薄膜材料与薄膜技术教学大纲
薄膜物理与技术课程教学大纲 .doc
薄膜物理与技术课程教学大纲一、课程说明（一）课程名称、所属专业、课程性质、学分；课程名称：薄膜物理与技术所属专业：电子器件与材料工程课程性质：必修课学分：3（二）课程简介、目标与任务；本课程讲授薄膜的形成机制和原理、薄膜结构和缺陷、薄膜各项物理性能和分析方法等物理内容；讲授薄膜各种制备技术。
通过本课程学习，使学生具备从事电子薄膜、光学薄膜、以及各种功能薄膜研究与开发的能力（三）先修课程要求，与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接；《量子力学》、《热力学与统计物理》、《固体物理》、《电子技术》、《电路分析》等。
（四）教材与主要参考书。
教材：二、课程内容与安排本课程全部为课堂讲授。
重点：真空的获得和真空测量的工作原理；物理气相沉积和化学气相沉积的原理及方法；薄膜生长的机理。
难点：磁控溅射的机理及控制；MOCVD技术；薄膜形成过程的机理（一）绪论2学时1、薄膜的概念和历史2、薄膜材料与薄膜技术的发展3、薄膜科学是边缘交叉学科4、薄膜产业是腾飞的高科技产业（二）真空技术基础2学时1、真空的基本知识2、真空的获得3、真空的测量（三）真空蒸发镀膜4学时1、真空蒸发原理2、蒸发源的蒸发特性及膜厚分布3、蒸发源的类型4、合金及化合物的蒸发5、膜厚和淀积速率的测量与控制（四）溅射镀膜4学时1、溅射镀膜的特点2、溅射的基本原理3、溅射镀膜类型4、溅射镀膜的厚度均匀性（五）离子镀膜2学时1、离子镀原理2、离子镀的特点3、离子轰击的作用4、离子镀的类型（六）化学气相沉积镀膜4学时1、化学气相沉积的基本原理2、化学气相沉积的特点3、化学气相沉积方法简介4、低压化学气相沉积5、等离子体化学气相沉积6、其他化学气相沉积（七）溶液镀膜法2学时1、化学反应沉积2、阳极氧化法3、电镀法4、LB膜的制备（八）薄膜的形成4学时1、凝结过程2、核形成过程3、薄膜形成过程生长模型4、溅射薄膜的形成过程5、薄膜的外延生长6、薄膜形成过程的计算机模拟（九）薄膜的结构和缺陷4学时1、薄膜的结构2、薄膜的缺陷3、薄膜表面缺陷：再构表面和吸附表面4、薄膜结构与组分的分析方法（十）薄膜的性质和应用4学时1、薄膜的力学性质和应用2、光学薄膜的性质和应用3、金属薄膜的电学性质和应用4、功能介质薄膜的电学性质和应用5、半导体薄膜的性质和应用6、磁性薄膜的性质和应用7、超导薄膜的性质和应用8、金刚石薄膜的性质和应用制定人：审定人：批准人：日期：。
薄膜科学与技术教学大纲
《薄膜科学与技术》教学大纲一、课程简介课程名称：薄膜科学与技术 Science and Technology of Thin Films课程类型：专业课（选修）学时：48学分：3开课学期：7开课对象：材料物理专业先修课程：固体物理导论；材料分析测试技术参考教材：1．郑伟涛《薄膜材料与薄膜技术》化学工业出版社2．田民波《薄膜技术与薄膜材料》清华大学出版社3．杨邦朝《薄膜物理与技术》电子科技大学出版社4．唐伟忠《薄膜材料制备原理，技术及应用》冶金工业出版社二、课程性质、目的与任务《薄膜科学与技术》是“材料物理”专业本科生拓展知识面的选修课程，它也适合材料类其它专业学生选修。
学生在已具备一定的固体物理导论、材料分析测试技术等知识的基础上，通过本课程了解薄膜的基本概念、特殊性和重要性；掌握薄膜材料的制备方法、形成过程、表征方法、性质及应用。
薄膜是材料的一种特殊形态。
薄膜科学是现代材料科学中极其重要和发展最为迅速的一个分支，已成为微电子学、光电子学、磁电子学等新兴交义学科的材料基础，成为了构筑高新技术产业的基本要素。
通过对薄膜科学与技术课程的学习，并通过相关资料查询、阅读、专题报告及综合分析与讨论，逐渐使学生掌握薄膜基本概念、特殊性、制备方法、生长理论和研究方法，为今后从事薄膜材料及相关材料领域的研究和工作打下良好的基础。
三、教学基本要求1. 了解和掌握薄膜的定义、分类、特殊性和重要性。
2. 掌握与薄膜制备和研究相关的真空基础知识。
3. 掌握薄膜材料的制备方法及原理。
4. 掌握薄膜的成核和生长理论；5. 掌握薄膜的厚度、结构、成份、原子化学键合、应力、附着力的表征分析方法。
6. 了解薄膜材料的性质及应用。
本课程介绍薄膜的基础知识和研究进展。
重点要求掌握薄膜材料的制备方法及表征技术。
课程较全面地介绍了薄膜材料的各种制备方法、生长过程和表征方法，具有较好的广度和深度。
使学生基本具备相关资料综合分析和整理能力。
薄膜材料与技术教学大纲
《薄膜材料与技术》课程教学大纲课程代码：090642008课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology课程总学时：32 讲课：32 实验：0 上机：0适用专业：光电信息科学与工程大纲编写（修订）时间：2017.10一、大纲使用说明（一）课程的地位及教学目标薄膜材料与技术是光电信息科学与工程专业本科生的一门专业选修课，通过本课程的学习，使学生了解薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识，掌握薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征，了解目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料。
培养学生在获取薄膜材料与薄膜技术基本知识的过程中，能够理论联系实际，并增强学生的创新意识，提高学生的工程实训能力。
为开阔学生学术视野和提高学生实际工作能力提供知识储备。
（二）知识、能力及技能方面的基本要求1. 知识方面的基本要求通过本课程的学习，使学生了解薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
了解各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
使学生掌握薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质。
2.基本理论和方法方面的要求了解薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
了解各种成膜技术的基本原理与方法；3. 能力方面的要求培养和提高学生实际工作能力及实验技能。
（三）实施说明1．本大纲适用于“光电信息科学与工程专业”以及“信息显示与光电技术专业”等相近专业的本科生；2．因教学学时所限，课堂教学要做到突出重点，精讲难点，教师在授课中可酌情安排各部分的学时，课时分配表仅供参考；3. 对于与其它课程交叉部分的内容，要突出本课程在课程设置中的地位、作用与特色，即立足于薄膜材料与技术涉及到的基本物理效应，重要概念与理论分析方法，器件的工作原理、主要性能特征及应用方向等；4. 注意知识的内在联系与融合贯通，注意采用课堂讲授、讨论、多媒体教学相结合的教学方式，启发学生自学并不断积累学科前沿最新知识，学会独立思考，独立提出问题与独立解决问题的能力。
【教学大纲】薄膜技术
《薄膜技术》课程教学大纲一、教师或教学团队信息二、课程基本信息课程名称（中文）：薄膜技术课程名称（英文）：Thin Film Technology课程类别：□通识必修课□通识选修课□专业必修课□专业方向课√□专业拓展课□实践性环节课程性质*：□学术知识性√□方法技能性□研究探索性□实践体验性课程代码：1230161周学时：3 总学时：48学分: 3先修课程：普通物理学授课对象：应用物理专业本科生三、课程简介薄膜技术是应用物理专业高年级本科生选修课程。
薄膜技术是先进制造业的基础，涉及范围包括集成电路与电子元器件、显示器和LED照明、信息记录与储存、MEMS与传感器和太阳能电池等高技术产业。
通过本课程的学习，使应用物理专业的学生掌握真空技术、等离子体技术以及薄膜制备结构和性能等方面的基础知识，为本专业学生在高技术制造企业从业或继续进行研究生阶段的学习提供必要的知识和训练。
四、课程目标本课程的教学目标是在结合典型实例，深入浅出地阐明薄膜技术的基本原理，通过教师讲授和学生讨论相结合的方式，将培养和提高学生分析问题和解决问题的能力作为教学重点。
通过本课程的学习使学生掌握薄膜物理的基本知识及基本的薄膜制备技术，同时了解该领域当前的一些前沿研究进展和应用，为本专业学生在高技术制造企业从业或继续进行研究生阶段的学习提供必要的知识和训练。
本课程的教学要求学生初步掌握真空及薄膜的物理基础，对真空获得、真空测量、气体放电、低温等离子体技术、溅射、化学气相沉积以及薄膜制备结构和性能等有较深入的了解；在重点掌握溅射、化学气相沉积等基本工艺的基础上，对迅速发展的薄膜技术有全面的了解；结合国外相关的课程资料和课堂讨论，对于工业界应用的薄膜材料制备、结构、性能有系统的学习。
五、教学内容与进度安排第一章课程导论1. 课时数32. 讲授内容或训练技能，重点、难点--课程介绍--薄膜技术及应用领域以及同薄膜物理的关系--薄膜获得设备和薄膜实验室参观3. 学生学习任务--薄膜的物理定义--理解薄膜技术是高精尖的生产技术和在信息、高技术产品制造中的作用--通过薄膜实验室参观，了解薄膜生长设备的主要组成部分、真空室和真空获得设备、等离子体辉光观察和完整的薄膜生长制程。
第8章薄膜材料与薄膜技术3
采用薄膜技术材料在世界范围内所占的市场
市场份额由2004年的71亿美元增长到2009年的135亿美元 年平均增长幅度达到13.7%。
薄膜与工作、生活的联系
互联网与薄膜技术 等离子壁挂电视 发展迅猛的TFT-LCD 生物计算机与薄膜技术 正在进展中的人造大脑 微机械使重症患者起死回生 加速度传感器 实现MEMS的薄膜与微细加工技术 原子的人工组装 碳纳米管和富勒烯
积 方 式
）表面上，并淀积成薄膜的技术。 例如：蒸发 evaporation，溅射sputtering
13/40
除了CVD和PVD外，制备薄膜的方法还有:
✓旋涂Spin-on
✓镀/电镀 electroless plating/electroplati ng
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铜互连是由电镀工艺制作
一、化学气相沉积的基本原理
Si (固) + 4HCl (气)
3.氧化反应-制备氧化物
SiH4(气) + O2(气)
SiO2(固) + 2H2(气)
4.氮化或碳化反应-制备氮化物和碳化物
3SiH4(气) + 4NH3(气) 3TiCl4(气) + CH4(气)
Si3N4(固) + 12H2(气) TiC(固) + 4HCl(气)
画面对角线106cm的等离子壁挂彩电
薄膜材料的简单分类
材料保护涂层
涂层或厚膜
薄膜材料
(>1um)
材料装饰涂层 光电子学薄膜
薄膜(<1um) 微电子学薄膜
其它功能薄膜
(力,热,磁,生物等)
薄膜材料的制备技术
薄膜材料的制备技术
喷涂
薄膜材料与薄膜技术教学大纲
《薄膜材料与薄膜技术》课程教学大纲一、《材料制备技术》课程说明（一）课程代码：（二）课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology（三）开课对象：物理系材料物理专业（四）课程性质：本课程是材料物理专业的一门专业选修课。
（五）教学目的本课程主要介绍薄膜材料的制备及特性。
通过学习既可以掌握一些薄膜物理的基本知识，同时也能了解该领域内当前的一些前沿研究进展，开阔眼界，这些都有利于学生将来更好的投入科研工作中去。
（六）教学内容：本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
（七）学时数、学分数及学时数具体分配学时数：36学分数：2（八）教学方式：课堂教学（九）考核方式和成绩记载说明：考核方式为考试。
严格考核学生出勤情况，达到学籍管理规定的旷课量取消考试资格，综合成绩根据出勤情况、平时成绩和期末成绩评定，出勤情况占20％，平时成绩占20％，期末成绩占60％。
二、讲授大纲与各章的基本要求第一章真空技术基础教学要点：通过本章的教学使学生初步了解真空的基本知识，掌握获取一定程度的真空状态的方法及测量手段。
教学时数：4教学内容：第一节：真空的基本知识第二节：稀薄气体的基本性质第三节：真空的获得第四节：真空的测量考核要求：1．真空的基本知识（识记）2．稀薄气体的基本性质（领会）3．真空的获得（领会）4．真空的测量（识记）第二章真空蒸发镀膜法教学要点：了解真空蒸发镀膜的基本原理，了解蒸发特性以及相应的膜厚分布特点，了解膜厚和沉积速率的测量与监控方法。
教学时数：4教学内容：第一节：真空蒸发原理第二节：蒸发源的蒸发特性及膜厚分布第三节：蒸发源的类型第四节：合金及化合物的蒸发第五节：膜厚和沉积速率的测量与监控考核要求：1．真空蒸发基本原理（领会）2．蒸发源的特性及膜厚分布（识记）3．蒸发源的类型（识记）4．膜厚和沉积速率的测量与监控（领会）5．合金及化合物的蒸发（领会）第三章溅射镀膜教学要点：了解溅射法制备纳米薄膜的基本原理，掌握溅射法制备的特点，熟悉溅射镀膜的几种基本类型，了解溅射镀膜的厚度分布特点，明确如何控制厚度均匀性指标。
薄膜材料与薄膜技术(1)(据说能看).
一、真空技术基础
真空的获得
1.2.4 低温吸附泵（Cyropump）
（b）内部结构
多级深冷头示意图
一、真空技术基础
真空的测量
概念：采用特定的仪器装置，对某一特定空间内的真空度（即：气压） 进行测定。
真空计（Manometer）或 真空规（Vacuum Gauge）
按 测 量 原
绝 对 真 空 计
第一章 — 薄膜材料与技术电子教案 材料科学与工程学院
课程主要内容
1 薄膜制备的真空技术基础
2 薄膜制备的化学方法
3
薄膜制备的物理方法
4 薄膜的生长过程和薄膜结构
5 薄膜材料的表征方法
主要参考书
唐伟忠，薄膜材料制备原理、技术及应用
1
（第2版），冶金工业出版社，2003； 田民波，李正操，薄膜技术与薄膜材料，
占20％；
薄膜的定义
1 什么是“薄膜”（thin film），多“薄”的膜才算薄膜？
2 “涂层”（coating）、“层”（layer）、“箔”（foil）
有相同的意义，但有时又有些差别。
薄膜材料的分类
1 化学组成： 无机膜、有机膜、复合膜；
2 相组成：固体薄膜、液体薄膜、气体薄膜、胶体薄膜；
3 晶体形态：单晶膜、多晶膜、微晶膜、 纳米晶膜、超晶格
10-3 6.667 若干米
10-6 6.667×103
数 km >>1
10-9 6.667×106
几千km
粘滞流
过渡段
分子流
大气状态 热运动剧烈 碰撞频繁
粘滞流 分子流 分子-分子 与分子-器壁 碰撞几率相当
器壁碰撞为主 粒子直线飞行
分子数更少 分子间无碰撞 器壁碰撞几率也低
《膜材料与膜技术》课程教学大纲
《膜材料与膜技术》教学大纲1.课程编号1000932012.课程名称: 膜材料与膜技术3.高等教育层次：本科4.课程在培养方案中的地位：5.课程性质：选修对应于电子封装技术专业专业；属于：BZ专业课程基本模块6.开课学年及学期非强制7.先修课程（a必须先修且考试通过的课程，b必须先修过的课程，c建议先修的课程）b材料科学基础，微电子制造工艺基础8.课程总学分：2.0，总学时:32；9.课程教学形式：0普通课程10.课程教学目标与教学效果评价11.课程教学目标与所支撑的毕业要求对应关系12.教学内容、学时分配、与进度安排13.考核与成绩评定：平时成绩、期末考试在总成绩中的比例，平时成绩的记录方法。
考核方式：闭卷考试成绩构成：平时考查：课堂提问及研讨，共20分；期末考试：80分14.教材，参考书:[1] 麻时立男著, 陈国荣等翻译, 薄膜制备技术基础［M］.北京: 化学工业出版社,2009.[2] 郑伟涛，薄膜材料与薄膜技术, 第二版［M］.化学工业出版社，2007..15.大纲说明：本课程讲述各种薄膜材料与制备的原理、方法和技术。
针对现代信息社会对材料发展的需求，着重介绍各种薄膜制备技术的基本概念、制备原理、特征，以及其在各类薄膜材料中的应用。
面向电子封装专业学生。
编写教师签名：责任教授签名：开课学院教学副院长签名：Film Materials and Film TechnologyCourse code: 100093201Course name: Film Materials and Film TechnologyLecture Hours: 32Credits: 2Prerequisite(s): Materials Science Basis, Microelectronic Fabrication and Process Basis Course Description:This course is to explore the principles and methods for the preparation and applications of thin films. Both traditional thin films preparation method and state of art modern developing method are included. The course consists of 5 chapters, including thin films introduction, physical vapor deposition and chemical vapor deposition method. Thin films structure and their formation. Powerpoint and video will be extensively used in the class.Course Outcomes:After completing this course, students should be able to:1.Master and understand theory and method of thin films preparation.2.Analyze relationship between structure, composition and properties of thin films.3.Design appropriate thin films preparation method according to desired thin films performancerequirement.Course Content:Lectures and Lecture Hours:1.Introduction 4- Introduction of thin films.2.Thermal evaporation method 6-elements and compounds evaporation-different equipments used in thermal method3.Sputtering method for thin films 64.Chemical Vapor Deposition method for thin films\Thermaldynamics and Kinetic of CVD process 8Different CVD method including plasma CVD5.Thin films structure 8Nucleation and formation of structureSome examples of thin films materialsGrading:Prerequisite quiz 10%Inclass Quizzes 10%Final 80%Text & Reference Book:1. ASAMAKI Tatsuo, Basis of thin films preparation and Technology［M］.Beijing: Chemical Industry Publication,2009.2. Zhen Weitao，Thin films Materials and Technology,2ed edition［M］.ChemicalIndutry Publication，2007.。
薄膜材料与薄膜技术第二版教学设计
薄膜材料与薄膜技术第二版教学设计背景介绍及目标在材料科学中，薄膜材料和薄膜技术是非常重要的研究领域。
薄膜材料在各种领域都有着广泛应用，如电子器件、显示技术等等。
因此，学习薄膜材料和薄膜技术对于材料科学专业的学生来说显得尤为重要。
如何让学生深入了解薄膜材料和薄膜技术，提高他们的学习兴趣、提高他们的自主学习能力是本次教学设计的目标。
教学内容与方法这次教学内容主要注重薄膜材料和薄膜技术的理论知识，同时也会涉及到一些实验操作和应用场景。
具体的教学内容和方法如下：教学内容•薄膜材料的基本概念和分类•薄膜技术的基本概念和原理•薄膜制备技术及其优缺点•薄膜材料在电子器件、显示技术和光伏领域的应用场景教学方法1.讲授方式：通过PPT、视频等多种形式展示理论知识，充分挖掘教材中的知识点和实例，以及最新的实验和应用成果。
2.实验操作：课程安排一定的实验环节，让学生亲自进行操作，以便更深入地了解薄膜材料和薄膜技术的相关技能。
3.讨论互动：开展讨论环节，小组讨论，以及个人答辩，激发学生的参与和探究精神。
教学评价与总结在教学评价上，我们将采取多元化评价的方法，包括学生出席率、实验操作操作规范、 PPT、（规定字数的）课程论文等。
通过这些方法，帮助学生更好地加深课堂学习，巩固和提高知识点的掌握程度，加强对材料科学领域专业知识的综合性和应用性的理解。
本次教学设计是基于薄膜材料和薄膜技术的最新成果和理论，结合具体的实验操作、应用背景，以及充分的互动和参与方式，确保学生能够对材料科学相关领域进行全面、深入的学习。
这将有利于学生的人才培养，提高整个学科专业知识的水平提高。
第一章-薄膜技术与薄膜材料
选择时的注意事项: 在许多耐磨损应用中,对镀层－基体组合有许多严格的限制。 由镀层和基体热膨胀系数失配引起的热应力,对于高温条件下生长的 镀层是非常重要的 薄膜生长中产生的应力也会减弱附着力。 镀层的附着力应该足够高,以保证在上述应力作用下,不至于引起基 体－镀层界面的分离。 除了镀层的附着力之外,镀层本身的强度和塑性也至关重要。 对于许多耐磨损应用来说,镀层的硬度也极为重要。
薄膜技术的未来目标之一是,在物体上所希望的位置,去除不需要的 原子,或安装所希望的原子,通过原子的人工组装实现超高密度器件。
为实现原子的人工组装,研究中经常使用的装置是扫描隧道显微镜 （简称STM）。下图为STM的工作原理图示。
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人工操作原子的例子:用STM观察到的Si原子排布情况,图a中的白 亮点为Si原子,图中的圆圈为位置标记。图ｂ表示由其他位置向标有 ＋符号的位置移来的三个原子。图ｃ表示去除移动原子后的情况。
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用于表面改性的表面处理技术:
离子注入 等离子体表面处理 激光表面处理
离子注入原理:
离子注入是将数千伏以上高电压加速的离子打入固体表面,使固体表面的结构、 组织、化学成分等发生变化,从而获得新的功能和材料特性。
离子注入优点:
由于采用质量分析器对离子进行选择,可以进行高纯度注入;可由加速电压控制注 入深度,由电流和时间控制注入量;属于非热平衡过程,对基板材料与离子的组合以 及注入量等无限制;既可对微小面积,又可对比较大的面积（静电扫描）进行注入 等。
第一章 绪论
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1
1.1 薄膜与高新技术
材料、信息技术与能源称为现代人类文明的三大支柱。国民经济 的各部门和高技术领域的发展都不可避免地受到材料发展的制约或 推动。新材料的发展水平成为了衡量国家技术水平和综合实力的重 要标志。
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《薄膜材料与薄膜技术》课程教学大纲
一、《材料制备技术》课程说明
（一）课程代码：
（二）课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology
（三）开课对象：物理系材料物理专业
（四）课程性质：
本课程是材料物理专业的一门专业选修课。
（五）教学目的
本课程主要介绍薄膜材料的制备及特性。
通过学习既可以掌握一些薄膜物理的基本知识，同时也能了解该领域内当前的一些前沿研究进展，开阔眼界，这些都有利于学生将来更好的投入科研工作中去。
（六）教学内容：
本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
（七）学时数、学分数及学时数具体分配
学时数：36
学分数：2
（八）教学方式：
课堂教学
（九）考核方式和成绩记载说明：
考核方式为考试。
严格考核学生出勤情况，达到学籍管理规定的旷课量取消考试资格，综合成绩根据出勤情况、平时成绩和期末成绩评定，出勤情况占20％，平时成绩占20％，期末成绩占60％。
二、讲授大纲与各章的基本要求
第一章真空技术基础
教学要点：
通过本章的教学使学生初步了解真空的基本知识，掌握获取一定程度的真空状态的方法及测量手段。
教学时数：4
教学内容：
第一节：真空的基本知识
第二节：稀薄气体的基本性质
第三节：真空的获得
第四节：真空的测量
考核要求：
1．真空的基本知识（识记）
2．稀薄气体的基本性质（领会）
3．真空的获得（领会）
4．真空的测量（识记）
第二章真空蒸发镀膜法
教学要点：
了解真空蒸发镀膜的基本原理，了解蒸发特性以及相应的膜厚分布特点，了解膜厚和沉积速率的测量与监控方法。
教学时数：4
教学内容：
第一节：真空蒸发原理
第二节：蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
第三节：蒸发源的类型
第四节：合金及化合物的蒸发
第五节：膜厚和沉积速率的测量与监控
考核要求：
1．真空蒸发基本原理（领会）
2．蒸发源的特性及膜厚分布（识记）
3．蒸发源的类型（识记）
4．膜厚和沉积速率的测量与监控（领会）
5．合金及化合物的蒸发（领会）
第三章溅射镀膜
教学要点：
了解溅射法制备纳米薄膜的基本原理，掌握溅射法制备的特点，熟悉溅射镀膜的几种基本类型，了解溅射镀膜的厚度分布特点，明确如何控制厚度均匀性指标。
教学时数：4
教学内容：
第一节：溅射镀膜的特点
第二节：溅射的基本原理
第三节：溅射镀膜类型
第四节：溅射镀膜的厚度均匀性
考核要求：
1．溅射镀膜的特点（识记）
2．溅射的基本原理（领会）
3．溅射镀膜类型（识记）
4．溅射镀膜的厚度均匀性（领会）
第四章离子镀膜
教学要点：
介绍离子镀的原理和基本特点，了解离子镀的几种基本类型。
教学时数：2
教学内容：
第一节：离子镀原理
第二节：离子镀的特点
第三节：离子轰击的作用
第四节：离子镀的类型
考核要求：
1．离子镀原理（领会）
2．离子镀的特点和离子轰击的作用（识记）
3．离子镀的类型（识记）
第五章化学气相沉积
教学要点：
系统介绍化学气相沉积法制备纳米薄膜的基本原理和基本特点，介绍几种常见的化学气相沉积方法。
教学时数：4
教学内容：
第一节：化学气相沉积的基本原理
第二节：化学气相沉积的特点
第三节：CVD方法简介
第四节：低压化学气相沉积
第五节：等离子体化学气相沉积
第六节：其他化学气相沉积法
考核要求：
1．化学气相沉积的基本原理（领会）
2．化学气相沉积的特点（识记）
3．几种常见的化学气相沉积方法（领会）
第六章溶液镀膜法
教学要点：
介绍溶液镀膜法的基本原理和特点，介绍几种溶液镀膜的方法。
教学时数：4
教学内容：
第一节：化学反应沉积
第二节：阳极氧化法
第三节：电镀法
第四节：LB膜的制备
考核要求：
1．化学反应沉积（识记）
2．阳极氧化法（领会）
3．电镀法（领会）
4．LB膜的制备（识记）
第七章薄膜的形成
教学要点：
介绍薄膜的形成过程以及相应的生长模式，介绍两种薄膜形成过程的计算机模拟方法。
教学时数：4
教学内容：
第一节：凝结过程
第二节：核形成与生长
第三节：薄膜形成过程与生长模式
第四节：溅射薄膜的形成过程
第五节：薄膜的外延生长
第六节：薄膜形成过程的计算机模拟
考核要求：
1．薄膜形成过程与生长模式（领会）
2．薄膜形成过程的计算机模拟（领会）
第八章薄膜的结构与缺陷
教学要点：
了解薄膜的结构特点，了解薄膜结构与组分的分析方法。
教学时数：5
教学内容：
第一节：薄膜的结构
第二节：薄膜的缺陷
第三节：薄膜结构与组分的分析方法
考核要求：
1．薄膜的结构与缺陷（领会）
2．薄膜结构与组分的分析方法（识记）
第九章薄膜的性质
教学要点：
介绍薄膜的各种特殊性质，其中包括力学性质、电学性质、磁学性质等。
教学时数：5
教学内容：
第一节：薄膜的力学性质
第二节：金属薄膜的电学性质
第三节：介质薄膜的电学性质
第四节：半导体薄膜的性质
第五节：薄膜的其他性质
考核要求：
1．薄膜的力学性质（领会）
2．薄膜的电学性质（识记）
3．薄膜的其他性质（领会）
三、推荐教材和参考书目
杨邦朝，王文生主编，薄膜物理与技术，成都电子科技大学出版社，1994。
陈国平主编，薄膜物理与技术，东南大学出版社，1993。
唐伟忠，薄膜材料制备原理、技术及应用，冶金工业出版社，1999。