电子技术基础--模拟部分全套课件 康华光版
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电子技术基础康华光版(ppt)
1
X
X
高阻
0
1
0
数据输出
0
0
X
数据输入
0
1
1
高阻
1. RAM存储单元
• 静态SRAM(Static RAM)
Xi (行 选 择 线 )
来自列地址译码 器的输出
位 线
B
T3
T5 T1
VDD VGG
T4
T6 T2
存储 单元
位 线 B
数 据D 线
T7
T8
数
Yj (列 选 择 线 )
列存储单元公用的门
据 D线
按写入情况划分
三极管ROM
MOS管ROM
固定ROM
PROM
可编程ROM EPROM
E2PROM
7.1.1 ROM的定义与基本 结构
入地 址 输
器地 址 译 码
控制信号输 入
存储矩阵
输出控制电路
数据输出
1)ROM(二极管PROM)结构示M意=图44
+5V
R
R
R
R
Y0
A1
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
A1
Y1
A0
A0
Y2
2 线 -4 线
Q1 Q0
A1 A0
写地
丛发控
址寄
制逻辑
存器
数据选择器
地址译码
输
存储阵列
出 放
大
读写控制
输入驱动
CE
逻辑
WE
输入
寄存器
I /O
OE
ADV=0:普通模式读写
WE =0:写操作 WE =1:读操作
普通模式读写模式:在每个时钟有效沿锁存输入信号,在一 个时钟周期内,由内部电路完成数据的读(写)操作。
电子技术基础模拟部分第五版康华光课件
光课件
3.2.2 PN结的形成
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
3.2.2 PN结的形成
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
在一块本征半导体两侧通过扩散不同的杂质,分 别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半 导体和P型半导体的结合面上形成如下物理过程:
因浓度差
多子的扩散运动 由杂质离子形成空间电荷区
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
end
3.2 PN结的形成及特性
3.2.1 载流子的漂移与扩散 3.2.2 PN结的形成 3.2.3 PN结的单向导电性 3.2.4 PN结的反向击穿 3.2.5 PN结的电容效应
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
3.2.1 载流子的漂移与扩散
漂移运动:
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
3.3.1 半导体二极管的结构
在PN结上加上引线和封装,就成为一个二极管。 二极管按结构分有点接触型、面接触型两大类。
(1) 点接触型二极管
PN结面积小,结电 容小,用于检波和变 频等高频电路。
二极管的结构示意图
(a)点接触型
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
(μA)
IS: 反向饱和电流
【可参见教材P6电4子图技术3基.2础.模4拟】部分第五版康华
光课件
3. PN结V-I特性的表达式
u
i IS(e UT1)
i/mA - +
❖ 当加正向电压时:
u为正值,表达 式等效成 :
+-
u
i IS e U T
指数 关系
IF ❖ 当加反向电压时:
i=-IS UBR
- - - - - + + + 多+子+电子
3.2.2 PN结的形成
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
3.2.2 PN结的形成
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
在一块本征半导体两侧通过扩散不同的杂质,分 别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半 导体和P型半导体的结合面上形成如下物理过程:
因浓度差
多子的扩散运动 由杂质离子形成空间电荷区
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
end
3.2 PN结的形成及特性
3.2.1 载流子的漂移与扩散 3.2.2 PN结的形成 3.2.3 PN结的单向导电性 3.2.4 PN结的反向击穿 3.2.5 PN结的电容效应
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
3.2.1 载流子的漂移与扩散
漂移运动:
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
3.3.1 半导体二极管的结构
在PN结上加上引线和封装,就成为一个二极管。 二极管按结构分有点接触型、面接触型两大类。
(1) 点接触型二极管
PN结面积小,结电 容小,用于检波和变 频等高频电路。
二极管的结构示意图
(a)点接触型
电子技术基础模拟部分第五版康华 光课件
(μA)
IS: 反向饱和电流
【可参见教材P6电4子图技术3基.2础.模4拟】部分第五版康华
光课件
3. PN结V-I特性的表达式
u
i IS(e UT1)
i/mA - +
❖ 当加正向电压时:
u为正值,表达 式等效成 :
+-
u
i IS e U T
指数 关系
IF ❖ 当加反向电压时:
i=-IS UBR
- - - - - + + + 多+子+电子
电子技术基础第五版第十章模拟部分课件康华光
(4)当VO=12 V、RL=150Ω,R2=510Ω时,计算调整管T3的功耗PC3。
18
CH10 直流稳压电源
例
解:
(1)设变压器副边电压的有效值V2=20 V,求VI=?
VI=(1.1~1.2)V2
取 VI=1.2V2
则 VI=1.2V2=1.2×20=24V
19
CH10 直流稳压电源
例
解:
所以 IC3=IL+IR3+IR2 =105mA PC3=VCE3×IC3 =(VA-VO)×IC3 =1.26W
22
10.2.3 三端集成稳压器
1. 输出电压固定的三端集成稳压器
CH10 直流稳压电源
(正电压 78 、负电压 79 )
23
10.2.3 三端集成稳压器
1. 输出电压固定的三端集成稳压器
c Rint C 充电时间常数:
Rint包括副绕组直流电 阻和二极管D的正向电 阻,其值很小。C很快 充电到最大值 2V2 并保持恒定。
u22 v
t
vC
充电结束,无放电回 路 8
2V2
t
CH10 直流稳压电源 2)接入负载RL后 在整流电路电压小于电 容电压时,二极管截止, 整流电路不为电容充电, 电容通过 RL 放电, vL 等 于 vC 会逐渐下降 。 放电 u 2 v2 时间常数为
VCE3=VA-VO=24 V-12 V=12 V
20
例
解:
CH10 直流稳压电源
(3)计算输出电压的调节范围。
VREF
R1
R2
R3 RP R4 R1 VO= VREF (1 ) VZ1 ( ) 1 R2 R4 RP 2 R3 RP R4 R3 RP R4 VOmin VZ1 ( ) = 9V VOmax VZ1 ( ) = 18V R4 RP R4
模拟电子技术基础(康华光版)课件 5
5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管
5.2 MOSFET放大电路
5.3 结型场效应管(JFET) *5.4 砷化镓金属-半导体场效应管 5.5 各种放大器件电路性能比较
场效应管的分类:
增强型 MOSFET (IGFET) 绝缘栅型 JFET 结型
N沟道
P沟道
FET 场效应管
耗尽型 N沟道
rds v DS iD
V GS
NMOS增强型
rds [ K n ( v GS V T ) ]
2 1
1
iD
当不考虑沟道调制效应时,=0,rds→∞
5.1.5 MOSFET的主要参数
二、交流参数 2. 低频互导gm 考虑到 则
gm iD v GS
2
V DS
i D K n ( v GS V T )
vo vS
vo vi
vi vS
Av
Ri Ri RS
3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析(例5.2.6)
Av vo vi ( g m v gs )( R // rds ) v gs g m v gs ( R // rds )
共漏
g m ( R // rds ) 1 g m ( R // rds )
I DQ g m v gs K v 2 n gs
静态值 (直流)
动态值 (交流)
非线性 失真项
I DQ g m v gs I DQ i d
当,vgs<< 2(VGSQ- VT )时, i D
5.2.1 MOSFET放大电路
3. 小信号模型分析 (1)模型
i D I DQ g m v gs I DQ i d
5.2 MOSFET放大电路
5.3 结型场效应管(JFET) *5.4 砷化镓金属-半导体场效应管 5.5 各种放大器件电路性能比较
场效应管的分类:
增强型 MOSFET (IGFET) 绝缘栅型 JFET 结型
N沟道
P沟道
FET 场效应管
耗尽型 N沟道
rds v DS iD
V GS
NMOS增强型
rds [ K n ( v GS V T ) ]
2 1
1
iD
当不考虑沟道调制效应时,=0,rds→∞
5.1.5 MOSFET的主要参数
二、交流参数 2. 低频互导gm 考虑到 则
gm iD v GS
2
V DS
i D K n ( v GS V T )
vo vS
vo vi
vi vS
Av
Ri Ri RS
3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析(例5.2.6)
Av vo vi ( g m v gs )( R // rds ) v gs g m v gs ( R // rds )
共漏
g m ( R // rds ) 1 g m ( R // rds )
I DQ g m v gs K v 2 n gs
静态值 (直流)
动态值 (交流)
非线性 失真项
I DQ g m v gs I DQ i d
当,vgs<< 2(VGSQ- VT )时, i D
5.2.1 MOSFET放大电路
3. 小信号模型分析 (1)模型
i D I DQ g m v gs I DQ i d
电子技术基础第五版模拟部分通用课件康华光
爆米花噪声
由材料缺陷或晶体缺陷引起的噪声。
噪声的抑制方法
增加信号幅度
通过增加信号幅度,降低相对噪声影 响。
滤波
通过使用滤波器滤除特定频率范围的 噪声。
接地
良好的接地可以减少电磁干扰和地线 噪声。
屏蔽
使用屏蔽材料隔离电路和电子设备, 减少外部噪声的影响。
失真的产生与抑制方法
非线性失真
由于电路元件的非线性特性引起的失真,如放大器的增益饱和。
解调技术
解调是将加载在高频载波信号上的低 频信号分离出来的过程。解调技术包 括鉴频、鉴相和鉴幅。
信号的滤波技术
滤波器类型
滤波器根据其频率响应特性可分为低通滤波器、高通滤波器、带通滤波器和带 阻滤波器。
滤波器设计
滤波器的设计需要考虑其传递函数、阻抗比、衰减特性、群时延特性等参数, 以达到所需的信号处理效果。
03
模拟集成电路基础
模拟集成电路的基本概念
模拟集成电路
由模拟元件构成的电路,用于处理连续变化的模拟信号。
模拟信号
表示物理量连续变化的信号,如声音、温度、压力等。
模拟集成电路的特点
具有高精度、低噪声、低失真等特点,广泛应用于信号处理、通信 、测量等领域。
模拟集成电路的工艺技术
半导体工艺
基于半导体材料(如硅、 锗)的制造工艺,包括外 延、氧化、扩散、光刻、 刻蚀等。
集成电路的分类
按工艺技术可分为薄膜集 成电路和厚膜集成电路。
集成电路的封装
将芯片与外部电路连接起 来的封装形式,包括直插 式封装、表面贴装等。
模拟集成电路的设计流程
元器件选择
选择合适的元件, 包括电阻、电容、 电感等。
版图绘制
将电路设计转化为 版图,为制造提供 依据。
由材料缺陷或晶体缺陷引起的噪声。
噪声的抑制方法
增加信号幅度
通过增加信号幅度,降低相对噪声影 响。
滤波
通过使用滤波器滤除特定频率范围的 噪声。
接地
良好的接地可以减少电磁干扰和地线 噪声。
屏蔽
使用屏蔽材料隔离电路和电子设备, 减少外部噪声的影响。
失真的产生与抑制方法
非线性失真
由于电路元件的非线性特性引起的失真,如放大器的增益饱和。
解调技术
解调是将加载在高频载波信号上的低 频信号分离出来的过程。解调技术包 括鉴频、鉴相和鉴幅。
信号的滤波技术
滤波器类型
滤波器根据其频率响应特性可分为低通滤波器、高通滤波器、带通滤波器和带 阻滤波器。
滤波器设计
滤波器的设计需要考虑其传递函数、阻抗比、衰减特性、群时延特性等参数, 以达到所需的信号处理效果。
03
模拟集成电路基础
模拟集成电路的基本概念
模拟集成电路
由模拟元件构成的电路,用于处理连续变化的模拟信号。
模拟信号
表示物理量连续变化的信号,如声音、温度、压力等。
模拟集成电路的特点
具有高精度、低噪声、低失真等特点,广泛应用于信号处理、通信 、测量等领域。
模拟集成电路的工艺技术
半导体工艺
基于半导体材料(如硅、 锗)的制造工艺,包括外 延、氧化、扩散、光刻、 刻蚀等。
集成电路的分类
按工艺技术可分为薄膜集 成电路和厚膜集成电路。
集成电路的封装
将芯片与外部电路连接起 来的封装形式,包括直插 式封装、表面贴装等。
模拟集成电路的设计流程
元器件选择
选择合适的元件, 包括电阻、电容、 电感等。
版图绘制
将电路设计转化为 版图,为制造提供 依据。
模电“电子技术基础”康华光-ch2 28页PPT文档
据虚短, V- V+ 0
Vo =-If Rf -Ii Rf
Ii
=
Vi R1电压增益:ຫໍສະໝຸດ AVf= Vo Vi
Rf R1
虚地 virtual ground
基础:反相放大电路 同相放大电路
A vf
Rf R1
特例: A vf 1反号器
vo vi(v)
A vf
1Rf R1
主要用途:运算、处理、变换、测量、信号 产生、开关电路
运算放大器外形图
运算放大器外形图
2.1 集成电路运算放大器
运算放大器实质:高增益直接耦合放大电路
集成电路运算放大器的内部结构框图
vp(v)同相输入端(noninverting input terminal) vN(v)反相输入端(inverting input terminal)
积分器的输入和输出波形图
(二) 微分电路(Differentiator)
显然 vO iRRiCR
RCdvC dt
RC dvI dt
三、对数和指数
(一) 对数电路(Log Amplifier)
iD ISevD/VT
vD
VTln
iD IS
iD
iR
vi R
vO vD VTlniID S VTlnRvISI
vo vi1 vi2 Rf R1 R2
vo
(Rf R1
vi1R R2f
vi2)
方法一: :“虚短”+ “虚断” 方法二: :叠加定理
vo
Rf R1
v i1
R R
f 2
v i2
平衡电阻:
R'R1 R2 Rf
电子技术基础模拟部分(第六版) 康华光ch
允许低频信号通过,抑制高频信 号。
全通滤波电路(APF)
对所有频率的信号都有相同的传 递函数。
滤波电路的分析方法
解析法
通过数学公式推导电路的 传递函数和频率响应。
实验法
通过实验测试电路的实际 性能。
近似法
对电路进行近似处理,简 化分析过程。
滤波电路的应用实例
音频信号处理
用于消除噪音、增强音质。
图像信号处理
感谢您的观看
振荡电路用于产生本机振荡信号,用于调制和解调无 线信号。
音频信号处理
振荡电路可以用于产生音频信号,如合成器和效果器 中的音源。
测量仪器
振荡电路用于产生稳定的频率信号,如示波器和频谱 分析仪中的信号源。
06 电源电路
电源电路的组成和工作原理
电源电路的组成
电源电路主要由电源、负载和中间环节组成。电源是产生电 能的装置,负载是消耗电能的装置,中间环节则起到传输电 能的作用。
用于图像增强、去噪。
通信系统
用于信号的提取、抑制干扰。
05 振荡电路
振荡电路的组成和工作原理
1 2 3
组成
振荡电路由放大器、反馈网络和选频网络三个部 分组成。
工作原理
振荡电路通过正反馈和选频网络的选频作用,将 输入信号中的特定频率成分不断放大,最终输出 稳定的振荡信号。
振荡条件
要产生振荡,必须满足一定的相位和幅度条件, 即|AF|=1和ΔΦ=2π(n-1),其中A为放大倍数,F 为反馈系数,n为自然数。
电子技术基础模拟部分(第六版) 康华光ch
目 录
• 电子技术概述 • 模拟电路基础 • 放大电路 • 滤波电路 • 振荡电路 • 电源电路
01 电子技术概述
全通滤波电路(APF)
对所有频率的信号都有相同的传 递函数。
滤波电路的分析方法
解析法
通过数学公式推导电路的 传递函数和频率响应。
实验法
通过实验测试电路的实际 性能。
近似法
对电路进行近似处理,简 化分析过程。
滤波电路的应用实例
音频信号处理
用于消除噪音、增强音质。
图像信号处理
感谢您的观看
振荡电路用于产生本机振荡信号,用于调制和解调无 线信号。
音频信号处理
振荡电路可以用于产生音频信号,如合成器和效果器 中的音源。
测量仪器
振荡电路用于产生稳定的频率信号,如示波器和频谱 分析仪中的信号源。
06 电源电路
电源电路的组成和工作原理
电源电路的组成
电源电路主要由电源、负载和中间环节组成。电源是产生电 能的装置,负载是消耗电能的装置,中间环节则起到传输电 能的作用。
用于图像增强、去噪。
通信系统
用于信号的提取、抑制干扰。
05 振荡电路
振荡电路的组成和工作原理
1 2 3
组成
振荡电路由放大器、反馈网络和选频网络三个部 分组成。
工作原理
振荡电路通过正反馈和选频网络的选频作用,将 输入信号中的特定频率成分不断放大,最终输出 稳定的振荡信号。
振荡条件
要产生振荡,必须满足一定的相位和幅度条件, 即|AF|=1和ΔΦ=2π(n-1),其中A为放大倍数,F 为反馈系数,n为自然数。
电子技术基础模拟部分(第六版) 康华光ch
目 录
• 电子技术概述 • 模拟电路基础 • 放大电路 • 滤波电路 • 振荡电路 • 电源电路
01 电子技术概述
电子技术基础模拟部分(第六版) 康华光ch05
• V(BR)CEO——基极开路时集电极和发射 极间的击穿电压。
22
华中科技大学 张林
5.1.4 BJT的主要参数
由PCM、 ICM和V(BR)CEO在输出特性曲线上可以确定 过损耗区、过电流区和击穿区。
过流区
过 压 区
输出特性曲线上的过损耗区和击穿区
23
华中科技大学 张林
5.1.5 温度对BJT参数及特性的影响
时,发射结正偏,集电结反 偏。
17
华中科技大学 张林
5.1.4 BJT的主要参数
1. 电流放大系数
(1) 共发射极直流电流放大系数 β
βICICEO IC
IB
IB
vCE const
(2) 共发射极交流电流放大系数 =IC/IBvCE=const
18
华中科技大学 张林
5.1.4 BJT的主要参数
1. 内部载流子的传输过程 发射区:发射载流子 集电区:收集载流子 基区:传送和控制载流子
(以NPN为例)
IE=IB+ IC IC= ICN+ ICBO
载流子的传输过程
9
华中科技大学 张林
2. 电流分配关系
根据传输过程可知 IE=IB+ IC
设
传输到集电极的电流
发射极注入电流
即 InC
IE
vBE =VCC-iBRb
且电容Cb1充电完成后,其
vs
电压等于VBEQ
输出回路方程相同
vCE=VCC-iCRc
动态时,输入信号vi叠加Cb1上已充的 静态电压VBEQ,然后加在BJT的b-e间, 即
vBE=VBEQ+ vi
40
华中科技大学 张林
5.3.1 BJT放大电路的图解分析法
22
华中科技大学 张林
5.1.4 BJT的主要参数
由PCM、 ICM和V(BR)CEO在输出特性曲线上可以确定 过损耗区、过电流区和击穿区。
过流区
过 压 区
输出特性曲线上的过损耗区和击穿区
23
华中科技大学 张林
5.1.5 温度对BJT参数及特性的影响
时,发射结正偏,集电结反 偏。
17
华中科技大学 张林
5.1.4 BJT的主要参数
1. 电流放大系数
(1) 共发射极直流电流放大系数 β
βICICEO IC
IB
IB
vCE const
(2) 共发射极交流电流放大系数 =IC/IBvCE=const
18
华中科技大学 张林
5.1.4 BJT的主要参数
1. 内部载流子的传输过程 发射区:发射载流子 集电区:收集载流子 基区:传送和控制载流子
(以NPN为例)
IE=IB+ IC IC= ICN+ ICBO
载流子的传输过程
9
华中科技大学 张林
2. 电流分配关系
根据传输过程可知 IE=IB+ IC
设
传输到集电极的电流
发射极注入电流
即 InC
IE
vBE =VCC-iBRb
且电容Cb1充电完成后,其
vs
电压等于VBEQ
输出回路方程相同
vCE=VCC-iCRc
动态时,输入信号vi叠加Cb1上已充的 静态电压VBEQ,然后加在BJT的b-e间, 即
vBE=VBEQ+ vi
40
华中科技大学 张林
5.3.1 BJT放大电路的图解分析法
康华光-电子技术基础(第六版)模拟部分ch01
1 π cos( n t ) 0 n 2 n 1, 3 , 5
幅度谱
相位谱
8
华中科技大学 张林
1.2 信号的频谱
3. 非周期信号
傅里叶变换:
周期信号
非周期信号
离散频率函数
连续频率函数
气温波形
非周期信号包含了所有可能的频 率成分 (0 )
通过快速傅里叶变换( FFT ) 可迅速求出非周期信号的频谱函 数。
《电子技术基础》
模拟部分 (第六版)
华中科技大学
张林
电子技术基础模拟部分
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11
2
绪论 运算放大器 二极管及其基本电路 场效应三极管及其放大电路 双极结型三极管及其放大电路 频率响应 模拟集成电路 反馈放大电路 功率放大电路 信号处理与信号产生电路 直流稳压电源
7
华中科技大学 张林
1.2 信号的频谱
频谱:信号的振幅和相位随频率变化的分布称为该信号的频谱。
Vs 2Vs 1 1 (sin 0 t sin3 0 t sin5 0 t ) 2 π 3 5
2. 方波信号
v(t )
傅里叶级数的标准形式
V 2V v( t ) s s 2 π
由此可见
RL
Ai
15
华中科技大学 张林
1.5 放大电路的主要性能指标
1. 输入电阻
vt Ri it
Rsi vs – + ii + vi –
it + vt – Ri
Ro + Ri – Avo vi
Ri R1 Rv Ri 1 i vt v i
低频区
电子技术基础第五模拟部分课件康华光
模拟电路通常由电阻、电容、电感、二极管、三 极管等电子元件组成。
模拟电路通常用于放大、滤波、解调等信号处理 环节,以及控制和调节系统。
模拟电路的特点与分类
模拟电路具有连续性、线性、时变性等特点 ,可以实现对真实系统或自然现象的逼真模 拟。
模拟电路的分类方法有多种,如按频率分、 按放大倍数分、按功能分等。
04
高精度与低功耗
在追求高性能的同时,如何实 现更低的功耗和更高的精度是 模拟电路设计中的一大挑战。
06
模拟电路实验与案例分析
模拟电路实验的设计与实施
实验目的
掌握模拟电路的基本实验技能,培养分析和 解决实际问题的能力。
实验步骤
详细描述实验的操作流程,包括实验准备、 电路搭建、数据测量、结果分析等。
。
优化流程
03
先进行系统级仿真,再进行电路级仿真,最后进行版
图级仿真。
基于仿真的优化设计
电路仿真
通过电路仿真软件,如SPICE,对电路性能进行预测 和评估。
参数扫描
在电路仿真中,对关键参数进行扫描,找出最佳性能 参数值。
灵敏度分析
分析电路性能对各个参数的灵敏度,确定对电路性能 影响最大的参数。
基于遗传算法的优化设计
03
模拟电路还用于医疗设备的电 源管理,如为设备提供稳定的 供电和为电池充电。
04
模拟电路在医疗设备中的性能 直接关系到设备的准确性和安 全性。
04
模拟电路的优化设计
优化设计的基本原则和方法
优化设计目标
01
以电路性能指标为优化目标,如功耗、噪声、增益等
。
优化设计准则
02 根据特定应用需求,选择合适的优化算法和仿真工具
01
模拟电路通常用于放大、滤波、解调等信号处理 环节,以及控制和调节系统。
模拟电路的特点与分类
模拟电路具有连续性、线性、时变性等特点 ,可以实现对真实系统或自然现象的逼真模 拟。
模拟电路的分类方法有多种,如按频率分、 按放大倍数分、按功能分等。
04
高精度与低功耗
在追求高性能的同时,如何实 现更低的功耗和更高的精度是 模拟电路设计中的一大挑战。
06
模拟电路实验与案例分析
模拟电路实验的设计与实施
实验目的
掌握模拟电路的基本实验技能,培养分析和 解决实际问题的能力。
实验步骤
详细描述实验的操作流程,包括实验准备、 电路搭建、数据测量、结果分析等。
。
优化流程
03
先进行系统级仿真,再进行电路级仿真,最后进行版
图级仿真。
基于仿真的优化设计
电路仿真
通过电路仿真软件,如SPICE,对电路性能进行预测 和评估。
参数扫描
在电路仿真中,对关键参数进行扫描,找出最佳性能 参数值。
灵敏度分析
分析电路性能对各个参数的灵敏度,确定对电路性能 影响最大的参数。
基于遗传算法的优化设计
03
模拟电路还用于医疗设备的电 源管理,如为设备提供稳定的 供电和为电池充电。
04
模拟电路在医疗设备中的性能 直接关系到设备的准确性和安 全性。
04
模拟电路的优化设计
优化设计的基本原则和方法
优化设计目标
01
以电路性能指标为优化目标,如功耗、噪声、增益等
。
优化设计准则
02 根据特定应用需求,选择合适的优化算法和仿真工具
01
电子技术电路(模拟部分)康华光版_第一章课件讲解
称为幅频响应
( ) o ( ) i ( ) 称为相频响应
14
§ 1.5 放大电路的主要性能指标
4. 频率响应
A.频率响应及带宽
普通音响系统放大电路的幅频响应
20 lg AV / dB
低频区
中频区
高频区
3dB 60
40
带宽
20
o
2
20 2102 2103 2104
fL
fH
4. 互阻放大模型
ii
is
Rs
Ro
Ri
Arovi
vo RL
5. 互导放大模型
Rs
vs
vi Ri
io
Ro
RL
Ags ii
11
§ 1.5 放大电路的主要性能指标
1. 输入电阻
Ri
vi ii
Rs ii
Ro
vs
vi Ri
Av ov i
vo RL
2. 输出电阻
Rs
vt R o
实际电压传输特性
18
小结:
1. 四种放大电路模型。 2. 放大电路的五种主要性能指标。
19
其中
VS 2
0
2
T
——直流分量
2VS ——基波分量
v
VS
2VS
2VS
VS
3
2VS
2
5
o 0
3 0
5 0
方波的频谱
5
§ 1.2 信号的频谱
3. 非周期信号
电子技术基础模拟部分(第五版)康华光总复习课件
vi 2
5 4
vi1
2vi 2
18
二、习题
习题2.4.6 加减运算电路如图所示,求输出电压:vo的表达式。
令 vi1= vi2 = vi4 =0,
R1 40kΩ
R6
vi1
vi2 vi3
R2 25kΩ R3 10kΩ
–
vn
+
vp
vi4
R4 20kΩ
vo''
(1
R6 ) R1 // R2
R4 // R5 R3 R4 // R5
(2)同相输入加法运算电路
RP R11 // R12 // R RN R1 // Rf
uo
(1
Rf R1
)( RP R11
ui1
RP R12
ui2 )
当 RP = RN时,
uo
Rf R1
ui1
Rf R2
ui2
3、减法运算电路
RP R2 // R3 RN R1 // Rf
uo
(1
Rf R1
二、习题
习题2.4.6 加减运算电路如图所示,求输出电压vo的表达式。
解: 利用“虚短”、“虚断” 和叠加
R1 40kΩ
R6
vi1
原理 令 vi3= vi4 =0, 可看作是求和电路
vi2 vi3
R2 25kΩ R3 10kΩ
–
vn
+
vp
R4 20kΩ
vi4
R5
30kΩ
vo
vo'
R6 R1
vi1
R6 R2
iE
–
静态分析: 直流通路
IBQ
VCC Rb
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电子技术基础 模拟部分
第一章 半导体二极管和三极管
本章主要内容:半导体基础知识;半导体
二极管;晶体三极管;场效应管
重点掌握:1.半导体器件的外特性; 2.器件的主要参数
§1 半导体基础知识
一、本征半导体 二、杂质半导体 三、PN结的形成及其单向导电性 四、PN结的电容效应
一、本征半导体
1、什么是半导体?什么是本征半导体?
P区空穴 浓度远高 于N区。 N区自由电 子浓度远高 于P区。
扩散运动 扩散运动使靠近接触面P区的空穴浓度降低、靠近接触面 N区的自由电子浓度降低,产生内电场。
PN 结的形成
由于扩散运动使P区与N区的交界面缺少多数载流子,形成 内电场,从而阻止扩散运动的进行。内电场使空穴从N区向P 区、自由电子从P区向N 区运动。 漂移运动 因电场作用所产 生的运动称为漂移 运动。
空穴
+4
+4
+3
+4
硼原子
P 型半导体中空穴是多子,电子是少子。
多数载流子 P型半导体主要靠空穴导电, 掺入杂质越多,空穴浓度越高, 导电性越强,
3
?问题:
在杂质半导体中,温度变化时, 载流子的数目变化吗?少子与多 子变化的数目相同吗?少子与多 子浓度的变化相同吗?
硼(B)
结论:
• 对于杂质半导体,多子的浓度越高,少子 的浓度就越低。 • 多子的浓度约等于所掺杂质原子的浓度, 故受温度变化的影响很小; • 少子由本征激发而成,尽管其浓度很低, 但温度变化时,其浓度的变化很大。 • 故少子对器件性能的影响却不“少”。
多数载流子 空穴比未加杂质时的数目多 了?少了?为什么?
5
杂质半导体主要靠多数载流 子导电。掺入杂质越多,多子 浓度越高,导电性越强,实现 导电性可控。 磷(P)
(二)、P 型半导体
在硅或锗晶体中掺入少量的三价元素,如硼 (或铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质 取代,硼原子的最外层有三个价电子,与相邻的 半导体原子形成共价键时, 产生一个空穴。这个空穴 可能吸引束缚电子来填补, 使得硼原子成为不能移动 的带负电的离子。由于硼 原子接受电子,所以称为 受主原子。
导电性介于导体与绝缘体之间的物质称为半导体。 导体--铁、铝、铜等金属元素等低价元素,其最外层电 子在外电场作用下很容易产生定向移动,形成电流。 绝缘体--惰性气体、橡胶等,其原子的最外层电子受原 子核的束缚力很强,只有在外电场强到一定程度时才可能导 电。 半导体--硅(Si)、锗(Ge),均为四价元素,它们原 子的最外层电子受原子核的束缚力介于导体与绝缘体之间。 本征半导体是纯净(99.99999%的晶体结构的半导体。 四价单晶Si 、 Ge 无杂质 稳定的结构
多余 电子
+4 +5
+4
磷原子
+4
N 型半导体中 的载流子是什 么?
1.由施主原子提供的电子,浓度与施主原子相同。 2.本征半导体中成对产生的电子和空穴。 掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以,自 由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流 子(多子),空穴称为少数载流子(少子)。
?问题:
3、本征半导体中的两种载流子
运载电荷的粒子称为载流子。 外加电场时,带负电的自由电 子和带正电的空穴均参与导电, 且运动方向相反。由于载流子数 目很少,故导电性很差。 温度升高,热运动加剧,载 流子浓度增大,导电性增强。 热力学温度0K时不导电。 两种载流子
为什么要将半导体变成导电性很差的本征半导体?
近似认为多子与杂质浓度相等。
问题:杂质半导体为何呈现电中性?
• N型:自由电子数目=空穴数目+正离子数目
P型:空穴数目=自由电子数目+负离子数
目
三、PN结的形成及其单向导电性
• 按一定的制造工艺,将P、N型半导体制作 在同一块硅片上,其界面形成PN结、
1.PN结的形成:
物质因浓度差而产生的运动称为扩散运动。气 体、液体、固体均有之。
2、本征半导体的结构
共价键
补充内容:
由于热运动,具有足够能量 的价电子挣脱共价键的束缚 而成为自由电子 自由电子的产生使共价键中 留有一个空位置,称为空穴 自由电子与空穴相碰同时消失,称为复合。 动态平衡 一定温度下,自由电子与空穴对的浓度一定;温度升高, 热运动加剧,挣脱共价键的电子增多,自由电子与空穴对 的浓度加大。(补充浓度公式)
参与扩散运动和漂移运动的载流子数目相同,达到动态 平衡,就形成了PN结。
内电场越强,就使漂移 运动越强,而漂移使空 间电荷区变薄。 P型半导体
漂移运动 内电场E N型半导体
- - - - - -
- - - - - - - - - - - - - - - - -#43;
+ + + + + + + + + + + + + + + + + + 扩散的结果是使空间电 荷区逐渐加宽,空间电 荷区越宽。
二 杂质半导体
在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就会 使半导体的导电性能发生显著变化。其原因是掺 杂半导体的某种载流子浓度大大增加。
N 型半导体:自由电子浓度大大增加的杂质半导体, 也称为(电子半导体)。 P 型半导体:空穴浓度大大增加的杂质半导体,也 称为(空穴半导体)。
(一)、N 型半导体 在硅或锗晶体中掺入少量的五价元素磷 (或锑),晶体点阵中的某些半导体原子被 杂质取代,磷原子的最外层有五个价电子, 其中四个与相邻的半导体原子形成共价键, 必定多出一个电子,这个电子几乎不受束缚, 很容易被激发而成为自由电子,这样磷原子 就成了不能移动的带正电的离子。每个磷原 子给出一个电子,称为施主原子。
空间电荷区, 也称耗尽层。
扩散运动
漂移运动 P型半导体 - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - + + + + 内电场E
N型半导体
+ + + + + + + +
(三)、杂质半导体的示意表示法
- - - - - - - - - - - - - - - - - - + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + N 型半导体
- - - - - - P 型半导体
杂质型半导体多子和少子的移动都能形成电流。 但由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。
第一章 半导体二极管和三极管
本章主要内容:半导体基础知识;半导体
二极管;晶体三极管;场效应管
重点掌握:1.半导体器件的外特性; 2.器件的主要参数
§1 半导体基础知识
一、本征半导体 二、杂质半导体 三、PN结的形成及其单向导电性 四、PN结的电容效应
一、本征半导体
1、什么是半导体?什么是本征半导体?
P区空穴 浓度远高 于N区。 N区自由电 子浓度远高 于P区。
扩散运动 扩散运动使靠近接触面P区的空穴浓度降低、靠近接触面 N区的自由电子浓度降低,产生内电场。
PN 结的形成
由于扩散运动使P区与N区的交界面缺少多数载流子,形成 内电场,从而阻止扩散运动的进行。内电场使空穴从N区向P 区、自由电子从P区向N 区运动。 漂移运动 因电场作用所产 生的运动称为漂移 运动。
空穴
+4
+4
+3
+4
硼原子
P 型半导体中空穴是多子,电子是少子。
多数载流子 P型半导体主要靠空穴导电, 掺入杂质越多,空穴浓度越高, 导电性越强,
3
?问题:
在杂质半导体中,温度变化时, 载流子的数目变化吗?少子与多 子变化的数目相同吗?少子与多 子浓度的变化相同吗?
硼(B)
结论:
• 对于杂质半导体,多子的浓度越高,少子 的浓度就越低。 • 多子的浓度约等于所掺杂质原子的浓度, 故受温度变化的影响很小; • 少子由本征激发而成,尽管其浓度很低, 但温度变化时,其浓度的变化很大。 • 故少子对器件性能的影响却不“少”。
多数载流子 空穴比未加杂质时的数目多 了?少了?为什么?
5
杂质半导体主要靠多数载流 子导电。掺入杂质越多,多子 浓度越高,导电性越强,实现 导电性可控。 磷(P)
(二)、P 型半导体
在硅或锗晶体中掺入少量的三价元素,如硼 (或铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质 取代,硼原子的最外层有三个价电子,与相邻的 半导体原子形成共价键时, 产生一个空穴。这个空穴 可能吸引束缚电子来填补, 使得硼原子成为不能移动 的带负电的离子。由于硼 原子接受电子,所以称为 受主原子。
导电性介于导体与绝缘体之间的物质称为半导体。 导体--铁、铝、铜等金属元素等低价元素,其最外层电 子在外电场作用下很容易产生定向移动,形成电流。 绝缘体--惰性气体、橡胶等,其原子的最外层电子受原 子核的束缚力很强,只有在外电场强到一定程度时才可能导 电。 半导体--硅(Si)、锗(Ge),均为四价元素,它们原 子的最外层电子受原子核的束缚力介于导体与绝缘体之间。 本征半导体是纯净(99.99999%的晶体结构的半导体。 四价单晶Si 、 Ge 无杂质 稳定的结构
多余 电子
+4 +5
+4
磷原子
+4
N 型半导体中 的载流子是什 么?
1.由施主原子提供的电子,浓度与施主原子相同。 2.本征半导体中成对产生的电子和空穴。 掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以,自 由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多数载流 子(多子),空穴称为少数载流子(少子)。
?问题:
3、本征半导体中的两种载流子
运载电荷的粒子称为载流子。 外加电场时,带负电的自由电 子和带正电的空穴均参与导电, 且运动方向相反。由于载流子数 目很少,故导电性很差。 温度升高,热运动加剧,载 流子浓度增大,导电性增强。 热力学温度0K时不导电。 两种载流子
为什么要将半导体变成导电性很差的本征半导体?
近似认为多子与杂质浓度相等。
问题:杂质半导体为何呈现电中性?
• N型:自由电子数目=空穴数目+正离子数目
P型:空穴数目=自由电子数目+负离子数
目
三、PN结的形成及其单向导电性
• 按一定的制造工艺,将P、N型半导体制作 在同一块硅片上,其界面形成PN结、
1.PN结的形成:
物质因浓度差而产生的运动称为扩散运动。气 体、液体、固体均有之。
2、本征半导体的结构
共价键
补充内容:
由于热运动,具有足够能量 的价电子挣脱共价键的束缚 而成为自由电子 自由电子的产生使共价键中 留有一个空位置,称为空穴 自由电子与空穴相碰同时消失,称为复合。 动态平衡 一定温度下,自由电子与空穴对的浓度一定;温度升高, 热运动加剧,挣脱共价键的电子增多,自由电子与空穴对 的浓度加大。(补充浓度公式)
参与扩散运动和漂移运动的载流子数目相同,达到动态 平衡,就形成了PN结。
内电场越强,就使漂移 运动越强,而漂移使空 间电荷区变薄。 P型半导体
漂移运动 内电场E N型半导体
- - - - - -
- - - - - - - - - - - - - - - - -#43;
+ + + + + + + + + + + + + + + + + + 扩散的结果是使空间电 荷区逐渐加宽,空间电 荷区越宽。
二 杂质半导体
在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就会 使半导体的导电性能发生显著变化。其原因是掺 杂半导体的某种载流子浓度大大增加。
N 型半导体:自由电子浓度大大增加的杂质半导体, 也称为(电子半导体)。 P 型半导体:空穴浓度大大增加的杂质半导体,也 称为(空穴半导体)。
(一)、N 型半导体 在硅或锗晶体中掺入少量的五价元素磷 (或锑),晶体点阵中的某些半导体原子被 杂质取代,磷原子的最外层有五个价电子, 其中四个与相邻的半导体原子形成共价键, 必定多出一个电子,这个电子几乎不受束缚, 很容易被激发而成为自由电子,这样磷原子 就成了不能移动的带正电的离子。每个磷原 子给出一个电子,称为施主原子。
空间电荷区, 也称耗尽层。
扩散运动
漂移运动 P型半导体 - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - + + + + 内电场E
N型半导体
+ + + + + + + +
(三)、杂质半导体的示意表示法
- - - - - - - - - - - - - - - - - - + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + N 型半导体
- - - - - - P 型半导体
杂质型半导体多子和少子的移动都能形成电流。 但由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。