上是找不到的,电镀手册也没有。

网上卖配方书籍几百元一本含有几百个配方,那种资料只能当做书籍读读,没有商业价值。

有些用户嫌贵了,尽管买书好了。

●配方平台不断发展完善我们的配方平台包含的成熟量产商业种类多,已有AN美特、乐思、罗哈、麦德美、国内知名公等量产成熟的药水配方。

我们的配方平台帮助了很多中小企业提高产品技术水平,也有不少个人因此创业成功,帮助国内企业抢占国外知名企业市场,提升国产占有率是我们长期追求的目标。

●配方说明目前市场上有很多类似抄袭的,或者是买过部分配方后再次转卖的,他们有时候会改动数据,而且不会有后期的改进和升级。

他们甚至建立Q群或者微@信群推广配方,我们没有建立任何群。

一切建&群的都是假冒。

(本*公*告*长*期*有*效)●溶液开缸及操作配制新槽前,请仔细阅读说明书。

材料每100L含量PM-936 A 6LPM-936 B 18L去离子水至操作液位1.用去离子水先洗净镀槽,然后加入约一半体积的去离子水;2.加入所需量的PM-936A,PM-936B,用空气或机械搅拌均匀;3.检查溶液的pH值,按需要用25%的氨水或50%的碳酸钾溶液调节。

光亮剂成分检测

光亮剂成分检测

光亮剂成分检测微谱分析指通过微观谱图(气相色谱、液相色谱、热谱、能谱、核磁共振谱等)对产品所含有的成分进行定性和定量的一种配方分析方法。

配方分析在日本,欧美应用比较广泛,而在国内,目前处于起步阶段。

该技术甚至是很多国家的成长途径。

二战之后的日本,就走的引进技术,分析还原,消化吸收,然后技术创新的道路。

韩国等国家也是如此,从欧美获取技术,学习,实践,赶超。

化学镀镍在化工机械、宇宙航空等领域中应用广泛。

随着生产中对功能及装饰性镀层的要求越来越高。

如何研制出更新的镀镍光亮剂已引起人们的极大兴趣。

在目前研制出的4代镀镍光亮剂中,第2代光亮剂镀层质量差,色泽偏淡米黄色。

第3代镀镍光亮剂以1,4-丁炔二醇与环氧类化合物的缩合物为代表,镀层光亮平整,应用广泛,但出光速度慢,分解产物多。

20世纪80年代末研制出的第4代光亮剂,其中初级光亮剂一般为柔软剂,如武汉风帆电镀公司的柔软剂中含有C12H11NO4S2和C2H3SO3Na的混合物,次级光亮剂以吡啶衍生物和丙炔醇衍生物及炔胺类化合物为典型代表,镀液稳定,分解产物少,但应用缺乏普通性。

上述光亮剂绝大多数应用于电镀镍工艺中,化学镀镍上使用的光亮剂报道较少。

本文研制的化学镀镍光亮剂在实际生产中的运用表明,对镀层有明显的增光和整平作用。

试验工艺流程试样→镀前预处理→水洗→化学镀→水洗→镀后处理→检验→成品。

镀液组成及工艺条件NiSO4·6H2O 25~30g/L络合剂40~50ml/L稳定剂0.5~1.0ml/LNaH2PO2·H2O 28~35g/L光亮剂1~6ml/L装载量 1.2~4.8dm2/LpH值 4.4~4.8温度85~90℃络合添加剂为有机酸的混合物,稳定剂为重金属盐,光亮剂为2种重金属盐和有机酸盐的混合物。

镀层性能测试1)显微硬度厚度的测定采用HX-1型显微硬度计测试。

2)镀层耐磨性测定耐磨试验在M-2000型磨损试验机上进行,上块材料为GCr15,硬度59HRC,下环是被测试样。

HXSZ988中磷全光亮环保化学镀镍工艺

HXSZ988中磷全光亮环保化学镀镍工艺

销售热线:中磷全光亮环保化学镀镍工艺HXSZ-988产品是本公司研发先进配方,选用了最新环保添加剂,完全取代传统金属离子作为镀液光亮添加剂,使镀层更加柔软、孔隙率更低、光亮性和速度一致性更好,具有高度忍受金属杂质的性能,适合于钢、铁、铜、铝合金等金属化学镀镍,镀层均一,物理性能及化学特优良,并具有优异有防腐性能与磨性。

技术参数成份表:一.镀层的物性与特点:磷含量:—%镀液稳定性好,使用寿命最长可达8—10个周期沉积速度快,可达到15-20微米/1小时硬度: 400—500V、H、N热处理<400℃小时后,700--800 V、H、N镀层密度: c m3熔点窄,适于焊接:熔点: 870-920℃电流阻力:约40-70UΩc m/cm2磁力特性:非磁性膨涨系数:12-14UM/M/℃二.镀液状态及手用途:HXSZ-988A镍来源添加用。

绿色HXSZ-988 B还原剂开缸用:无色HXSZ-988C络合剂、稳定添加用:无色三、镀液的配制及操作方法:开缸:先把底槽注入50%容量之纯净或蒸馏水,注入15%镀槽容量之HXSZ-988B,再注入6%镀槽容液HXSZ-988A,然后搅拌及加纯净水或蒸馏水至预定水位检查PH值是否在指定范围之间,四:设备:1.槽的材料最适宜用PP板材,配备双槽,一为生产用,另一为备用槽.更换下来的槽加热设备及过滤设备必须用30-40%硝酸浸洗6-10个小时后,用清水彻底清洗,最后用含有少量氢氧化钠的纯水冲洗.过滤:2.镀液过滤最好用连续过滤,过滤泵为耐高温、耐酸碱设计,可选用5-10微米滤芯.或滤袋均可,理想流量为每小时能过滤镀液10次.五、镀液的补充与维护:HXSZ-988A与HXSZ-988C的补充比例为1比1在生产过程中须对镍含量经常进行人分析,金属镍必须保持在范围内,每缺少1克镍需要补充10ML的988A与10ML的988C,在正常操作下,镍的补充量不可超过15%。

添加次序为:先把988A的必要量,分次加入镀槽并充分搅拌后,再把相应量的988C分次加入并充分搅拌,接着把PH值凋整至工作状态。

化学镀镍磷络合剂对磷含量的影响的研究

化学镀镍磷络合剂对磷含量的影响的研究

化学镀镍磷络合剂对磷含量的影响研究蔡晓兰张永奇贺子凯(昆明理工大学材料与冶金工程学院.云南,昆明t650093)摘要本文主要研究了化学镀镍磷台金镀液主要组份络合剂对镀层磷含量的影响:分别研究了冰乙酸、乳酸、丁二酸、苹果酸、柠檬酸及其复合络合剂对镀层磷含量的影响,找到了一定的规律,得到不同磷禽苗的镀层并用于f:业生产。

关键词:化学镀、磷含量。

1前言化学镀镍磷合金镀层因具有耐腐蚀耐磨等特点,而且镀层均匀,操作便捷,无污染等优势应用领域相当r泛。

为了得到不同性能的镀层必须控制镀层的磷含量。

影响镀层磷含量的因素较多,由于镀液成分及施镀过程中各种参数变化的复杂性,导致影响因素也复杂多变。

在众多因素中,镀液中的络台剂是影响化学镀镍合金镀层磷含量的主要因素,起决定作用。

同时镀液的pH值和操作温度也影响着合金镀层的磷含鼍。

络合剂的选择要根据它的pK值和螫和物多元环数。

目前.常用的络合剂主要是一些脂肪族羧酸及其取代衍生物,如在酸浴中用_r二酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸及甘氨酸等,或用它们的盐类。

2.实验本实验采_[|{|一组表面积为05cm:的纯铝片试样进行实验,镀液中除络合剂外其余纲分分别为:硫酸镍2j~309/L,次弧磷酸钠28~359/L,复合稳定剂2~5mg/L。

pn值为4.8~5。

0,施镀温度为90。

C,心垣温水浴加热,时间0.5h,体积为500mi。

iI艺流程:除油一水洗一酸洗一侵锌(二次)一水洗一化学镀一水洗一烘干。

镀层用硝酸溶解后用用化学法测定鳞含量。

3.实验结果与讨论3.i低磷配方:冰乙酸对磷含量的影响。

采用冰乙酸作络合剂镀速为35~40um/h,因此用冰乙酸做络合剂可大大提高生产效率。

不同浓度的冰乙酸对镀层磷含量的影响关系见图3-1所示。

由于冰乙酸的配位体原子只有一个氧,配位基为-OH,它可以取代在水溶液中稳定性很小的六水镍离子而形成一个新的稳定络合体,但冰乙酸的pK值只有i.43,因此其与N产的络合能力较小,镀液中游离的NP较多,因此镀层中镍量高磷量低,得到的镀层是低磷镀层。

高磷镍电镀工艺

高磷镍电镀工艺

高磷镍电镀工艺引言:高磷镍电镀是一种常用的表面处理技术,通过在金属表面形成一层高磷镍合金涂层,以增强材料的耐腐蚀性、磨损性和导电性。

本文将介绍高磷镍电镀工艺的原理、步骤、应用以及其优缺点。

一、高磷镍电镀的原理高磷镍电镀是利用电解液中的镍盐在电流的作用下,将金属离子还原成镍金属并沉积在基材表面的过程。

高磷镍电镀中添加了一定比例的磷酸盐,使得沉积的镍合金中磷的含量较高。

这种高磷含量的镍合金涂层具有良好的耐腐蚀性和磨损性,能够有效保护基材。

二、高磷镍电镀的步骤1. 表面处理:在进行高磷镍电镀之前,需要对基材进行表面处理。

这包括清洗、去油、去氧等步骤,以确保基材表面的清洁度和光洁度。

2. 镀液配制:根据需要,配制出适合的高磷镍电镀液。

镀液的配制需要考虑到镀层的厚度、磷含量以及其他添加剂的浓度等因素。

3. 电镀过程:将清洁后的基材浸入镀液中,作为阴极,而镍板作为阳极。

施加适当的电流和电压,使镍离子在电解液中还原为金属镍,并沉积在基材表面形成镀层。

4. 后处理:电镀完成后,需要对镀层进行后处理。

这可能包括水洗、酸洗、烘干等步骤,以确保镀层的质量和稳定性。

三、高磷镍电镀的应用高磷镍电镀广泛应用于各个领域,包括汽车工业、航空航天、电子设备等。

其主要应用包括:1. 耐腐蚀性提升:高磷镍镀层能够有效提升金属材料的耐腐蚀性,延长其使用寿命。

2. 磨损保护:高磷镍镀层具有良好的磨损性能,可以保护基材不受磨损和划伤。

3. 导电性提高:高磷镍镀层能够提高金属材料的导电性能,适用于需要良好导电性的应用场景。

四、高磷镍电镀的优缺点高磷镍电镀具有以下优点:1. 耐腐蚀性好:高磷镍镀层能够提供良好的耐腐蚀性,适用于恶劣环境下的使用。

2. 磨损保护:高磷镍镀层具有良好的磨损性能,能够保护基材表面不受磨损和划伤。

3. 导电性高:高磷镍镀层能够提高金属材料的导电性能,适用于需要良好导电性的应用场景。

然而,高磷镍电镀也存在一些缺点:1. 镀层厚度不易控制:高磷镍镀层的厚度受到多种因素的影响,不易精确控制。

镍磷化学镀

镍磷化学镀

镍磷化学镀镍磷化学镀是一种常用的表面处理技术,可以在金属表面形成一层均匀且具有良好性能的镍磷合金保护层。

本文将对镍磷化学镀的原理、工艺以及应用进行详细阐述。

镍磷化学镀是一种通过电化学方法在金属表面形成镍磷合金保护层的技术。

它主要通过在镀液中加入适量的镍盐和磷化合物,利用外加电流的作用,将金属离子还原成纯镍和磷,从而在金属表面形成一层镍磷合金保护层。

镍磷合金保护层不仅具有良好的耐腐蚀性能,还具有较高的硬度和良好的润滑性,可以提高金属件的耐磨损性能和润滑性能。

镍磷化学镀的工艺包括镀液配制、预处理、镀液调节、电镀、后处理等几个步骤。

首先,需要根据镀件的材质和要求配制合适的镀液。

镀液的成分应根据不同的应用场景进行调整,通常包括镍盐、磷化合物、缓冲剂、络合剂等。

其次,对镀件进行预处理,包括去油、去污、酸洗等步骤,以确保金属表面的清洁度和粗糙度。

然后,通过调节镀液的温度、pH值、电流密度等参数,使其达到最佳电镀条件。

在电镀过程中,金属离子会在阴极上还原成纯镍和磷,形成镍磷合金保护层。

最后,还需要进行后处理,包括洗涤、干燥、烘烤等步骤,以增强镀层的附着力和耐腐蚀性能。

镍磷化学镀具有广泛的应用领域。

首先,镍磷合金保护层具有较好的耐腐蚀性能,可以保护金属件不受氧化、腐蚀等环境因素的侵蚀,延长其使用寿命。

因此,镍磷化学镀广泛应用于汽车、航空航天、电子电器等行业的零部件和设备中。

其次,镍磷合金保护层还具有较高的硬度和良好的润滑性,可以提高金属件的耐磨损性能和润滑性能。

因此,镍磷化学镀也广泛应用于摩擦副、滑动轴承等设备中,以减少磨损和摩擦。

此外,镍磷化学镀还可以用作金属修复和修饰的手段,可以修复金属件的表面缺陷和损伤,提高其外观质量。

值得注意的是,镍磷化学镀虽然具有许多优点,但也存在一些问题。

首先,镍磷化学镀过程中会产生一定的废液和废气,这对环境造成一定的污染。

因此,在使用镍磷化学镀技术时,需要采取相应的措施来处理废液和废气,以减少对环境的影响。

电镀镍磷溶液的配制

电镀镍磷溶液的配制

电镀镍磷溶液的配制1. 准备原料:需要购买高纯度的镍盐(如硫酸镍或氯化镍)和磷酸盐(如磷酸二氢钠或磷酸氢二钠)。

确保使用的原料质量可靠,以获得良好的电镀效果。

2. 溶解镍盐:将镍盐逐渐加入去离子水中,并搅拌至完全溶解。

可以适当加热水以加速溶解过程,但要注意不要过热,以免影响溶液的稳定性。

3. 加入磷酸盐:在溶解的镍盐溶液中,逐渐加入磷酸盐。

同样地,搅拌溶液以确保磷酸盐均匀分散。

4. 调节 pH 值:使用 pH 计或酸碱指示剂,将溶液的 pH 值调节到适当的范围。

一般来说,电镀镍磷溶液的 pH 值通常在 4.5 到5.5 之间,但具体的最佳 pH 值可能因工艺要求而有所不同。

5. 控制浓度:根据需要,确定镍盐和磷酸盐的浓度。

这可以通过称量准确的化学剂量并溶解在溶液中来实现。

6. 过滤和净化:为了去除可能存在的杂质和悬浮物,将配制好的溶液通过过滤设备进行过滤。

这有助于提高电镀质量和减少缺陷的产生。

7. 稳定性测试:进行一些必要的稳定性测试,例如观察溶液的外观、测量电导率或进行电镀试验,以确保溶液符合所需的性能标准。

8. 储存和维护:将配制好的电镀镍磷溶液储存在干净、密闭的容器中,避免受到污染。

定期检查和维护溶液的浓度和 pH 值,必要时进行补充或调整。

需要注意的是,电镀镍磷溶液的配制过程可能因具体的电镀工艺和要求而有所变化。

因此,在进行配制之前,最好参考相关的电镀手册、专业文献或咨询电镀专家,以获取针对特定应用的准确配制方法和注意事项。

此外,安全操作和防护措施也是至关重要的,包括佩戴适当的个人防护设备、避免接触皮肤和眼睛等。

准确的配制和正确的使用电镀镍磷溶液将有助于获得良好的电镀效果和可靠的镀层质量。

SJ-998全光亮中磷化学镍

SJ-998全光亮中磷化学镍

JS-998全光亮环保化学镀镍JS-998光亮化学镀镍具有镀速高,循环使用寿命长,沉镀能力和分散能力极好,镀层外观白亮等特点,本工艺的主要特点如下:1.溶液稳定性好,可以循环使用,使用寿命达到6-10循环,1个循环的含义是每升镀液将全部镍镀出再补充到原来的镍含量称为1M.T.O.。

2.沉积速度快,达到15-23μm/hr,提高了生产效率。

3.镀层外观光亮。

4.镀层防腐性能高。

5.对复杂零件具有优异的均镀能力。

6.镀层孔隙率低。

7.操作简单,使用方便。

8.优异的耐磨性能,经热处理镀层硬度可达900-1000VHN100。

JS-998化学镀镍适用于大多数材料的零部件,如铝合金、钢铁、铸铁、铜及铜合金、不锈钢、钕铁硼粉末烧焙件、钛合金以及塑料、陶瓷等非金属材料。

一、JS-998光亮化学镀镍层的性能磷含量 6-9%(wt)显微结构晶态Ni-P合金熔点 870-890℃硬度镀态 500-600VHN100热处理后 900-1000VHN100(400℃)结合力钢或铝上结合强度400Mpa以上,大大高于电镀镍、铬内应力钢上内应力低于7 MPa电阻率约75μΩ.cm耐蚀性 6-8μm可通过5%NaCl24小时9级连续盐雾试验。

二、JS-998光亮化学镀镍浓缩液的使用方法本产品按三种深缩液供应:JS-998A、JS-998B、JS-998C,开缸及维护容易。

1.开缸,以配制1升工作液为例JS-998A 60mLJS-998B 150mL去离子水 790ml最佳范围金属镍 6g/L 5-6.5g/LPH 4.7 4.3-5.0,用氨水调节温度88℃ 80-95℃工作装载量 1dm2/L 0.35-2.45dm2/L搅拌过滤空气或机械搅拌注:去离子水的电导率要求《5μs/cm,PH5-8》2.槽液的配制方法:1)在洁净镀槽中加入一半体积的去离子水;2)加入6%(体积)的JS-998A,搅拌均匀;3)加入15%(体积)的JS-998B,搅拌均匀;4)另加去离子水至所需体积,搅拌均匀;5)用氨水调节PH值至4.3-5.0;6)加热镀液至88-95℃,溶液即可使用。

各类化学光亮剂制作配方及使用方法

各类化学光亮剂制作配方及使用方法

各类化学光亮剂制作配方及使用方法时代在进步,应用领域在扩展,与之相对应的出现了许多不同功用的助剂。

光亮剂就是其中之一,且它的应用领域也特别广泛,不仅在工业、食品、装饰等行业中有用到,同时光亮剂也用在了农业生产中。

今天给大家具体介绍一下有关光亮剂在工业方面的应用。

一、光亮剂的作用光亮剂在工业上主要作用表现在通过活性表面除去停留在金属表面的油污、氧化及未氧化的表面杂质,保持物体外部的洁净、光泽度、色牢度。

通过研磨作用影响外观的质感,提高抛光的效率。

二、光亮剂的制作配方1、碱性化学镀镍钨磷合金光亮剂配方:(1L计)90~120g糖精、1.0~2.0g丙氧基化丙炔醇、0.8~1.5g壬基酚聚氧乙烯醚、0.6~1.5g 十二烷基硫酸钠及余量的水。

使用方法:该类配方中包含硫酸镍、次亚磷酸钠、钨酸钠、柠檬酸钠、葡萄糖酸钠、硫酸铵及四硼酸钠的光亮剂组成成分简单、制备成本低,且便于调控,从而使光亮剂具有较好的结合力,并很好的与镀镍钨磷合金的溶液体系相结合,适应镀镍钨磷合金化学镀的工作条件2、一种钢铁件直接镀镍用光亮剂及其镀镍液配方羟基丙烷磺酸吡啶嗡盐:250~300g/L、 N,N-二乙基丙炔胺硫酸盐:22~24g/L、丙氧基丁炔二醇:50~60g/L、丙炔醇甘油醚:6~8g/L、丙炔基磺酸钠:35~40g/L、葫芦脲:0.1~0.2g/L、 3-巯基丙烷磺酸钠:3~4.5g/L。

使用方法:经过大量科学实验和实际应用表明,在不改变现有的镀镍施镀操作条件下,选用该镀镍光亮剂,可以在钢铁制件上镀出结合力好、韧性好、光亮、平整、均匀的镀镍层。

3、化学镀镍光亮剂配方及其使用方法(1)Ce(SO4)2、Te(SO4)2、AgNO3、CdSO4中一种或二种之和1—2g/L,丁炔二醇、炔丙醇、乙氧基炔丙醇中任一种2.5—5g/L,全氟壬氧基苯磺酸钠或全氟辛烷基磺酸季胺盐50—100g/L;其余为去离子水或蒸馏水,使用时的添加量为每升化学镀镍液中加1—2ml。

高磷镍电镀工艺

高磷镍电镀工艺

高磷镍电镀工艺高磷镍电镀工艺是一种常用的金属表面处理方法,主要用于提高金属表面的耐腐蚀性能和装饰效果。

本文将介绍高磷镍电镀工艺的原理、工艺步骤以及应用领域。

一、高磷镍电镀工艺的原理高磷镍电镀是通过在金属表面电解沉积一层富含磷的镍合金,从而提高金属表面的耐腐蚀性能和硬度。

高磷镍合金中的磷含量一般在8%以上,其具有良好的耐腐蚀性和化学稳定性,能够在酸性和碱性环境中保持良好的表面状态。

1. 清洗预处理:将待电镀的金属表面进行清洗,去除杂质和油污。

清洗方法可以采用溶剂清洗、碱洗或酸洗等方法,以确保金属表面的干净度。

2. 酸洗:将金属表面浸泡在酸性溶液中,以去除金属表面的氧化物和铁锈,同时提高金属表面的粗糙度,有利于电镀液的附着。

3. 洗净:将酸洗后的金属表面进行彻底清洗,以去除酸洗液残留。

4. 镀前活化:将金属表面浸泡在活化剂中,以去除金属表面的氧化物和有机物,提高金属表面的镀液性能。

5. 镀液配制:将高磷镍电镀液按照一定的配方进行调配,保证镀液中镍盐、磷酸盐和缓冲剂等成分的比例适当。

6. 电镀:将金属置于高磷镍电镀槽中,通过电解作用,在金属表面沉积一层高磷镍合金。

电镀的时间和电流密度等参数需要根据具体情况进行调整,以保证镀层的质量。

7. 清洗:将电镀后的金属表面进行清洗,去除电镀液残留和其他杂质。

8. 烘干:将清洗后的金属表面进行烘干处理,以去除表面水分,防止镀层氧化。

三、高磷镍电镀工艺的应用领域高磷镍电镀工艺广泛应用于航空航天、汽车制造、电子电器、机械制造等领域。

在航空航天领域,高磷镍电镀可用于飞机发动机零部件、涡轮叶片等耐高温、耐腐蚀的表面保护;在汽车制造领域,高磷镍电镀可用于汽车发动机缸体、曲轴等零部件的防腐蚀处理;在电子电器领域,高磷镍电镀可用于电子元器件的表面保护和导电性能提升;在机械制造领域,高磷镍电镀可用于模具、刀具等工具表面的增硬和耐磨性提升。

高磷镍电镀工艺是一种重要的金属表面处理方法,通过在金属表面沉积一层富含磷的镍合金,提高金属表面的耐腐蚀性能和硬度。

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1 实验
1.1 实验材料及工艺流程 以镀锌铁片为基体材料,试样尺寸为 50 mm×50 mm ×0.5 mm。以 1 L 的烧杯作为镀槽。实验中所用的药品均为化学纯,所 用水为去离子水。 工艺流程图为:
盐酸
w=5 %硫酸
镀锌铁片
褪去锌层棉布刷洗硫酸活化纯水洗涤镀层测试
干燥
化学镀镍
图 1 工艺流程 Fig.1 process flow diagram 1.2 镀液组成和工艺条件 见表 1。 1.3 光亮剂组成 表 2 是不同类型光亮剂的组成。光亮剂经过大量的前期实验 筛选得到,无机和有机光亮剂分别由两种组分构成,复合光亮剂
1.4 镀层测试 1.4.1 表面光泽度 用 SS-82 型光电光泽仪,在入射角和反射角均为 60°的条件 下测量镀层的光泽度。 1.4.2 镀层表面形貌 镀层的微观形貌通过日本日立 S-3700N 型扫描电子显微镜得 到,加速电压 EHT=10 kV,放大倍数 Mag=x2.00 k。 1.4.3 沉积速度 镀层厚度用 Fischer XDL-XYmz 型 X-荧光测厚仪测得, 除 以时间后得到沉积速度。 沉积速度=镀层厚度/时间 1.4.4 磷含量 镀层磷含量由 Thermo Scientific ARL QUANT’X EDXRF Analyzer 测得。 1.4.5 孔隙率 采用蓝点法:室温下,把在 10 g/L K3[Fe(CN)6],20 g/L NaCl 溶液中浸泡后的滤纸贴在试样表面,10 min 后检查单位面积滤纸 上的蓝褐色斑点数(个/cm2)。 1.4.6 中性盐雾试验 采用AHL-120-NS型盐雾箱进行中性盐雾试验,试验时间4 h, 根据GB/T 6461-2002对试片耐中性盐雾性能进行评级。
Abstract: The effects of inorganic, organic, and composite brightener on the appearance, microcosmic morphology, deposition rate, phosphorus content and corrosion resistance were studied. The results showed that inorganic brightener can significantly improve the coating brightness, but the porosity increasing and corrosion resistance dropping significantly because of its micro porous structure. Compared with inorganic, organic coating has uniformity morphology, less defects but less bright. The composite brightener has excellent performance, its coating with bright appearance, smooth surface and quick deposition rate. The composition of the composite brightener as following: Ce(SO4)2 2 mg/L, Te(SO4)2 3 mg/L, C6H5SO2Na 30 mg/L and DEP 2 mg/L. Keywords: electroless nickel plating;high phosphorus;brightener
2012 年 第 14 期 第 39 卷 总第 238 期
广 东 化 工
· 37 ·
高磷化学镀镍光亮剂的研究
王新,熊璞,朱俊坚,黄颂智,江祖荣
(广州化学试剂厂,广东 广州 510288)
[摘 要]研究了无机、有机、复合光亮剂对高磷化学镀镍镀层外观、表面微观形貌、沉积速度、磷含量、孔隙率及耐蚀性的影响。试验证明: 添加无机光亮剂时,镀层光亮,但存在微孔结构,导致孔隙率升高,耐蚀性大幅下降;添加有机光亮剂时,镀层光亮性略有下降,但镀层均匀 性好,缺陷少;而复合光亮剂则可以实现较理想的效果,其镀层外观光亮,表面平整细致,沉积速度快,整体性能优良,复合光亮剂组成为:2 mg/L Ce(SO4)2、3 mg/L Te(SO4)2、30 mg/L C6H5SO2Na、2 mg/L N,N-二乙基丙炔胺(DEP)。 [关键词]化学镀镍;高磷;光亮剂 [中图分类号]TQ [文献标识码]A [文章编号]1007-1865(2012)14-0037-03
Study on the Brightener for High Phosphorus Electroless Nickel Plating
Wang Xin, Xiong Pu, Zhu Junjian, Huang Songzhi, Jiang Zurong (Guangzhou Chemical Reagent Factory, Guangzhou 510288, China)
高磷化学镀镍为非晶态构型,不但具有优良的耐蚀性,还具 有稳定的非磁性、高电阻率及低温度系数等性能,是一种优良的 功能性镀层,广泛应用于计算机硬盘、磁屏蔽器件设备、石油化 工管道设备、汽车零部件等方面[1-2]。高磷化学镀镍通常为半光亮 外观,近年来人们对镀层的光亮性要求越来越高,光亮剂的重要 性也日益体现出来。 化学镀镍的光亮剂分为有机和无机两类。前期镀液多以铅、 镉为光亮剂。由于环保要求,逐渐向无铅、无铬方向发展。无机 光亮剂包括 Ce(SO4)2、AgCN、SnCl2、Te(SO4)2、CuSO4[3]等,它 们的添加量为 1~10 mg/L。有机光亮剂主要是一些电镀镍光亮剂, 如丁炔二醇、炔丙醇、乙氧基炔丙醇、乙氧基丁炔二醇、全氟壬 氧基苯磺酸钠等。它们的添加量较大,往往达几十个 ppm,导致 镀速降低[4-5]。将无机光亮剂和有机光亮剂进行复配,化学镀镍光 亮剂的效果更佳。 文章采用前期筛选出的两种无机光亮剂和两种有机光亮剂, 对比了无机、有机以及复合光亮剂对镀层外观、结构及性能的影 响。
是有机和无机光亮剂的复合。 表 1 镀液成分及参数 Tab.1 Ingredient and parameters of plating solution
序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 项目 NiSO4·6H2O NaH2PO2·H2O CH3COONa 乳酸 苹果酸 柠檬酸 丁二酸 聚乙二醇 pH θ 装载比 时间/t 参数 25 g/L 30 g/L 15 g/L 10 mL/L 5 g/L 8 g/L 10 g/L 4 mg/L 4.60~4.65 (89±1) ℃ 1.0 dm2/L 1h
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