酞菁铜纳米线的模板合成与表征
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
o .反复操作数次 ,最后将引入 C P c) u C的氧化铝模板于 7 — 0C 0 8  ̄充分干燥.将干燥好 的含有 c P u c的氧 化 铝模板 放人少 量蒸馏 水 中用超 声 波进 行 清洗 2mn ,在 2O 下 干燥 2h i后 8 ;将 干燥后 的含 有 C P u C的氧 化铝模板放人 1 o ・ 盐酸溶液中进行部分氧化铝模板去除, lL m 时间为 2 i, n 清洗后继续进行长时间干燥. m
( u C) C P 纳米 线 ,并运 用F -R,S M,XR 对 纳米线 进行 表征 分析 . TI E D
1 实验部分
11 试 剂与 仪器 .
高纯铝( 999) 它试 剂 均为 分 析纯 . 9. , 9 其 红外 光谱 仪(pcrm O e美 国 PE公 司 )扫描 电镜( - 30 Set — n , u .. ; S4 0 , 日本 日立公 司 ) 一 ;X 射线 衍 射仪 ( RD 60 X 一0 0型 , E本 岛津公 司 ) t .
氧化 ( 1 第 步相 同 的工 艺 条件 ).2 阳极 氧化后 , 氧化 的A 层在饱 和 的Hg 1 液 中去 除 ; 用5% H P 步 未 l C 溶 再 O 溶 液 中进 行扩孔 处理 ,最 后形 成 具有 大小 均匀 的六 角形排 列 的孔洞结 构 的氧 化 铝模板 .
13 Cu C纳米线 的合 成 . P
9月
文章编号 :10 — 8 2 1 0 — 0 5 0 07 9 3 1( 0 0) 5 0 4 — 3
酞菁铜纳米线 的模板合 成 与表征
殷广 明 ,黄孝 明 ,宋 坤 ,张转芳
( 齐哈 尔大 学 分析测 试 中心 ,黑龙 江 齐齐 哈尔 1 10 齐 6 06)
摘要 :采 用物理 方 法将 酞菁铜 引入 到 氧化铝 模板 中 ,成功 制备 了酞 菁铜 纳 米线 .表征 结果 表明 , 酞菁铜 纳 米线 直径约 为 7 m,呈现 8晶形结构 . 纳米线 的形 成经 历 了成核 到 纳米粒 子 ,由纳 米 5n
粒子 高温 晶化 组 装成 纳米 线 的过程 .
关键词 :酞 菁铜 ;纳 米线 ;氧 化铝 模板
中图分 类号 :T 33 B 8
文献 标识 码 :A
d i 036/i n10 — 8 1 000 .1 o:1. 9js . 7 9 3 . 1.5 5 9 .s 0 2 0
金属酞菁配合物 ( P ) M c 冈其骨架结构特征和可通过选择中心离子 、轴向配体和在酞菁环上引入功能
第 3 卷 笫 5期 0
2 0 01
高 师 理 科 学 刊
J u n l o c e c f T a h r C le e n Un v r i o r a f S in e o e c e s o l g a d i e st y
V0. 0 No5 13 .
Se p. 2 0 01
根据 文献[】 4合成 C P .取适 量 的 C P uC u C溶解 在丙 酮溶 液 中 ,形成 过饱 和溶 液 ,把氧 化铝模 板浸入 溶液 中 ,采用减 压法 , 酞菁 铜 溶液 充分 引入 到氧 化铝模 板 的孔洞 中 , 模 板取 出十燥 3 n( 将 将 0mi 温度 为 7 8 0 0
收稿 日期 :2 1 - 4 2 0 00 — 0
作者 简介 :殷J ( 9 1 ) 明 17 一 ,男 ,黑 龙江 齐齐 I, A ,高级 实验 师 ,在 泼 博士 ,主要从 事 纳米 材料 研究 . 1 m i qyn 6 . m ,q a< . al r i n 3C 2 - — t g @1 O
12 氧化铝模 板 的制 备 _
采 用2 步氧 化法制 备 多孑 氧化 铝模 板 L .将厚 度03m . m,纯 度为9 .9 9 9%的铝 箔进 行超 声波 清洗 、高温 9 退火 、电解抛光 后进行 第 l 阳极 氧化 ( .m l L 步 03 o ・ HCO ,电压 为 4 0 v,电解 时间为 1 0h),之 后 ,在磷 酸和铬 酸的混 合液 中浸泡 ,用 以去除 第 1 阳极 氧化 产生 的氧 化层 中的无 序 化部 分 ;接着 再进行 第2 阳极 步 步
性 取代 基等方法 进行 分子 筛选 与组 装 ,得 到具 有特殊 的物 理化 学性 质和 光 、电 、催化 等 功能 的材料 ,从而 引起 了化学家 和材料 学 家 的浓厚兴 趣 ” 目前 ,在金属 酞菁 配合 物纳米 化 的研 究 中 ,主要 集 中在 以下几个 之.
方面 : 金属酞菁配合物L 膜 和复合物L 膜 ; D D 介孔分子筛中引人金属酞菁配合物; 金属酞菁配合物与纳米金 属( 金属氧化物 ) 复合颗粒 ;金属酞菁配合物修饰的二氧化硅纳米粒子及线体材料 ;电化学合成纳米尺度 的带状 金属酞菁 等 ,主要 应 片于非 线 性光 学材 料 、太 阳能 电池 和光催 化 等方 面 . j 氧化 铝模板 ( A A O)是 目前制 备 高度有 序 的纳米 线 阵列 的最 重要 的方 法 之一 ,通 过不 同电解 液 的阳极 氧化 ,可 获得具 有孔 洞均 一 ,空洞 尺 寸可 调 的纳米尺 度 的氧化 铝模板 . 本文 利用 氧化 铝模 板合 成 了酞 菁铜
Hale Waihona Puke Baidu
高 师 理 科 学 刊
第 3 卷 0
2 结果 与讨论
21 氧化铝 模板 的表征 .
多孔氧化 铝具有 耐高 温 、绝 缘性好 *- 径 、孑 深大小 可控等 特点 ,在一 维纳米 结构 的组装方 面得到 了 lL l f L 广泛 的应用 .所制备 的氧化 铝模 板 的表 面 和剖面 的S M照片见 图1 图 1 E .从 中可 知 ,氧化 铝模板 具有高度 有 序 的六 角排 列的纳米 孔 阵列 ,孑 径 约为9 m,孔心 间距 约为 20 m,孔 分 布的密 度为 1 0’ m ;氧 L 0n 2 n .X1“ 1 /c