直流叠加对铁硅铝磁粉芯品质因数的影响_魏鼎_冯则坤_龚荣洲_王鲜

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磁场对液态铝和固态铁界面微观组织的影响

磁场对液态铝和固态铁界面微观组织的影响

磁场对液态铝和固态铁界面微观组织的影响3韩 逸 班春燕 巴启先 王书晗 崔建忠(东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室,沈阳 110004)(2004年9月10日收到;2004年11月19日收到修改稿) 研究了直流磁场、交流磁场对液态铝和固态铁界面微观组织的影响,采用金相显微镜、电子探针和x 射线衍射等方法对其扩散层内生成物进行了分析.结果表明,在直流磁场和交流磁场作用下,固态铁界面内形成的扩散层厚度均比无磁场时小;在交流磁场作用下,液态铝和固态铁的界面变得凹凸不平;在垂直于磁场方向上,直流磁场抑制了铝原子和铁原子之间的扩散,交流磁场则促进了扩散;无磁场时固态铁内扩散层中生成的金属间化合物由FeAl 3和Fe 2Al 5组成,直流磁场条件下只有Fe 2Al 5生成,交流磁场作用下由Fe 2Al 5和Fe 4Al 13组成.关键词:磁场,铝,铁,金属间化合物,扩散PACC :8130F ,47653国家重大基础研究发展规划(“973”)项目(批准号:G 1999064905)资助的课题.E -mail :hanyi7742@11引言铝为一种低密度、高韧性的有色金属,其合金一直以质轻、韧性好等优点广泛应用于工业的各个领域,尤其是在航天、航空中更是起着不可忽视的作用.铝与少量过渡金属元素铁组成的合金依旧保持了铝合金密度小的特点,且具有抗氧化、耐腐蚀等优点,近几年来新型轻质耐热铝铁合金的开发,使得铝铁合金成为国内外的研究热点[1].此外,Fe 2Al 系存在丰富的金属间化合物(如FeAl 3,Fe 2Al 5,FeAl 2等),研究这些金属间化合物的形成过程对实际生产,如热浸铝、熔结、液态金属腐蚀等方面有着重要的参考价值[2,3].在液态铝和固态铁界面反应的微观组织分析方面,人们已经做了大量的工作[4—7].但有关磁场对其界面微观组织影响的研究目前尚属空白.近十几年来,在材料凝固过程中施加磁场这一技术得到了快速发展,它已从最初的改进传统的工艺过程发展成为制备新材料、开发新工艺的重要手段.由于该技术具有无污染、操作方便和效果显著等优点,因此受到了人们的广泛重视[8,9].然而,目前这些研究大多停留在如何改善材料组织和性能方面,关于磁场对微观组织影响的研究还开展的很少,而且电磁效应的作用机制以及对微观组织的影响机理更有待于深入研究.本文研究了直流磁场、交流磁场对液态铝和固态铁界面微观组织的影响,采用金相显微镜、电子探针和x 射线衍射等方法对其扩散层内形成的金属间化合物进行了研究.此外,对磁场的作用机制进行了初步的探讨.21实验材料及方法实验所用材料为高纯铝和纯铁丝.实验装置简图如图1所示.它包括磁场处理部分(由磁场电源和螺线管等组成);控制部分(由控温电源和各种控制仪表等组成);工作台及负载部分(由试样和外部支架组成);加热装置(由加热电阻丝、热电偶等组成). 称取高纯铝25g ,放入内径为17mm 的圆柱形石英坩埚中.将石英坩埚置于电阻炉内加热至700℃,保温10min ,用钨丝将铝熔体搅拌均匀,稳定一段时间后将炉温缓慢降至680℃.将一直径为218mm 的纯铁丝沿坩埚轴线插入液态铝中,同时施加强度为0112T 的直流或交流磁场(其中交流磁场频率为10H z ),保温30min 后淬火.作为对照,另一组样品的实验在无磁场条件下进行.将试样沿中部横截面切开,制成金相样品.在德国Leica 2DMR 金相显微镜下第54卷第6期2005年6月100023290Π2005Π54(06)Π2955206物 理 学 报ACT A PHY SIC A SI NIC AV ol.54,N o.6,June ,2005ν2005Chin.Phys.S oc.图1 实验装置简图 1—高纯铝,2—纯铁丝,3—石英管,4—热电偶,5—陶瓷管,6—加热电阻丝,7—工作线圈进行显微组织分析;利用日本岛津EPM 2810Q 电子显微镜分别对扩散层及铝基体内进行铝元素和铁元素的面扫描,定性地分析磁场对界面微观组织的影 响,并定量地计算出扩散层内生成物的铝铁原子比;采用日本理学株式会社D ΠM AX2400x 射线衍射仪确定生成的金属间化合物的具体成分.31实验结果与讨论3111金相显微组织的分析结果 图2分别显示了无磁场、直流磁场和交流磁场三种条件下的液态铝和固态铁界面的显微组织.照片中浅色部分是铝,深色部分是铁.从照片中可以看出,三种情况下在固态铁的界面内部均形成了非常明显的扩散层.此外,在交流磁场作用下液态铝和固态铁的界面变的凹凸不平,不如无磁场和直流磁场条件下平滑.这是因为交流磁场在液态铝中产生搅拌和对流[10],加剧对固态铁边界的冲刷致使界面凹凸不平.图2 液态铝和固态铁界面金相组织 (a )无磁场,(b )直流磁场,(c )交流磁场图3 液态铝和固态铁界面的形貌照片 (a )无磁场,(b )直流磁场,(c )交流磁场3121电子探针形貌及元素面扫描分析结果312111形貌分析结果无磁场、直流磁场和交流磁场三种条件下的液态铝和固态铁界面的形貌照片如图3所示.照片中亮白色部分是铁基体,黑色部分是铝基体,中间灰色部分是铝在固态铁中生成的扩散层.通过测量扩散层的平均厚度得到无磁场、直流磁场和交流磁场三6592物 理 学 报54卷种条件下分别为175μm 、128μm 和136μm ,由此可见,在直流磁场和交流磁场作用下,固态铁界面内形成的扩散层厚度均比无磁场时小. 根据菲克第一定律J =-D d Cd x,(1)式中J 为扩散流量,D 为扩散系数,d C Πd x 为浓度梯度,负号表示物质的扩散流方向与浓度梯度的方向相反.由此可知,扩散是由粒子浓度梯度引发的粒子定向流动,定向流动的平均速度V d 的方向平行于浓度梯度d C Πd x ,如图4所示V d 应和界面垂直.按金属电子理论,无论在液态还是在固态金属中,原子失去价电子以离子形式存在,即扩散流带正电荷.在图4中,假设磁场B 垂直于纸面向外,这样以平均速度V d 运动的铝离子在磁场中会受到洛伦兹力f =q V d ×B ,(2)式中q 为粒子电量.这样,运动轨迹发生偏转而沿着V dm 方向运动,这样垂直界面方向的速度减小,因此在相同时间内铝离子进入铁中的深度减小,以致扩散层厚度变薄.312121元素面扫描分析结果(1)对固态铁内扩散层进行铝元素面扫描 对上述形貌照片(图3)所示的同一视场作元素图4 磁场使离子扩散速度发生偏离示意简图铝的面扫描,分别得到图5(a ),(b ),(c ).扫描照片的白点对应铝元素,黑点对应铁元素.对比图5中的三幅扫描照片可明显看出,直流磁场作用下扩散层中生成物内的铝含量最低,无磁场较高,交流磁场作用下铝含量最高.这说明在试样的横截面方向上,即垂直于磁场方向上,直流磁场抑制了铝原子往固态铁中的扩散,而交流磁场促进了铝原子往固态铁中的扩散.图5 液态铝和固态铁界面处铝元素的面扫描照片 (a )无磁场,(b )直流磁场,(c )交流磁场 产生上述现象的原因是,根据菲克第一定律(见(1)式),扩散来源于浓度梯度.在界面处,铝原子通过扩散进入固态铁中后,铁原子也通过扩散进入液态铝中,致使界面附近液体中铝的浓度会降低,浓度梯度减小,扩散则将变缓.直流磁场有抑制液态金属对流的作用[11,12],使得界面处的铝原子更难以得到补充,从而抑制了铝原子继续向固态铁中的扩散;交流磁场会在液态铝中产生搅拌和对流,使得界面处的铝原子能够较快得到补充,这样界面处的铝能保持较高的浓度梯度,从而促进了铝原子向固态铁中的扩散.(2)对铝基体中部和边部进行铝元素面扫描图6和图7为无磁场、直流磁场和交流磁场三种条件下铝基体中部和边部位置处的铝元素面扫描照片.这几幅照片中白点对应铝元素,黑点对应铁元素.综合图6和7可以看出,铁元素大多数分布于铝75926期韩 逸等:磁场对液态铝和固态铁界面微观组织的影响的晶界处,而且无论在铝基体的中部还是边部,铁在液态铝中的浓度均按直流磁场、无磁场、交流磁场次序增加.这显示了在试样的横截面方向上,即垂直于 磁场方向上,直流磁场对铁原子往液态铝中的扩散有着抑制作用,而交流磁场则起着促进作用. 在图5中黑色部分是铁基体,界面下方亮白色 图6 铝基体中部的铁元素面扫描照片 (a )无磁场,(b )直流磁场,(c )交流磁场图7 铝基体边部的铁元素面扫描照片 (a )无磁场,(b )直流磁场,(c )交流磁场部分是铝基体,可以看到仅在铁基体边部有有限厚度的扩散层,说明铝原子扩散进入固态铁中的深度有限.而图6和7中无论是铝基体中部还是边部的黑点都很多,说明铁原子可以扩散到整个液态铝中.这是因为液态金属中原子的可动性远远大于固态金属,所以铝原子扩散进入固态铁中的深度就远远小于铁原子扩散进入液态铝的深度.这表明,在相同条件下,液态金属的扩散系数远远大于固态金属的扩散系数.3131电子探针定量分析结果 采用电子探针微区成分分析方法,在铝-铁界面固态铁扩散层内生成物中按如图3(a )所示的箭头所指方向,每隔10μm 的距离测一个点,得到每个点处铝的浓度,由此算出铝含量的平均值,继而算出铝和铁的原子个数比,列于表1.计算得到的数值又一次证明了扩散层内生成物中铝含量按直流磁场、无磁场、交流磁场递增的结论.表1 扩散层内生成物中铝含量的平均值及铝和铁的原子个数比实验条件B =0DCAC铝含量的平均值(质量百分数,%)56.62355.66758.402铝和铁的原子个数比2.712.592.913141x 射线分析结果 为确定固态铁内扩散层中金属间化合物的具体成分,利用x 射线衍射方法对扩散层内生成物进行分析.由于扩散层厚度很薄,生成的金属间化合物数量很少,因此,除Fe 和Al 的峰值很强外,金属间化8592物 理 学 报54卷合物的衍射峰值很弱.在此,为了分析方便,把衍射图谱放大,得到的x 射线衍射图谱如图8所示.图8中,在无磁场、直流磁场和交流磁场三条曲线中均有FeAl 3峰的最强峰(2θ=44172),但此峰同时也是Fe 的最强峰和Al 的次强峰,而且直流磁场和交流磁场两条谱线中没有FeAl 3的次强峰(2θ=43152),由此断定在直流磁场和交流磁场作用下扩散层内生成的金属间化合物中没有FeAl 3.在图8中还可以看出,在无磁场、直流磁场和交流磁场三种条件下,扩散层 图8 固态铁内扩散层中生成物x 射线衍射图谱 (a )无磁场,(b )直流磁场,(c )交流磁场内生成的金属间化合物中均有Fe 2Al 5,不同之处是,在无磁场条件下还有FeAl 3生成,而在交流磁场条件下还有Fe 4Al 13生成.综合X 射线衍射分析结果与电子探针微区成分分析结果可以看出,与无磁场情况相比,交流磁场促进了高铝化合物的生成,而在直流磁场作用下,可能仅生成低铝化合物Fe 2Al 5.41结 论(1)在直流磁场和交流磁场作用下,固态铁界面内形成的扩散层厚度均比无磁场时小.而且在交流磁场作用下,液态铝和固态铁的界面变得凹凸不平,不如无磁场和直流磁场条件下平滑.(2)在垂直于磁场方向上,直流磁场抑制了铝原子和铁原子之间的扩散;交流磁场促进了铝原子和铁原子之间的扩散.(3)无磁场时固态铁内扩散层中生成的金属间化合物由FeAl 3和Fe 2Al 5组成,直流磁场条件下只有Fe 2Al 5生成,交流磁场作用下由Fe 2Al 5和Fe 4Al 13组成.[1]Zhou T ,Huang B Y,Zhou K C and Li W X 2004Rare MetalMater .Eng .33(2)187(in Chinese )[周 涛、黄伯云、周科朝、黎文献2004稀有金属材料与工程33(2)187][2]Heo N H ,K im M T ,Shin J H and K im C Y 2000Sur face CoatingTech .12439[3]Bouayad A ,G erometta Ch ,Belkebir A and Ambari A 2003Mater .Sci .Eng .A 36353[4]Y eremenko V N ,Natanz on Y V and Dybkov V I 1981J .Mater .Sci .16(9)1748[5]Bahadur A and M ohanty O N 1998Mater .Trans .JIM ,32(11)1053[6]Richard R W ,Jones R D ,Clements P D and Clarke H 1994Int .Mater .Rev .39(5)191[7]Bouche K,Barbier F and C oulet A 1998Mater .Sci .Eng .A 249167[8]Z i B T ,Ba Q X ,Cui J Z ,Bai Y G and Na X J 2000Acta Phys .Sin .49(5)1010(in Chinese )[訾炳涛、巴启先、崔建忠、白玉光、那兴杰2000物理学报49(5)1010][9]Ban C Y,Ba Q X ,Cui J Z ,Lu G M and Z i B T 2001Acta Phys .Sin .502028(in Chinese )[班春燕、巴启先、崔建忠、路贵民、訾炳涛2001物理学报502028][10]Zhang W Q ,Y ang Y S ,Zhu Y F ,Liu Q M and Hu Z Q 1998Met .Mater .Trans .A 29406[11]Botton V ,Lehmann P ,Bolcato R ,M oreau R and Haettel R 2001Int .J .H eat Mass Transfer 443345[12]T akuma M ,Y uko I and K azuhiko K 2002Japan Society Appl .Phys .A 41(7A )L81195926期韩 逸等:磁场对液态铝和固态铁界面微观组织的影响0692物 理 学 报54卷E ffect of magnetic field on the interfacial micro structurebetween molten aluminium and solid iron3Han Y i Ban Chun-Y an Ba Qi-X ian W ang Shu-Han Cui Jian-Zhong(The K ey Laboratory o f Electromagnetic Processing o f Materials,Ministry o f Education,Northeastern Univer sity,Shenyang 110004,China)(Received10September2004;revised manuscript received19N ovember2004)AbstractThe effects of DC and AC magnetic fields on the interfacial m icrostructure between m olten alum inium and solid iron were studied,and the intermetallics formed in the diffusion layers were also investigated by means of metallography,electron m icroprobe(EPM)and x2ray diffraction(XRD).Results showed that the diffusion layer in solid iron under DC and AC magnetic fields was thinner than that without magnetic field,and the interface became irregular under AC magnetic field.In the direction perpendicular to the magnetic field,DC magnetic field dam ped the diffusion between alum inium and iron;on the contrary,under AC magnetic field diffusion was enhanced;the diffusion layer in solid iron was mainly com posed of Fe2Al5and FeAl3without magnetic field,while there was only Fe2Al5under DC magnetic field,and Fe2Al5and Fe4Al13under AC magnetic field.K eyw ords:magnetic field,alum inium,iron,intermetallics,diffusionPACC:8130F,47653Project suppored by the S tate K ey Development Program for Basic Research of China(G rant N o.G1999064905).E-mail:hanyi7742@。

多直流接地系统单极运行对沪西特高压变电站直流偏磁的影响_段炼

多直流接地系统单极运行对沪西特高压变电站直流偏磁的影响_段炼

1 直流线路与交流系统的模型与参数
1.1 上海附近直流输电线路 华东电网是 7 条直流输电线路的受端电网。其
中800 kV UHVDC 线路 3 条:向家坝—上海、锦 屏—苏南、溪洛渡—浙西(在建);500 kV 的 EHVDC 线路 4 条:葛洲坝—上海、三峡—上海、龙泉—政
平以及荆门—枫泾。7 条线路除葛洲坝—上海与荆
电流 等级/A 4 000 4 000 4 000 1 200 3 000 3 000 3 000
7 条直流输电线路的接地极共分为 5 种。葛洲
坝—上海线和荆门—枫泾线共用南桥接地极为直
线型,由 2 根如图 1 所示的长钢棒组成。
地面
图 1 南桥接地极结构 Fig. 1 Model of Nanqiao grounding electrode
in West Shanghai UHVAC Substation
DUAN Lian1, JIANG Anfeng1, FU Zhengcai1, WEI Bengang2
(1. Key Laboratory of Control of Power Transmission and Conversion(Shanghai Jiao Tong University), Ministry of Education, Xuhui District, Shanghai 200030, China; 2. Shanghai Electric Power Research Institute of
段炼 1,江安烽 1,傅正财 1,魏本刚 2
(1. 电力传输与功率变换控制教育部重点实验室(上海交通大学),上海市 徐汇区 200030; 2. 上海市电力公司上海电力科学研究院,上海市 杨浦区 200437)

工艺参数对直流反应磁控溅射ZnO_Al薄膜沉积速率的影响

工艺参数对直流反应磁控溅射ZnO_Al薄膜沉积速率的影响

第46卷第2期2009年3月真空VACUUMVol.46,No.2Mar.2009收稿日期:2008-04-27作者简介:邹上荣(1984-),男,湖南省娄底市人,硕士生。

联系人:王海燕,教授。

工艺参数对直流反应磁控溅射ZnO:Al 薄膜沉积速率的影响邹上荣,王海燕,耿梅艳,穆慧(郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南郑州450052)摘要:实验以合金靶材在玻璃衬底上运用直流反应磁控溅射法制备了ZAO (ZnO:Al)透明导电薄膜样品。

研究了O 2气流量,衬底温度,以及反应气压和溅射功率等工艺参数对ZAO 薄膜沉积速率的影响规律。

结果表明:沉积速率随O 2气流量的增加显著降低,靶面溅射模式由金属模式转变为氧化物模式,而且这种转变趋势在改变其他参数时依然明显;沉积速率随溅射功率的增大几乎成线性增加,但随衬底温度的变化并不大;在反应气压增大的情况下,沉积速率不断上升,达到最大值后,又随气压的增大不断下降。

关键词:ZAO 薄膜;直流反应磁控溅射;沉积速率中图分类号:TB43文献标识码:A文章编号:1002-0322(2009)02-0045-04Effect of Technological parameters on deposition rate of ZAO films prepared byDC magnetron reactive sputteringZOU Shang-rong,WANG Hai-yan,GENG Mei-yan ,MU Hui(Key Laboratory of Material Physics,Department of Physics,Zhengzhou University,Zhengzhou 450052,China)Abstract:The ZAO (ZnO :Al)transparent conductive films were deposited on glass substrates by DC magnetron reactivesputtering process with an alloy target.To control the film thickness,the influence of such technological parameters as oxygen flow rate,substrate tempreture,reaction pressure and sputtering powe on the film deposition rate was studied systematically.The results showed that the deposition rate decreases greatly with the increasing oxygen flow rate,and the mode of sputtering from target is transformed into oxide mode from metal one.The abrupt transform keeps obvious no matter how other parameters change.The deposition rate increases almost linearly with increasing sputtering power,but it is not sensitive to substrate tempreture.Besides,the deposition rate increases first to a certain extent with increasing reaction pressure then decreases gradually.Key words :ZAO film;DC magnetron reactive sputtering process;deposition rate近年来,铝掺杂氧化锌(ZAO)透明导电薄膜受到了普遍重视,其原因是这种薄膜具有低电阻率、高可见光透过率和对红外波段的高反射率等优异的光电性能,并且ZAO 薄膜的原材料丰富、成本低廉、化学稳定性好、易于实现工业化大面积镀膜等优点,有望在太阳能电池、平板显示器等光电装置中得到广泛应用[1],因此ZAO 薄膜是值得深入研究的新一代透明导电材料。

直流磁控溅射的工艺参数对铝膜沉积速率的影响

直流磁控溅射的工艺参数对铝膜沉积速率的影响

书山有路勤为径,学海无涯苦作舟直流磁控溅射的工艺参数对铝膜沉积速率的影响直流溅射功率对Al 膜沉积速率的影响图1 为不同溅射功率下Al 膜的沉积速率。

实验时溅射功率的变化范围为2000~3000W,其他工艺参数相同:溅射气压为0.5Pa;靶基距80mm;Ar 气流量为170sccm,基片温度为130℃。

由图1 可以看出,随着直流功率的增大,在2~2.4kW 范围内,沉积速率几乎成线性增加,这是因为在溅射镀膜过程中,基片上的沉积速率与溅射率成正比关系。

但是2.4kW 之后沉积速率的增加率明显变小而随后趋于平缓。

这种非线性增加的转变,可以解释为: 随着溅射Ar+离子能量的持续增大产生了离子注入效应的现象,这种效应使部分离子深入到晶格内部,将绝大部分的能量消耗在靶材内部而不是靶材的表面。

图1 Al 薄膜沉积速率与直流溅射功率之间的关系溅射气压对薄膜沉积速率的影响图2 是Al 薄膜沉积速率与溅射气压之间的关系曲线。

实验中溅射气压的变化范围为0.3~0.9Pa,其它参数相同:溅射功率为2600W;靶基距80mm; Ar 气流量为170sccm,基片温度为130℃。

从图2 看出,溅射气压从0.3Pa 增大到0.4Pa 的过程中,沉积速率随之增大;在0.4Pa 时,沉积速率达到一个极大值,此后沉积速率随着溅射气压的增大而下降。

这种现象的产生可以解释为:图2 Al 薄膜沉积速率与溅射气压之间的关系由气体分子运动论可知,气体分子平均自由程与压强有如下关系:式中λ为气体分子平均自由程,k 为玻耳曼常数,T 为气体温度,d 为气体分子直径,p 为压强。

在保持气体分子直径和气体温度不变的条件下,假如工作压强增大,则气体分子平均自由程将减小,溅射原子与气体分子相互碰撞次数将增加, 二次电子发射将增强。

由气体放电理论可知,电流密度j0 与汤生第三电离系数。

外加直流磁场对FeNbBCu软磁纳米晶条带低频下畴壁磁化过程的影响

外加直流磁场对FeNbBCu软磁纳米晶条带低频下畴壁磁化过程的影响

348第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议论文集外加直流磁场对FeNbBCu软磁纳米晶条带低频下畴壁磁化过程的影响徐锋覃文彭坤都有为南京大学固体微结构国家重点实验室南京大学物理学系南京 210093我们用磁谱的方法研究了直流磁场对Fe82Nb7B10Cu1软磁纳米晶条带低频下畴壁磁化过程的影响。

结果显示小的纵向磁场会帮助畴壁脱离钉扎,而较大的纵向磁场会增加钉扎场,阻碍畴壁的运动。

而横向直流磁场对钉扎场则没有明显的影响。

1 引言由于软磁纳米晶材料在交流场下的广泛应用,各国的材料学研究工作者对其动态磁化性能深入地进行了研究[1-3]。

阻抗谱是研究中的一种有力的手段。

研究表明处于钉扎下的畴壁振动磁化过程是低频和低场下材料的最主要的磁化机制[1][2]。

然而外加直流磁场对材料的钉扎场的影响,尚无仔细的研究和报道,而钉扎场对于材料的磁化过程是相当重要的[2]。

因此,在这项工作中,我们探讨了外加直流场对Fe82Nb7B10Cu1软磁纳米晶条带畴壁磁化过程的影响(低频下<1MHz),并且讨论了横向和纵向直流场对于钉扎场所带来的不同的效应。

2 实验我们在氩气气氛中用铜单辊快淬甩带制备出厚度为22µm的Fe82Nb7B10Cu1非晶条带。

差热分析(DSC)测量在Labsys TM TG-DSC16上以10K/min的升温速率进行,结果显示样品的初次晶化温度为767K。

为了进行磁谱测量,把非晶条带绕在陶瓷环上形成螺绕环的核。

然后样品在真空中823K热处理30分钟,形成纳米晶的结构。

复数磁导率谱(µ∗=µ′-iµ″)是用HP4284A阻抗分析仪在1kHz到1MHz 的范围内进行测量,测量的交流磁场由绕在样品上的线圈形成的螺绕环的磁场提供。

横向磁场是由外加Helmholtz线圈提供,而纵向磁场则是在测量复数磁导率用的螺绕环上再外加一层同心螺绕环得到。

3 结果和讨论根据畴壁钉扎模型,在样品在外场中磁化的过程中,磁场有一个关键值称为钉扎场(H p) [2]。

直流模式电流密度对铝锂合金微弧氧化膜性能的影响

直流模式电流密度对铝锂合金微弧氧化膜性能的影响

直流模式电流密度对铝锂合金微弧氧化膜性能的影响吴鸿;冯长杰;王景;王赫男;李杰;辛丽;王福会【期刊名称】《材料保护》【年(卷),期】2024(57)2【摘要】为了研究直流模式下电参数对铝锂合金微弧氧化成膜机理和膜层性能的影响,以2195铝锂合金为研究对象,在硅酸盐-磷酸盐碱性电解液体系中,以直流稳流模式在不同电流密度下制备了微弧氧化陶瓷膜。

通过扫描电子显微镜(SEM)及其自带的能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)分析了微弧氧化膜的表面和截面形貌、元素组成及物相组成。

采用电化学工作站和摩擦磨损试验机分别测定了不同陶瓷膜的耐蚀性能和耐磨性能。

结果表明:微弧氧化陶瓷膜中主要含O、Al、Si和P元素,膜层相组成主要为γ-Al_(2)O_(3)和少量α-Al_(2)O_(3)。

在电流密度为4~16A/dm^(2)的范围内,随着电流密度的升高,膜层的耐蚀性和耐磨性都呈先升高后降低的趋势,电流密度为8 A/dm^(2)时膜层的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度为5.1718×10^(-7)A/cm^(2),致密层电阻Rb值3.323×10^(4)Ω·cm^(2)。

电流密度为8 A/dm^(2)时膜层耐磨性最好,磨损机理为疲劳磨损和磨料磨损混合,磨损率为0.34375×10^(-6)cm^(3)/(N·m)。

【总页数】11页(P1-11)【作者】吴鸿;冯长杰;王景;王赫男;李杰;辛丽;王福会【作者单位】沈阳航空航天大学材料科学与工程学院;中航光电科技股份有限公司;中国科学院金属研究所腐蚀与防护实验室;东北大学材料科学与工程学院【正文语种】中文【中图分类】TG174.451【相关文献】1.工艺参数对2060-T8铝锂合金微弧氧化膜性能的影响2.氧化电流密度对7075铝合金微弧氧化膜层形貌及性能影响3.NaOH浓度对铸造铝锂合金微弧氧化膜层显微组织和耐蚀性能的影响4.微弧氧化电流密度对ZL205A铝合金氧化膜层性能的影响因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。

Ti、Zn掺杂对Co_2Z电磁性能的影响

Ti、Zn掺杂对Co_2Z电磁性能的影响

Ti、Zn掺杂对Co_2Z电磁性能的影响徐芳;蒋凯;白洋;乔利杰【期刊名称】《压电与声光》【年(卷),期】2010(32)5【摘要】用固相反应法制备了Ti4+、Zn2+取代的Co2Z(Ba3Co2Fe24-xMO41,M=Ti、Zn,x=0.2~0.6)平面六角结构软磁铁氧体并对其电磁特性进行了研究。

X-射线衍射结果表明样品表现出典型的Z型平面六角铁氧体构型。

Ti4+、Zn2+取代会增加铁氧体内载流子的浓度,从而影响Co2Z的电磁性能。

实验中用4991A阻抗/材料分析仪测试室温条件下Ba3Co2Fe24-xTixO41(x=0、0.2、0.4)和Ba3Co2Fe24-xZnxO41(x=0、0.2、0.4、0.6)样品在5MHz~1GHz范围内的磁导率频谱和介电常数频谱。

实验结果表明,Ti4+取代Fe3+会增加Co2Z的起始磁导率,降低Co2Z的介电共振。

而Zn2+取代Fe3+会引起起始磁导率的下降,增加Co2Z的介电共振,且在共振频率附近介电常数为负值。

CoZ的负介电常数特性使它可作为负介电常数介质用于左手材料的制备。

【总页数】4页(P823-826)【关键词】Z型铁氧体;起始磁导率;介电常数【作者】徐芳;蒋凯;白洋;乔利杰【作者单位】河南师范大学化学与环境科学学院;北京科技大学腐蚀与防护中心环境断裂教育部重点实验室【正文语种】中文【中图分类】TM277【相关文献】1.Bi4Ti3O12掺杂对(Bi1.5Zn0.5)(Zn0.5Nb1.5)O7陶瓷结构与介电性能的影响[J], 周焕福;黄金亮;王茹玉;李谦;黄清伟2.Ti4+和 Zn2+离子复合掺杂对 LiNi0.5Co0.2 Mn0.3O2性能的影响 [J], 夏继平;叶学海;于晓微;卢阳3.H3BO3掺杂量对Ca0.77Zn0.2Na0.03Ti0.97Nb0.03O3∶Pr0.0023+发光性能的影响 [J], 杜素军;王磊;武雅乔;郝虎在4.MnO_2掺杂对BiFeO_3-PbTiO_3-Bi(Zn_(1/2)Ti_(1/2))O_3-PbZrO_3陶瓷组织与性能的影响 [J], 宁海霞;王敏;赵宏平;郭彩芬5.Ti^(4+)和Zn^(2+)离子复合掺杂对LiNi_(0.5)Co_(0.2)Mn_(0.3)O_2性能的影响 [J], 夏继平;叶学海;于晓微;卢阳因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。

硅对铁基磁粉芯性能的影响研究

硅对铁基磁粉芯性能的影响研究
1 0 0 0 8 1 , C h i n a ; 3 .P o wd e r Me t a l l u r g y D i v i s i o n , Ad v a n c e d T e c h n o l o y g a n d Ma t e i r a l s C o . , L t d . , B e i j i n g 1 0 0 0 8 1 , C h i n a )
摘 要 : 分别从磁滞 回线、 损耗 、 磁导率及直流 偏置特性来分析硅对铁基磁粉 芯性能的影响 。结果表 明: 随着 硅含量 的增加 , 磁粉芯的饱和磁感应强度降低 , 纯铁粉 芯的饱和 磁感应强度 最大; 磁粉芯损耗随着硅含量的增 加 而逐 渐减小, 纯铁粉 芯的损耗 最大 , F e S i 6 . 5的损耗 最小; 纯铁粉 芯的磁 导率要高于铁硅磁粉芯 , 但随着硅含
硅对铁基磁粉芯性能 的影 响研究
许林 皓 ,张洪平 。 ,赵 栋梁 ,杜兆 富 ,于海琛 。
( 1 . 钢 铁研 究总院功能材料研 究所, 北京 1 0 0 0 8 1 ; 2 . 先进金属磁性材料及制备技术北京市工程 实验室, 北京 1 0 0 0 8 1 ; 3 . 安泰 科技粉末 冶金 事业 部, 北京 1 0 0 0 8 1 )
第 2 6卷 第 6期 2 0 1 6年 1DER M ETALLURGY I NDUSTRY
Vo l 。 2 6, No . 6 ,p 20 — 2 3 De c . 2 Ol 6
D OI : 1 0 . 1 3 2 2 8  ̄ . b o y u a n . i s s n l 0 0 6 — 6 5 4 3 . 2 0 1 5 0 1 1 5
Ef f e c t o f s i l i c o n o n t h e pr o pe r t i e s o f i r o n- ba s e d ma g ne t i c po wd e r c o r e s

间断直流磁场对Al-5Mg-3Zn-1Cu合金凝固组织和性能的影响

间断直流磁场对Al-5Mg-3Zn-1Cu合金凝固组织和性能的影响

间断直流磁场对Al-5Mg-3Zn-1Cu合金凝固组织和性能的影响曾麟添;周全;陈乐平;刘武平;刘厚清【期刊名称】《机械工程材料》【年(卷),期】2024(48)1【摘要】对Al-5Mg-3Zn-1Cu合金的凝固过程施加不同直流电压(0~300 V)和放电频率(0~20 Hz)以及占空比为30%的间断直流磁场,研究了间断直流磁场对其凝固组织及力学性能的影响。

结果表明:间断直流磁场有效细化了合金的凝固组织,初生α-Al相由无磁场时的粗大枝晶变为细小的蔷薇状晶粒,第二相由粗大而连续的网格状结构变为细小而断续分布结构。

随着直流电压的增加,合金的晶粒尺寸、第二相体积分数和长度均减小,抗压强度和断裂应变均先升后降;随着放电频率的增加,晶粒尺寸、第二相体积分数和长度均先减小后增大,抗压强度和断裂应变均先升后降。

施加间断直流磁场后,合金的拉伸性能提高,断口中的准解理面减少,撕裂棱增多。

当直流电压为200 V、放电频率为5 Hz时,合金的抗压强度和断裂应变最大,与无磁场时相比分别提高了31.6%和43%,抗拉强度和断后伸长率则分别提高了79.71%和83.3%。

【总页数】7页(P22-28)【作者】曾麟添;周全;陈乐平;刘武平;刘厚清【作者单位】南昌航空大学航空制造工程学院【正文语种】中文【中图分类】TG146.21【相关文献】1.直流磁场对Al-Cu合金定向凝固组织的影响2.不同通磁温度下直流磁场对AZ91D镁合金凝固组织的影响3.直流磁场对ZL107合金凝固组织的影响4.稳恒磁场及直流电场对铝硅合金凝固组织及性能的影响5.不同电磁场对亚快速凝固下高镁5059铝合金铸轧板显微组织和力学性能的影响因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。

强磁场与交流电叠加对纯铝凝固组织的影响

强磁场与交流电叠加对纯铝凝固组织的影响
Jn 2 o a .o 7
文章编号 :10 -6 92 0 )1 0 20 0 40 0 (0 70 — 影 响
余建 波,任 忠呜 ,邓 康 ,任 维丽 ,李 喜 ,王 俊
( 海 大 学 材 料 科 学 与 工 程 学 院 ,上 海 2 0 7 ) 上 0 0 2
(c o l f tr l cec n n ier g S ag a Unvri , h g a 0 0 2 C ia S h o ei ineadE gn e n , h nh i iesy S a h i 0 7 , hn ) o Ma a S i t n 2
Ab t a t h e n m e t o o i i e tu t r fp r l mi u b o a l d smu t n o sy i o i g a s t sr c :T e r f e n f s l f d s c u e o u e au n m y l c l a i l e u l mp sn t i i di r yn a ac
关键 词:纯铝 ;强 磁场 ;交流 电; 电磁力;细化 中圈分类号:T 4 . G 1 62 文献标识码 :A
Efe t fsm ula e u l po i g h g a n tcfe d a f c so i t n o sy i m s n i h m g e i l nd i
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第 1卷第 1 7 期
V 17 . o. 1 1 No
中 国有 色 金 属 学报
Th i e eJ u n l f n e r us e a s e Ch n s o r a No f r o t l o M
20 0 7年 1 月
i o i o e e h r s lg a n r a l.T e e tn fg a n r f e n si c e s d wi n r a e ma n t d f mp st n r f s t e c y t r i s g e t h x e to r i e n me t i n ra e t i c e s g i e o i n i a y i h u

对铁磁质在非均匀磁场中受力的一点说明

对铁磁质在非均匀磁场中受力的一点说明

对铁磁质在非均匀磁场中受力的一点说明
赵强
【期刊名称】《物理与工程》
【年(卷),期】2014(0)5
【摘要】对铁磁质在非均匀磁场中受力的两个公式之间的关系进行了说明,将珀塞尔和赵凯华在其各自《电磁学》教材中的观点统一起来.
【总页数】2页(P70,72)
【作者】赵强
【作者单位】西安交通大学理学院,陕西西安 710049
【正文语种】中文
【相关文献】
1.磁致伸缩的铁磁质在交变电磁场中振动的数学模型 [J], 顾晓安;沈密群;朱振江;沈荣瀛;徐基泰
2.说明文教学中的三个关注——以《人类的老师》为例谈说明文教学的一点思考[J], 吴妍彬
3.反铁磁质中右旋和左旋的园偏振波 [J], 章惠康
4.大学物理铁磁质教学中工程教育素材的融入 [J], 郭铁梁;李海宝
5.论铁磁质中磁场强度仅决定于传导电流的条件 [J], 蒋玉坤
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直流磁轭输入量能及其影响因素的研究

直流磁轭输入量能及其影响因素的研究

工业技术科技创新导报 Science and Technology Innovation Herald541 磁粉探伤的物理基础利用电流通过导体产生的磁场,可广泛应用于电机、电磁阀等诸多领域,当然也包括我们要研究的磁粉检测。

磁铁存在南(S)、北(N)两极,在两极之间存在互不相交且总是由北极指向南极的闭合的磁场—— 用磁感应线表示。

当磁感应线被不连续性或裂纹阻断时,会在阻断处两侧生成局部的N级和S级,磁感应线因此被扰乱形成漏磁场。

当漏磁场周围喷洒流动的磁性物质发生变化时,就会在漏磁场缺陷处吸附磁粉并形成相应的磁痕,这样就可以直观地显示出不连续或裂纹。

研究表明,漏磁场的大小,与工件的磁化程度有关,是检测缺陷的灵敏度的极为关键的指标。

外加磁场强度在大于Hμm 后,H越大,其磁导率μ值就会越小。

磁阻增大此时减小,而磁阻越是增大,磁化后产生的漏磁场也就会越大,探伤灵敏度就会越高。

而一旦铁磁性材料的磁感应强度增大到一定数值,就是迅速增大,这个值通常是饱和值的80%左右。

2 直流磁轭磁感应强度与提升力的关系磁轭,通常指本身不生产磁场(磁力线)、在磁路中只起磁力线传输的软磁材料、磁轭普遍采用导磁率比较高的软铁、A3钢以及软磁合金来制造,在某些特殊场合,磁轭也有用铁氧体材料来制造的。

由于磁轭的存在,我们可以把通电线包(线圈)、永磁体生产的磁力线传到我们需要的地方,这点有一点和电路相似。

在磁粉检测中,磁轭连续法是应用最广的方法之一,尤其是在特种设备检验检测当中,磁轭连续法由于具有以下优点而受到广泛应用:① 非电接触;②改变磁轭方位,可发现任何方向的缺陷;③便携式磁轭可带到现场检测,灵活,方便;④可用于检测带漆层的工件(当漆层厚度允许时);⑤检测灵敏度较高。

在实际检测中,只有当磁场强度大于Hμm 时,才能进行在效地表达。

比如,对于恒稳直流电,我们把磁轭平均吸力用为表达的一个规定值。

这是因为在多数标准和规范中,磁轭提升力是检验设备性能、设备校验或定期校验的一个必须的参数或者指标。

一种提高铁硅铬磁粉心直流叠加特性和频率稳定性的制备方法[发明专利]

一种提高铁硅铬磁粉心直流叠加特性和频率稳定性的制备方法[发明专利]

专利名称:一种提高铁硅铬磁粉心直流叠加特性和频率稳定性的制备方法
专利类型:发明专利
发明人:魏荣飞,兰中文,余忠
申请号:CN201710096280.4
申请日:20170222
公开号:CN106910614A
公开日:
20170630
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明公开了一种提高铁硅铬磁粉心直流叠加特性和频率稳定性的制备方法,包括以下步骤:(1)取适量铁硅铬磁粉加入丙酮溶液用超声波对铁硅铬磁粉进行清洗;(2)配置磷酸丙酮钝化液;
(3)取清洗后的铁硅铬磁粉置于磷酸丙酮钝化液中进行钝化处理;(4)加入经丙酮溶液稀释后的磁粉胶,搅拌均匀后烘干过筛,并加入适量润滑脱模剂,压制成坯样;(5)将坯样置于保护气氛中进行退火处理;本发明工艺步骤简单,铁硅铬磁粉表面钝化膜与磁粉间结合强度高,不易剥落,通过本发明的制备方法得到的磁粉心,不仅具有较高的磁导率、较低的功率,而且其直流叠加特性和频率稳定性明显提高,外加直流磁场100Oe时磁导率为初始时的60%以上,磁导率稳定频率达到40MHz以上,截止频率最高达到400MHz以上。

申请人:电子科技大学
地址:611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
国籍:CN
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磷化液改性片状FeCoZr合金粉末的电磁性能

磷化液改性片状FeCoZr合金粉末的电磁性能

磷化液改性片状FeCoZr合金粉末的电磁性能
王鲜;龚荣洲;冯则坤
【期刊名称】《电子元件与材料》
【年(卷),期】2008(27)10
【摘要】采用机械球磨的方法,对气雾化FeCoZr软磁合金粉末进行了扁平化处理,以不同用量的MgBPO系磷化液对获得的片状合金粉末进行表面改性,考察了样品在3.95~12.40 GHz时的复介电常数和复磁导率.结果表明:随着改性磷化液体积的增加,样品的复介电常数实部和虚部减小;改性后样品的复磁导率实部增大、虚部减小;计算的反射损耗曲线显示,样品的反射损耗峰相应地移向高频;磷化液用量为16 mL时,样品具有最小的反射损耗峰值(-11.42 dB).
【总页数】4页(P62-65)
【作者】王鲜;龚荣洲;冯则坤
【作者单位】华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,材料科学与工程学院,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074
【正文语种】中文
【中图分类】TM25;TM27
【相关文献】
1.研磨介质对片状羰基铁结构及电磁性能的影响 [J], 高芳乾;赵素玲
2.SiO2包覆片状羰基铁粉的制备及电磁性能 [J], 伍倪燕;程艳奎;刘存平;刘勇;雷会

3.片状FeCoZr合金吸收剂吸波性能的正交实验 [J], 郭欣;王鲜;廖章奇;龚荣洲;冯则坤
4.片状Ni单质吸波材料的形貌测试及电磁性能分析 [J], 张涛;尹亮;丁海铭;
5.氧化石墨烯对FeSiAl合金粉末耐蚀和电磁性能的影响 [J], 郭阳;胡黎明
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直流偏置电流对钴基非晶带环形磁芯巨磁阻抗效应的影响

直流偏置电流对钴基非晶带环形磁芯巨磁阻抗效应的影响

直流偏置电流对钴基非晶带环形磁芯巨磁阻抗效应的影响赵湛;鲍丙豪【期刊名称】《金属功能材料》【年(卷),期】2005(12)5【摘要】将近零磁致伸缩系数的Co66.3Fe3.7Si12B18非晶薄带卷成环形后,在200Gs横磁场作用下,用密度为25A/mm2的脉冲电流退火30s,在穿过环形薄带圆心的直流电流产生的圆周磁场作用下的巨磁阻抗效应。

激励电流频率f>100kHz 时,阻抗随圆周磁场的变化呈现对称双峰曲线;最大阻抗变化率(GMI)max随频率的升高而增大,当频率f=2MHz,幅值Ip=10mA时,(GMI)max=57%。

直流偏置电流改变了非晶带横向磁导率,造成阻抗变化的不对称。

偏置电流较小时,阻抗变化曲线的一边峰值得到加强,另一边峰值减弱;偏置电流较大时,两峰值都被削弱。

阻抗变化的不对称性与激励电流的频率和直流偏置电流大小有紧密联系。

【总页数】4页(P9-12)【关键词】钴基非晶薄带环形磁芯;直流偏置电流;巨磁阻抗效应【作者】赵湛;鲍丙豪【作者单位】江苏大学测控技术研究所;江苏大学微纳米科学与技术研究中心【正文语种】中文【中图分类】TG139.8;TM271.2【相关文献】1.应力作用下电流退火对钴基非晶薄带的巨磁阻抗效应的影响研究 [J], 钟智勇;张怀武;刘颖力;王豪才2.正交激励与直流偏置的钴基非晶带弱磁传感器 [J], 丁一;陈哲;鲍丙豪3.钴基非晶软磁合金薄带的磁特性和巨磁阻抗效应 [J], 吴厚政;马正元4.钴基非晶磁芯巨磁阻抗效应电流传感器 [J], 赵湛;鲍丙豪;徐云峰;董钢5.处理电流密度对钴基非晶薄带巨磁阻抗效应的影响 [J], 张德芬;陈孝文因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。

静磁场复合直流电流作用下Al-Zn合金凝固时的相迁移

静磁场复合直流电流作用下Al-Zn合金凝固时的相迁移

静磁场复合直流电流作用下Al-Zn合金凝固时的相迁移阳祥富;钟云波;傅小明;王江;任忠鸣;黄靖文;雷作胜【期刊名称】《稀有金属材料与工程》【年(卷),期】2007(36)A03【摘要】在Al-10%Zn合金液凝固时,向熔体中施加恒定直流电流的同时施加了一个与电流方向平行的稳恒磁场,考察了在磁场作用下合金中α-Al相颗粒的迁移行为。

实验结果表明:在同时施加静磁场时,合金凝固时析出的α-Al相颗粒可以在10~0~10~1A/cm^2的电流密度下向阴极发生迁移,而单独施加磁场或施加电流不能使相颗粒迁移;当施加的电流密度一定时,α-Al相的偏移率随着磁感应强度的增大而增大;当磁感应强度一定时,α-Al相的偏移率随着电流密度增大而增大。

理论分析表明,电子流经相颗粒时形成的不对称涡旋流动导致了α-Al相颗粒向阴极的定向迁移。

【总页数】5页(P158-162)【关键词】静磁场;直流电流;相迁移;涡旋流动【作者】阳祥富;钟云波;傅小明;王江;任忠鸣;黄靖文;雷作胜【作者单位】上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室;上海核威实业有限公司【正文语种】中文【中图分类】TF804【相关文献】1.强磁场与交变电流的复合作用对Al-4.5%Cu合金凝固组织的影响 [J], 王俊;邓康;任忠鸣;任维丽;李喜;钟云波;徐匡迪2.复合静磁场下BiMn合金凝固中的电迁移 [J], 楼磊;钟云波;任忠鸣;阳祥富;邓康;徐匡迪3.强磁场复合交变电流作用下Zn-30wt%Bi偏晶合金的凝固 [J], 王江;钟云波;任维丽;雷作胜;任忠鸣;徐匡迪4.静磁场作用下镁合金AZ61凝固过程研究 [J], 许光明;包卫平;郑佳伟;左玉波;崔建忠5.在脉冲电流或脉冲磁场作用下LY12合金的凝固组织 [J], 班春燕;崔建忠;巴启先;路贵民;訾炳涛因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。

Fe掺杂对ZnS稀磁薄膜的磁特性影响

Fe掺杂对ZnS稀磁薄膜的磁特性影响

Fe掺杂对ZnS稀磁薄膜的磁特性影响
何军锋
【期刊名称】《应用化工》
【年(卷),期】2018(047)011
【摘要】制备了Fe掺杂ZnS稀磁薄膜(Fe掺杂量x=0.000,0.005,0.010,0.015),
利用XRD、PL光谱以及磁性测试系统测量分析了Fe掺杂对ZnS薄膜的晶体结构、发光特性及磁特性的影响.结果表明,薄膜的饱和磁化强度随Fe掺杂量x增加而逐
渐增大,Fe掺杂量x>0.005时,薄膜的结晶品质逐渐变差,缺陷数量随之增多,导致磁信号通过缺陷传导而逐渐增强,致使其饱和磁化强度增大.
【总页数】4页(P2326-2328,2335)
【作者】何军锋
【作者单位】陕西理工大学物理与电信工程学院,陕西汉中 723001
【正文语种】中文
【中图分类】TQ460;TB383.2;TM914.4
【相关文献】
1.Cr掺杂量对Zn1-xCrxO稀磁纳米材料的结构及性能影响 [J], 邢光建;李钰梅;王浩;王怡;武光明
2.氧分压对Zn0.99Mn0.01O稀磁薄膜结构和磁学特性的影响 [J], 于威;陈明敬;高卫;滕晓云;傅广生
3.Ca^(2+)掺杂对SmFeO_3的介电、铁磁特性及磁相变温度的影响 [J], 李德铭;方松科;童金山;苏健;张娜;宋桂林
4.退火温度对Co掺杂CeO_2稀磁氧化物薄膜的结构和铁磁性能的影响 [J], 阳生红;张曰理
5.ZnO:Mn稀磁薄膜结构和铁磁特性分析 [J], 于威;张丽;张子才;杨丽华;滕晓云;张锦川;傅广生
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第21卷 第4期2 0 1 4年8月 金属功能材料Metallic Functional Materials Vol.21, No.4August, 2014直流叠加对铁硅铝磁粉芯品质因数的影响魏鼎,冯则坤,龚荣洲,王鲜(华中科技大学光学与电子信息学院,湖北武汉430074)摘 要:利用LCR测试仪测试有效磁导率(μe)为125及60的铁硅铝磁粉芯在不同交流磁感应强度下的品质因数,发现品质因数随频率出现峰值,有效磁导率为125的磁粉芯在大约30kHz时品质因数出现峰值,而有效磁导率为60的磁粉芯则在80kHz左右时品质因数出现峰值,峰值的高低与交流磁感应强度的数值有关。

在上述结果的基础上,再分别对上述磁粉芯在直流叠加状态下的品质因数进行测试,结果发现其品质因数随直流叠加磁场出现峰值,在交流磁感应强度频率分别为50、100kHz以及200kHz时,有效磁导率为125的磁粉芯品质因数在直流叠加磁场强度为1571、3927A/m和5890A/m时到达峰值,而有效磁导率为60的磁粉芯在交流磁感应强度频率分别为150、200kHz以及250kHz时,品质因数则在直流叠加磁场强度为4712、5498A/m和7069A/m时到达峰值,峰值的高低与交流磁感应强度的数值有关,并对其原因进行了分析。

关键词:铁硅铝;磁粉芯;有效磁导率;直流叠加;品质因数文献标识码:A 文章编号:1005-8192(2014)04-0018-04Effect of DC-Bias on the QualityFactorof Sendust Powder CoreWEI Ding,FENG Ze-kun,GONG Rong-zhou,WANG Xian(School of Optical and Electronic Information,Huazhong University of Science &Technology,Wuhan 430074,Hubei,China)Abstract:Frequency dependences and DC-bias on the quality factor of Sendust powder cores were tested by LCR.Itwas found that,the quality factor of Sendust powder cores first increased with increasing frequency and then it con-tinuously decreased upon further increasing frequency.Powder cores with effective permeability of 125attained thehighest quality factor at about 30kHz,and effective permeability of 60at about 80kHz.The quality factor first in-creased with the DC-bias magnetic field,and then it continuously decreased upon further increasing the DC-biasmagnetic field for two samples.Powder cores attained the highest quality factor at different DC-bias magnetic field atvariation frequency.Powder cores with effective permeability of 125attained the highest quality at 1571,3927A/mand 5890A/m at 50,100kHz and 200kHz,effective permeability of 60attained the highest quality at 4712,5498A/m and 7069A/m at 150,200kHz and 250kHz.Key words:sendust alloy;powder core;effective permeability;DC bias;quality factor作者简介:魏鼎(1983-),男,博士生; E-mail:wd325@163.com; 收稿日期:2014-05-06通讯作者:王鲜(1979-),男,博士,副教授; E-mail:wangx@mail.hust.edu.cn 近年来,软磁铁硅铝磁粉芯制品在电子电力行业的应用受到了极大的关注[1-6]。

以铁硅铝磁粉芯为磁芯的电子器件已广泛应用于太阳能、风能转换的控制电源、以太阳能为电源的LED路灯电源、电动汽车的能源转换器以及家用电器的节能贮能器件、电力行业的储能电抗器等许多领域。

铁硅铝(Fe85%-Si9.5%-Al5.5%)(Sendust)材料的饱和磁感应强度Ms和电阻率ρ均比铁镍钼(Fe17%-Ni81%-Mo2%)(MPP)高,这样使得铁硅铝粉末制品具有良好的磁性能。

廉价的铁硅铝合金粉末的许多磁特性与昂贵的铁镍钼合金粉末相近,而且应用频段基本相同,因此是铁镍钼磁粉芯极好的替代品。

由于铁硅铝粉末的经济性,因此对铁硅铝粉磁粉芯的制备以及应用研究引起了人们浓厚的兴趣。

但现阶段对磁粉芯的研究主要着重于包覆方法、合金成分以及工艺因素的影响等方面[7-10],而直流叠加对品质因数的影响也多局限于对铁氧体的研究[11-12],本文研究了直流叠加对铁硅铝磁粉芯品质因数的影响。

1 实验设备及参数利用使用Agilent 4284LCR测试仪对铁硅铝磁粉芯测试了有效磁导率频率特性和直流特性,并对两种情况下的品质因数进行了测试。

样品参数:外径为26.90mm,内径为14.70mm,高度为11.18mm的环状样品,使用线径为0.5mm的漆包线绕制26匝进行测试。

2 结果与讨论2.1 测试结果图1与图2分别为有效磁导率为125及60的铁硅铝磁粉芯的有效磁导率及品质因数的频率特性曲线。

由图可看出,上述磁粉芯有效磁导率均具有较好的频率稳定性,而品质因数却随频率增加出现峰值,但两者品质因数出现峰值的位置并不相同。

有效磁导率为125的磁粉芯在大约30kHz时品质因数出现峰值,而有效磁导率为60的磁粉芯则在大约80kHz时品质因数出现峰值,对比不同交流磁感应强度下的品质因数,发现品质因数峰值的高低与交流磁感应强度密切相关,均随交流磁感应强度的增加而增加。

图1 磁粉芯(μe=125)的频率特性曲线Fig.1 Frequency dependence ofμe=125图3~5分别为有效磁导率为125的铁硅铝磁粉芯在不同交流磁感应强度下的直流特性曲线。

由图可看出,有效磁导率为125的磁粉芯叠加直流后图2 磁粉芯(μe=60)的频率特性曲线Fig.2 Frequency dependence ofμe=60的有效磁导率与未叠加直流的有效磁导率之比随直流叠加磁场强度增加而降低,但品质因数却随直流叠加磁场强度增加而出现峰值。

图3 磁粉芯(μe=125)在2.5mT下的直流特性曲线Fig.3 Characteristic ofμe=125underDC-Bias@2.5mT图4 磁粉芯(μe=125)在10mT下的直流特性曲线Fig.4 Characteristic ofμe=125underDC-Bias@10mT由图6的对比可知,有效磁导率为125的磁粉芯品质因数出现峰值的位置与直流叠加磁场强度无关,而与交流磁感应强度频率有关,品质因数出现峰91第4期 魏鼎等:直流叠加对铁硅铝磁粉芯品质因数的影响图5 磁粉芯(μe=125)在20mT下的直流特性曲线Fig.5 Characteristic ofμe=125underDC-Bias@20mT值的高低与交流磁感应强度有关。

在交流磁感应强度频率50、100kHz以及200kHz时,有效磁导率为125的磁粉芯品质因数分别在直流叠加磁场强度为1571、3927A/m,5890A/m到达峰值。

图6 磁粉芯(μe=125)品质因数直流特性曲线Fig.6 Variations of quality factor under DC-Bias图7~9分别为有效磁导率为60的铁硅铝磁粉芯在不同交流磁感应强度下的直流特性曲线。

由图可看出,有效磁导率为60的磁粉芯叠加直流后的有效磁导率与未叠加直流的有效磁导率之比随直流叠加磁场强度增加而降低,但品质因数却随直流叠加磁场强度增加而出现峰值。

由图10的对比可知,有效磁导率为60的磁粉芯品质因数出现峰值的位置与直流叠加磁场强度无关,而与交流磁感应强度频率有关,品质因数出现峰值的高低与交流磁感应强度有关。

在交流磁感应强度频率150、200kHz以及250kHz时,有效磁导率为60的磁粉芯品质因数分别在直流叠加磁场强度为4712、5498、7069A/m到达峰值。

2.2 分析讨论根据品质因数Q的定义,线圈的品质因数Q的图7 磁粉芯(μe=60)在2.5mT下的直流特性曲线Fig.7 Characteristic ofμe=60underDC-Bias@2.5mT图8 磁粉芯(μe=60)在10mT下的直流特性曲线Fig.8 Characteristic ofμe=60underDC-Bias@10mT图9 磁粉芯(μe=60)在20mT下的直流特性曲线Fig.9 Characteristic ofμe=60underDC-Bias@20mT表达式可写为[13]:Q=ωLRC+RL可改写为:Q=QCQLQC+QL02金属功能材料 2014年图10 磁粉芯(μe=60)品质因数直流特性曲线Fig.10 Variations of quality factor under DC-Bias式中:QC=ωLRC为磁芯的品质因数QL=ωLRL为绕组的品质因数磁芯的品质因数QC是随频率单调减少的,而绕组的品质因数QL是随频率单调增加的。

当交流磁感应强度频率使得QC=QL时,Q取得最大值。

这就是磁粉芯频率特性曲线中,品质因数Q随频率出现峰值的原因。

而在叠加直流磁场后,使得磁芯的品质因数QC以及绕组的品质因数QL均向低频移动,即磁芯的品质因数QC增加,而绕组的品质因数QL减小。

当直流叠加磁场强度使得交流磁感应强度的频率降到再次使得QC=QL时,Q取得最大值。

这是磁粉芯直流特性曲线中,品质因数Q随直流叠加磁场强度出现峰值的原因。

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