InP ZnS核壳量子点光学性质研究
zno量子点的合成及其性能研究
zno量子点的合成及其性能研究
近年来,随着科技的发展,量子点(Quantum Dots)作为一种新型的光子源,
已经成为研究者们关注的焦点。
其中,CdSe/ZnS核壳结构的量子点(CdSe/ZnS QDs)具有良好的光学性质,可以用于多种应用,如生物成像、光电子器件等。
本
文综述了CdSe/ZnS量子点的合成方法及其性能研究。
CdSe/ZnS量子点的合成方法主要有两种:一种是采用溶剂热法,另一种是采
用溶剂热法和溶剂热法相结合的方法。
溶剂热法是一种常用的合成方法,它可以在溶剂中将金属离子和有机配体结合,从而形成量子点。
溶剂热法和溶剂热法相结合的方法则是将溶剂热法和溶剂热法相结合,以提高量子点的稳定性和光学性能。
CdSe/ZnS量子点的性能研究表明,它具有良好的光学性质,如发射光谱宽带、发射光谱稳定性高、发射光谱可调等。
此外,它还具有良好的生物相容性,可以用于生物成像和光电子器件等应用。
综上所述,CdSe/ZnS量子点具有良好的光学性质和生物相容性,可以用于多
种应用,如生物成像、光电子器件等。
同时,它的合成方法也有多种,如溶剂热法和溶剂热法相结合的方法等。
因此,CdSe/ZnS量子点在科学研究和应用中具有重
要的意义。
inp量子点发射光谱
inp量子点发射光谱
量子点的发射光谱可以根据不同量子点的大小、形状、化学组成和外部环境进行调整,实现多彩色化和色纯度提升。
通过对InP/ZnS量子点的纯度和光谱特性进行分析,发现当P:In比为3.6:1时,产物量子点发射峰最窄,这是因为纯度的提高使晶格内部自由载流子吸收能量更有效,有利于产生光电子跃迁,增强发光效果。
在固定膦、铟前驱体用量,改变反应中锌的用量时,可以制备出系列发光的InP/ZnS量子点,其发射光谱随锌含量的增加而蓝移。
当Zn:In 达到5:1时,发射波长为598nm。
这是因为反应溶液中存在的ZnCl2可降低InP量子点的临界核尺寸,随着成核数目增加,最终成核尺寸逐渐变小,对应于量子点带隙增加,发射波长蓝移。
此外,利用反应时不加入锌前驱体时(Zn:In=0:1)、加入适量锌前驱体(Zn:In=1:1)、加入过量锌前驱体(Zn:In=2:1)制备的三种不同锌含量的InP/ZnS量子点样品,通过测试其荧光光谱发现,随着锌含量的增加,量子点的发射光谱半峰宽基本没有发生变化,单色性基本没有影响。
光电催化 inp zns 壳核结构
光电催化 inp zns 壳核结构下载提示:该文档是本店铺精心编制而成的,希望大家下载后,能够帮助大家解决实际问题。
文档下载后可定制修改,请根据实际需要进行调整和使用,谢谢!本店铺为大家提供各种类型的实用资料,如教育随笔、日记赏析、句子摘抄、古诗大全、经典美文、话题作文、工作总结、词语解析、文案摘录、其他资料等等,想了解不同资料格式和写法,敬请关注!Download tips: This document is carefully compiled by this editor. I hope that after you download it, it can help you solve practical problems. The document can be customized and modified after downloading, please adjust and use it according to actual needs, thank you! In addition, this shop provides you with various types of practical materials, such as educational essays, diary appreciation, sentence excerpts, ancient poems, classic articles, topic composition, work summary, word parsing, copy excerpts, other materials and so on, want to know different data formats and writing methods, please pay attention!光电催化 InP/ZnS 壳核结构随着环境保护意识的增强,光电催化技术作为一种清洁能源领域的前沿技术备受关注。
《硫化锌(ZnS)量子点的制备及特性研究》范文
《硫化锌(ZnS)量子点的制备及特性研究》篇一一、引言随着纳米科技的快速发展,硫化锌(ZnS)量子点因其独特的光学和电学性质在光电器件、生物标记和光催化等领域具有广泛的应用前景。
ZnS量子点的制备技术及特性研究成为当前研究的热点。
本文将重点探讨硫化锌(ZnS)量子点的制备方法,并对其特性进行深入研究。
二、硫化锌(ZnS)量子点的制备1. 制备方法硫化锌(ZnS)量子点的制备方法主要包括物理法和化学法。
物理法主要包括真空蒸发、溅射等,而化学法则以溶液法为主,如化学气相沉积法、溶胶-凝胶法等。
本文将主要介绍溶液法中的化学气相沉积法制备硫化锌(ZnS)量子点。
2. 制备过程(1)原料准备:准备锌源(如醋酸锌)和硫源(如硫脲),以及适当的溶剂(如乙醇)。
(2)化学反应:在一定的温度和压力下,将锌源和硫源在溶剂中进行化学反应,生成硫化锌前驱体。
(3)成核与生长:通过控制反应条件,使前驱体成核并生长为硫化锌量子点。
(4)分离与纯化:将生成的硫化锌量子点从反应体系中分离出来,并进行纯化处理。
三、硫化锌(ZnS)量子点的特性研究1. 光学性质硫化锌(ZnS)量子点具有独特的光学性质,如宽带隙、高荧光量子产率等。
其发光颜色可通过调整量子点的大小和表面修饰进行调控。
这些光学性质使得ZnS量子点在光电器件、LED显示等领域具有广泛的应用前景。
2. 电学性质硫化锌(ZnS)量子点具有优异的电学性质,如高导电性和良好的电荷传输性能。
这些电学性质使得ZnS量子点在太阳能电池、场效应晶体管等领域具有潜在的应用价值。
3. 稳定性与生物相容性硫化锌(ZnS)量子点的稳定性好,具有良好的生物相容性。
这使得ZnS量子点在生物标记、药物传递等领域具有广泛的应用前景。
通过表面修饰,可以提高ZnS量子点在水和有机溶剂中的稳定性,并降低其细胞毒性,从而提高其在生物医学领域的应用价值。
四、结论本文对硫化锌(ZnS)量子点的制备方法及特性进行了深入研究。
ZnCuInS/ZnSe/ZnS量子点发光光谱特性的研究
n m) 以及 4 9 8 me V( 2 . 3 n m) ,这样 大的斯托克斯 位移 证明 ,z n cu I n S / z n S e / z n s量子点 的发光机制 与缺陷能
级有关 。同时 , 对直径为 3 . 3 n m的Z n C u l n S / Z n S e / Z n S量子点 进行 了温度依赖 的光致 发光光谱 的测量 ,当
分别是 5 1 0 , 6 1 1 ( 3 . 3 n m) , 4 8 3 , 5 8 3 ( 2 . 7 i r m) 以及 4 4 7 ,5 4 5 n m( 2 . 3 i r m) 。 Z n C u I n S / Z n S e / Z n S量子点具有显 著的尺寸依赖效 应 。Z n C u I n S / Z n s e / Z n s量 子点 的斯 托克斯 位 移分 别为 3 9 8 me V( 3 . 3 .超硬材料国家重点实验室 , 吉林大学物理学院 , 吉林 长春 3 .空军航空大学军事仿真技术研究所 , 吉林 长春 1 3 0 0 2 2
1 3 0 0 1 2
摘
要
Z n C u l n S / Z n S e / Z n S量子点是一种无毒 , 无重金属 的“ 绿色” 半导体 纳米材料 。在研究 中,制备 了三
Z n C u I n S / z n S e / z n s 核壳量子点 的紫外一 可见 吸收光谱及光 致
发 光光谱。 Z n C u l n S / Z n S e / Z n S 核 壳量 子点的 甲苯溶液 ,于 1 c mX
的Z n C u l n S / Z n S e / Z n S量子点的光致发 光光谱 ,发现 该量 子 点 随着 尺寸的减 小明显蓝移。同时 , 在温度 为 1 5  ̄9 0℃时的
ZnS半导体量子点聚氨酯纳米复合材料的制备及光学性质研究的开题报告
ZnS半导体量子点聚氨酯纳米复合材料的制备及光学性质研究的开题报告一、研究背景半导体量子点是近年来发展迅速的纳米材料之一,其独特的光电性质及其应用前景受到了广泛关注。
在量子点的应用领域,聚合物复合材料受到了极大的关注。
聚合物材料具有良好的机械性能、易于制备以及多样的化学结构等优点,而且与半导体量子点的化学特性相似,使得聚合物复合材料成为了研究重点。
聚氨酯作为一种聚合物材料,由于含有多个反应官能团,能够与半导体量子点有效结合。
因此,将聚氨酯与半导体量子点复合制备,可以制备出具有良好光电性能的复合材料。
二、研究内容本研究的主要研究内容如下:1. 制备ZnS半导体量子点。
本研究将采用水热法合成ZnS半导体量子点。
通过合适的反应条件,制备出具有较高荧光效率和较小直径的ZnS半导体量子点。
2. 制备ZnS半导体量子点聚氨酯纳米复合材料。
将ZnS半导体量子点与聚氨酯进行复合制备。
本研究将选择进一步研究复合材料中不同量子点与聚氨酯的质量比以及不同的制备条件对复合材料光学性质的影响。
3. 性能表征及分析。
利用X射线衍射仪,透射电镜和扫描电镜等对复合材料进行结构和性能表征。
使用紫外可见漫反射光谱分析材料的光学特性。
同时,测量半导体量子点聚氨酯纳米复合材料的荧光性质,包括荧光光谱、荧光强度等。
三、研究意义本研究通过制备ZnS半导体量子点聚氨酯纳米复合材料,探究了复合材料中半导体量子点与聚氨酯之间的相互作用及其对材料光学性质的影响。
结果对于理解该类复合材料的结构与性能、扩展半导体量子点的应用领域具有重要意义。
原位构筑CdSe核-ZnS壳结构复合量子点及其光学性能研究
摘 要 : 次 利 用 油 酸 一 液 体 石 蜡 原 位 构 筑 C S 首 de
剂 与核 作用 的机 会 , 强 核 的稳 定 性 , 少 激 发 缺 增 减
核 一Z S壳结构复 合量 子点 材料 。透射 电镜 显 示 了 n C S 核 一 Z S壳结 构 ; de n 紫外 可 见 光谱 、 光 光谱 及 荧 激 光共 聚 焦 等 结 果 , 明所 制 得 的 C S 表 d e核 ~Z S n 壳结 构复 合量 子点材 料具 有 明显 的增 强量 子点 的荧
大增 强 , d e 子点 在包 裹 了 Z S层 以后 , 紫外 CS 量 n 其
荧光及 复 杂 的激 发 态 衰 减 -3 2。根 据 带 隙理 论 , 在 裸量子 点表 面包 覆另 一 种 晶 体结 构 相 似 、 隙 能更 带 宽 的半导 体 材料 , 得 核 壳结 构 纳 米 晶体 ( C S 制 如 d/
Z S C S / n 、 d / n e等 )34, 以减 少 猝 灭 n 、 d eZ S C S Z S [ ]可 -
光 效率 的特 点。
陷, 从而 使 量 子 点 的荧 光 性 质 得 到 改 善 。在 C S de
量 子点 表面包 裹适 当厚 度 的 Z S得 到 的 C S / n n d eZ S 核壳 型量 子点具 有 很 好 的单 分 散 性 , 定性 大 大 增 稳 强 , 致发 光 的量子 产率 也有 了较 大 的提升 。 光
晶体 上生 长 C S 量 子 点 的 方 法_ , de 5 开辟 了 核壳 量 ]
子点 的 新 时 代 。但 他 们 首 先 是 以 Z S为 内 核 而 n
C S 为外 壳 , 于 Z S的 晶格 常 数 比 C S de 由 n d e小 , 而
ZnOZnS核—壳结构量子点双光子吸收特性的研究的开题报告
ZnOZnS核—壳结构量子点双光子吸收特性的研究
的开题报告
1. 研究背景
核壳结构量子点具有优异的光电特性,因此在生物传感、光电器件
和太阳能电池等领域有着广泛的应用前景。
近年来,双光子吸收技术在
荧光探针、三维成像和光计算等方面具有重要的应用。
2. 研究目的
本研究旨在研究ZnO/ZnS核壳结构量子点双光子吸收特性,探索其在生物传感和光电器件等领域的应用。
3. 研究方法
(1)以沉淀法制备ZnO量子点。
(2)通过有机磺酸作为表面修饰剂,制备ZnO/ZnS核壳结构量子点。
(3)使用双光子激光扫描显微镜研究量子点的光学性质和双光子吸收
性质。
(4)研究ZnO/ZnS核壳结构量子点在荧光探针和光电器件领域的应用。
4. 研究意义
本研究对于探究ZnO/ZnS核壳结构量子点的光电性质、生物医学和光电器件等领域的应用具有重要的意义。
5. 预期成果
通过本研究,预计可以得到ZnO/ZnS核壳结构量子点在双光子吸收方面的特性及其在生物传感和光电器件领域的应用情况。
这将为相关领
域的研究提供新的思路和方法。
核壳结构ZnSCu纳米粒子的制备及发光性质的研究(精)
核/壳结构ZnS:Cu纳米粒子的制备及发光性质的研究ZnS是一种性能优越的Ⅱ-Ⅵ族发光材料,禁带宽度为3.66 eV。
属于直接带隙半导体,在荧屏显示领域已有广泛应用。
近年来,随着纳米材料研究的深入,国内外对ZnS纳米发光材料已进行了多方面的研究,当ZnS中掺入稀土离子或过渡金属离子(如掺Mn、Cu、Ag)作为激活剂时,可改变基质内部能带结构,形成各种不同的发光能级。
然而,纳米粒子比表面积很大,表面悬键大量存在,易在表面形成发光猝灭中心。
大量实验表明:表面修饰可以明显提高纳米粒子发光性能。
在众多的表面修饰方法中,核/壳结构是一种十分有效的方法。
本课题研究了ZnS:Cu纳米发光材料的制备和发光性质,并在此基础上对其表面进行修饰,目的在于降低表面态影响,提高颗粒发光性能,本论文主要工作总结如下:1.采用水热法制备了Cu离子掺杂的ZnS:Cu纳米粒子,利用单因素分析法研究了锌硫比(反应物中锌离子、硫离子物质量的比)、反应时间、掺杂浓度和醋酸锌浓度对ZnS:Cu纳米粒子的影响。
通过X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、荧光光谱仪对样品的物相、形貌和发光性质进行分析表征,结论如下:(1)水热法得到立方闪锌矿结构的球形ZnS:Cu纳米粒子,粒径在1~6nm之间。
室温下,用350nm波长的紫外光激发ZnS:Cu纳米粒子,可以得到归属于浅施主能级与铜t_2能级之间跃迁产生的绿色发光;随锌硫比的增大和反应时间的延长,发光强度先增强后减弱,发射峰位随锌硫比和反应时间的变化有一定移动,这是由于浅施主能级为与硫空位有关的能级,锌硫比和反应时间对硫空位的数量和能级位置有一定影响;随铜离子掺杂浓度的增加,发光强度出现先增强后减弱的趋势,这归因于铜离子的浓度猝灭;随醋酸锌浓度增加,粒子粒径减小,表面缺陷增多,发光强度降低。
(2)当锌硫比为2:1,反应时间为7h,掺杂浓度为0.5at%,醋酸铜浓度为0.156mol/L时,ZnS:Cu纳米粒子发光强度达到最大。
锌基荧光量子点核壳结构材料的制备及发光性能研究
南京
2 17 ) 1 1 1
要】 由于半导体纳米材料具有特殊的光 电性能 , 在光致发光、 电致发光等方面有 着广泛的应用而备受关注。 本文主要介绍 了利用聚合
物 、 面 活性 剂 以 及 无机 物 包裹锌 基 荧光 量 子 点 , 备 核 壳 结 构 纳米 材 料 , 表 制 并讨 论 了 包裹 前后 量 子 点 发 光性 能 的 变化 。
物。
1 表 面 活 性剂 或 聚 合 物包 裹 锌 基 荧光 量 子 点
极 性 溶剂 中 ( 乙醇 等 ) 如 ,其 中包 含 低 浓 度 的 活 性 氟 化 物 ( N , 如 HF、 N 、 H SOF等 )氟 化 物 主 要 与 硫 化 物 表 面 发 生 反 应 , 浓 度 的 H N .i , 低
中 寿命 。 表 面包 覆 层 主 要 有 两 大类 : 机 物 和 无机 物 , 机 物 主要 包 含 利 l 阐 明 为 了避 免 湿 气 的影 响 而 采 用 的 包 覆 方 法 是 将 制 得 的 硫 化 而 有 有 表 面 活性 剂 和 聚合 物 . 机 物 则 主要 是 二 氧 化 硅 、 化 铝 等 无 机 氧 化 物纳米粒子( 无 氧 这里主要是硫 化锶、 硫化钡 、 硫化钙等物质 ) 分散在无水
即使 放 置一 年 后 也 不 会有 沉 淀 出 现 。荧 光 测试 测 试 表 明 在 复合 纳米 材 料 由于 其 具 有 区 别 于单 一 块 体 材 料 独 特 的 光 、 、 性 能, 几 乎 无色 , 电 磁 在 催 化 剂 、 流 体 、 波 吸 收 材 料 、 物 医 学 等 方 面具 有 广 泛 的 应 用 4 0 m 处 有 较 强 的 吸收 峰 , 其 电 致 发 光 进 行 了 研 究 , 磁 微 生 4n 对 同样 在 4 O t 4n o 前景 【 。作 为 一种 过 渡 金 属 , 基 纳 米 材料 显 示 出 许 多 特异 的 光 电 性 左 右 有较 强 的吸 收 峰 , 明 两 种 发光 来 源 于 同 样 的激 发 态 。 外 , 变 锌 说 此 改 n与 C d的摩 尔 比 , 使 发 射 峰 发 生 移 动 , 此 可 以 调 控 比例 获 会 因 能, 光 致 发 光 、 致 发光 、 光体 、 感 器 、 外 窗 口材 料 、 催 化 等 其 中 Z 在 电 磷 传 红 光
InP与ZnSe基荧光量子点的合成及其在指纹显现中的应用
北京化工大学硕士学位论文InP与ZnSe基荧光量子点的合成及其在指纹显现中的应用姓名:***申请学位级别:硕士专业:化学工程与技术指导教师:***20110523摘要InP与ZnSe基荧光量子点的合成及其在指纹显现中的应用摘要半导体量子点一般指是由II.Ⅵ族和III.V族等元素组成,粒径为2~lOnm的零维纳米材料。
由于其具有强的量子尺寸效应,在电子,光学和表面可修饰性方面显示出优越的性质,在光电转换、半导体器件及生物标记等领域,显示出极大的研究和应用价值。
量子点作为一种新型的荧光材料,与传统的有机荧光染料相比,具有宽的激发光谱,窄而对称的发射光谱、高的荧光量子产率、荧光寿命长、光稳定性好等优点。
半导体量子点的制备方法主要包括有机相合成、微乳液合成和水相合成等。
由于有机相和微乳液合成等方法合成量子点条件苛刻,原料成本高,毒性大,限制了该方法的实际应用。
采用简单的水相合成的量子点具有很好的生物相容性,可以直接应用于生物标记。
对于II.Ⅵ族的Cd系列量子点的研究目前已经比较成熟,但由于重金属Cd的毒性,限制了其作为生物标记材料的研究和应用。
在本论文中,我们通过紫外光照和相转移方法合成了水溶性的InP/ZnS复合结构量子点及系列ZnSe基荧光量子点,这些量子点低毒或无毒,作为“绿色”荧光量子点,在生物标记领域具有更广阔的应用前景。
同时我们对不同量子点的制备工艺、结构和荧光性能进行了系统的研究,并考察了其对各种客体指纹显现效果的影响。
实验研究结果如下:1、分别采用溶剂热法和化学法合成了InP量子点,其中溶剂热T北京化.T大学硕.1:学位论文合成中,以甲苯为溶剂,十二烷胺(DDA)为包覆剂,通过改变溶剂热合成温度(150。
C、165。
C、180。
C),可以得到颗粒尺寸为3—4nm的InP量子点,经巯基乙酸修饰后得到水溶性InP/ZnS量子点。
不同温度合成InP后包覆的InP/ZnS量子点的荧光最佳发射波长分别为438nm,508nm和575nm。
ZnS胶体量子点电致发光特性研究的开题报告
ZnS胶体量子点电致发光特性研究的开题报告一、选题背景与意义随着纳米材料技术的迅猛发展,挑选合适的纳米材料用于光电器件中已成为研究的热点之一。
作为一种新型、有潜力的半导体材料,ZnS胶体量子点具有其它半导体材料所没有的优异性能,例如较宽的发光波长范围、较高的荧光量子产率和良好的光稳定性等特点。
因此,研究ZnS胶体量子点的电致发光特性将为其在光电子器件的制备和应用方面提供重要的基础研究。
本文将就ZnS胶体量子点的电致发光特性进行研究,并结合实验以及理论模拟对其进行深入探讨。
二、研究目的(1)探究ZnS胶体量子点的电致发光效应,分析其内在机理。
(2)考察不同电压对ZnS胶体量子点电致发光强度的影响,研究其发光特性。
(3)利用荧光光谱技术和电流电压曲线技术测定不同电压下ZnS胶体量子点的发光性能和电导率,建立起ZnS胶体量子点的导电和电致发光的量化关系模型。
三、研究内容(1)ZnS胶体量子点的制备首先采用有机热分解法制备ZnS胶体量子点,控制反应条件并通过逐步变化反应过程中相关参数,如溶剂、温度、反应时间、反应剂浓度、表面活性剂类型等,制备出在不同反应条件下具有不同发光波长的ZnS胶体量子点样品。
(2)ZnS胶体量子点的表征采用X射线衍射仪、透射电镜、荧光光谱、紫外-可见吸收光谱等手段对ZnS胶体量子点样品进行表征。
(3)ZnS胶体量子点的电致发光特性研究在电极上铺制ZnS胶体量子点膜,通过外加电压控制电极双端的电场强度,观测样品的电致发光、电导率等性质,研究电场强度对其电致发光特性的影响规律。
同时,通过对样品的各种光学性质及电学性质的测试和分析,建立起ZnS胶体量子点导电和电致发光之间的量化关系模型。
(4)理论模拟利用软件进行理论模拟计算,验证实验结果,并进一步深入研究ZnS胶体量子点的电致发光机理。
四、研究方案(1)ZnS胶体量子点膜的制备:合成ZnS胶体量子点溶液,利用旋涂、溶剂挥发等技术制备成ZnS胶体量子点膜,将膜片置于氮气氛围下于60°C焙烧1h。
《核壳结构ZnO-C量子点用作有机太阳能电池电子传输层研究》范文
《核壳结构ZnO-C量子点用作有机太阳能电池电子传输层研究》篇一核壳结构ZnO-C量子点用作有机太阳能电池电子传输层研究核壳结构ZnO/C量子点在有机太阳能电池电子传输层的应用研究一、引言随着全球对可再生能源的追求,有机太阳能电池(Organic Solar Cells, OSC)的研究和应用正逐渐扩大。
核壳结构纳米材料以其独特的光电性质和优越的物理化学稳定性,被广泛应用于光电领域。
本篇论文旨在研究核壳结构ZnO/C量子点作为电子传输层在有机太阳能电池中的应用,探究其电子传输性能和影响太阳能电池效率的因素。
二、核壳结构ZnO/C量子点简介核壳结构ZnO/C量子点,通常是以ZnO为核心,外层覆盖碳的复合材料。
该材料不仅拥有ZnO的高电子迁移率和优异的稳定性,而且碳层的存在也进一步提高了其光吸收能力和抗光氧化性能。
三、实验部分本实验中,我们采用不同的方法制备了核壳结构ZnO/C量子点,并将其应用于有机太阳能电池的电子传输层。
我们首先对材料进行了基本的表征,包括X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)等,以确定其结构和形貌。
然后,我们将这些量子点应用于OSC的电子传输层,并对其光电性能进行了测试和分析。
四、结果与讨论1. 核壳结构ZnO/C量子点的性质通过XRD和TEM分析,我们发现成功制备了核壳结构的ZnO/C量子点,且碳层的存在使得ZnO核心得以更好地保护。
同时,我们也观察到这种结构对于光吸收能力的提高以及光氧化稳定性的增强。
2. 电子传输性能在将核壳结构ZnO/C量子点应用于有机太阳能电池的电子传输层后,我们发现其电子传输性能得到了显著提高。
这主要归因于其高电子迁移率和良好的稳定性。
此外,碳层的存在也使得该材料在光氧化条件下具有更好的稳定性。
3. 对太阳能电池效率的影响通过对比实验,我们发现使用核壳结构ZnO/C量子点作为电子传输层的有机太阳能电池的效率得到了显著提高。
这主要归因于其优秀的电子传输性能和光吸收能力。
ZnS核壳结构的制备与发光性能研究的开题报告
纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构的制备与发光性能研究的开题报告一、研究背景与意义珂学士纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构具有很多优良的性质,如高比表面积、优异的光学、电学性能等,因此广泛应用于光电器件、催化剂、生物传感器等领域。
其中,其在光电器件领域中的应用越来越广泛,如荧光标记、光伏电池、发光二极管等,发光性能是其中一个重要的研究方向。
因此,深入研究纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构的制备方法及其发光性能,对于推动光电器件的发展具有重要的意义。
二、研究目标和内容本研究的目标是制备纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构,并研究其光学性能。
具体研究内容如下:1. 制备纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构。
通过不同的合成方法制备不同形态的纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构,并对其形貌、结构进行表征。
2. 研究纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构的发光性能。
通过光致发光谱、荧光光谱等技术对其发光性能进行研究,分析对照不同条件下的光学变化。
3. 探究制备工艺的影响。
通过改变制备工艺的条件等因素,探究对纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构的影响,进一步提高其光学性能。
三、研究方法1. 合成纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构本研究将采用水热法、溶胶凝胶法、水热辅助溶胶凝胶法等方法制备纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构,探究不同方法的优缺点。
2. 表征纳米材料结构采用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、荧光光谱、光致发光、化学成分分析等技术手段对制备的样品进行形貌、结构、光学性能等的表征。
3. 研究光学性能的变化本研究将通过荧光光谱、光致发光谱等技术对纳米ZnO及ZnO/ZnS 核壳结构的发光性能进行研究。
采用变化工艺条件等手段对光学性能的影响进行研究。
四、预期成果1. 制备出不同形态的纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构,并对其形貌、结构进行表征。
2. 研究纳米ZnO及ZnO/ZnS核壳结构的发光特性,包括荧光光谱、光致发光等。
InP量子点的掺杂及其光学性能
InP量子点的掺杂及其光学性能杨锁龙;王晓方;蒋春丽;赵雅文;曾荣光;王怀胜;赖新春【摘要】采用原位成核掺杂法合成了Li、Zn金属离子掺杂的InP量子点(分别记为Li∶ InP和Zn∶ InP),并研究了掺杂剂对量子点的结构、尺寸和光学性能的影响.研究结果表明,Li+、Zn2+掺杂的InP量子点结晶度较高且尺寸均匀.虽然Li+掺杂未引起InP量子点的结构发生变化,Li+未进入InP晶格,但是抑制了InP量子点的成核与长大,使其吸收谱和荧光谱均发生大幅度的蓝移.Zn掺杂同样也抑制InP量子点的成核与长大,并且形成InP/Zn3P2/ZnO复合核壳结构,显著增强了InP量子点的荧光,尤其是当Zn掺杂浓度(Zn/In原子比)为0.2时,InP量子点的荧光强度增加近100多倍,这对短波长InP量子点的合成具有一定的参考价值.【期刊名称】《无机材料学报》【年(卷),期】2016(031)010【总页数】7页(P1051-1057)【关键词】磷化铟;量子点;掺杂;光学性能【作者】杨锁龙;王晓方;蒋春丽;赵雅文;曾荣光;王怀胜;赖新春【作者单位】表面物理与化学重点实验室,江油621908;表面物理与化学重点实验室,江油621908;表面物理与化学重点实验室,江油621908;表面物理与化学重点实验室,江油621908;表面物理与化学重点实验室,江油621908;表面物理与化学重点实验室,江油621908;表面物理与化学重点实验室,江油621908【正文语种】中文【中图分类】TL812胶体量子点在光电子器件和生物医学等领域具有广阔的应用前景[1-2]。
相比水相合成法,油相法合成的量子点具有结晶度高、尺寸均匀、荧光量子效率高等优点。
III-V族InP量子点具有无镉、荧光发射波长范围可达近红外区等优点,在细胞成像、荧光探针等领域具有潜在的应用前景[3-5]。
但是本征InP量子点由于表面缺陷多和尺寸不均匀等问题,导致其应用受到一定限制[6-7]。
InP-ZnS量子点的制备及其色彩转化技术研究
InP-ZnS量子点的制备及其色彩转化技术研究摘要:本论文旨在探讨InP/ZnS量子点的制备及其在色彩转化技术中的应用。
首先介绍了量子点的概念、历史及其优缺点。
然后详细说明了InP/ZnS量子点的制备方法,并且比较了不同制备方法的优缺点。
接下来,论文对InP/ZnS量子点的物理特性作了详细分析,并阐述了其在色彩转化技术中的应用。
最后,文中详细总结了InP/ZnS量子点的制备及其应用前景。
关键词:InP/ZnS量子点;制备方法;物理特性;色彩转化技术;应用前景1.引言InP/ZnS量子点是一种可用于色彩转化技术中的新型材料,其独特的发光特性使它在显示、生物探测、光电器件等领域有很大的应用前景。
制备高品质的InP/ZnS量子点是应用它的关键,本论文致力于探讨InP/ZnS量子点的制备及其在色彩转化技术中的应用。
2.量子点概述量子点是一种新型半导体材料,与固体材料相比,量子点的粒径在纳米级别,其具有优异的电学、光学特性。
量子点具有发光波长可调性、主要受粒径大小影响、低失真等特点,是一种理想的荧光标记材料。
量子点还可以应用于光电子学、信息记录等领域。
但是,量子点也存在缺点,如粒径分布不均匀、毒性等问题。
3.InP/ZnS量子点制备目前,制备InP/ZnS量子点的方法主要包括:热分解法、微波法、溶胶凝胶法、有机相法等。
热分解法制备量子点简便,但是得到的量子点分布不均匀,不适用于制备大颗粒量子点;溶胶凝胶法制备量子点较为简单,但是得到的量子点粒径较大,发光波长自由度较小;微波法制备的量子点粒径均匀,颗粒间距相对较小,在场强加速的作用下,制备速度快。
由于制备方法的不同,InP/ZnS量子点的制备难度也不同,关键是要选择适合的制备方法。
4.InP/ZnS量子点物理特性InP/ZnS量子点具有吸收和发射的波长范围窄,可由其粒径和组分调节。
其粒径越小,吸收和发射波长越短,颜色越蓝。
吸收和发射波长可分别由InP的粒径和ZnS的厚度调节。
InP基多周期InAsInAlGaAs量子点阵列的结构和光学性质.
3国家自然科学基金资助项目(批准号:90101002,60136010) 黄秀颀 男,1981年出生,博士研究生,目前主要从事量子点、量子线织构纳米衍射光学元件研究. 2004201215收到,2004206214定稿ν2005中国电子学会InP 基多周期InAs/InAl G aAs 量子点阵列的结构和光学性质3黄秀颀 刘峰奇 车晓玲 刘俊岐 雷 文 王占国(中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京 100083)摘要:在InP (001)衬底上使用分子束外延技术自组织生长了多周期InAs/InAl G aAs 量子点阵列结构.根据对透射电镜和光致发光谱结果的分析,认为引入与InP 衬底晶格匹配的InAl G aAs 缓冲层可以获得较大的InAs 量子点结构,而InAl G aAs 层的表面特性对InAs 量子点的结构及光学性质有很大影响.对InP 基InAl G aAs 缓冲层上自组织量子点的形核和演化机制进行了探讨,提出量子点的演化过程表现为量子点的合并长大并伴随着自身的徙动,以获得能量最优的分布状态.关键词:量子点;分子束外延;InAl G aAs 缓冲层PACC :7360F ;6855;7865中图分类号:TN3041054 文献标识码:A 文章编号:025324177(2005)022*******1 引言近年来,由于理论预言利用量子点作为有源区的半导体激光器将具有极低的阈值电流、极高的特征温度、高的微分增益和极窄的谱线宽度[1],因此,利用Stranski 2Krastanov 模型生长的自组织半导体量子点(QDs )一直是研究的热点,并且已经取得了很大成功.然而,时至今日,对应变自组织量子点的研究无论在理论上还是在实验上都依旧存在很多问题,还没有一个完善的理论来解释自组织量子点的形成机制,因而人们尚无法在纳米尺度上精确地控制量子点的尺寸和均匀性.这也是半导体量子点激光器的性能远没有达到理论预言水平的原因.大多数关于QDs 的研究都是基于In (G a )As/G aAs 体系[2,3].与InAs/G aAs 体系的晶格失配为7%相比,InAs 与InP 的晶格失配只有约312%,这种低应力体系与界面间可能的化学反应使得QDs 的形成非常复杂,而且长出的通常是密度较低、尺寸比较分散的大岛[4~6],因此InAs/InP 体系生长QDs 的报道相对较少,而关于InP 衬底上自组织量子点的形成和演化机制方面的研究报道就更少.另外,虽然到目前为止已经有一些使用InP ,InAlAs ,In G aAs 和In G aAsP 等化合物作为缓冲层,在InP 衬底上生长InAs 量子点的研究[7~9],但在InAl G aAs 缓冲层上生长InAs 量子点的研究仍然很少.本文,我们利用分子束外延设备(MB E )生长了与InP 衬底晶格匹配的多周期InAs/InAl G aAs 量子点阵列,使用透射电镜(TEM )和光致发光谱(PL )对样品的结构特性和光学性质进行了研究,并对InP 基InAl G aAs 缓冲层上自组织量子点在生长过程中的形核和演化机制进行了探讨.2 实验本文所研究的样品是使用固源Riber 32P MB E 系统在半绝缘(001)InP 衬底上生长的.为了保证生长条件相同,所有衬底都贴在同一粘In 钼托上,生长过程中钼托高速旋转以增加生长的均匀性.生长速率采用反射高能电子衍射仪(RHEED )校准.样品经去油腐蚀后送入进样室,在300℃预除气后送入生长室进行生长.在540℃脱去氧化层后再生长缓第26卷 第2期2005年2月 半 导 体 学 报CHIN ESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORSVol.26 No.2 Feb.,2005冲层,然后按设计生长量子点结构,生长每周期量子点前后一般停顿60s,目的是为了得到一个平整的表面以及使In原子有足够的时间迁移以使量子点更加均匀.长完整个量子点结构后将衬底加热器的电流降为0,使衬底温度迅速降至120℃,取出样品作下一步测试.样品的生长结构如下:去除衬底表面氧化层后,先生长200nm晶格匹配的InAl G aAs缓冲层,再生长5个周期的InAs量子点和InAl G aAs缓冲层阵列结构,接下来生长70nm的InAl G aAs盖层,最后生长几个单层(ML)的InAs量子点.其中,样品1的InAs淀积厚度和缓冲层厚度分别为5ML和15nm;样品2的是7ML和20nm,InAl G aAs=(In0.52Al0.48 As)016+(In0.53G a0.47As)014.为了对样品的结构特性进行表征,使用型号为J EM22000FX的分析透射电镜对样品的平面像进行了观察,并使用型号为J EM22010的高分辨电镜(HR TEM)观察截面像.TEM样品的制备是采用先机械抛光再离子减薄的方法.样品光学性质的表征在IFS120HR傅里叶变换红外光谱仪上进行,激发光源为Ar+激光器的51415nm谱线,用低温InSb 探测器探测光致发光谱.3 结果及分析图1示出了两种不同厚度InAs/InAl G aAs五周期量子点阵列结构的TEM平面像和截面像,由InAs与InAl G aAs晶格常数不同导致的应变所引图1 (a),(c),(e)为样品1的TEM平面像、截面像及截面像局部放大图;(b),(d),(f)为样品2的TEM平面像、截面像及截面像局部放大图;(c),(d)中插图为选区电子衍射像Fig.1 Plan2view,cross2sectional TEM images of InAs QDs in sample1((a),(c))and sample2((b),(d));(e)and(f)are local amplification of(c)and(d) Insets in(c)and(d)show the selected area diffraction images.013半 导 体 学 报第26卷起的黑白场对比清楚地显示出了InAs量子点结构的形成.在样品的TEM平面像中(图1(a)和(b)),虽然样品生长了五个周期的量子点阵列,但考虑到TEM样品的制备工艺是从衬底开始减薄,故样品的薄区部分中仍应该有70nm的InAl G aAs盖层,而两个样品的每周期量子点与缓冲层厚度分别为15nm +5ML和20nm+7ML,所以可以认为从样品上方垂直入射的电子束只作用于最上面一个周期的量子点,亦即样品的平面像中所反映的仅仅是第一层量子点的形貌.在对样品1的TEM观察过程中,在样品的不同位置多个角度倾转都观察到了呈“蝌蚪”状且尾部指向无规则的量子点结构,其典型形貌如图1(a)所示,这种形状在其他文献中尚未见有报道.而从图1(b)中可以看出,样品2中获得的是分布无规则的较大岛状结构.从两个样品的TEM截面像(图1(c)和(d))中可以清楚地看到两个样品的结构,从上至下首先是70nm的InAl G aAs盖层,接下来是五周期的InAs/ InAl G aAs量子点阵列,最后是InAl G aAs缓冲层,其中量子点周期并不是垂直耦合.图1(e)和(f)是两个样品截面像的局部放大图,从图中可以观察到InAs/ InAl G aAs界面两侧晶格点阵基本重合,没有出现位错,故生长的量子点是共格的,图1(c)和(d)插图中获得的单晶电子衍射图也证明了这一点.另外,也可以看到量子点与缓冲层之间的界面并不是完全平整的,有一定的厚度起伏.因为在600℃生长可以获得界面很平整的高质量InAl G aAs晶体[10],所以当In2 Al G aAs晶体在540℃生长时,Ⅲ族原子的局部偏析就可能会使得InAl G aAs的表面粗糙度增加[11].对比两图可以看出,样品1中厚度为15nm的InAl2 G aAs缓冲层平整度更好,这使得其上生长的InAs 量子点密度较高且尺寸较均匀.从样品的平面和截面电镜照片中统计得出的量子点结构尺寸及密度数据如表1所示,可以看出量子点结构的横向尺寸具有较宽的分布.与样品1相比,样品2的量子点结构尺寸更大,而密度相对较小.表1 样品的InAs量子点横向尺寸、纵向尺寸和密度统计Table1 Statistics of lateral size,vertical size,and density of InAs QDs样品编号横向尺寸/nm纵向尺寸/nm密度/cm-2 165~85 2.52×1092100~150~5.58×108 图2为两个InAs量子点阵列样品的光致发光(PL)谱,激发功率为200mW.在样品1中,发光峰位在0172eV,对应波长为1173μm,半高宽为100140meV,我们认为其来源于InAs量子点.对于样品2,最强的发光峰峰位在0166eV,对应波长为1187μm.根据发光峰的位置,我们认为其来源也是InAs量子点.样品2的发光峰相对于样品1红移了约60meV,考虑到量子点的垂直高度远小于其横向尺寸,量子限制效应主要由垂直方向上的高度所决定[12].因此,样品2中的InAs量子点结构垂直高度较高,这与从透射电镜照片中获得的结果一致.另外,在光谱中并没有观测到浸润层发光,说明势垒限制了载流子从量子点逃逸到浸润层.图2 样品的室温光致发光谱 激发功率:200mW Fig.2 Room2temperature PL s pectra of the samples Excitation power:200mW通过对前述实验结果进行分析,我们认为,引入与InP衬底晶格匹配的InAl G aAs作为缓冲层可以获得较大的量子点结构,InAl G aAs缓冲层的表面特性和它与量子点层之间Ⅲ族原子的交换对在其上生长出的量子点结构的形状、尺寸及密度起非常大的作用[13].众所周知,In原子在2×4重构的表面上沿[110]方向迁移比沿[110]方向容易[14].另外,沿[110]方向台阶边缘较强的反应在生长过程中也会对各向异性有所贡献[15].因此,InAlAs缓冲层的表面形貌表现为沿[110]方向排列的台阶.然而,当引入InAl G aAs作为缓冲层时,表面形貌会有很大的改变.首先,在淀积InAs层时,InAl G aAs中Ⅲ族元素偏离平衡位置,其表面会析出大量In原子团簇,这些团簇会进一步成为InAs量子点成核的中心.同时,相同温度下G a吸附原子和Al吸附原子的吸附系数和迁移率等的不同可能会部分破坏表面重构,113第2期黄秀颀等: InP基多周期InAs/InAl G aAs量子点阵列的结构和光学性质从而使得InAl G aAs缓冲层表面并不像InAlAs表面那样呈现为沿[110]方向排列的台阶,而是表现为原子级的无规则起伏,这导致了在其上生长的InAs量子点出现无序分布[11,16].本课题组李月法在文献[17]中给出的在生长量子点之前的InAlAs和InAl2G aAs缓冲层表面形貌之间的对比也说明了这一点.因此,在InAl G aAs缓冲层上淀积的InAs量子点的形核和演化过程即如下所述:在S2K生长模式中,当达到临界厚度时,高应变半导体材料中自由表面和衬底形变的弹性释放导致了共格岛的形成.随着InAs的淀积,当厚度达到由岛的形变引起的表面能增加可以被应变能的降低所补偿时,即产生了从2D到3D的生长模式的转变[18].由于InAl G aAs缓冲层的表面粗糙度导致了应变外延层具有相对较大的局域应力,所以浸润层的表面也变得粗糙,并且形成了微小的台阶.而后,应力的释放使得淀积在表面上的In吸附原子通过质量输运迁移到台阶处并在那里形核.另外,在540℃的相对高温下吸附原子的较高迁移能力也是原因的一部分,因为这会使得在已有的岛上吸附比形成新的岛更容易[19].因此,此时的InAs小岛为随机分布,其位置由InAl G aAs表面的无规则起伏所支配.根据Tersoff的理论[20],当继续淀积超过特定厚度以后,为了缓解应变能的增加,岛可能会从圆形变为伸长的形状,即形成量子线.如文献[21]所示,在淀积过程中,当应力为各向异性时,InAlAs缓冲层上生长的初始的独立InAs点将沿垂直于最大应力的方向进行连续链状合并以降低总自由能.因此,量子点沿[110]方向合并,并形成量子线结构.同样,当采用InAl G aAs作为缓冲层时,一旦达到临界淀积厚度,InAl G aAs淀积的量子点也应沿与局域最大表面应力垂直的方向合并.考虑到前面述及的InAl2 G aAs缓冲层表面存在原子级的无规则起伏,其表面应力指向为无规则分布,那么量子点在形核后的演化就应为小岛的局域合并,在总体上即表现为量子点的增大并伴随着自迁移,以获得能量最优的分布,这样就形成了如图1(a)中所示的“蝌蚪”状量子点.随着InAs的继续淀积,量子点小岛的合并以及自迁移逐渐趋向于稳定状态,量子点的长大占据了主导地位,其横向尺寸以及垂直高度都增大,从而形成如图1(b)中所示的淀积7ML InAs后观察到的较大无规则岛状结构.4 结论在半绝缘(001)InP衬底上使用MB E系统自组织生长了多周期InAs/InAl G aAs量子点阵列结构,并对其结构和光学性质进行了研究.结果表明,通过引入与InP衬底晶格匹配的InAl G aAs缓冲层可以获得较大的InAs量子点结构,其结构及光学性质与InAl G aAs的表面特性密切相关.另外,提出了InP 基InAl G aAs缓冲层上自组织量子点形核和演化机制的模型,认为量子点在演化过程中通过沿与局域表面应力最大方向垂直的方向合并的方式来降低能量,在总体上即表现为量子点的长大并伴随着自身的徙动,以获得能量最优的位置分布.参考文献[1] Arakawa Y,Sakaki H.Multidimensional quantum well laser andtemperature dependence of its threshold current.Appl Phys Lett,1982,40(11):939[2] Wang Zhanguo,Liu Fengqi,Liang Jiben,et al.High powerIn(G a)As/G aAs quantum dot laser.Chinese Journal of Semicon2ductors,2000,21(8):827(in Chinese)[王占国,刘峰奇,梁基本,等.大功率In(G a)As/G aAs量子点激光器.半导体学报,2000,21(8):827][3] Qian Jiajun,Xu Bo,Chen Y onghai,et al.Optical characteristics ofstrained self2organized InAs/G aAs quantum dot materials andlaser diodes.Chinese Journal of Semiconductors,2003,24(sup2pl):51(in Chinese)[钱家骏,徐波,陈涌海,等.应变自组装InAs/G aAs量子点材料与器件光学性质研究.半导体学报,2003,24(增刊):51][4] Li Y F,Y e X L,Xu B,et al.Room temperature1155μm emissionfrom InAs quantum dots grown on(001)InP substrate bymolecular beam epitaxy.J Cryst Growth,2000,218:451[5] Saito H,Nishi K,Sugou S.Ground2state lasing at room tempera2ture in long2wavelength InAs quantum2dot lasers on InP(311)Bsubstrates.Appl Phys Lett,2001,78(3):267[6] Brault J,G endry M,Grenet G,et al.Surface effects on shape,self2organization and photoluminescence of InAs islands grown onInAlAs/InP(001).J Appl Phys,2002,92(1):506[7] Brault J,G endry M,Grenet G,et al.Role of buffer surface mor2phology and alloying effects on the properties of InAs nanostruc2tures grown on InP(001).Appl Phys Lett,1998,73(20):2932 [8] Y oon S,Moon Y,Lee T W,et al.Effects of As/P exchange reac2tion on the formation of InAs/InP quantum dots.Appl PhysLett,1999,74(14):2029[9] Jeong W G,Dapkus P D,Lee U H,et al.Epitaxial growth andoptical characterization of InAs/In G aAsP/InP self2assembled213半 导 体 学 报第26卷quantum dots.Appl Phys Lett ,2001,78(9):1171[10] Tournie E ,Zhang Y H ,Pulsford N J ,et al.Structural and opticalproperties of Al 0.48In 0.52As layer grown on InP by molecular beam epitaxy :Influence of the substrate temperature and of a buffer layer.J Appl Phys ,1991,70(12):7362[11] K im J S ,Lee J H ,Hong S U ,et al.Formation of self 2assembledInAs quantum dots on InAl (G a )As/InP and effects of a thin G aAs layer.J Cryst Growth ,2003,259(3):252[12] Fafard S ,Allen C N.Intermixing in quantum 2dot ensembles withsharp adjustable shells.Appl Phys Lett ,1999,75(16):2374[13] K im J S ,Yu P W ,Leem J Y ,et al.Effects of high potential bar 2rier on InAs quantum dots and wetting layer.J Appl Phys ,2002,91(8):5055[14] Cotta M A ,Hamm R A ,Staley T W ,et al.K inetic surface rough 2ening in molecular beam epitaxy of InP.Phys Rev Lett ,1993,70(26):4106[15] Horikoshi Y ,Y amaguchi H ,Briones F ,et al.Growth process ofⅢ2Ⅴcompound semiconductors by migration 2enhanced epitaxy.J Cryst Growth ,1990,105:326[16] Li H X ,Daniels T ,Hasan M.Effects of the matrix on self 2organi 2zation of InAs quantum nanostructures grown on InP substrates.Appl Phys Lett ,2002,80(8):1367[17] Li Y F ,Y e X L ,Liu F Q ,et al.Structural and optical characteri 2zation of InAs nanostructures grown on (001)and high index InP substrates.Appl Surf Sci ,2000,167:191[18] Eaglesham D J ,Cerullo M.Dislocation free Stranski 2Krastanowgrowth of G e on Si (100).Phys Rev Lett ,1990,64(16):1943[19] Meixer M ,Sch ll E ,Shchukin V A ,et al.Self 2assembledquantum dots :Crossover from kinetically controlled to thermody 2namically limited growth.Phys Rev Lett ,2001,87(23):236101[20] Tersoff J ,Tromp R M.Shape transition in growth of strained is 2lands :Spontaneous formation of quantum wires.Phys Rev Lett ,1993,70(18):2782[21] Liu F Q ,Wang Z G ,Xu B ,et al.Metamorphosis of self 2organizedquantum dots into quantum wires.Phys Lett A ,1998,249:555Structural and Optical Properties of InAs/InAl G aAsQ uantum Dots Matrix G row n on InP Substrates 3Huang Xiuqi ,Liu Fengqi ,Che Xiaoling ,Liu J unqi ,Lei Wen ,and Wang Zhanguo(Key L aboratory of Semiconductor M aterials Science ,Instit ute of Semiconductors ,Chi nese Academy of Sciences ,Beiji ng 100083,Chi na )Abstract :Self 2assembled InAs quantum dots in InAl G aAs matrix are grown on InP (001)substrate by molecular beam epitaxy and evaluated by transmission electron microscopy and photoluminescence.Through introducing InAl G aAs buffer layer lattice 2matched to InP substrate ,large InAs QDs structure can be obtained.It is found that the structural and o ptical properties of InAs QDs are signifi 2cantly affected by the surface characteristics of InAl G aAs layer.The nucleation and evolution mechanism of self 2assembled QDs grown on InAl G aAs buffer layer is discussed.It is believed that the evolution of QDs re presents as coalescence and growing accompanied by self 2migration ,in order to achieve the distribution energetically favorable.K ey w ords :quantum dots ;molecular beam e pitaxy ;InAl G aAs buffer layer PACC :7360F ;6855;7865Article ID :025324177(2005)022*******3Project supported by National Natural Science Foundation of China (Nos.90101002,60136010) Huang Xiuqi male ,born in 1981,PhD candidate.He is engaged in the research on weaving nanometer optical elements out of quantum dots andquantum wires. Received 15January 2004,revised manuscript received 14J une 2004ν2005Chinese Institute of Electronics313第2期黄秀颀等: InP 基多周期InAs/InAl G aAs 量子点阵列的结构和光学性质。
水溶性InPZnS高亮绿光和红光PL520nm--750nm的描述
水溶性InPZnS高亮绿光和红光PL520nm——750nm的描述水溶性InP/ZnS高亮绿光和红光PL520nm750nm中文名:水溶性InP/ZnS量子点英文名:WatersolubleInP/ZnSquantumdot波长:PL520nm750nm发光:高亮绿光和红光类型:无镉量子点水溶性InP/ZnS量子点的描述:水溶性InP/ZnS量子点产品是以InP为核心,ZnS为壳层,表面由亲水配体包裹的核/壳型荧光纳米料子,平均的量子产率为50%,储存时应躲避阳光直射,4度密封暗处保管,可以为客户订制生产520nm~750nm任一波长的产品。
水溶性InP/ZnS量子点的产品特点和应用:本产品具有粒径均一,汲取光谱宽泛,发射光谱窄而对称,荧光强度高而稳定等特点。
本公司目前可供给表面为羧基或者氨基,3巯基丙酸(MPA)和PEG作为包覆剂Description:WatersolubleInP/ZnSquantumdotproductsarecore/shellfluor escentnanomaterialswithInPasthecore,ZnSastheshell,andthesur faceiswrappedbyhydrophilicligands.Theaveragequantumyieldis5 0%.Theyshouldbestoredawayfromdirectsunlight.Theycanbestored ina4degreesealeddarkplace.Theycanbecustomizedforcustomersto produceproductsofanywavelengthfrom520nmto750nm.关于我们:陕西星贝爱科生物科技经营的产品种类包含有:合成磷脂、高分子聚乙二醇衍生物、嵌段共聚物、磁性纳米颗粒、纳米金及纳米金棒、近红外荧光染料、活性荧光染料、荧光标记物、蛋白交联剂、小分子PEG衍生物、点击化学产品、树枝状聚合物、环糊精衍生物、大环配体类、荧光量子点、透亮质酸衍生物、石墨烯或氧化石墨烯、碳纳米管、富勒烯,二氧化硅及介孔二氧化硅,聚合物微球,近红外荧光染料,聚苯乙烯微球,上转换纳米发光颗粒,MRI核磁造影产品,荧光蛋白及荧光探针等等。
磷化铟量子点及其电致发光研究现状和挑战
磷化铟量子点及其电致发光研究现状和挑战
相恒阳;王益飞;于鹏;张坤;赵家龙;曾海波
【期刊名称】《发光学报》
【年(卷),期】2024(45)2
【摘要】量子点作为一种理想的发光材料,一直以来引起了科学家和工业界的广泛关注,推动了生物成像、照明、显示等领域的发展。
随着生态环境保护的意识逐渐
增强,磷化铟量子点(InP QDs)作为镉基量子点的最好替代者之一,受到了广泛的关注:一方面,InP QDs具有与镉基量子点相媲美的发光和光电性质;另一方面,其发光
光谱范围可覆盖整个可见光区,且合成工艺与镉基量子点共通。
然而,因为InP QDs 与传统镉基量子点相比,在元素价态、核壳晶格匹配性、反应动力学过程等方面具
有特殊性,其合成化学的发展还不成熟,限制了其光电应用的研究进程。
本文结合量
子点显示的发展现状和未来需求,针对InP QDs体系进行了综述,通过分析其研究现状,分析其发展问题和挑战,并对其进行了展望,期望为量子点及其电致发光器件的进一步探索研究提供一些启示和帮助,推动无镉、低毒、高色纯度量子点体系的发展。
【总页数】21页(P231-251)
【作者】相恒阳;王益飞;于鹏;张坤;赵家龙;曾海波
【作者单位】南京理工大学材料科学与工程学院新型显示材料与器件工信部重点实验室;广西大学物理科学与工程技术学院
【正文语种】中文
【中图分类】O482.31
【相关文献】
1.磷化铟量子点合成的研究进展
2.磷化铟量子点的合成及其显示器件应用研究进展
3.磷化铟量子点材料的制备及应用前景
4.面向量子点电致发光二极管的蓝光InP和ZnSe量子点研究现状
因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
一种新型的多用途发光量子点——InP
一种新型的多用途发光量子点——InP
尉紫冰;马皓天;李旭;关丽
【期刊名称】《物理通报》
【年(卷),期】2017(000)010
【摘要】InP量子点是一种典型的Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米材料,由于其在禁带宽度、电子迁移率等方面的独特性能而受到广泛关注.研究人员通过控制反应条件、表面修饰以及进行掺杂等对InP材料的性能进行调控,使之更广泛地应用于通信、材料、传感、能源及照明等领域.
【总页数】2页(P116,122)
【作者】尉紫冰;马皓天;李旭;关丽
【作者单位】河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室河北保定 071002;河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室河北保定 071002;河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室河北保定 071002;河北大学物理科学与技术学院河北省光电信息材料重点实验室河北保定 071002
【正文语种】中文
【相关文献】
1.一种新型量子点发光二极管问世 [J],
2.一种高灵敏,多用途,双模式的蒸发光散射检测器 [J], Wilc.,MJ;傅若龙
3.一种新型有机发光材料的光致发光和电致发光 [J], 刘星元;印寿根
4.新型量子点白光LED发光效率创纪录 [J], ;
5.环境友好型InP量子点的合成及其发光性能的研究进展 [J], 王璞;蔡平;张小文;许伟;张观广;姚日晖;宁洪龙;郑华
因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
Material Sciences 材料科学, 2018, 8(3), 131-136Published Online March 2018 in Hans. /journal/mshttps:///10.12677/ms.2018.83016Study on the Luminescence Propertiesof InP/ZnS Quantum DotBowen Zhang, Dengkui Wang*, Xuan Fang, Dan Fang, Xinwei Wang, Jilong Tang,Xiaohua Wang, Zhipeng WeiState Key Laboratory of High Power Semiconductor Laser, Changchun University of Science and Technology, Changchun JilinReceived: Feb. 21st, 2018; accepted: Mar. 6th, 2018; published: Mar. 13th, 2018AbstractInP-based quantum dots are considered as the most promising candidate for Cd-based QDs. How-ever, the research on the fabricated and properties of InP quantum dots is far less than that of Cd-based QDs, especially their optical properties. In this paper, InP/ZnS quantum dots with good lattice quality and optical properties were prepared by one-pot method. The size of InP core was confirmed to be about 3 nm by TEM image. The lattice spacing was in agreement with that of InP(111). The results of power dependence photoluminescence and Raman spectra show that there are two luminescent sources in the InP/ZnS, the transition from the free energy exciton in the high energy end and the defects in the low energy end originating from the interface stress.KeywordsPhotoluminescence, InP/ZnS, TEM, Interface StressInP/ZnS核壳量子点光学性质研究张博文,王登魁*,方铉,房丹,王新伟,唐吉龙,王晓华,魏志鹏长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,吉林长春收稿日期:2018年2月21日;录用日期:2018年3月6日;发布日期:2018年3月13日摘要InP量子点被认为是最有希望替代Cd基量子点的材料。
然而对于InP量子点的制备和性质的研究远远小于*通讯作者。
张博文等Cd基量子点的研究,特别是其光学性方面的研究。
本文采用一锅法制备了晶格质量良好,光学性能优异的InP/ZnS量子点,通过TEM图像确认制备出了的InP核的尺寸约为3 nm,晶格间距与闪锌矿结构的InP(111)晶面间距一致;通过变功率的光谱测试以及拉曼测试,认定InP/ZnS中存在两个发光来源,高能端的来源于自由激子的跃迁,低能端的来源于界面应力产生的缺陷。
关键词光致发光,InP/ZnS,TEM,界面应力Copyright © 2018 by authors and Hans Publishers Inc.This work is licensed under the Creative Commons Attribution International License (CC BY)./licenses/by/4.0/1. 引言胶体量子点被广泛应用在显示[1]、探测[2]、生物荧光标记[3]、LED [4]、激光[5]等领域。
在众多的半导体材料中,Cd基量子点的研究最为深入,然而重金属的使用,给Cd基量子点的商业化生产带来很大的问题。
在所有Cd基量子点的替代材料中,InP量子点被认为是最有希望的替代材料,因为它具有与CdSe 相似的带隙,且带隙可调性覆盖整个可见光范围[6]。
单纯的InP量子点由于表面的缺陷严重影响了其光学特性,一般采用包覆禁带宽度大的半导体壳层增强其发光,ZnS是InP量子点常用的包覆材料[7] [8] [9]。
本文采用一锅法制备了InP/ZnS核壳量子点,不经中间体的分离,直接获得结构复杂的量子点。
通过TEM进行了表征;通过室温光致发光光谱认为其存在两个发光来源;通过变激发的光致发光光谱对量子点的发光来源进行了分析;并结合拉曼光谱分析了其缺陷的来源。
2. 实验采用一锅法制备InP/Zns量子点,In源为InCl3,P源为三(二甲胺基)磷,S源为TOP-S,Zn源为ZnCl2与Zn。
具体合成过程如下:将0.45 mmol (200 mg)的InCl3,2.2 mmol (122 mg)的ZnCl2,5 ml的油酰胺混合。
反应混合物在100℃下搅拌0.5 h,之后加热到220℃(在惰性气体的氛围中进行操作);在达到220℃时,快速注入0.25 ml的三(二甲胺基)磷;(注入P源后,开始形成InP,在3min时出现成核反应);在反应3 min时开始缓慢加入0.6 ml饱和的TOP-S(S源) (2.2 mmol S),17 min,注入1 ml的化学计量的TOP-S (2.2mmol S);30 min,注入4 ml含有1 g Zn (硬脂酸盐)的十八烯;60 min,温度升高到240℃,65 min,注入0.7ml的化学计量的TOP-S(2.2 mmol S);90 min,注入4 ml含有1g Zn (硬脂酸盐)的十八烯;95 min,升温到260℃;150 min,停止反应,缓慢降温。
制备出核约3 nm,壳约2 nm的InP/ZnS量子点,发光峰位在648 nm,半高宽为70 nm,量子产率约为45%。
我们对合成的量子点进行了室温下光致发光测试以及TEM表征。
通过变激发的光致发光光谱和拉曼光谱,我们确认了InP/ZnS量子点中存在的发光来源。
光致发光光谱测试采用448 nm的激光作为激发光源,iHR550光谱仪采集信号。
拉曼测试采用的是LAB-RAM Infinity系统。
3. 结果与讨论对合成的InP/ZnS量子点进行了TEM测试,如图1所示。
TEM图中可以看到明显的具有晶格结构圆形图像,尺寸为3 nm左右,与InP核尺寸一致。
插图为其中一个量子点图案的放大,通过对多组晶格张博文 等条纹的累计除以间隔数,我们得到晶格条纹的间隙为0.34 nm ,这个数值与闪锌矿结构的InP 的(111)晶面一致,说明我们合成了InP ,且核壳量子点中InP 核的晶格结构为闪锌矿结构的(111)晶面。
右侧图片为合成的InP/ZnS 量子点的结构示意图,通过合成时间的控制以及TEM 图像可以得出InP 核的尺寸约为3 nm ,ZnS 壳层的尺寸约为2 nm 。
合成的InP/ZnS 量子点室温下的光致发光光谱如图2所示,图中可以看出峰型不符合高斯分布,在低能端应该存在一个新的峰,采用分峰的方法对光致发光谱进行处理,发现其能很好的拟合成两条高斯线性。
高能端的峰我们命名为A ,其中心位于1.907 eV ,半高宽为0.193 eV ,低能端的峰我们命名为B ,其中心位于1.762 eV ,半高宽为0.189 eV 。
为了分析A 峰与B 峰的来源,我们对InP/ZnS 量子点进行了变激发的光致发光测试。
图3为室温下InP/ZnS 量子点变激发的光致发光测试,对图中的光谱进行分峰,并对发光峰的积分强度进行分析(如图3所示)。
光致发光光谱的积分强度随功率的变化遵从如下公式[10] [11]:0I I αη= (1)Figure 1. TEM image and structure of InP/ZnS QDs图1. InP/ZnS 量子点的TEM 图片及其结构示意图Figure 2. Room temperature photoluminescence of InP/ZnS QDs and two fittingGaussian curves图2. InP/ZnS 量子点室温下的光致发光光谱测试及通过高斯拟合得到的曲线张博文 等式中I 0是激光辐射功率,η为辐射效率,α的数值可判断发光的辐射机制。
当1 < α < 2,发光来自于自由激子复合;当α < 1时,为杂质或者缺陷产生的发光[11] [12] [13]。
从图中的拟合结果,我们得出低能端的B 峰的α值为0.795(小于1),说明B 峰为杂质或者缺陷产生的发光。
A 峰的数值为1.159,说明A 峰来自于自由激子的复合。
A 峰随激发功率增大峰位基本没有变化,而B 峰峰位随激发功率增大出现蓝移的现象也说明了其发光来源分别为自由激子的复合与局域态或缺陷发光。
蓝移是能带填充效应导致的。
弱激发时光生载流子数量少且获得能量少,只够填充到较低能级的局域带尾态;随着激发增强,载流子数量增多,大量填充到低能级局域态的电子和空穴来不及复合,就堆积起来逐渐填满基态,出现一定程度的饱和,多余的载流子填充到更高的能级,所以出现蓝移[14]。
为了进一步验证B 峰缺陷的来源,我们对InP/ZnS 量子点进行了拉曼谱的测试,如图4所示。
InPFigure 3. Power-dependent PL spectra of InP/ZnS QDs at 300 K. Insertpicture shows the changes of integrated area of PL spectra with the changeof excitation power图3. 室温下,InP/ZnS 量子点的变激发的光致发光谱。
插图为积分面积随激发功率变化以及采用公式拟合的曲线Figure 4. Raman spectra of InP/ZnS QDs图4. InP/ZnS 量子点的拉曼谱张博文等体材料的TO与LO峰分别位于304 cm−1与345 cm−1,ZnS体材料的TO与LO峰分别位于280 cm−1与345 cm−1[15] [16]。