半导体探测器讲解
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的半导体称为N 型半导体。
电子浓度: n N D 施主杂质浓度
4)受主杂质(Acceptor impurities)与受主能级
受主杂质为III族元素,其电离电位 EA很低,受主杂质的能级一定很接近禁 带底部(即价带顶部),室温下价带中电 子容易跃迁这些能级上;在价带中出现 空穴。所以,此时多数载流子为空穴, 杂质原子成为负电中心。掺有受主杂质 的半导体称为P 型半导体。
动的时间。只有当漂移长度 L E 大于灵敏体积的
长度才能保证载流子的有效收集。对高纯度的Si和Ge ~10-3s,决定了Si和Ge为最实用的半导体材料。
高的电阻率和长的载流子寿命是组成半 导体探测器的关键。
10.2 P-N结半导体探测器
1、P-N结半导体探测器的工作原理 1) P-N结区(势垒区)的形成
2) 杂质半导体 杂质类型:替位型,间隙型。
(1) 替位型:III族元素,如B,Al,Ga等; V族元素,如P,As,Sb等
(2) 间隙型:Li,可在晶格间运动。
3) 施主杂质(Donor impurities)与施主能级
施主杂质为V族元素,其电离电位ED很低,施 主杂质的能级一定接近禁带顶部(即导带底部)。在 室温下,这些杂质原子几乎全部电离。由于杂质浓 度远大于本征半导体导带中的电子浓度,多数载流 子为电子,杂质原子成为正电中心。掺有施主杂质
第十章
半导体探测器
Semiconductor Detector
半导体探测器的基本原理是带电粒子在半导 体探测器的灵敏体积内产生电子-空穴对,电子 -空穴对在外电场的作用下漂移而输出信号。
我们把气体探测器中的电子-离子对、闪烁 探测器中被 PMT第一打拿极收集的电子 及半导 体探测器中的电子-空穴对统称为探测器的信息 载流子。产生每个信息载流子的平均能量分别为 30eV(气体探测器),300eV(闪烁探测器)和3eV(半 导体探测器)。
由于热运动而产生的载流子浓度称为本征载流子浓 度,且导带中的电子数和价带中的空穴数严格相等。
固体物理理论已证明半导体内的载流子平衡
浓度为: ni pi 1019 e EG / 2kT
ni和pi为单位体积中的电子和空穴的数目,
下标“i”表示本征(Intrinsic)材料。T为材料的 绝对温度,EG为能级的禁带宽度。
(1) 多数载流子扩 散,空间电荷形成内 电场并形成结区。结 区内存在着势垒,结 区又称为势垒区。势 垒区内为耗尽层,无
载流子存在,实现高 电阻率,达 1010 c,m
远高于本征电阻率。
(2) P-N结内的电流
If - 能量较高的多子穿透 内电场,方向为逆内电场
方向;
P
IG- 在结区内由于热运动产 生的电子空穴对;
对N型半导体,电子的漂移速度为un nE
对P型半导体,空穴的漂移速度为up p E
由于 电子迁移率n 和 空穴迁移率p 相近,与
气体探测器不同,不存在电子型或空穴型半导体
探测器。
电场较高时,漂移速度随电场的增加较慢,最 后达到载流子的饱和速度~107cm/s。
3) 电阻率与载流子寿命
半导体电阻率:
1
ห้องสมุดไป่ตู้ cm
e n n p p
本征电阻率: S i 2.3105 cm Ge 50 ~ 100 cm
掺杂将大大降低半导体的电阻率,对硅来说掺杂对电
阻率的影响比锗显著得多。当半导体材料被冷却到液氮
温度时将大大提高电阻率。
载流子寿命--载流子在俘获以前,可在晶体中自由运
n p
Cn Cp
e( e(
E1 EF EF E2
)/ )/
kT kT
式中,E1为导带底;E2为价带顶。Cn和Cp为与禁 带内能级分布无关的常数。
所以: n p CnC p e Eg / kT
可见,对半导体材料,在一定温度下,n·p仅与禁带 宽度有关。因此,在相同温度下,本征半导体的相等 的两种载流子密度之积与掺杂半导体的两种载流子密 度之积相等,即:
空穴浓度: p N A 受主杂质浓度
Doping with valence 5 atoms Doping with valence 3 atoms
N-type semiconductor P-type semiconductor
2、载流子浓度和补偿效应 1) 载流子浓度
电子浓度: 空穴浓度:
3、半导体作为探测介质的物理性能
1) 平均电离能 (w)
入射粒子在半导体介质中平均产生一对电子
空穴需要的能量。
300ºK 77ºK
Si 3.62eV 3.76eV
Ge 2.96eV
半导体中的平均电离能与入射粒子能量无
关。在半导体中消耗能量为E时,产生的载流 子数目N为:
N E/w
2) 载流子的漂移
半导体探测器的特点:
(1) 能量分辨率最佳; (2) 射线探测效率较高,可与闪烁探测器 相比。
常用半导体探测器有:
(1) P-N结型半导体探测器; (2) 锂漂移型半导体探测器; (3) 高纯锗半导体探测器;
10.1 半导体的基本性质
常用半导体材料为硅(Si)和锗(Ge),均为IV族元素.
1、本征半导体和杂质半导体 1) 本征半导体: 理想、无杂质的半导体.
ni2 pi2 ni pi n p
2) 补偿效应
对本征半导体: ni pi
对杂质半导体: n p ,但仍满足 n p ni2
当 n = p 时,载流子总数 ni pi 取最小值。
对N型半导体:n > p,可以加入受主杂质,使 之成为本征半导体,此时n = p = ni,也称为“准本 征半导体”;进一步加入受主杂质,可变为P型半导 体,即p > n。但其代价为载流子的寿命将大大缩 短。
If
IG g W e
IS- 少子扩散到结区。
IG,IS的方向为顺内电场方向。
平衡状态时: I f IG I S
E
N
IG , IS
(3) 外加电场下的P-N结:
在P-N结上加反向电压,由于结区电阻率很高,电 位差几乎都降在结区。
反向电压形成的电场与内电场方向一致。 外加电场使结区宽度增大。反向电压越高,结区 越宽。
电子浓度: n N D 施主杂质浓度
4)受主杂质(Acceptor impurities)与受主能级
受主杂质为III族元素,其电离电位 EA很低,受主杂质的能级一定很接近禁 带底部(即价带顶部),室温下价带中电 子容易跃迁这些能级上;在价带中出现 空穴。所以,此时多数载流子为空穴, 杂质原子成为负电中心。掺有受主杂质 的半导体称为P 型半导体。
动的时间。只有当漂移长度 L E 大于灵敏体积的
长度才能保证载流子的有效收集。对高纯度的Si和Ge ~10-3s,决定了Si和Ge为最实用的半导体材料。
高的电阻率和长的载流子寿命是组成半 导体探测器的关键。
10.2 P-N结半导体探测器
1、P-N结半导体探测器的工作原理 1) P-N结区(势垒区)的形成
2) 杂质半导体 杂质类型:替位型,间隙型。
(1) 替位型:III族元素,如B,Al,Ga等; V族元素,如P,As,Sb等
(2) 间隙型:Li,可在晶格间运动。
3) 施主杂质(Donor impurities)与施主能级
施主杂质为V族元素,其电离电位ED很低,施 主杂质的能级一定接近禁带顶部(即导带底部)。在 室温下,这些杂质原子几乎全部电离。由于杂质浓 度远大于本征半导体导带中的电子浓度,多数载流 子为电子,杂质原子成为正电中心。掺有施主杂质
第十章
半导体探测器
Semiconductor Detector
半导体探测器的基本原理是带电粒子在半导 体探测器的灵敏体积内产生电子-空穴对,电子 -空穴对在外电场的作用下漂移而输出信号。
我们把气体探测器中的电子-离子对、闪烁 探测器中被 PMT第一打拿极收集的电子 及半导 体探测器中的电子-空穴对统称为探测器的信息 载流子。产生每个信息载流子的平均能量分别为 30eV(气体探测器),300eV(闪烁探测器)和3eV(半 导体探测器)。
由于热运动而产生的载流子浓度称为本征载流子浓 度,且导带中的电子数和价带中的空穴数严格相等。
固体物理理论已证明半导体内的载流子平衡
浓度为: ni pi 1019 e EG / 2kT
ni和pi为单位体积中的电子和空穴的数目,
下标“i”表示本征(Intrinsic)材料。T为材料的 绝对温度,EG为能级的禁带宽度。
(1) 多数载流子扩 散,空间电荷形成内 电场并形成结区。结 区内存在着势垒,结 区又称为势垒区。势 垒区内为耗尽层,无
载流子存在,实现高 电阻率,达 1010 c,m
远高于本征电阻率。
(2) P-N结内的电流
If - 能量较高的多子穿透 内电场,方向为逆内电场
方向;
P
IG- 在结区内由于热运动产 生的电子空穴对;
对N型半导体,电子的漂移速度为un nE
对P型半导体,空穴的漂移速度为up p E
由于 电子迁移率n 和 空穴迁移率p 相近,与
气体探测器不同,不存在电子型或空穴型半导体
探测器。
电场较高时,漂移速度随电场的增加较慢,最 后达到载流子的饱和速度~107cm/s。
3) 电阻率与载流子寿命
半导体电阻率:
1
ห้องสมุดไป่ตู้ cm
e n n p p
本征电阻率: S i 2.3105 cm Ge 50 ~ 100 cm
掺杂将大大降低半导体的电阻率,对硅来说掺杂对电
阻率的影响比锗显著得多。当半导体材料被冷却到液氮
温度时将大大提高电阻率。
载流子寿命--载流子在俘获以前,可在晶体中自由运
n p
Cn Cp
e( e(
E1 EF EF E2
)/ )/
kT kT
式中,E1为导带底;E2为价带顶。Cn和Cp为与禁 带内能级分布无关的常数。
所以: n p CnC p e Eg / kT
可见,对半导体材料,在一定温度下,n·p仅与禁带 宽度有关。因此,在相同温度下,本征半导体的相等 的两种载流子密度之积与掺杂半导体的两种载流子密 度之积相等,即:
空穴浓度: p N A 受主杂质浓度
Doping with valence 5 atoms Doping with valence 3 atoms
N-type semiconductor P-type semiconductor
2、载流子浓度和补偿效应 1) 载流子浓度
电子浓度: 空穴浓度:
3、半导体作为探测介质的物理性能
1) 平均电离能 (w)
入射粒子在半导体介质中平均产生一对电子
空穴需要的能量。
300ºK 77ºK
Si 3.62eV 3.76eV
Ge 2.96eV
半导体中的平均电离能与入射粒子能量无
关。在半导体中消耗能量为E时,产生的载流 子数目N为:
N E/w
2) 载流子的漂移
半导体探测器的特点:
(1) 能量分辨率最佳; (2) 射线探测效率较高,可与闪烁探测器 相比。
常用半导体探测器有:
(1) P-N结型半导体探测器; (2) 锂漂移型半导体探测器; (3) 高纯锗半导体探测器;
10.1 半导体的基本性质
常用半导体材料为硅(Si)和锗(Ge),均为IV族元素.
1、本征半导体和杂质半导体 1) 本征半导体: 理想、无杂质的半导体.
ni2 pi2 ni pi n p
2) 补偿效应
对本征半导体: ni pi
对杂质半导体: n p ,但仍满足 n p ni2
当 n = p 时,载流子总数 ni pi 取最小值。
对N型半导体:n > p,可以加入受主杂质,使 之成为本征半导体,此时n = p = ni,也称为“准本 征半导体”;进一步加入受主杂质,可变为P型半导 体,即p > n。但其代价为载流子的寿命将大大缩 短。
If
IG g W e
IS- 少子扩散到结区。
IG,IS的方向为顺内电场方向。
平衡状态时: I f IG I S
E
N
IG , IS
(3) 外加电场下的P-N结:
在P-N结上加反向电压,由于结区电阻率很高,电 位差几乎都降在结区。
反向电压形成的电场与内电场方向一致。 外加电场使结区宽度增大。反向电压越高,结区 越宽。