01薄膜科学与技术-真空技术

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薄膜科学与技术教学大纲

薄膜科学与技术教学大纲

《薄膜科学与技术》教学大纲一、课程简介课程名称:薄膜科学与技术 Science and Technology of Thin Films课程类型:专业课(选修)学时:48学分:3开课学期:7开课对象:材料物理专业先修课程:固体物理导论;材料分析测试技术参考教材:1.郑伟涛《薄膜材料与薄膜技术》化学工业出版社2.田民波《薄膜技术与薄膜材料》清华大学出版社3.杨邦朝《薄膜物理与技术》电子科技大学出版社4.唐伟忠《薄膜材料制备原理,技术及应用》冶金工业出版社二、课程性质、目的与任务《薄膜科学与技术》是“材料物理”专业本科生拓展知识面的选修课程,它也适合材料类其它专业学生选修。

学生在已具备一定的固体物理导论、材料分析测试技术等知识的基础上,通过本课程了解薄膜的基本概念、特殊性和重要性;掌握薄膜材料的制备方法、形成过程、表征方法、性质及应用。

薄膜是材料的一种特殊形态。

薄膜科学是现代材料科学中极其重要和发展最为迅速的一个分支,已成为微电子学、光电子学、磁电子学等新兴交义学科的材料基础,成为了构筑高新技术产业的基本要素。

通过对薄膜科学与技术课程的学习,并通过相关资料查询、阅读、专题报告及综合分析与讨论,逐渐使学生掌握薄膜基本概念、特殊性、制备方法、生长理论和研究方法,为今后从事薄膜材料及相关材料领域的研究和工作打下良好的基础。

三、教学基本要求1. 了解和掌握薄膜的定义、分类、特殊性和重要性。

2. 掌握与薄膜制备和研究相关的真空基础知识。

3. 掌握薄膜材料的制备方法及原理。

4. 掌握薄膜的成核和生长理论;5. 掌握薄膜的厚度、结构、成份、原子化学键合、应力、附着力的表征分析方法。

6. 了解薄膜材料的性质及应用。

本课程介绍薄膜的基础知识和研究进展。

重点要求掌握薄膜材料的制备方法及表征技术。

课程较全面地介绍了薄膜材料的各种制备方法、生长过程和表征方法,具有较好的广度和深度。

使学生基本具备相关资料综合分析和整理能力。

《薄膜科学与技术》课程讲稿-绪论

《薄膜科学与技术》课程讲稿-绪论

六、薄膜科技的新进展
1. 纳米薄膜 2. 单分子膜、单原子膜 3. 特殊要求的新薄膜 如高损伤阈值多色光学膜 宽波段红外薄膜
三、薄膜材料与薄膜技术的发展
2. 薄膜材料进展 * 可以制取在平衡状态下不存在的物质 (如SiXO2-X,AlXGa1-Xas) * 可在更低温度下进行物质的合成 (如溅射镀膜、离子镀膜) * 可制备各种各样的薄膜 (金属膜、合金膜、非金属膜、半导体膜、 陶瓷膜、非晶态化合物膜和塑料膜等) * 基体材料不受限制
1.物理气相沉积: 热激活,溅射 --物质的原子或分子逸出 --沉积在基片上形成薄膜, 防止污染,沉积过程在真空中进行。 真空蒸镀(电阻加热、电子束、激光、 分子外延), 溅射沉积(直流、射频、中频) 离子束 技术 (离子注入、双束技术、离 子束辅助 沉积、离子镀等)。
2. 化学气相沉积: 构成薄膜元素的单质或化合气体 --化学反应 --生成固态物质 --沉积在基片上形成薄膜。 3.溶液镀膜法: 溶液中 --化学反应或电化学反应 --在基 片上沉积薄膜
三、薄膜材料与薄膜技术的发展
3. 应用上的进展
* 产生新物性、新功能 (表面效应、量子效应等) * 电子器件和大规模集成电路 * 磁性膜、磁记录介质 * 绝缘膜、电介质膜 * 压电、铁电、热释电及超导膜、传感器膜等功能薄膜 * 多色光学器件膜、光记录膜、光导膜等光学膜 * 耐磨、抗蚀和自润滑膜 * 装饰膜 应用领域:电子、计算机、磁光记录、信息、传感器、能源、机 械、光学、航空航天和核工业等
四、薄膜的性质
2. 结构与缺陷 2.2 异常结构和化学计量比特性
* 异常结构定义:和相图不符合的结构。 ( 如非晶硅结构,300~400℃以下可制得 稳态结构,表现独特的力, 热, 光, 电磁等 物性,薄膜技术是有力制备手段之一。)

薄膜 电真空

薄膜 电真空

薄膜电真空薄膜与电真空技术-打造未来科技的新希望薄膜和电真空技术是当今科技领域中备受瞩目的两大研究方向。

它们具有广泛的应用前景,并且正在引领着新一轮科技革命。

本文将深入探讨薄膜和电真空技术的原理、应用以及未来发展的前景。

首先,我们来了解一下薄膜技术。

薄膜是一种非常薄的材料层,通常厚度在纳米到微米级别。

薄膜技术是将材料沉积在基底上形成薄膜层的一种方法。

薄膜技术在电子器件、光学器件、能源存储和转换等领域具有广泛的应用。

例如,薄膜太阳能电池利用薄膜材料将太阳光转化为电能,具有高效率和轻便的特点,成为可再生能源的重要组成部分。

此外,薄膜技术还被应用在显示器件、传感器、光纤通信等领域,为现代科技的快速发展提供了坚实的基础。

接下来,让我们来了解一下电真空技术。

电真空是指在真空环境中利用电子束或离子束进行加热、腐蚀、镀膜等工艺的技术。

电真空技术被广泛应用于半导体、光学、材料科学等领域。

例如,电子束光刻技术是制造集成电路的重要工艺之一,通过控制电子束的聚焦和定位,实现对光刻胶的局部曝光,从而形成微米级别的芯片结构。

此外,电真空技术还被应用于材料表面处理、光学薄膜制备等领域,为科学家们提供了研究材料性能和制备新材料的重要手段。

薄膜和电真空技术的研究不仅仅是为了满足现有的需求,更重要的是为未来科技的发展打下基础。

随着科技的不断进步,对于材料的性能和功能要求也越来越高。

薄膜和电真空技术具有制备材料薄、性能优良的特点,能够满足未来科技对材料的高性能需求。

例如,通过薄膜技术制备的二维材料具有独特的电子、光学和力学性质,被广泛应用于电子器件、传感器等领域。

而电真空技术的快速发展,也为新材料和新器件的制备提供了新的方法和手段。

薄膜和电真空技术的发展离不开科研人员的不断努力和创新。

他们通过改进材料的制备方法、优化器件的结构设计以及探索新的应用领域,不断推动着薄膜和电真空技术的发展。

同时,他们也面临着一系列的挑战,如改善薄膜的质量和稳定性、提高电真空器件的加工精度和效率等。

薄膜物理与技术-1真空技术基础PPT课件

薄膜物理与技术-1真空技术基础PPT课件
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目录
• 真空技术基础 • 真空获得技术 • 真空测量技术 • 真空镀膜技术 • 薄膜性能检测技术
01 真空技术基础
真空定义与特性
真空定义
真空是指在给定的空间内,气体压力 低于一个大气压的状态。在真空技术 中,通常使用托斯卡或帕斯卡作为压 力单位。
真空特性
而实现气体的压缩和排除。
分子泵特性
抽气速率高、工作压力范围广、无 油污染、维护简单等。
分子泵分类
直联型分子泵、侧流型分子泵、复 合型分子泵等。
扩散泵抽气原理与特性
扩散泵抽气原理
利用加热的吸气剂将气体分子吸 进吸气剂表面,再通过扩散作用 将气体分子从吸气剂表面传递到 泵的出口,从而实现气体的排除。
扩散泵特性
真空技术的分类与应用
真空技术的分类
根据应用需求,真空技术可分为真空镀膜、真空热处理、真空电子器件制造等。
真空技术的应用
真空技术在科学研究、工业生产、航空航天、电子工业等领域有广泛应用,如 电子显微镜、太阳能电池、平板显示器的制造等。
02 真空获得技术
机械泵抽气原理与特性
机械泵抽气原理
机械泵分类
真空具有低气体压力的特性,这使得 物质在真空中表现出不同的物理和化 学性质。例如,气体分子间的碰撞减 少,气体分子的平均自由程增加。
真空的度量与单位
真空度
真空度是指真空空间内的气体压 力,通常用压力范围来表示,如 低真空、中真空、高真空和超高 真空。
真空单位
常用的真空单位有帕斯卡(Pa)、 托斯卡(Torr)和巴(bar)。1 Torr = 133.322368 Pascal。
利用高速旋转的叶轮将气体吸入,通 过压缩和排出来实现气体压缩和排除。

薄膜技术的真空技术基础

薄膜技术的真空技术基础
式中,n为单位体积内的气体分子数。从此式可知,分子流条件下管路的流导不仅取决于管路的几何尺寸,还与气体的种类和温度有关。
桂林电子科技大学
材料科学与工程学
1.3 真空系统的导流能力——流导
对于黏滞流状态:流导随气体压力升高而增加。不同形状管路的流导已被编制成图表不同流导C1、C2、C3间可相互串联或并联,构成总流导C——串联流导:1/C= 1/C1+ 1/C2+ 1/C3——并联流导:C=C1+C2+C3(就象描述气体流动的欧姆定律)
单击此处添加小标题
工作原理:两个8字形的转子以相反的方向旋转,两个转子始终保持相切合,咬合精度很高,切合处气体始终不能通过,只能从上、下两边被扫出真空系统。极限真空度: 10-2Pa左右;优点:结构简单、无油气回流,抽 速很大。缺点:泵体与转子发热、膨胀,造成泵体损坏;当气体压力低于10-1 Pa时,气体回流造成抽速降低。适用压力范围:10-1~1000Pa。
1.1 真空的基本知识
按上述第二种说法,比如炮弹在高于大气压的空间飞行是没有问题的,因此可以将高于大气压的空间看作是真空,而对于表面研究,10-8Pa才称得上是真空。
宇宙空间所存在的“自然真空”;利用真空泵抽取所得的“人为真空”。绝对真空:完全没有气体的空间状态。
为了获得真空至少需要
1.1 真空的基本知识
1.2 真空的表征
气流与流导气体流动状态与气体压力、真空容器尺寸的关系根据Knudsen准数Kn:Kn<1: 分子流状态Kn>110粘滞流状态
粘滞态气流的两种不同的流动状态根据Reynolds准数Re:式中,d为容器的特征尺寸(如管路的直径);υ、ρ、η分别是气体的流速、密度和动力学黏度系数。Re>2200 紊流状态 Re<1200 层流状态

第一章 薄膜制备的真空技术基础

第一章 薄膜制备的真空技术基础

公式得到:
≈50nm。表明在常温常压下,气体分子的平均自由程是
极短的。
(2)由气体分子的平均自由程还可以求出其平均碰撞频率 =va/λ(常温常压时,va=460m/s)。所以常温常压下,每个 空气分子每秒内要经历1010次碰撞。运动轨迹并不是直线, 而是不断碰撞改变方向。
1.1 气体分子运动论的基本概念
*思考题:平均自由程在制膜中的重要作用?
答影响气体分子到达衬底的分子能量,能量对成膜结构质量有很多影响。 自由程小→碰撞多→气体分子能量↓→薄膜疏松、不致密
1.1 气体分子运动论的基本概念
3 . 气体分子的平均自由程----补充
(1) 在常温常压条件下,空气分子的有效截面直径d ≈0.5nm。
由T=298K,P=nKT(P=101325Pa),代入
1.1 气体分子运动论的基本概念
2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布)
真空容器中气体分子运动是混乱的。气体分子进行无规
则热运动的每一时刻,每个分子的运动速率有偶然性,然而,
对于大量气体分子而言,其速率分布遵循统计规律。
1.1 气体分子运动论的基本概念
2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布)
为(GB3163-82):

低真空: 102Pa 中真空: 102~10-1Pa 高真空: 10-1~10-5Pa 超高真空: 10-5Pa
工业应用(包装) CVD沉积技术 溅射沉积技术 原子表面和界面分析
4. 真空及制膜设备

超高真空条件下,气体分子以在固体上吸附停留为主, 其它真空度时,气体分子以空间飞行为主。
2 气体分子运动速度及其分布 (Maxwell分布)
为了更深入地理解速率分布函数所表达的意义,以下图 H2和N2分子为例,对其速率分布进行了定量描述。

薄膜制备的真空技术基础

薄膜制备的真空技术基础
通过各种测量仪器和测量方法对真空状态下的气 体压力进行测量。
真空应用技术
将真空技术应用于各个领域,如电子、冶金、化 工、航空航天等。
02
真空镀膜技术
真空蒸发镀膜
总结词
真空蒸发镀膜是一种基于加热蒸发材料的镀膜技术,通过将材料加热至熔融状态 ,然后在真空中蒸发并凝结在基材表面形成薄膜。
详细描述
在真空蒸发镀膜过程中,蒸发源可以是电阻加热、电子束加热或激光加热等。蒸 发材料在高温下升华或熔化,然后在基材表面凝结形成薄膜。该技术适用于制备 金属、非金属、化合物等薄膜材料,具有操作简单、成膜速度快等优点。
磁控溅射镀膜
总结词
磁控溅射镀膜是一种基于溅射现象的镀膜技术,通过在真空 环境中利用磁场控制带电粒子轰击靶材表面,使靶材原子或 分子从表面溅射出来并在基材表面沉积形成薄膜。
详细描述
磁控溅射镀膜技术具有高沉积速率、高附着力、高纯度等优 点,广泛应用于制备各种金属、非金属、化合物等薄膜材料 。该技术可以通过改变工艺参数和靶材种类来控制薄膜的成 分和性能。
技术挑战
需要解决制备过程中材料的选择、成膜机制、界面反应等问题,以确 保获得高性能的薄膜。
低成本高效制备技术
总结词
详细描述
低成本高效制备技术是未来薄膜制备的重 要发展方向。
随着市场对薄膜材料需求的增加,低成本 高效制备技术将有助于降低生产成本,提 高生产效率,满足大规模应用的需求。
发展趋势
技术挑战
详细描述
通过优化真空系统的气体成分和压力,可以改变薄膜与 基材之间的相互作用,从而提高附着力。此外,对基材 进行适当的预处理,如清洗、表面活化等,也有助于增 强附着力。
薄膜性能优化
总结词
优化薄膜性能是薄膜制备的最终目标,涉及多个方面 。

1-V-1薄膜物理与技术-第一部分序言,第一章

1-V-1薄膜物理与技术-第一部分序言,第一章

最可几速率:
Vm
2KT m
算术平均速率:
8KT
Va m
均方根速率:
3KT
Vr m
分布函数:f(Vr)< f(Va)< f(Vm)
但:
Vm < Va < Vr
2.平均自由程 的定义:气体两次碰撞之间所走路程的
统计平均值
Va
z
Z----每秒一个气体分子与其他分子碰撞次数 d
薄膜物理与技术
任课老师 李金钗 武汉大学
序言
本课程主要包括三部分: 一. 真空科学与技术
1. 真空的基本知识 2. 真空的获得(各种真空泵原理、结构
及应用) 3. 真空的测量原理 4. 真空系统的组成、检漏及流导的计算
二. 薄膜物理 1. 薄膜的各种制备方法及原理 2. 薄膜厚度的测量 3. 薄膜的形成机理、晶体结构、缺陷 4. 薄膜的物理性质
真空浸漆等
(2) 低真空:1×103~ 1×10-1 Pa 1016~1013 个/cm3,加电场下会电离、液体沸点大大降低
(可用于真空脱水) (3) 高真空: 1×10-1~1×10-6 Pa 高真空下蒸发出的材料分子,按直线飞行
(4) 超高真空:<1×10-6 Pa n< 1010个/cm3 不少高科技器件或材料只能在超高真空下才能获得
• 等离子体的形成、离子束的产生、注入均 需在真空条件下完成
第一部分 真空科学与技术
应用领域:
原子能技术、航天、薄膜制备、分析测试 电真空器件、微电子、轻工业、日常用品等
例:
1. 原子能技术 各种加速器(串列加速器、正负电子对撞机、慢
正电子束)
2. 航天技术: 地面模拟实验

薄膜制备技术:第二部分 真空技术基础-田民波详述

薄膜制备技术:第二部分 真空技术基础-田民波详述

真空区域的划分
薄膜制备和分析技术对于真空度要求 真空蒸发沉积需要高真空和超高真空范围(<10-3 Pa); 溅射沉积需要中、高真空(10-2 ~ 10-5 Pa); 低压化学气相沉积需要中、低真空(10~ 100 Pa); 电子显微技术维持的分析环境需要高真空; 材料表面分析需要超高真空。
稀薄气体的基本性质
经过n个循环后
当泵室体积大,被抽容积小时,即ΔV/V 越大, V/(V+ΔV)n→0越快,Pn →0越快。 但n→∞时Pn →0。实际上不可 能,有一极限值,因为泵结构 上存在“有害空间→ 出气口与 转子密封点之间的极小空隙空 间。1处的气体不能被排走, 会穿过2点,回到吸气侧。
旋片式机械真空泵
每秒转子转m次,则t秒转 n=mt,这时待抽空间的 压强为Pt:
分子泵 钛升华泵
气体捕获泵 溅射离子泵
低温冷凝泵
真空的获得
几种常用真空泵的工作压强范围
旋片式机械真空泵
旋片泵结构示意图
旋片泵工作原理图
旋片式机械真空泵
若待抽真空室体积V,初始压强 初始压强P0,旋转一周排 出气体体积为ΔV,根据 根据P1V1= P2V2,有
转到第二周时,P1作为P0
旋片式机械真空泵
分子束的反射
碰撞于固体表面的分子,它们飞离表面的方向与原入射方 向无关,并按与表面法线方向所成角度 角度θ的余弦进行 分布,则一个分子在离开其表面时,处于立体角dω(与表面 法线成 与表面法线成θ角)中的几率是:
稀薄气体的基本性质
余弦定律的意义: (1)它揭示了固体表面对气体分子作用的另一个方 面,即将分子原有的方向性彻底“消除 ,均按余弦定 律散射; (2)分子在固体表面要停留一定的时间,这是气体分子能够

引言及真空技术基础

引言及真空技术基础
第一讲第一讲小结小结薄膜材料在现代科技领域占有重要的地位可作薄膜材料在现代科技领域占有重要的地位可作为大家今后作为材料科学家或工程师的职业方向为大家今后作为材料科学家或工程师的职业方向真空技术是现代薄膜材料技术的基础真空技术是现代薄膜材料技术的基础不同的薄膜制备方法涉及到不同的真空环境不同的薄膜制备方法涉及到不同的真空环境真空度真空度不同的真空度需要采用不同的真空获得方法与真不同的真空度需要采用不同的真空获得方法与真空测量方法空测量方法基本概念复习基本概念复习为什么在薄膜制备技术的讨论中先要讨论为什么在薄膜制备技术的讨论中先要讨论真空环境与真空技术
在常温常压下, 3.510-9秒; 10-8Pa时, 10 小时 这一方面说明了真空环境的重要性。同时, 气体分子通量还决定了薄膜的沉积速率。
真空度的划分
在薄膜技术领域,人为地将真空环境粗略 地划分为:

低真空 中真空 高真空
>102 Pa 102 10-1 Pa 10-1 10-5 Pa
薄膜材料制备技术
Thin Film Materials
北京科技大学材料科学学院 唐伟忠
Tel:
E-mail: 课件下载网址: 下 载 密 码:
6233 4144
wztang@ wztang_teaching@ 123456
参考书及参考资料网址
参考书:《薄膜材料制备原理、技术及应用》 冶金出版社 1998年5月第一版,2003年1月第二版 邮箱地址:wztang_teaching@ 密码: 123456 邮箱地址:wztang_teaching@ 密码: 123456
薄膜材料技术的研究内容
薄膜材料的体系、性能与应用
早期的薄膜制备方法
Old preparation procedures include:

真空与薄膜技术

真空与薄膜技术
碰撞频率ν(气体分子入射通量):单位时间,在单位面积的器壁上发生碰 撞的气体分子数
1 4 nva
赫兹-克努曾公式
平均速率 气体分子密度
va
8kT
m
8RT
M
n 7.21022 P (m-3 ) T
2.稀薄气体的基本性质
20℃空气中,撞击固体表面的气体分子在表面形成单分子层(设定1015个 分子)所需要的时间,取氮气:
一个分子在离开其表面时,处于立体角dω中的几率为
dp
dp d cos
意义:
分子在固体表面上要停留一定的时间,这是气体分子能够与固体进行能量交换 和动量交换的先决条件.
它揭示了固体表面对气体分子作用的另一个方面,即分子原有的方向性彻底 “消除”,均按余弦定律散射。
2. 稀薄气体的基本性质
真空度对薄膜质量的影响
• 化学气相沉积 (CVD),包含原子 层沉积(ALD)
原子层的晶体生长“世界”与自然世界的比拟
Natural World
“Atomic-World”
target
Cloud
Hale Waihona Puke f (υ) 4M
3 2
υ2e
Mυ2 2 RT
π 2RT
气体分子的速度分布只 取决于 M/T
M:气体分子的相对原子质量 T: 热力学温度 R:气体常数
2. 稀薄气体的基本性质
1. 最可几速率(速率极大值)
vm
2kT m
2RT 1.41 RT
M
M
2. 平均速率 (用于计算分子运动的平均距离)
va
8kT
m
8RT 1.59 RT
M
M
平均速率的计算公式:

薄膜制备的真空技术基础

薄膜制备的真空技术基础

01
分子流状态:在高真空环境下,气体的分子除了
02
与容器壁碰撞以外,几乎不发生气体分子间的相
03
互碰撞。
04
特点:气体分子平均自由程大于气体容器的尺寸
05
或与其相当。(高真空薄膜蒸发沉积系统、各种
06
材料表面分析仪器)
07
粘滞流状态:当气压较高时,气体分子的平均自
08
由程很短,气体分子间的相互碰撞较为频繁。
涡轮分子泵★ 工作原理: 高速旋转的叶片(2000-3000r/min)将动量传给气体分子,并使其向特定方向运动。 特点:压缩比高(氮气 109,氢气 103),无油。 适用范围:1~10-8 Pa
工作原理:
低温吸附泵
薄膜制备的真空技术基础
*
依靠气体分子在低温条件下自发凝结或被其他物质表面吸附而获得高真空。
薄膜制备的真空技术基础
*
设:回流量Qp,
令Q=0,极限真空度
实际抽速
流量相等
压力随时间的变化规律
t=0时的真空度
1.3 真空泵简介
薄膜制备的真空技术基础
*
01
03
02
旋片式机械真空泵★
薄膜制备的真空技术基础
*
工作原理: 依靠安置在偏心转子中的可以滑进滑出的旋片将气体隔离、压缩,然后排出泵体之外。
Back
本章小结
薄膜制备的真空技术基础
*
1
概念:平均自由程,通量,流导,抽速
2
真空的划分, 气体流动状态的划分(克努森准数Kn)
3
真空泵的工作原理及适用范围 (旋片式机械真空泵、涡轮分子泵、溅射离子泵)
4
真空计的工作原理及适用范围 (热偶真空规、电离真空规)

薄膜真空技术

薄膜真空技术

体有很大困难。当蒸气在腔内压缩 ,压强达到饱和蒸气压时,水蒸气 就开始凝结成水,并与泵油形成一 种悬浊液。不仅影响泵油的密封和 润滑,还会造成泵壁生锈。
为此在气体尚未被压缩前,通过气镇阀渗 入一定量的气体来帮助打开排气阀片,减 少水气的凝结。气镇阀在抽气的起始阶段 使用不会影响极限真空,但是到了一定程 度后继续使用就会降低泵可以达到的极限
1、扩张(kuòzhāng)(吸气 )
2、容积最大
3、压缩
4、排气
机 械 泵:利用机械运动部件转动或滑动形成的输运作用获得真空的泵。
(c)工作 (gōngzuò)原理
分 类:旋片式(最常见)、定片式、滑阀式
运转模式:吸气 压缩 排气 (不断循环)
基本特点:需加真空油(密封用);可从大气压开始工作;
真空
精品资料
罗茨(Roots)真空泵
工作原理:泵内两个呈8字型的转子 以相反的方向旋转。转子咬合精度 很高,转子旋转扫过空间很大,转速 很高下,抽速很大。
罗茨泵不使用(shǐyòng)油作密 封介质,少油污染
其适用的压力范围是在0.11000Pa之间
精品资料
抽速: 103 L/s 极限( jíxiàn)真空度: 10-2 Pa
涡轮分子(fēnzǐ)

工作区间:1~10-8 Pa
前级泵:旋片机械泵
压缩比高,对一般气体分子 的抽除极有效。如氮气,压缩比达109 ,抽速可达1000L/s,但抽取低原子序数气体能力较差
缺点
优点
基本没有(méi yǒu)油的污 染
• 噪声大,有振动(转子的切向速 )。 度与分子运动速率相当
罗茨泵组成(zǔ chénɡ)的真空机组的外形
由于罗茨泵是一种无内 压缩的真空泵,通常压 缩比很低,故工作时需 要前级泵
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加,难于沉积到衬底上,并且碰撞过程中容易与残余气体发生
反应,影响薄膜质量。
15
1.2 稀薄气体的基本性质
☞ 真空度对薄膜质量的影响 残余气体混杂的影响
3 104 p
P = 10-4Pa时,如果撞击过来的残存气体分子全部被吸附,那么3 s 时 间就有约一层残余气体混入薄膜中,相当于1分钟混入20层杂质气体, 约10~20 nm/分钟。薄膜较常用的生长速率是1μm/分钟。因此,假设 气体分子全部混入薄膜里面的话(实际上不会全部),就相当于有 1~2%的不纯物混入在薄膜里面。 真空度差个10倍(10-3Pa),杂质含量相当于10~20%,真空度提高 10倍(10-5Pa),杂质含量为0.1~0.2%。
3
帕/Pa 1 133.3 100 1.013 × 105
1Torr 1mba 1atm
压强单位,各领域喜好不同
比如汽车行业,汽油滤芯
胎压
1bar≈14.5psi
PSI(Pounds per square inch) 美国习惯使用psi作单位,意为 磅力/平方英寸
1.1 真空的基本知识
☞ 真空的划分
dN f ( v ) dv N
m 32 f ( v) 4π( ) e 2πkT
mv 2 2 kT
f ( v)
v2
o
v
8
1.2 稀薄气体的基本性质
☞ 三种统计速率 1)最概然速率
vp
vp v
2kT m 8kT πm 3kT m
2 RT M 8RT πM 3RT M
2)平均速率
1.3 真空的获得
工作原理:
涡轮分子泵的转子叶片具有特定的 形状,在它以20000~30000r/min的高速 旋转时,叶片将动量传给气体分子,同 时,涡轮分子泵中装有很多级叶片,上 一级叶片输送过来的气体分子又会受到 下一级叶片的作用而被进一步压缩至更 下一级。像油扩散泵一样,也是靠对气 体分子施加作用力,并使气体分子向特 定的方向运动的原理来工作的。
1 19 2 N 10 / m 0.16 10 18
N 1019 3 104 22 J 3 10 p p
大气压下 P = 105 Pa, 高真空下 P = 10-8 Pa,
3 109 s
3 104 s 10 h
13
1.2 稀薄气体的基本性质
真空度和压强
压强越低,真空度越高;压强越高,真空度越低。
真空(压强)单位
国际单位:帕斯卡(Pascal) Pa 常用单位:托(Torr) 毫米汞柱(mmHg)
巴(bar)
单位 1Pa
1(mmHg)
标准大气压(atm)
托/Torr 7.5×10-3 1 0.75 760 毫巴/mbar 1× 10-2 1.333 1 1.013 ×103 标准大气压 9.87× 10-6 1.316 ×10-3 9.87× 10-4 1
气体分子数密度
p nkT
n 2.5 10 p (m )
20
3
大气压下 P = 105 Pa, n 2.5 1025 / m3 2.5 1019 / cm3 高真空下 P = 10-11 Pa, n 2.5 109 / m3 2.5 103 / cm3
2
1.1 真空的基本知识
☞ 余弦定律
碰撞于固体表面的分子它们飞离表面的方向与原入射方向无关,并按 与表面法线方向所成角度的余弦进行分布。 一个分子离开固体表面时,处于立体角 d 中的几率为:
dp
d

cos
θ为出射方向与法线所成的角度
余弦定律的重要意义:
它揭示了固体表面对气体分子作用的另一个方面,即 分子原有的方向性彻底“消除”,均按余弦定律散射。 分子在固体表面上要停留一定的时间,这是气体分子 能够与固体进行能量交换和动量交换的先决条件,这 一点有重要意义。
1.3 真空的获得
☞ 罗茨泵(Roots Pumps)
工作原理:
两个8字形的转子以相反的方向 旋转,两个转子始终保持相切合,咬 合精度很高,切合处气体始终不能通 过,只能从上、下两边被扫出真空系 统。用作次级泵。
极限真空度: 10-4 Pa左右(双级)。 优点:结构简单、无油气回流,
抽速很大。
缺点:
空泵种作为惟一的高真空泵使用,又可以 与其他高真空泵种,如涡轮分子泵等联合 使用,预真空度应达到10-1 以下,以减少 吸附泵的负荷并避免在泵体内积聚过厚的 气体冷凝产物。
25
1.3 真空的获得
☞ 离子泵(Ion Pumps)
26
1.3 真空的获得
工作原理:
高压阴极发射出的高速电子与残余 气体分子相互碰撞后引起气体电离放电, 而电离后的气体分子在高速撞击Ti阴极 时又会溅射出大量的Ti原子。由于Ti原 子的活性很高,因而它将以吸附或化学 反应的形式捕获大量的气体分子并使其 在泵体内沉积下来,从而在真空室内造 成无油的高真空环境。
真空度越高,所得到的薄膜质量越好,纯度越高; 但真空度越高,抽取真空所需费用也越高,设备越贵!
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三、真空的获得
☞ 真空泵:具有抽气功能的设备
大气状态
所需真空度
☞ 复合真空泵:前级泵+次级泵 ☞ 真空泵的分类
(1)输运式真空泵:以压缩方式将气体输送到系统之外。 a、机械式气体输运泵:旋片式机械真空泵、罗茨泵、 涡轮分子泵。 b、气流式气体输运泵:油扩散泵。 (2)捕获式真空泵:依靠凝结或吸附气体分子的方式将气体捕获, 并排出系统之外。如低温吸附泵、溅射离子泵。
极限真空度: 10-8 Pa左右,取决于所抽
气体的活性等因素。
优点:极限真空度高,可获得无油高
真空。
缺点:寿命有限。
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1.3 真空的获得
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1.4 真空的测量
☞ 真空计(规管):测量真空度的仪器
直接测量:直接测量残余气体的压强(当气体压 强很低时,直接测量很困难) 间接测量:测量与压强有关的物理量(实际的真 空计都是属于间接测量) 热偶真空计:利用低气压下热传导与压强有关的 原理制成 电离真空计:利用热电子电离残余气体,离子流 与压强有关的原理制成
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1.3 真空的获得
☞ 机械泵
Rotary Vane Pumps
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1.3 真空的获得
工作原理:
依靠插在偏心转子中的数个可以
滑进滑出的旋片将泵体内的气体隔离、 压缩,然后将其排出泵体之外。
极限真空度: 10-2 -10-1 Pa左右。 优点:结构简单、工作可靠。 缺点:油蒸气回流、引起污染
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v
vrms
3)方均根速率
v
2
v 2 v vp
速率与声速(340m/s)相比拟
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1.2 稀薄气体的基本性质
☞ 平均自由程
气体分子在连续两次碰撞之间的平均路程称分子的平均自由程。

1 2 2 πd n
kT 2 πd2p
d 为气体分子的直径
估算:常温下(300 K),空气分子直径取0.4 nm
赫兹-克努曾(Hertz-Knudsen)公式
1 J nv 4
J
p 2m kT
NA p 2MRT
J 3 10
22
p
阿伏加得罗常数: NA = 6.02×1023 /mol
11
1.2 稀薄气体的基本性质
例:作为赫兹-克努曾公式的一个应用,我们来计算
一下在高真空环境中,清洁表面被环境中的杂质气体分 子污染所需要的时间。
发凝结或被其他物质表面吸附的物理现象 实现对气体分子的去除,进而获得高真空。
极限真空度: 10-8 Pa左右,取决于
所采用的低温温度、吸附物质的表面积、 被吸附气体的种类等因素。
优点:极限真空度高,可获得无油高真空;
除H2、He、Ne外,对各种气体抽速均很大。
缺点:运转成本较高。 工作状态:既可以只配以旋片泵等低真
6 103 0.6 (m) (cm) p p
8 大气压下 P = 105 Pa, 6 10 m 60 nm
高真空下 P =
10-8 Pa,
6 105 m 600 km
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1.2 稀薄气体的基本性质
☞ 气体的入射频率(入射通量)
入射频率是真空及镀膜技术中常用到的一个物理量,是气体分子对于 容器壁单位面积的碰撞频率,即单位时间内单位表面积受到气体分子碰撞 的次数。用字母 J 来表示。
极限真空度: 10-8 Pa左右。
优点:极限真空度高,油蒸气的回流可
以忽略,压缩比高,抽速可1000L/s。
缺点:价格较高。 工作状态:不能与大气直接相连,在使
用中多用旋片式机械泵作为其前级泵。
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1.3 真空的获得
☞ 低温吸附泵(Diffusion Pumps)
工作原理:依靠气体分子会在低温下自
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1.2 稀薄气体的基本性质
☞ 真空度对薄膜质量的影响
平均自由程的影响
6 103 0.6 (m) (cm) p p
薄膜技术中最常用的真空度为10-4Pa,自由程大约是60米。即使 再差,10-3Pa,自由程大约是 6米。而一般的薄膜原料和衬底之 间相距10 cm 左右,所以不需要考虑飞行中的薄膜原子和残存 气体碰撞所产生的影响。如果真空度太低,薄膜原子的碰撞增
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1.4 真空的测量
☞ 热偶真空计
工作原理:
Q Q1 Q2 Q3
Q为电源加热灯丝产生的热量,Q1为辐射热量,Q2为 灯丝与热偶丝的传导热量,Q3为气体分子碰撞灯丝而 带走的热量。热平衡时,Q1、Q2为恒量,Q3随气体 压强而变化。压强越小,因碰撞而带走的热量越少, 温度越高,温差电动势越高;反之亦然!
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