CMOS数字电路基本单元

CMOS数字电路基本单元 数字电路基本单元
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CMOS数字电路基本单元 数Fra bibliotek电路基本单元CMOS反相器电路 反相器电路 CMOS门电路 门电路 CMOS传输门 传输门 CMOS版图设计 版图设计 CMOS反相器版图设计流程 反相器版图设计流程 其它
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基本电路结构： 基本电路结构：CMOS
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1．CMOS反相器的工作原理 反相器的工作原理
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2．CMOS门电路 ． 门电路
截止 负载管串联 （串联开关） 串联开关）
A、B有高电平， 有高电平， 则驱动管导通、 则驱动管导通、 负载管截止， 负载管截止，输 出为低电平。 出为低电平。
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0 驱动管并联 并联开关） （并联开关）
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导通 CMOS或非门 或非门
当输入全为低电平， 两个驱动管均截止，两个 负载管均导通，输出为高 电平。 0 1 该电路具有或非逻辑功能 即 Y=A+B 截止 0 导通
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（2）尽量不要使多晶硅位于 +区域上 ）尽量不要使多晶硅位于p 多晶硅大多用n 掺杂，以获得较低的电阻率。若多晶硅位于p 多晶硅大多用 n+ 掺杂 ， 以获得较低的电阻率 。 若多晶硅位于 p+ 区 域，在进行p+掺杂时多晶硅已存在，同时对其也进行了掺杂 在进行 掺杂时多晶硅已存在，同时对其也进行了掺杂——导致 导致 杂质补偿， 杂质补偿，使ρ多晶硅↑。
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(3) 反相器版图流程
Poly gate
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3. 多晶硅 做硅栅和多晶硅连线，封闭图形处，保留多晶硅 多晶硅—做硅栅和多晶硅连线 封闭图形处， 做硅栅和多晶硅连线，
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(4) 反相器版图流程
N+ implant
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4. 有源区注入 有源区注入——P+，N+区（select)。 。
1). 阱——做N阱和 阱封闭图形处，窗口注入形成 管和 管的衬底 阱和P阱封闭图形处 管和N管的衬底 做 阱和 阱封闭图形处，窗口注入形成P管和 2). 有源区 有源区——做晶体管的区域（G、D、S、B区)，封闭图形处是氮化 做晶体管的区域（ 、 、 、 区 ， 做晶体管的区域 硅掩蔽层，该处不会长场氧化层 硅掩蔽层， 3). 多晶硅 多晶硅——做硅栅和多晶硅连线。封闭图形处，保留多晶硅 做硅栅和多晶硅连线。 做硅栅和多晶硅连线 封闭图形处， 4). 有源区注入 有源区注入——P+、N+区（select)。做源漏及阱或衬底连接区的注 。 入 5). 接触孔 接触孔——多晶硅，注入区和金属线 接触端子。 多晶硅， 接触端子。 多晶硅 注入区和金属线1接触端子 6). 金属线 金属线1——做金属连线，封闭图形处保留铝 做金属连线， 做金属连线 7). 通孔 通孔——两层金属连线之间连接的端子 两层金属连线之间连接的端子
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CMOS反相器 反相器 版图流程
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CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(1) 反相器版图流程
P well
N well
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1. 阱——做N阱和 阱封闭图形，窗口 做 阱和P阱封闭图形， 阱和 阱封闭图形 注入形成P管和 管和N管的衬底 注入形成 管和 管的衬底
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(2) 反相器版图流程
（3）金属间距应留得较大一些（3λ或4λ） ）金属间距应留得较大一些（ λ λ 因为，金属对光得反射能力强， 因为，金属对光得反射能力强，使得光刻时难以精确分辨金属
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边缘。 边缘。应适当留以裕量
5）、双层金属布线时的优化方案 ）、双层金属布线时的优化方案 ）、
（1）全局电源线、地线和时钟线用第二层金属线。 ）全局电源线、地线和时钟线用第二层金属线。 （2）电源支线和信号线用第一层金属线（两层金属之间用通孔连 ）电源支线和信号线用第一层金属线（ 接）。 （3）尽可能使两层金属互相垂直，减小交叠部分得面积。 ）尽可能使两层金属互相垂直，减小交叠部分得面积。
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(8) 反相器版图流程
Metal 2
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8. 金属线 金属线2——做金属连线，封闭图形处保留铝 做金属连线， 做金属连线
inverter： ：
VDD
m1 Schematic: m2 VDD Layout: input GND
output
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GND
m2
m1
硅栅CMOS 版图和工艺的关系 硅栅
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(4) 反相器版图流程
P+ implant
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4. 有源区注入 有源区注入——P+、N+区（select)。 。
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(5) 反相器版图流程
contact
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5. 接触孔 接触孔——多晶硅，注入区和金属线1接触端子。 多晶硅，注入区和金属线 接触端子 接触端子。 多晶硅
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离，不可靠拢平行排列。 不可靠拢平行排列。
4）、 ）、CMOS电路版图设计对布线和接触孔的特殊要求 ）、 电路版图设计对布线和接触孔的特殊要求
（1）为抑制 ）为抑制Latch up，要特别注意合理布置电源接触孔和 DD引线，减 ，要特别注意合理布置电源接触孔和V 引线， 小横向电流密度和横向电阻R 小横向电流密度和横向电阻 S、RW。 • 采用接衬底的环行 DD布线。 采用接衬底的环行V 布线。 增多V 接触孔，加大接触面积，增加连线牢固性。 • 增多 DD、VSS接触孔，加大接触面积，增加连线牢固性。 对每一个V 在相邻阱中配以对应的V 接触孔， • 对每一个 DD孔，在相邻阱中配以对应的 SS接触孔，以增加并行电流 通路。 通路。 尽量使V 接触孔的长边相互平行。 • 尽量使 DD、VSS接触孔的长边相互平行。 的孔尽可能离阱近一些。 • 接VDD的孔尽可能离阱近一些。 的孔尽可能安排在阱的所有边上（ 阱 • 接VSS的孔尽可能安排在阱的所有边上（P阱）。
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CMOS与非门 与非门
负载管并联 （并联开关） 并联开关）
驱动管串联 （串联开关） 串联开关） 该电路具有与非逻辑功能， 该电路具有与非逻辑功能， 即
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CMOS与非门 CMOS与非门
Y=AB
CMOS传输门 传输门
C和C是一对互补的控制信号。 和 是一对互补的控制信号 是一对互补的控制信号。 由于VT 在结构上对称， 由于 P和VTN在结构上对称，所以图中的输入和输出端可以 互换，又称双向开关。 互换，又称双向开关。
N diffusion
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2. 有源区 有源区——做晶体管的区域（G、D、S、B区)，封闭 做晶体管的区域（ 、 、 、 区 ， 做晶体管的区域 图形处是氮化硅掩蔽层， 图形处是氮化硅掩蔽层，该处不会长场氧化层
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(2) 反相器版图流程
P diffusion
2. 有源区 有源区——做晶体管的区域（G、D、S、B区)，封闭图形 做晶体管的区域（ 、 、 、 区 ， 做晶体管的区域 处是氮化硅掩蔽层， 处是氮化硅掩蔽层，该处不会长场氧化层 26
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反相器的逻辑功能和工作特点
实现反相器功能（非逻辑）。 实现反相器功能（非逻辑）。
VTP和VTN总是一管导通而另一管截止，流过VTP和 VTN的静态电流极小（纳安数量级），因而CMOS反相器 的静态功耗极小。这是CMOS电路最突出的优点之一。
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CMOS反相器的电压传输特性和电流传输特性 反相器的电压传输特性和电流传输特性
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2）、单元配置恰当 ）、单元配置恰当 ）、 （1）芯片面积降低 ）芯片面积降低10%，管芯成品率 圆片 可提高 ∼20%。 ，管芯成品率/圆片 可提高15∼ 。 （2）多用并联形式，如或非门，少用串联形式，如与非门。 ）多用并联形式，如或非门，少用串联形式，如与非门。 （3）大跨导管采用梳状或马蹄形，小跨导管采用条状图形，使图形 ）大跨导管采用梳状或马蹄形，小跨导管采用条状图形， 排列尽可能规整。 排列尽可能规整。
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CMOS模拟开关（传输门的应用） 模拟开关（传输门的应用） 模拟开关
① CMOS模拟开关：实现单刀双掷开关的功能。 模拟开关：实现单刀双掷开关的功能。 模拟开关 C = 0时，TG1导通、TG2截止，uO = uI1； 时 导通、 截止， C = 1时，TG1截止、TG2导通，uO = uI2。 截止、 导通， 时
AB段：截止区 iD为0 BC段：转折区 阈值电压UTH≈VDD/2 转折区中点：电流最大
CD段：导通区
CMOS反相器 在使用时应尽 量避免长期工 作在BC段。
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CMOS电路的优点
（1）微功耗。 CMOS电路静态电流很小，约为纳安数量级。 （2）抗干扰能力很强。 输入噪声容限可达到VDD/2。 （3）电源电压范围宽。 多数CMOS电路可在3～18V的电源电压范围 ～ 内正常工作。 （4）输入阻抗高。 （5）负载能力强。 CMOS电路可以带50个同类门以上。 （6）逻辑摆幅大。（低电平0V，高电平VDD ）
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(6) 反相器版图流程
Metal 1
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6. 金属线 金属线1——做金属连线，封闭图形处保留铝 做金属连线， 做金属连线
CMOS反相器版图流程 反相器版图流程(7) 反相器版图流程
via
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7. 通孔 通孔——两层金属连线之间连接的端子 两层金属连线之间连接的端子
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CMOS三态门（传输门的应用） 三态门（传输门的应用） 三态门
导通， 当EN= 0时，TG导通，F=A； 时 导通 ； 当EN=1时，TG截止，F为高阻输出。 时 截止， 为高阻输出。 截止 为高阻输出
(a)电路 (a)电路
(b) 逻辑符号