扫描电镜与电子探针分析

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扫描电镜知识

扫描电镜知识

电子探针和扫描电镜用WDS 或EDS的定性和定量分析时,就是利 用电子束轰击试样所产生的特征X 射线。每一个元素都有一个特征 X 射线波长与之对应,不同元素分析时用不同线系,轻元素用Ka 线系,中等原子序数元素用Ka 或La 线系,一些重元素常用Ma 线 系。入射到试样表面的电子束能量,必须超过相应元素的相应壳层 电子的临界激发能Ve,电子束加速电压V0=(2—3)×Ve时,产 生的特征X 射线强度较高,根据所分析的元素不同,V0通常用10 kV-30kV。
EPMA和SEM都是用聚焦得很细的电子束照射被检测的试样表面,用 X 射线能谱仪或波谱仪,测量电子与试样相互作用所产生的特征X 射线的 波长与强度, 从而对微小区域所含元素进行定性或定量分析,并可以用 二次电子或背散射电子等信息进行形貌观察。
是现代固体材料显微分析(微区成份、 形貌和结构分析)的最有用仪器, 应用十分广泛。电子探针和扫描电镜都是用计算机控制分析过程和进行数 据处理,并可进行彩色图像处理和图像分析工作,所以是一种现代化的大 型综合分析仪。据2003 年不完全统计,国内各种型号的电子探针和扫描电 镜超过2000 台,分布在各个领域。
背散射电子
背散射电子是指入射电子与样品相 互作用(弹性和非弹性散射)之后,再次 逸出样品表面的高能电子,其能量接近 于入射电子能量( E。)。背射电子的产 额随样品的原子序数增大而增加,所以 背散射电子信号的强度与样品的化学组 成有关,即与组成样品的各元素平均原 子序数有关
Z i ci zi
阴极发光
阴极发光是指晶体物质在高能电子的照射 下,发射出可见光、红外或紫外光的现象。例 如半导体和一些氧化物、矿物等,在电子束照 射下均能发出不同颜色的光,用电子探针的同 轴光学显微镜可以直接进行可见光观察,还可 以用分光光度计进行分光和检测其强度来进行 元素分析。

_扫描电镜与电子探针分析

_扫描电镜与电子探针分析

_扫描电镜与电子探针分析扫描电镜(Scanning Electron Microscope,SEM)和电子探针分析(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy,EDS)是现代材料科学和纳米技术领域中广泛应用的两种重要分析技术。

本文将分别介绍扫描电镜和电子探针分析的原理、仪器结构和应用。

一、扫描电镜(SEM)扫描电镜是一种基于电子束的显微镜,通过聚焦的电子束对样品表面进行扫描,获得高分辨率的图像。

相比传统光学显微镜,SEM具有更高的分辨率和更大的深度聚焦能力。

SEM的工作原理如下:1.电子源:SEM使用热阴极电子枪产生的高速电子束。

电子束由一根细丝产生,经过加热后电子从细丝上发射出来。

2.透镜系统:电子束经过电子透镜系统进行聚焦和调节。

透镜系统包括几个电磁透镜,用于控制电子束的聚焦和扫描。

3.样品台:样品台用于固定样品并扫描表面。

样品通常需要涂覆导电性材料,以便电子束可以通过样品表面。

4.探测器:SEM使用二次电子和背散射电子探测器来检测从样品表面散射的电子。

这些探测器可以转化为图像。

SEM可以提供高分辨率的表面形貌图像,并通过电子束的反射和散射来分析样品的成分、孔隙结构和晶体结构等。

其应用广泛,包括材料科学、纳米技术、电子器件等领域。

二、电子探针分析(EDS)电子探针分析是一种基于X射线的成分分析技术,常与扫描电镜一同使用。

EDS可以对样品的元素成分进行快速准确的定性和定量分析。

其工作原理如下:1.探测器:EDS使用一个固态半导体探测器来测量从样品发射的X射线。

当样品受到电子束轰击时,样品中的元素原子被激发并发射出特定能量的X射线。

2.能谱仪:EDS使用能谱仪来分析探测到的X射线,该仪器能够将X 射线能量转换成电压信号,并进行信号处理和分析。

3.能量分辨率:EDS的精度取决于能谱仪的能量分辨率,分辨器的能量分辨率越高,分析结果越准确。

4.谱库:EDS使用事先建立的元素谱库进行定性和定量分析。

能谱定量分析通则

能谱定量分析通则

能谱定量分析通则电子探针和扫描电镜X射线能谱定量分析通则General Specification of X-ray EDS QuantitativeAnalysis for EPMA and SEM( 中华人民共和国国家标准GB/T 17359 -98)1 适用范围本标准规定了与电子探针和扫描电镜联用的X射线能谱仪的定量分析方法的技术要求和规范。

本标准适用于电子探针和扫描电镜X射线能谱仪对块状试样的定量分析。

2 引用标准下列标准包含的条件,通过在标准中引用而构成本标准的条文。

在标准出版时,所示版本均为有效。

所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用本标准最新版本的可能性。

2.1 GB/T4930-1993 《电子探针定量分析标准试样的通用技术条件》2.2 GB/T15074-1994 《电子探针定量分析标准方法通则》3 分析方法原理在电子探针和扫描电镜等分析仪器中,应用一定能量并被聚焦的电子束轰击试样时,被轰击区发射出试样中所含元素的特征X射线,采用半导体探测器,对接收的信号进行转换、放大。

再经过线性放大器、脉冲处理器、多道分析器的进一步放大、处理和分析,可获得各元素的特征X射线的能谱及其强度值,再通过与相应元素的标准试样的X射线能谱的对比测定,以及修正计算处理,最终可以获得被测试样的化学组成的定量分析结果。

4 X射线能谱仪4.1 X射线能谱仪的基本组成方框图如下:4.2 X射线能谱仪的主要组成部分4.2.1 X射线探测器:通常是Si(Li)半导体探测器,用于探测试样发射的X射线,使能量不同的X射线转换为电压不同的电脉冲信号。

4.2.2 前置放大器:将来自探测器的信号作初级放大。

4.2.3 线性放大器和脉冲处理器:将经过前置放大器初级放大的信号作进一步放大、并进行模拟或数字化处理。

4.2.4 多道分析器:将来自脉冲处理器的信号作进一步处理,完成对X射线谱的能量和强度的初步分析。

4.2.5电子计算机系统:配备有能满足能谱分析所必需的功能完整的硬件和相应的各种分析程序软件,用于对从试样收集到的X射线能谱进行定性和定量分析,并输出分析结果。

电子探针和扫描电镜常用的标准方法-25电子探针和扫描电

电子探针和扫描电镜常用的标准方法-25电子探针和扫描电

电子探针和扫描电镜常用的标准方法电子探针和扫描电镜涉及的标准方法及技术规范共有25个,有电子探针仪检定规程(JJG901-95)、扫描电子显微镜试行检定规程(JJG 550-88)、不同类型样品的定量分析方法、样品及标样的制备方法、微米长度的扫描电镜测量方法及X射线能谱成分定量分析方法等。

各单位计量认证分析检测的项目,必须有相应的标准检测方法。

要根据标准方法进行成分分析,要采用有效的国家标准。

没有国家标准的检测项目,可以采用行业标准或地方标准。

行业标准在相应的国家标准出台后自动作废,地方标准在相应的国家标准或行业标准出台后也自动作废。

企业标准及检测机构按用户要求制定的检测条件和试验方法,只能作参考数据。

当国家标准方法不能满足某些检测要求时,例如“方法通则”,可根据方法通则制定检测实施细则,经检验机构技术负责人批准后,可以实施。

检测报告中必须有检测依据,即检测的标准方法。

所以标准方法在认证过程中和检测过程中都是必须的。

现在电子探针和扫描电镜的标准方法,还不能满足所有样品测试的要求,特别是能谱分析方法,但基本都有通则,可根据通则制定实施细则,以满足一般检测工作的需要。

(1)GB/T 4930-93 电子探针分析标准样品通用技术条件(代替GB4930-85)(2)GB/T 15074-94 电子探针定量分析方法通则(3)GB/T 15075-94 电子探针分析仪的检测方法(4)GB/T 15244-94 玻璃的电子探针分析方法(5)GB/T 15245-94 稀土氧化物的电子探针定量分析方法(6)GB/T 15246-94 硫化物矿物的电子探针定量分析方法(7)GB/T 15247-94 碳钢和低合金钢中碳的电子探针定量分析方法(8)GB/T 14593-93 山羊绒、绵羊毛及其混合纤维定量分析方法(9)GB/T 15617-95 硅酸盐矿物的电子探针定量分析方法(10)GB/T 15616-95 金属及合金电子探针定量分析方法1(11)GB/T 16594-94 微米级长度的扫描电镜测量方法(12)GB/T 17359-98 电子探针和扫描电镜X射线能谱定量分析通则 (13)GB/T 17360-98 钢中低含量Si、Mn的电子探针定量分析方法(14)GB/T 17361-98 沉积岩中自生粘土矿物扫描电子显微镜及X射线能谱鉴定方法(15)GB/T17632-98 黄金饰品的扫描电镜X射线能谱分析方法(16)GB/T17363-98 黄金制品的电子探针定量测定方法(17)GB/T17364-98 黄金制品中金含量的无损定量分析方法(18)GB/T17365-98 金属与合金电子探针定量分析样品的制备方法(19)GB/T17366-98 矿物岩石的电子探针分析试样的制备方法(20)GB/T17506-98 船舶黑色金属腐蚀层的电子探针分析方法(21)GB/T17507-98 电子显微镜-X射线能谱分析生物薄标样通用技术条件 (22)GB/T17722-99 金覆盖层厚度的扫描电镜测量方法(23)GB/T17723-99 黄金制品镀层成分的X射线能谱测量方法 此外,还有以下一些其他标准可作参考,如:(24) 分析型扫描电子显微镜检定规程(JJG 011-1996)(25) 纳米级长度的扫描电镜测量方法(国家标准讨论稿)(26) 微束分析-扫描电镜-图像放大倍率校准导则(陈振宇编译)2。

第十章扫描电子显微分析与电子探针

第十章扫描电子显微分析与电子探针

第一节 扫描电子显微镜工作原理及构造
• 一、工作原理
电子枪发射的电子束
经过2-3个电磁透镜聚焦
在样品表面按顺序逐行 扫描,激发样品产生各种物理 信号:二次电子、背散射电子、 吸收电子等。 信号强度随样品表面特征而变。它 们分别被相应的收集器接受,经放 大器按顺序、成比例地放大后,送
到显像管。
图10-1 扫描电子显微镜原理示意图 Material modern analysis method
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Huaihua University Chemistry and chemical egineering Department
1.电子光学系统
• 由电子枪、电磁聚光镜、光栏、样品室等部件组成。 • 作用:获得扫描电子束,作为使样品产生各种物理信号 的激发源。
电子枪
电磁聚光镜
光栏 样品室 Material modern analysis method
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两个透镜是强透镜,用来缩 小电子束光斑尺寸。
具有不同孔径的光栏可以提 高束流或增大景深,从而改 善图像质量。 最末级聚光镜因为紧靠样品上 方,且在结构设计等方面有一 定的特殊性,故也称物镜。是 弱透镜,具有较长的焦距,在 该透镜下方放置样品可避免磁 场对电子轨迹的干扰。 样品台有三轴x,y,z移动装置, 其中x,y方向的移动用于把样品 及标样移至电子束下方,而z方 向的移动是为了保证显微镜的 聚焦。 Material modern analysis method
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第二篇11电子探针显微分析知识讲解

第二篇11电子探针显微分析知识讲解
此外,在波谱仪中,X射 线信号来自样品表层的一个 极小的体积,可将其看做点 光源,由此点光源发射的X 射线是发散的,故能够到达 分光晶体表面的,只是其中 极小的一部分,信号很微弱。 因此,这种检测X射线的方 法必须改进。
Dept. of MSE, CQU
电子探针显微分析
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材料现代测试方法
电子探针显微分析
第二篇11电子探针显微分析
材料现代测试方法
❖ 电子探针的基本原理
电子探针显微分析
用聚焦电子束轰击试样表面的待测微区,使该区 原子的内层电子跃迁,释放出特征X射线。
用波谱仪或能谱仪对这些特征X射线进行展谱分析, 得到反映特征X射线波长(或能量)与强度关系的X 射线谱。根据特征X射线的波长(或能量)进行元 素的定性分析。根据特征X射线的强度进行元素的 定量分析。
sinq L (1)
2R
将(1)式代入布拉格方程
l2dsiqn (2)
可得: l Ld
R
(3)
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电子探针显微分析
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材料现代测试方法
电子探针显微分析
分光晶体直线运动时,假如检测器在某一位置接 收到衍射束,即表明试样被激发的体积内存在相应 的元素。衍射束的强度和元素含量成正比。
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材料现代测试方法
电子探针显微分析
Dept. of MSE, CQU
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材料现代测试方法
电子探针显微分析
11.2 X射线波长分散谱仪
❖ 波谱仪的基本概念
X射线波长色散谱仪实际上是X射线分光光度计。 其作用是把试样在电子束的轰击下产生的特征X射 线按波长不同分开,并测定和记录各种特征X射线 的波长和强度。根据特征X射线的波长和强度即可 对试样的元素组成进行分析。

电子探针、扫描电镜应用领域

电子探针、扫描电镜应用领域

电子探针、扫描电镜的应用领域(周剑雄供稿zjx@)电子探针和扫描电镜已经广泛应用于各工业和科研领域,如进行各种材料的成分和结构解析,包括金属材料、金属失效分析、硅酸盐玻璃、电子材料、表面材料加工、超硬材料、硅酸盐材料、化工材料、光学材料、生物材料等的分析研究。

特别在催化剂、焊料、红外窗口、金刚石膜、电子开关材料、光导纤维等的解析,特种金属及其制品的分析鉴定与纯度分析,如锇粉、铑粉、金属钪、镱、以及各种超纯金属(>99.9999%)的分析与研究;超细材料、纳米材料SiO、MnO、2NiO、磁粉的粒度测定;镀层材料的成分与厚度的测定,以及材料的糙面测定,包括>10μm镀层的直接测定和<10μm镀层的 间接测定等;在地质、生物、医学、农业考古、公安中也可用于无机材料和有机材料中的无机盐的分析研究。

简言之,电子探针实验室似乎是一个包罗万象的综合分析的大型实验室。

以下将列举某些领域的可能应用:<一>金属学中的应用1.断口观察。

2.定向含金偏析研究:微量元素在合金不同位置的分布明显影响合金性能,定向混固技术,代替变形部件;晶界上偏析。

(任见蓉,第二届电子显微学会议文集。

P32,1982)3.热处理工艺对钢性质研究4.相平衡图和制定5.彩金研究,6. K金配方工艺⑴偏析原因,白色长于18K ,Os96,Ru2.5Os熔点3045℃Au熔点1063℃。

原料重熔时Os偏析。

⑵K金变脆原因(龟裂)Bi3.02-5.76%,Fe2.25-3.77 %.<二>材料学中的应用1.材料分析2.材料深蚀刻表面现象3.Dia粘结材料的粘结性能4.陶瓷及高温耐火材料研究5.钻头材料,镶嵌<三>机械学中的应用1.摩擦磨损产生的细粒及表面剥蚀研究2.蒸汽锅炉管道中腐蚀机理分析3.大型球罐焊缝缺陷分析<四>微电子学中的应用<五>法学鉴别中的应用1.头发等中的微量元素分析2.枪弹残余物颗粒成份分析3.死因不明尸骨中铅的亮粒(枪击)4.被盗珍贵文物,金属接触过的物体上残留成分分析5.文件真伪鉴别:纸,纸上颜料,油墨,墨水的成分分析,元素分布图可划出其中不同的区域,与伪造文件对照。

电子探针扫描电镜显微分析

电子探针扫描电镜显微分析

第八章 电子探针、扫描电镜显微分析中国科学院上海硅酸盐所李香庭1 概论1.1 概述电子探针是电子探针X射线显微分析仪的简称,英文缩写为EPMA(Electron probe X-ray microanalyser),扫描电子显微境英文缩写为SEM(Scanning Electron Microscope)。

这两种仪器是分别发展起来的,但现在的EPMA都具有SEM的图像观察、分析功能,SEM也具有EPMA的成分分析功能,这两种仪器的基本构造、分析原理及功能日趋相同。

特别是现代能谱仪,英文缩写为EDS(Energy Dispersive Spectrometer)与SEM组合,不但可以进行较准确的成分分析,而且一般都具有很强的图像分析和图像处理功能。

由于EDS分析速度快等特点,现在EPMA通常也与EDS组合。

虽然EDS的定量分析准确度和检测极限都不如EPMA的波谱仪(Wavelength Dispersive Spectrometer ,缩写为WDS)高,但完全可以满足一般样品的成分分析要求。

由于EPMA与SEM设计的初衷不同,所以二者还有一定差别,例如SEM以观察样品形貌特征为主,电子光学系统的设计注重图像质量,图像的分辨率高、景深大。

现在钨灯丝SEM的二次电子像分辨率可达3nm,场发射SEM二次电子像分辨率可达1nm。

由于SEM一般不安装WDS,所以真空腔体小,腔体可以保持较高真空度;另外,图像观察所使用的电子束电流小,电子光路及光阑等不易污染,使图像质量较长时间保持良好的状态。

EPMA一般以成分分析为主,必须有WDS进行元素成分分析,真空腔体大,成分分析时电子束电流大,所以电子光路、光阑等易污染,图像质量下降速度快,需经常清洗光路和光阑,通常EPMA二次电子像分辨率为6nm。

EPMA附有光学显微镜,用于直接观察和寻找样品分析点,使样品分析点处于聚焦园(罗兰园)上,以保证成分定量分析的准确度。

EPMA和SEM都是用聚焦得很细的电子束照射被检测的样品表面,用X射线能谱仪或波谱仪,测量电子与样品相互作用所产生的特征X射线的波长与强度,从而对微小区域所含元素进行定性或定量分析,并可以用二次电子或背散射电子等进行形貌观察。

扫描电镜与电子探针

扫描电镜与电子探针

钛酸铋钠粉体的六面体形貌 20000× 返回
扫描电镜的主要性能与特点
放大倍率高(M=Ac/As) 分辨率高(d0=dmin/M总) 景深大(F≈ d0/β) 保真度好 样品制备简单
放大倍率高
从几十倍到几十万倍,连续可调。放大倍 率不是越大越好,要根据有效放大倍率和分析 样品的需要进行选择。如果放大倍率为M,人 眼分辨率为0.2mm,仪器分辨率为5nm,则 有效放大率M=0.2106nm5nm=40000 (倍)。如果选择高于40000倍的放大倍率, 不会增加图像细节,只是虚放,一般无实际意 义。放大倍率是由分辨率制约,不能盲目看仪 器放大倍率指标。
比 较
透射电镜一般是电子光学系统(照明 系统)、成像放大系统、电源和真空系统 三大部分组成。
3.电子与固体试样的交互作用
一束细聚焦的电子束轰击试样表面
时,入射电子与试样的原子核和核外电 子将产生弹性或非弹性散射作用,并激 发出反映试样形貌、结构和组成的各种 信息,有:二次电子、背散射电子、
阴极发光、特征X 射线、俄歇过程和俄
返回
4. 不损坏试样、分析速度快
现在电子探针均与计算机联机,可以连续自 动进行多种方法分析,并自动进行数据处理和数 据分析,对含10个元素以下的试样定性、定量分 析,新型电子探针在30min左右可以完成,如果 用EDS 进行定性、定量分析,几分种即可完成。 对表面不平的大试样进行元素面分析时,还可以 自动聚焦分析。 电子探针分析过程中一般不损坏试样,试样 分析后,可以完好保存或继续进行其它方面的分 析测试,这对于文物、古陶瓷、古硬币及犯罪证 据等的稀有试样分析尤为重要。
多孔SiC陶瓷的二次电子像
一般情况下, SEM 景深比 TEM 大 1 0 倍 , 比 光 学 显 微 镜 ( OM) 大 100倍。如10000倍时,TEM :D= 1m,SEM:10m, 100 倍 时 , OM:10m,SEM=1000m。

扫描电镜的应用

扫描电镜的应用

扫描电镜和电子探针的应用扫描电镜是利用静止的或在样品表面做光栅扫描的一束精细聚焦的电子束,轰击样品表面产生各种信号(二次电子、背散射电子、俄歇电子、特征X射线及不同能量的光子等),利用电磁透镜系统成像,对固体材料进行分析的仪器。

广泛应用于生物、地质、固体物理、电子及材料等科学领域。

主要用于观察微米及亚微米范围内的各种现象。

第一台扫描电镜是由vonArdenne通过在透射电镜(TEM)上加装扫描装置改制而成的。

由于SEM具有分辨率高(纳米级)、景深大而且可以从几十倍到几千倍连续放大,因此自问世以来就成为材料研究和失效分析的利器。

1 SEM的应用1.1 SEM金相分析正确的金相分析是失效分析的基础。

首先是对各种光学显微镜不能分辨的基本显微组织的分析,如隐针马氏体、屈氏体等;其次是对显微组织精细结构的分析,如上贝氏体中铁素体和渗碳体两个相的形态,条状马氏体的细长板条状的立体形态等。

再次,各种金属间化合物相、碳化物相、硼化物相及氮化物相等。

相、M如‘型化合物、p 相等,硬质合金中的Co相WC相等等。

其他金相分析,如异种钢接头焊缝底层的不均匀带、硬质合金晶粒形状大小、硬质合金的混料、蠕墨铸铁中石墨的空间立体形态、钢中显微裂纹和显微缩孔等。

金相分析一般在低倍分析及光学显微镜分析的基础上结合结构分析(如X 射线衍射分析、电子衍射分析等)和微区成分分析(如波谱仪、能谱仪等)完成的。

1.2 SEM在断口分析中的应用利用扫描电镜进行电子断口分析,是在失效分析中的最主要的应用,利用SEM对断裂机理分析归类,明确断裂类型,其次是对裂纹源位置和扩展方向的判定,金属材料的主要断裂机理有:韧窝断裂、解理断裂、滑移分离、准解理断裂、疲劳断裂及环境断裂等。

韧窝断裂主要分析韧窝的形状、大小、数量、第二相粒子及夹杂物等。

其微观形貌为:正交韧窝、剪切韧窝、撕裂韧窝及卵形韧窝和沿晶韧窝等。

解理断裂的微观形貌特征为:解理台阶、河流、舌状花样、扇形花样、鱼骨花样、瓦纳线等。

扫描电子显微镜(SEM)和电子探针显微分析装置(EPMA)

扫描电子显微镜(SEM)和电子探针显微分析装置(EPMA)

扫描电⼦显微镜(SEM)和电⼦探针显微分析装置(EPMA)扫描电⼦显微镜和电⼦探针显微分析仪基本原理相同,但很多⼈分不清其差异,实际上需要使⽤电⼦探针领域⽐较少,⽽扫描电镜相对普遍。

扫描电⼦显微镜(SEM),主要⽤于固体物质表⾯电⼦显微⾼分辨成像,接配电⼦显微分析附件,可做相应的特征信号分析。

最常⽤的分析信号是聚焦电⼦束和样品相互作⽤区发射出的元素特征X-射线,可⽤EDS(X-射线能谱仪)或者WDS(X-射线波谱仪)进⾏探测分析,获得微区(作⽤区)元素成分信息,⽽WDS这个电⼦显微分析附件却来源于EPMA。

另外⼀个重要信号是背散射电⼦(Bse),其中⾼能Bse还可作为晶体衍射信号,使⽤EBSD装置获取微区晶体结构取向信息,EBSD⾃1990年代发展以来,近20年应⽤发展迅速。

扫描电镜及扫描电⼦显微分析附件(EDS、WDS、EBSD)SEM作为⼀个电⼦显微分析平台,分析附件可根据⽤户需要来选配,有需要这个的,有需要那个的,因此扫描电镜结构种类具有多样性,从tiny、small、little style,to middle、large、huge style.就EDS或WDS分析技术来讲,在SEM上使⽤,基本上使⽤⽆标样分析,获得电⼦束样品作⽤区内相对粗糙的半定量结果,因此SEM配置EDS⾮常普遍,⽽配置WDS⽐较少,其中EDS可以探测到微量元素的存在,WDS可以获得痕量元素的存在。

商品化EPMA产⽣于1955年左右,⽐SEM商品化提前10年,其主要⽬的是要精确获得微⽶尺度晶粒或颗粒的成分信息,利⽤电⼦束样品作⽤区发射的特征X射线,使⽤探测分析⼿段是WDS,⼀般配置4道WDS,中⼼对称布置在电⼦束周围,基于此标配,EPMA结构⽐较单⼀,各品牌型号结构差距不⼤。

电⼦探针显微分析装置EPMA结构原理电⼦探针显微分析系统EPMAEMPA主要追求微区化学定量结果精准,因此电⼦光学分辨率设计相对宽松,电⼦显微分析对汇聚束束电流要求较⼤,束斑较粗。

扫描电镜

扫描电镜


• 在最近20多年的时间内,扫描电子显微镜 发展迅速,又综合了X射线分光谱仪、电子 探针以及其它许多技术而发展成为分析型 的扫描电子显微镜,仪器结构不断改进, 分析精度不断提高,应用功能不断扩大, 越来越成为众多研究领域不可缺少的工具, 目前已广泛应用于冶金矿产、生物医学、 材料科学、物理和化学等领域。
电子束
与物质相互 作用
1.背散射;
2.二次电子
3.透射电子; 4.吸收电子
5.俄歇;
6.特征X射线
7.阴极荧光……
扫描电子显微镜的结构和工作原理
• 扫描电子显微镜由电子光学 系统、信号收集及显示系统、 真空系统及电源系统组成。 其实物照片以及结构框图如 图8-2所示。
1.电子光学系统
• 电子光学系统由电子枪、电磁透镜、扫描 线圈和样品室等部件组成。
• 其中有些待征能量损失E的非弹性散射电子和分 析区域的成分有关,因此,可以用特征能量损失 电子配合电子能量分析器来进行微区成分分析。
五、特征X射线 (characteristic X-ray)
• 特征X射线是原子的内层电子受到激发以后,在能 级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的 一种电磁波辐射。
特点
• 可做综合分析。 • SEM装上波长色散X射线谱仪(WDX)(简称波谱仪)
或能量色散X射线谱仪(EDX)(简称能谱仪)后, 在观察扫描形貌图像的同时,可对试样微区进行 元素分析。 • 装上半导体样品座附件,可以直接观察晶体管或 集成电路的p-n结及器件失效部位的情况。 • 装上不同类型的试样台和检测器可以直接观察处 于不同环境(加热、冷却、拉伸等)中的试样显 微结构形态的动态变化过程(动态观察)。
• 显然,一个原子中至少要有三个以上的电子才能 产生俄歇效应,铍是产生俄歇效应的最轻元素。

扫描电镜原理及测试范围-详细

扫描电镜原理及测试范围-详细

材料的显微结构包含:化学组成、元素分布和组成相的形貌(尺寸、分布和形状)显微结构:在各种显微镜下看到所有相区(phase region)及所包含的缺陷。

通常包括晶粒和气孔的尺寸、大小和分布、相组成和分布、晶界特性、缺陷及裂纹,包括组成的均匀性。

显微结构表征的主要任务:根据不同类型显微镜下观察的显微机构的特征,对他们的形成原因做出合理的分析和判断。

微束分析(Microbeam Analysis):利用一束细电子束、离子束、光束或粒子束作用于试样产生的各种信息,进行成分、形貌、结构及其他物理和化学特性的分析。

束斑大小:微米-纳米主要功能:成分分析、结构分析、图像分析。

主要指标:束斑大小、分辨率、空间分辨率、灵敏度、准确度定量分析:微束分析是物理方法,由于物理过程的复杂性,成分定量基本都用标样比较法并进行修正计算。

俄歇电子谱仪(AES:Auger Electron Spectroscope)称为扫描俄歇显微镜。

表面分析仪器,进行元素定量分析(三维元素分析)、形貌观察、价态分析等。

分析深度为1nm-2nm。

分析H和He以外元素,对轻元素灵敏度高。

1.扫描电镜电子探针:(1)图像分辨率高、放大倍率大。

分辨率为3nm-0.6nm,相对应最大有效放大倍率为100000-1600000倍;电子探针图像分辨率为3nm-6nm。

(2)景深大。

扫描电镜的景深是透射电镜的10倍,是光学显微镜的100倍,特别适合观察一些粗糙不平的断口。

(3)无损分析。

对大部分材料,只要尺寸能放入样品室,采用合适条件无需对试样进行任何处理即可再进行观察分析。

(4)试样制备简单。

可以是自然表面、断口、块体、反光和透光光片。

EPMA和SEM的区别EPMA:价格贵2-3倍(1)成分分析,形貌观察,以成分分析为主。

主要用WDS进行元素成分分析,出射角大、有OM,电流大,有较成熟的定量方法,所以定量结果的准确度较高。

(2)真空腔体大,成分分析束流大,所以电子光路、光阑等易污染,图像质量下降速度快,EPMA二次像分辨率3-6nm。

扫描电镜及电子探针

扫描电镜及电子探针

4.3 扫描电镜 4.3.1 扫描电镜的特点和工作原理 自从1965年第一台商用扫描电镜问世后,它得到了迅速发展。

其原因在于扫描电镜弥补了透射电镜的缺点,是一种比较理想的表面分析工具。

透射电镜目前达到的性能虽然很高,如分辨本领优于0.2~0.3nm,放大倍数几十万倍,除放大成像外还能进行结构分析等,但其有一个最大的缺点就是对样品要求很高,制备起来非常麻烦。

而且,样品被支撑它的铜网蔽住一部分,不能进行样品欲测区域的连续观察。

扫描电镜则不然,它可直接观察大块试样,样品制备非常方便。

加之扫描电镜的景深大、放大倍数连续调节范围大,分辨本领比较高等特点,所以它成为固体材料样品表面分析的有效工具,尤其适合于观察比较粗糙的表面如材料断口和显微组织三维形态。

扫描电镜不仅能做表面形貌分析,而且能配置各种附件,做表面成分分析及表层晶体学位向分析等。

 扫描电镜的成像原理,和透射电镜大不相同,它不用什么透镜来进行放大成像,而是象闭路电视系统那样,逐点逐行扫描成像。

图4.55 扫描电镜工作原理图4.55是扫描电镜工作原理示意图。

由三极电子枪发射出来的电子束,在加速电压作用下,经过2~3个电子透镜聚焦后,在样品表面按顺序逐行进行扫描,激发样品产生各种物理信号,如二次电子、背散射电子、吸收电子、X射线、俄歇电子等。

这些物理信号的强度随样品表面特征而变。

它们分别被相应的收集器接受,经放大器按顺序、成比例地放大后,送到显像管的栅极上,用来同步地调制显像管的电子束强度,即显像管荧光屏上的亮度。

由于供给电子光学系统使电子束偏向的扫描线圈的电源也就是供给阴极射线显像管的扫描线圈的电源,此电源发出的锯齿波信号同时控制两束电子束作同步扫描。

因此,样品上电子束的位置与显像管荧光屏上电子束的位置是一一对应的。

这样,在长余辉荧光屏上就形成一幅与样品表面特征相对应的画面——某种信息图,如二次电子像、背散射电子像等。

画面上亮度的疏密程度表示该信息的强弱分布。

实验六电子探针结构原理及分析方法

实验六电子探针结构原理及分析方法

实验六电子探针结构原理及分析方法电子探针是一种常用的表面分析仪器,主要用于研究材料的表面形貌、表面成分和表面结构。

本实验主要介绍电子探针的结构原理及常用的分析方法。

一、电子探针的结构原理电子探针主要由以下组成部分构成:1.电子枪:电子枪是产生并加速电子束的装置。

它由阴极、阳极和栅极组成,通过电子枪产生的电场和磁场将电子束加速并定向到样品表面。

2.样品台:样品台是用于固定样品的平台,通常具有微调功能,可调整样品的位置和角度。

3.探头:探头是连接电子枪与样品的部分,主要由电子透镜和对象器组成。

4.电子探测器:电子探测器用于检测样品表面反射、散射或发射的电子,将其转化为电信号并进行放大和处理,最终形成图像或谱图。

5.显示器与计算机:将电子探测器输出的信号通过显示器显示,并通过计算机进行数据处理和图像生成。

电子探针的工作原理是利用电子束与样品表面相互作用产生的信号来分析样品的性质。

当电子束照射到样品表面时,会与样品中的原子、分子和晶体产生相互作用,引起样品表面的不同反应。

根据样品与电子束之间的相互作用类型,电子探针可以分为以下几种分析方法。

二、电子探针常用的分析方法1.电子能谱分析:电子能谱分析是电子探针的主要应用之一,它是通过测量样品反射或散射的电子能谱来研究样品的成分和结构。

电子能谱可以提供样品中元素的信息、元素化学状态、表面形貌等多种信息。

通过比对标准样品的能谱图,可以确定待测样品中的元素组成及含量。

2.扫描电镜观察:扫描电镜是利用电子束与样品表面相互作用产生的信号来观察样品表面形貌的方法。

相比传统的光学显微镜,扫描电镜具有更高的分辨率和更大的放大倍数。

通过调整扫描电镜的参数,可以获得样品表面的高分辨率图像,观察样品的形貌、纹理和微观结构。

3.能谱成像:能谱成像是将电子探针的能谱分析与扫描电镜观察相结合的一种方法。

通过在样品表面进行连续的电子能谱分析,可以获得样品表面不同位置的元素组成信息。

将这些信息与扫描电镜获得的图像相结合,就可以得到具有元素分布和形貌信息的能谱成像图像。

电子探针显微分析

电子探针显微分析
晶体 分子式 反射晶面 晶面间距(Å) 可检测元素范围(Å)
氟化锂
石英
LiF
SiO2
200
10-11
2.013
3.34
Kα系:Ca20 ~ Rb37 Lα系:Sb51 ~ U92
Kα系:S16 ~ Cu29 Lα系:Nb41 ~ W74 Mα系:Hg80 ~ U92 Kα系:Si14 ~ Fe26 Lα系:Rb37 ~ Dy66 Mα系:Hf72 ~ U92
元素分析范围:
从Mg12到U92元素
样品要求:
1) 样品不需要破坏,可以多次使用。 2) 化学分析的结果是样品成分的平均值,而电子探针分析 的是某一微区内的成分,区域范围内为微米数量级。 电子探针和扫描电镜具有相似结构。电子探针是以成分 分析精度高为其特点,显微像观察作为辅助手段使用的。 微区成分分析和高分辨显微像工作参数比较 工作内容 微区成分分析 高分辨显微像 束流(安培) 10-7~10-8 10-11~10-12 束直径(微米) 0.1~1 0.005~0.01
电子探针分为三个部分:
a) 电子光学系统 b) 样品室 c) 信号检测系统
a) 电子光学系统
这个系统为电子探针提供足够高的入射能量、足够大的束流 和在样品表面轰击点处尽可能小的束斑直径的电子探针束。 入射电子的能量取决于电子枪的加速电压,一般为30~ 50kV。电子探针采用较大的入射电流是为了提高X射线的信号强 度。
2)回转式波谱仪
原理: 聚焦圆的圆心不能移动,分光晶体和检测器在聚焦圆的 圆周上以1:2的角速度运动,以保证满足Bragg方程。 回转式波谱仪的特点: 结构简单,但出射方向 改变很大,在表面不平度很 大的情况下,由于X射线在 样品内行进的路线不同,往 往会因为吸收条件变化而造 成分析上的误差。

扫描电镜组织观察及电子探针的应用

扫描电镜组织观察及电子探针的应用

扫描电镜组织观察及电子探针的应用一、实验目的1. 了解扫描电镜的结构及工作原理。

2.通过实际分析, 明确扫描电镜和电子探针仪的用途。

二、结构与工作原理简介1.扫描电子显微镜(Scanning Electronic Microscopy, SEM)扫描电子显微镜(是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性貌观察手段, 扫描电镜的优点是, ①有较高的放大倍数, 20-30万倍之间连续可调;②有很大的景深, 视野大, 成像富有立体感, 可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;③试样制备简单。

目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪装置, 这样可以同时进行显微组织性貌的观察和微区成分分析, 因此它像透射电镜一样是当今十分有用的科学研究仪器。

扫描电子显微镜是由电子光学系统, 信号收集处理、图象显示和记录系统, 真空系统三个基本部分组成。

其中电子光学系统包括电子枪、电磁透镜、扫描线圈和样品室。

扫描电子显微镜中的各个电磁透镜不做成相透镜用, 而是起到将电子束逐级缩小的聚光作用。

一般有三个聚光镜, 前两个是强磁透镜, 可把电子束缩小;第三个透镜是弱磁透镜, 具有较长的焦距以便使样品和透镜之间留有一定的空间, 装入各种信号接收器。

扫描电子显微镜中射到样品上的电子束直径越小, 就相当于成相单元的尺寸越小, 相应的放大倍数就越高。

扫描线圈的作用是使电子束偏转, 并在样品表面做有规则的扫动。

电子束在样品上的扫描动作和显相管上的扫描动作保持严格同步, 因为它们是由同一个扫描发生器控制的。

电子束在样品表面有两种扫描方式, 进行形貌分析时都采用光栅扫描方式, 当电子束进入上偏转线圈时, 方向发生转折, 随后又有下偏转线圈使它的方向发生第二次转折。

发生二次偏转的电子束通过末级透镜的光心射到样品表面。

在电子束偏转的同时还带用逐行扫描的动作, 电子束在上下偏转线圈的作用下, 在样品表面扫描出方形区域, 相应地在样品上也画出一帧比例图像。

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从样品表面 5~10nm深度激 发出,其数量和 原子序数没有明 显的关系,但是 它对微区表面的 几何形状十分敏 感。
C
D
二次电子 产额
图像衬度
应用
2、表面形貌观察 1、断口分析
3、材料变形与断裂动态过程的原位观察
原子序数衬度原理及其应用
背散射电子特点
背散射电子来自样品 表层几百个纳米的深度 范围。产额随样品原子 序数增大而增多,可以 用来显示原子序数衬度, 定性地用作成分分析。
电子探针分析方法
P
Ti Ca
(3) 面扫描分析
在一幅X射线扫描像中,亮区代表元素含量高, 灰区代表元素含量较低,黑色区域代表元素含量 很低或不存在。
a),形貌像
ZnO Bi 2O3
b),Bi元素面分布相
扫描电子显微镜
原理&应用
入射电子
背散射电子
二次电子
特征X射线
俄歇电子
吸收电子
透射电子
电子束与固体样品作用时产生的信号
电子枪
聚 光 镜
信号收集 和 记录系统
电子 光学 系统
聚 光
显像管

扫描线圈 物 镜
放大变换 扫描 发生器
样品
信号探测器
信号放大 和处理
真空系统
扫描电子显微镜结构图
SEM的主要性能
结构与工作原理
• 电子探针仪的结构示 意图见图. • 电子探针仪除X射线谱 仪外,其余部分与扫 描电子显微镜相似。
一、波长分散谱仪(WDS)
分光晶体工作原理图
(a)
约翰(Johann)型聚焦法
(b) 约翰逊(Johansson)型聚焦法
直进式波谱仪
• 直进式谱仪的特点:分 光晶体从点光源S向外 沿着一直线运动,X射 线出射角不变,晶体通 过自转改变角。聚焦 圆的中心O在以S为中心, R为半径的圆周上运动。 • 结构复杂,但X射线照 射晶体的方向固定,使 X射线穿出样品表面过 程中所走的路线相同, 也就是吸收条件相同。
回转式波谱仪
• 聚焦圆的中心O固定,分光晶 体和检测器在圆周上以1:2的 角速度运动来满足布拉格衍射 条件。 • 这种谱仪结构简单,但由于分 光晶体转动而使X射线出射方 向变化很大,在样品表面不平 度较大的情况下,由于X射线 在样品内行进的路线不同,往 往会造成分析上的误差。
定点分析谱线图
二、能量分散谱仪(EDS)
点分析
将电子束固定在需要分 析的微区上,则可得到该 微区内全部元素的谱线。Fra bibliotek线分析
将谱仪固定在所要测量的 某一元素特征X射线信号 (波长或能量)的位置上, 使电子束沿着指定的路径 扫描,便可得到这一元素 沿该路径的浓度分布曲线。
面分析
电子束在样品表面作光栅 扫描时,把X射线谱仪固 定在接收某一元素特征X 射线信号位置上此时在荧 光屏上便可得到该元素的 面分布图像。
性能
分辨率
能分辨图像 中两个颗粒间 的最小距离
放大倍数
信号 分辨率
二次电子 5~10
背散射电子 50~200
吸收电子 100~1000
特征X射线 100~1000
俄歇电子 5~10
入射电子束
俄歇电子
二次电子
背散射电子 特征X射线
连续X射线
滴状作用体积
表面形貌衬度原理及其应用
A
样品
B
二次电子的特点
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