电镜样品制备方法中英文(常用_
冷冻电镜技术的原理和样品制备方法
冷冻电镜技术的原理和样品制备方法当我们谈论到电子显微镜（electron microscopy）时，多数人会想到传统的高分辨率电镜，然而冷冻电镜（cryo-electron microscopy）技术在近年来却引起了科学界的广泛兴趣。
冷冻电镜技术是一种能够观察生物大分子结构的重要技术手段，主要包括扫描电子显微镜（SEM）和透射电子显微镜（TEM）两种主要形式。
本文将会介绍冷冻电镜技术的原理和样品制备方法。
冷冻电镜技术是一项复杂而独特的技术，广泛应用于病毒学、细胞生物学和生物物理学等领域。
其主要原理是将待观察的样品在低温下迅速冷冻，以减小样品中的弥散和聚集现象。
这样可以保持样品在接近生理环境下的原貌，更好地揭示生物分子的结构及其功能。
冷冻电镜技术具有高分辨率、无需染色和易于操作等特点，因此广泛应用于人们对生物体系的研究中。
样品制备是冷冻电镜技术的关键步骤之一。
样品制备的主要挑战是如何在保持样品原貌的同时使其适应电镜观察。
一般来说，样品的制备分为固态样品和溶液样品两种类型。
对于固态样品，首先要将待观察的样品制备成薄片。
这可以通过机械划片、离心切片或冷冻刀片切片等方法实现。
接下来的关键步骤是样品的冷冻。
为了避免样品的溶解和水分的蒸发，科学家们通常会采用高压冷冻法或液氮冷冻法。
高压冷冻法可以原位固化样品，减少水分蒸发；而液氮冷冻法则可以快速冷却样品，保持样品的自然结构。
冷冻后，样品可以通过薄片金箔浇筑、有机玻璃浇筑等方式加固，以提高其稳定性。
对于溶液样品，主要有两种常见的制备方法：投射和冷冻.为了制备冷冻样品，要将待观察的样品溶解在适当的缓冲液中，并通过超速离心来去除残留的颗粒物质。
然后，将样品放置在薄膜上，通常是铜格子膜或碳膜，并在低温下迅速冷冻以固化样品。
这种方法需要使用特殊的冷冻装置，如液氮盒，其可以通过控制温度和湿度，确保样品冷冻过程中的环境条件。
无论是固态样品还是溶液样品，接下来的步骤都是与电镜观察密切相关的。
场发射扫描电镜的样品制备和操作步骤
场发射扫描电镜的样品制备和操作步骤场发射扫描电镜（Field Emission Scanning Electron Microscopy）是一种高分辨率的电子显微镜技术，可用于观察和分析各种材料的表面形貌和微观结构。
为了获得清晰的显微图像，样品制备和操作步骤非常重要。
一、样品制备1. 样品的选择：场发射扫描电镜适用于不同种类的材料，如金属、陶瓷、聚合物等。
选择合适的样品很关键，它应具备研究对象的特性，并且能够承受电子束的辐照。
2. 样品的固定：为了保持样品的形状和结构不变，通常需要将其进行固定。
对于固态材料，可以使用金属夹片或导电胶进行固定。
对于液态材料，可以将其冷冻或凝胶化，以保持其形状。
3. 样品的切割和打磨：有时候，需要将样品切割成适当的尺寸，以便放入样品架中。
这可以通过使用金刚石切割机、电解或机械研磨仪器等设备来完成。
4. 样品的真空处理：在将样品放入场发射扫描电镜前，通常需要将其进行真空处理。
这可以通过将样品放入真空干燥器中、在低压下进行加热或冷冻干燥来完成。
真空处理有助于去除空气中的水分和气体，以减小背景干扰。
二、操作步骤1. 打开电镜系统：在开始操作前，需要将场发射扫描电镜系统打开并进行预热。
预热时间通常需要几十分钟，以保证系统内部达到稳定的工作温度。
2. 放置样品：将样品放置在样品架上，并确保其良好接触。
对于粉末状样品，可以使用导电胶将其固定在样品支架上。
对于固态样品，可以使用金属夹片固定在样品架上。
3. 调整显微镜参数：通过调整电子束能量、聚焦、工作距离等参数，来优化扫描电子显微镜的成像质量。
这些参数的选择取决于样品的特性和所需的分辨率。
4. 开始观察：一切准备就绪后，可以开始观察样品。
通过控制电子束的扫描和探测系统，可以获得样品的表面形貌和微观结构的信息。
在观察过程中，要注意避免样品表面的污染和损坏。
5. 数据分析：场发射扫描电镜获得的图像可以进一步进行数据分析。
可以通过对图像进行增强、测量尺寸和形状、进行结构分析等手段，来得到更详细的样品信息。
透射电镜制样步骤以及注意事项
透射电镜制样步骤以及注意事项透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是目前最常用的高分辨率电子显微镜，可以用于观察物质的微观结构。
制备TEM样品的过程非常重要，下面将详细介绍TEM制样的步骤以及需要注意的事项。
制备TEM样品的步骤一般包括样品的选择、固定与固化、切片、薄化、网格制备和贴膜等。
第一步是样品的选择，样品应具有研究价值且适合观察。
例如，生物样品可以是细胞、组织或器官的薄片，金属样品可以是扁平的块状、粉末或薄膜等。
第二步是固定与固化。
对于生物样品，常用的固定方法包括浸泡法、灌注法和切片冷冻法；对于无机样品，可以使用固定剂将样品固定在固定剂中。
第三步是切片。
将固定好的样品切割成薄片，一般要求薄片的厚度在100 nm以下，通常使用超薄切片机来进行切割。
第四步是薄化。
将切割好的样品进行薄化处理，使其达到TEM观察所需的薄度。
常见的薄化方法有机械薄化、电化学薄化和离子薄化等。
第五步是网格制备。
将薄化好的样品放置在铜网格上，网格的选取应该根据所研究样品的性质和需要进行选择。
最后一步是贴膜。
将组织切片或带有样品的网格进行贴膜，以保护样品并提高图像的对比度。
在以上步骤中，需要注意的事项有：1.样品在制备过程中要避免受到污染或氧化，尽量在纯净无尘的环境中进行操作。
2.固定剂的选择要合理，不同的样品可能需要使用不同的固定剂，应根据需要进行选择。
3.切片时要注意刀片的尖锐度和切割角度，以免对样品造成损伤或变形。
4.薄化过程中要控制好加工参数，以保证样品的均匀薄化。
5.制作网格时应选择合适的网格尺寸和类型，以适应观察需求。
6.贴膜时要使薄膜均匀平整，并避免出现气泡或杂质。
总之，TEM制样是一项复杂而关键的过程，要保证样品的质量和可观察性，需要仔细选择方法、控制操作参数、注意样品的保护与处理。
合理的样品制备能够获得高质量的TEM图像，并提供准确的实验数据和结论。
TEM电镜样品制作程序(新)
TEM电镜样品制作程序一、试剂1．磷酸缓冲液（Milloning p buffer）A液：2.53％NaH2PO4.2H2O水溶液41.5mlB液：2.52％NaOH水溶液8.5ml （0.3M, 50ml, pH7.3）2. 固定液1). 戊二醛（4％）：25％戊二醛原液16ml＋DDW 50ml，摇匀后加p buffer 50ml，终pH7.0~7.42).锇酸（四氧化锇）：配原液：1g＋50ml DDW 2％配固定液：2％原液/p buffer＝1/13.4. 染色液1).醋酸铀饱和乙醇溶液：醋酸铀5g,乙醇50ml2).柠檬酸铅染液：硝酸铅1.33g，柠檬酸钠1.76g，DDW 30ml二、常规操作步骤【第一天】取材取各组小白鼠♀♂各一只，处死后立即取小肠（消化管取材不应斜切，剪开管腔使之成片状，平铺，黏膜面朝上，最好将其四边固定，用生理盐水漂洗黏膜表面『注意：快，准，轻，小，冷』固定（前固定）戊二醛固定3～4h(可在戊二醛中长期保存--几周甚至1~2个月)『注意：固定液的酸碱度必须与被固定的组织的酸碱度基本保持一致，大多数动物组织酸碱度的平均值是7.4』用p buffer洗一次，共3次，后过夜【第二天】固定（后固定）向样品中加入0.2ml p buffer和0.2ml锇酸(共0.4ml,可事先在通风厨内配好)，2h后用p buffer清洗样品(在通风厨内操作)『样品可在p buffer中保存』配包埋剂(大约需1h，每加入一种试剂需搅拌15min)脱水（丙酮系列）30％，50％，70％，80％，90％（各一次，15min/次），无水丙酮（2次，10min/次）『注意：脱水要彻底；若当天不能完成浸透、包埋操作，应将样品停留在4℃，70％乙醇或丙酮中过夜；脱水动作尽量要快，特别是100％脱水剂，更要注意样品块不要在空气中停留时间过长，否则会造成样品干燥』配下一步浸透用的丙酮/树脂(1/1,1/2)浸透（丙酮－树脂）丙酮/树脂＝1/1，浸透1h（0.2ml,0.2ml）丙酮/树脂＝1/2，浸透1h（0.2ml,0.2ml+0.2ml）纯树脂，浸透（2h后即可包埋，也可隔夜再包埋）包埋树脂加满样品槽，呈凸面，标签纸放中间，样品放两边『注意：包埋剂用前不能搅拌，以免产生气泡。
透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法透射电镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种高分辨率的显微镜，能够观察到纳米级别的细微结构。
在进行透射电镜观察之前，制备样品是非常关键的一步。
本文将介绍透射电镜样品制备的方法，希望能够对相关研究者提供一些参考和帮助。
首先，样品的制备需要从样品的选择开始。
在透射电镜观察中，样品通常是非晶态材料、纳米颗粒、生物样品等。
根据需要观察的对象，选择合适的样品非常重要。
在选择样品时，需要考虑到样品的尺寸、形状、结构等因素，确保样品能够满足观察要求。
其次，样品的制备需要进行样品的处理和制备。
对于非晶态材料和纳米颗粒样品，通常需要将样品制备成薄膜或薄片的形式，以便透射电镜能够观察到样品的内部结构。
而对于生物样品，则需要进行化学固定、脱水、包埋等处理，以保持样品的形态和结构。
在样品的处理和制备过程中，需要严格控制各个步骤的条件和参数，确保样品的质量和结构不受影响。
接着，样品的制备需要进行样品的切割和抛光。
对于非晶态材料和纳米颗粒样品，通常需要使用离心切片机或离心抛光机进行样品的切割和抛光，以获得薄膜或薄片样品。
而对于生物样品，则需要使用超薄切片机进行样品的切割，以获得透明的样品切片。
在样品的切割和抛光过程中，需要严格控制切割和抛光的条件和参数，确保样品的表面平整和光滑。
最后，样品的制备需要进行样品的染色和标记。
对于生物样品，通常需要使用染色剂对样品进行染色，以增强样品的对比度和清晰度。
同时，还可以使用金标记等方法对样品进行标记，以便观察特定结构或分子。
在样品的染色和标记过程中，需要严格控制染色和标记的条件和参数，确保样品的染色和标记效果良好。
综上所述，透射电镜样品制备是透射电镜观察的关键步骤之一。
通过选择合适的样品、进行样品的处理和制备、进行样品的切割和抛光、进行样品的染色和标记等步骤，可以获得高质量的透射电镜样品，为后续的观察和分析提供可靠的基础。
扫描电镜SEM样品制备
二、实验用品
1. 材料
2.
植物的的根、茎、叶或动物的脏器等。
3. 2. 试剂
4.
丙酮、乙醇、2％戊二醛溶液、1％锇酸、
磷酸缓冲液、醋酸异戊酯、液体二氧化碳、导
电胶等。
5. 3. 器材
6.
扫描电镜、 临界点干燥法、真空喷镀仪、
6. 样品的干燥
常规临界点干燥法。
临界点干燥法
• 临界点干燥法是一种消除了物相界面(液相／气相)，也就是 消除了表面张力来源的干燥方法。这种方法由于没有表面 张力的影响，所以样品不易收缩和损伤。具体处理步骤如 下：
• 装样： 将样品从醋酸异戊酯中挑入(或倒入)样品笼中，用 滤纸吸去样品笼外围的醋酸异戊酯，然后连笼移入仪器的 样品杯(高压容器)内，盖上盖并拧紧以防漏气。(注：在装 样前，应先打开仪器电源，将温度调节设定在0℃处预冷 10～15min，以保证液态二氧化碳有足够量进入样品杯中)。
• 排气：在保持温度不变的条件下(即不关电源)，打开流量 计的排气阀门，以1.0～1.51／min的速度排气(速度慢些 更好)。约经45～60min后，排气完毕，样品杯的压力下降 到零，将温度调节至室温约5rain后，即可取出样品装台镀 膜(若不能立即装台，应置于干燥器内保存)。
临界点干燥操作时的注意事项： • 在样品放进样品杯前，样品杯应预先冷却至0～10℃。 • 样品不宜过湿，但也不能让其表面干涸，应在半干半湿时
离子溅射镀膜法:
在低真空中进行辉光放电时，由于离子冲击，阴极金 属物质有飞溅现象称为溅射。利用离子溅射仪对样品进行 金属镀膜的方法，称为溅射镀膜法。溅射镀膜法的装置很 简单，主要由真空部分(真空泵)和溅射部分(真空罩)组成， 在真空罩内装有阴极和阳极，阴极对着阳极的一面装有用 于溅射用的金属靶(黄金靶、铂靶、白金靶或钯靶等)，样 品放在阳极的样品座上面。当真空罩内的真空度抽到10～ 1Pa时，在阴极与阳极之间加上1000～3000V的直流电压， 两极之间产生弧光放电的电场。在电场的作用下，罩内残 余的气体分子被电离为正离子和电子，正离子被阴极吸引 轰击金属靶，激发出金属颗粒和电子，并被阳极吸引附着 在样品表面而形成金属导电膜。
透射电镜细胞样品制备流程
透射电镜细胞样品制备流程以透射电镜细胞样品制备流程为标题，我们来介绍一下这个过程。
透射电镜（Transmission Electron Microscope，TEM）是一种高分辨率的显微镜，可以用来观察非常微小的细胞结构和内部细节。
为了获得高质量的透射电镜图像，样品的制备非常重要。
下面我们将详细介绍透射电镜细胞样品制备的流程。
第一步，收集细胞样品。
可以选择不同类型的细胞样品，如动物细胞、植物细胞或微生物细胞。
细胞样品可以从生物实验室中获得，也可以通过培养细胞来获取。
第二步，固定细胞样品。
固定是为了保持细胞在制备和观察过程中的形态和结构。
常用的固定剂有乙醛、戊二醛等。
将细胞样品与固定剂混合，使细胞膜和细胞器固定在原位，停止细胞内部的生化反应。
第三步，脱水样品。
将固定的细胞样品通过一系列浓度递增的乙醇溶液进行脱水处理。
脱水的目的是去除细胞内外的水分，使样品适合后续的浸渍和包埋。
第四步，浸渍和包埋样品。
将脱水后的细胞样品置于透明的有机溶剂中，如丙酮或环氧树脂。
浸渍的目的是使样品与嵌入剂之间充分接触，逐渐将有机溶剂替换为嵌入剂。
然后将样品转移到嵌入剂中，使细胞样品被完全包裹在固体嵌入剂中。
第五步，切片样品。
使用超薄切片机将包埋的细胞样品切成非常薄的切片，一般为50-100纳米。
切片的过程需要非常小心和精确，以确保切片的质量和一致性。
第六步，上膜样品。
将切好的细胞样品转移到透明的膜上，如碳膜或铜膜。
上膜的目的是增强样品的稳定性和导电性，以便在透射电镜中观察。
第七步，染色样品。
可以使用染色剂来增加样品的对比度和可见度。
常用的染色剂有重金属盐（如铋盐）和阴离子染料（如尼格罗红）。
染色的过程需要小心操作，以避免染料的过度使用或样品的损坏。
第八步，干燥样品。
将上膜和染色后的样品放置在通风设备中，使其自然干燥。
干燥后的样品可以储存在干燥剂中，以保持其稳定性和保存时间。
将制备好的样品放入透射电镜中进行观察。
通过透射电镜，我们可以获得高分辨率和高对比度的细胞图像，从而更好地研究细胞的结构和功能。
电镜检测流程
电镜检测流程引言：电子显微镜（electron microscope，简称EM）是一种利用电子束代替光束进行成像的显微镜。
相比光学显微镜，电子显微镜具有更高的放大倍数和更高的分辨率，因此在各个领域都有广泛的应用。
本文将介绍电镜检测的基本流程，以及常见的几种电子显微镜的类型。
一、样品制备在进行电镜检测之前，首先需要对待检样品进行制备。
样品制备的目的是使样品具备透射电镜或扫描电镜观察的条件。
1. 透射电镜样品制备：透射电镜需要制备非常薄的样品，通常要求样品厚度在100纳米以下。
常用的样品制备方法包括切片、薄膜法、冷冻法等。
切片法是将样品切成薄片，然后使用特殊的工具将薄片转移到铜网或碳膜上。
薄膜法是通过蒸发或溅射等方法在网格或碳膜上制备一层薄膜，然后将样品放置在薄膜上。
冷冻法是将样品冷冻至极低温，然后通过切片机将样品切成薄片。
2. 扫描电镜样品制备：扫描电镜对样品的制备要求相对较低，通常只需要将样品固定在导电底座上，并进行金属镀膜以增加导电性。
常用的固定方法包括化学固定、冻干法和浸渍法。
金属镀膜通常使用金或金-铂合金进行镀膜。
二、电镜操作步骤电镜检测的操作步骤包括样品安装、对焦调节、电子束参数设置、图像获取等。
1. 样品安装：将样品安装在电镜样品台上，并确保样品与电子束的路径对齐。
透射电镜需要将样品安装在透明的网格或碳膜上，而扫描电镜则将样品安装在导电底座上。
2. 对焦调节：通过调节透射电镜的对焦环，或者调节扫描电镜的工作距离，使样品处于最佳对焦状态。
对焦时需要根据样品的特点和检测要求进行调节。
3. 电子束参数设置：根据样品的性质和检测要求，设置透射电镜或扫描电镜的电子束参数。
透射电镜的参数包括透射电镜的加速电压、聚焦电流和透射电镜的模式等；扫描电镜的参数包括扫描电镜的加速电压、孔径和扫描速度等。
4. 图像获取：根据样品的特点和检测要求，选择合适的检测模式，并进行图像获取。
透射电镜可以通过透射模式获取样品的内部结构信息，而扫描电镜可以通过扫描模式获取样品表面的形貌信息。
透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法透射电镜（Transmission Electron Microscopy，简称TEM）是一种高分辨率的显微镜，能够观察到原子尺度的物质结构。
在进行透射电镜观察前，样品的制备是至关重要的一步。
本文将介绍透射电镜样品制备的方法，希望能够帮助大家更好地进行样品制备工作。
首先，样品的制备要求样品具有一定的薄度。
因此，在进行透射电镜观察前，通常需要将样品切割成极薄的切片。
对于生物样品，可以采用超薄切片机进行切割；对于金属、陶瓷等样品，可以采用离子蚀刻或机械打磨的方法制备薄片。
在进行切割或打磨时，需要保持样品表面的平整和光洁，以确保透射电镜观察时获得清晰的图像。
其次，样品的制备还需要考虑到样品的固定和染色。
对于生物样品，固定和染色是非常重要的步骤。
固定可以保持样品的形态和结构不变，而染色则可以使样品在透射电镜下更易于观察。
常用的固定剂包括乙醛、戊二醛等，而染色剂则根据需要选择不同的染色方法。
另外，样品的制备还需要考虑到样品的支撑。
在进行透射电镜观察时，样品通常需要支撑在一种载体上，以便于放置在透射电镜的样品台上。
常用的载体包括碳膜、网格和硅片等。
在选择载体时，需要考虑到载体的透明性、机械强度和热稳定性等因素。
最后，样品的制备还需要考虑到真空条件。
透射电镜通常在高真空环境下进行观察，因此样品制备时需要保证样品的干燥和密封。
特别是对于生物样品，需要进行脱水和干燥处理，以避免在真空环境下产生气泡或水蒸汽，影响透射电镜观察效果。
总之，透射电镜样品制备是透射电镜观察工作中至关重要的一步。
在进行样品制备时，需要考虑到样品的薄度、固定和染色、支撑和真空条件等因素，以确保最终获得清晰、准确的透射电镜图像。
希望本文介绍的方法能够对大家进行透射电镜样品制备工作有所帮助。
扫描电镜的样品制备
扫描电镜的样品制备
扫描电镜（Scanning Electron Microscope，SEM）是一种高分辨率的显微镜，对于复杂的样品结构、微观形态和表面形貌的分析非常有用。
然而，要获得良好的扫描电镜显像效果，样品的制备至关重要。
下面将介绍几种常用的扫描电镜样品制备技术。
1. 金属喷涂法
金属喷涂法是扫描电镜样品制备的经典方法。
该方法使用金属喷涂仪将金属颗粒喷在样品表面，使其形成一层均匀、导电性良好的金属膜，以便在扫描电镜中观察样品的表面结构。
该方法适用于非导电样品，如细胞、生物组织、聚合物等。
2. 离子切割法
离子切割法利用离子切割机将样品切割成纤细的薄片，以便于在扫描电镜中观察。
这种方法适用于非常薄的样品，如材料薄片、芯片等。
它可以提供非常高分辨率的图像，并且可以通过纵向切割获得样品的三维结构。
3. 冷冻切片法
冷冻切片法是一种用于生物样品的扫描电镜制备方法。
该方法使用超低温技术将样品冻结，并使用超薄刀片切割成极薄的切片，通常为50~200纳米。
这可以保留样品的水感性和原始形态，并使其在扫描电镜中观察更加清晰。
4. 化学蚀刻法
化学蚀刻法是用于金属样品的扫描电镜制备方法。
该方法使用酸或碱对样品表面进行蚀刻，以去除不需要观察的材料，形成清晰的样品结构。
该方法适用于金属薄膜、晶体和合金等金属材料。
总之，良好的扫描电镜样品制备是获得高品质扫描电镜图像的关键。
每种样品都有其独特的制备方法，为了获得最好的结果，在选择合适的制备方法时需要谨慎选择。
简述透射电镜中样品制备的常用方法
透射电镜中样品制备的常用方法透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，TEM）是一种重要的高分辨率显微镜，常用于研究物质的微观结构和性质。
在使用透射电镜观察样品之前，需要对样品进行制备，以确保样品的质量和形貌。
本文将介绍透射电镜中常用的样品制备方法，包括样品的选择、切片制备、薄膜制备等。
1. 样品的选择在进行透射电镜观察之前，样品的选择非常重要。
通常，样品需要满足以下要求：•样品具有一定的透明度，能够让电子束穿透。
•样品存在较为稳定的晶体结构，以便进行晶体学分析。
•样品的尺寸合适，不过大以免超出透射电镜的观察范围。
•样品的形状和厚度需适合观察操作。
常见的样品包括金属、有机物、无机晶体、陶瓷和生物样品等。
2. 切片制备透射电镜观察样品的常用方法之一是制备薄片，即切片制备。
切片制备的目的是将样品制备成适合透射电镜观察的薄片，通常要求薄片的厚度在几百纳米到几微米之间。
切片制备的步骤如下：步骤1：固定样品对于生物样品，首先需要将样品固定。
常用的固定方法包括冷冻固定、化学固定和凝胶固定等。
这些方法可以保持样品原有的结构和形态。
步骤2：取样从固定的样品中取出小块样品，通常使用显微针或者显微刀进行操作。
步骤3：去脂处理（可选）对于脂肪含量较高的样品，需要进行去脂处理。
常见的方法包括冷冻去脂、溶液去脂等。
步骤4：嵌培将取样得到的样品嵌入切片中，嵌培有多种方法。
常用的方法包括：冷冻嵌培、树脂嵌培等。
步骤5：切割将嵌培好的样品进行切割。
切割时需要使用马来酸酐刀或者超薄刀，在适当的位置进行切割，得到适合的样品。
步骤6：收集和保护薄片将切割好的薄片收集并放置在适当的载玻片或网格中，然后进行保护。
保护可以使用丙酮或乙醇进行漂洗、涂层等方法。
3. 薄膜制备除了切片制备外，透射电镜观察样品的另一种常用方法是薄膜制备。
相对于切片制备，薄膜制备更加灵活，可以制备更薄的样品。
薄膜制备的步骤如下：步骤1：样品制备制备需要制备的样品，并确保样品的表面较为光滑。
透射电镜细胞样品制备流程
透射电镜细胞样品制备流程透射电镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种利用电子束穿透样品以获取高分辨率图像的仪器。
它是生物学、材料科学等领域研究中不可或缺的工具。
在细胞学研究中，使用透射电镜观察细胞样品的超高分辨率结构，可以帮助科学家深入了解细胞的组织结构和功能。
想要制备透射电镜的细胞样品，需要经过一系列的步骤和操作。
下面将详细介绍透射电镜细胞样品制备的流程。
1. 样品固定：首先，需要将待观察的细胞样品进行固定。
固定的目的是保持细胞的形态结构和细胞内部组织的稳定性。
常用的固定剂有戊二醛、醋酸乙酯和冰乙酸等。
固定剂的选择应根据细胞类型和实验目的来确定。
2. 组织切片：固定后的细胞样品需要进行切片。
切片可以通过机械切割或冷冻切割等方法进行。
切片时应注意样品的厚度，一般要求细胞切片的厚度在50-100纳米左右。
3. 样品染色：对于未染色的细胞样品，其对电子束的吸收能力较弱，因此需要对样品进行染色增强对比度。
常用的染色剂有重铀酸、铅酸和乙酸铀等。
染色剂的选择应根据样品的性质和实验要求来确定。
4. 薄膜制备：切片好的样品需要转移到透射电镜网格上进行观察。
通常，会使用薄膜来支撑样品，并使其保持平坦。
常用的薄膜材料有碳膜和聚合物膜等。
5. 网格制备：透射电镜网格是一种特殊的载体，用于固定细胞样品并放置在透射电镜中观察。
网格制备通常需要使用特殊的网格支架和胶水，将薄膜和网格固定在一起。
6. 清洗和干燥：制备好的细胞样品需要进行清洗和干燥处理。
清洗的目的是去除样品表面的杂质和残留物，以确保样品的纯净度。
干燥的目的是使样品完全干燥，以便在透射电镜中观察时不产生影响。
7. 观察和记录：制备好的细胞样品可以放入透射电镜中进行观察。
透射电镜通过透射电子束与样品相互作用，获取样品的高分辨率图像。
科学家可以根据观察到的图像来分析细胞的结构和功能，并进行记录和分析。
总结起来，透射电镜细胞样品的制备流程包括样品固定、组织切片、样品染色、薄膜制备、网格制备、清洗和干燥、观察和记录等步骤。
透射电镜半导体样品制备流程英语
透射电镜半导体样品制备流程英语## Transmission Electron Microscopy (TEM) Semiconductor Sample Preparation.Transmission electron microscopy (TEM) is a powerful characterization technique used to study the microstructure of materials at the nanometer scale. It is widely used in the semiconductor industry to analyze the crystal structure, defects, and interfaces of semiconductor devices. Preparing high-quality TEM samples is crucial for obtaining reliable and interpretable results.### Sample Preparation Workflow.The general workflow for TEM sample preparation of semiconductors involves the following steps:1. Sample selection and preparation: The first step isto select a representative sample from the device under investigation. The sample should be thin enough (typicallyless than 100 nm) to allow the electron beam to penetrate and form an image.2. Mechanical thinning: The sample is mechanically thinned using a dimple grinder or ion milling to create a thin region. This process is performed carefully to avoid introducing defects or damaging the sample.3. Chemical etching: Chemical etching is used tofurther thin the sample and remove any surface damage caused by mechanical thinning. The etchant used depends on the semiconductor material and the desired sample thickness.4. Cleaning: The sample is cleaned to remove any contaminants or residues from previous preparation steps. This is typically done using solvents or plasma cleaning.5. Mounting on a TEM grid: The thinned sample is mounted on a TEM grid, which is a thin metal support that holds the sample in place during imaging.### Specific Techniques for Different Semiconductors.The specific sample preparation techniques used mayvary depending on the type of semiconductor material being studied. Here are some common methods for different semiconductors:Silicon: Mechanical thinning using a dimple grinder followed by chemical etching in a solution of hydrofluoric acid (HF) and nitric acid (HNO3).Gallium arsenide (GaAs): Mechanical thinning using anion miller followed by chemical etching in a solution of HF, HNO3, and hydrogen peroxide (H2O2).Indium phosphide (InP): Mechanical thinning using anion miller followed by chemical etching in a solution of HCl, H2O2, and deionized water.### Advanced Techniques.In addition to the basic sample preparation steps,there are several advanced techniques that can be used toimprove the quality of TEM samples:Focused ion beam (FIB) milling: FIB milling uses a focused beam of ions to precisely thin and shape the sample. This technique allows for the preparation of samples with complex geometries or specific cross-sections.Plasma cleaning: Plasma cleaning uses a low-pressure plasma to remove surface contaminants and improve the sample's conductivity. This is particularly useful for samples that are prone to surface oxidation.Cryo-TEM: Cryo-TEM involves preparing and imaging the sample at cryogenic temperatures. This technique preserves the sample's native state and minimizes beam damage.### Quality Control.The quality of the TEM sample is critical for obtaining reliable results. Several quality control measures can be employed to ensure the sample's integrity:Thickness measurement: The thickness of the sample can be measured using a variety of techniques, such as electron energy loss spectroscopy (EELS) or scanning transmission electron microscopy (STEM).Crystallographic orientation: The crystallographic orientation of the sample can be determined using electron diffraction.Defects and imperfections: The presence of defects or imperfections in the sample can be identified by carefully examining the TEM images.By following these sample preparation procedures and implementing appropriate quality control measures, researchers can obtain high-quality TEM samples that provide valuable insights into the microstructure of semiconductor materials.。
透射电镜样品制备
透射电镜样品制备引言透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope, 简称TEM)是一种非常强大的高分辨率成像技术，可以用于观察材料的结构和组织，以及研究纳米级别的材料特性。
在使用TEM进行实验之前，必须制备一种称为透射电镜样品的特殊样品。
透射电镜样品制备的关键是制备出足够薄的样品，以便电子可以通过样品而不会被散射或吸收。
本文将介绍透射电镜样品制备的常用方法和步骤。
方法1. 切割样品透射电镜样品通常需要从大块的材料或器件中切割出来。
首先，选择合适的切割工具，如金刚石刀片或钨丝刀，以确保能够切割出薄片。
然后，将待切割的材料固定在切割台上，并将其固定好。
使用切割工具沿着所需的方向切割材料，控制切割角度和速度，制备出较薄的样品。
2. 技术腐蚀技术腐蚀是一种常用的透射电镜样品制备方法，可以在保持样品形状和结构的情况下，去除样品表面的杂质。
首先，将样品放置在腐蚀液中，如酸性或碱性溶液中。
然后，根据所需的腐蚀速率和选择的溶液，控制腐蚀时间，使材料的表面逐渐溶解。
腐蚀完成后，取出样品并用纯水冲洗，最后用热空气干燥。
3. 离心旋涂法离心旋涂法是一种常用的制备透射电镜样品的方法，适用于制备薄膜和纤维样品。
首先，将待制备的样品溶液或悬浮液滴在旋涂机的旋盘中心。
然后，启动旋涂机，使旋盘高速旋转。
在旋涂过程中，液体会在旋盘边缘形成薄膜或纤维，而溶剂则会挥发掉。
当样品完全干燥后，取出样品即可。
4. 离子磨蚀离子磨蚀是一种制备透射电镜样品的高级方法。
它可以控制样品的厚度和形状，并在其表面形成平坦的区域。
首先，将样品放置在磨蚀仪中，并选择合适的离子束参数。
然后，启动磨蚀仪，使离子束磨蚀样品表面。
通过控制磨蚀时间和离子束能量，可以获得所需的样品厚度和表面平整度。
结论透射电镜样品制备是进行TEM实验的关键步骤之一。
通过选择合适的方法和技术，可以制备出足够薄的样品，以便电子能够透射而不被散射或吸收。
tem透射电镜的样品制备方法
tem透射电镜的样品制备方法TEM（透射电子显微镜）是一种高分辨率的显微镜，可以观察到物质的微观结构和原子级的细节。
TEM样品的制备是获取高质量TEM图像的关键步骤之一、下面将介绍一些常用的TEM样品制备方法。
1.机械切片法:通过将所研究物质切片成非常薄的片，以便电子束能够透过样品。
这种方法适用于硬材料或质地坚硬的样品。
首先，使用机械工具（如剪刀）或精密切割仪来制备尺寸较小的薄片。
随后，使用刮刀等工具，将薄片轻轻地转移到透明的TEM样品网格上。
最后，用气吹干净样品，并使用显微镜检查成果。
2.离心沉淀法:使用这种方法，可以制备到具有较大颗粒的样品。
首先，将所研究的材料分散在适当的溶剂中，并用超声波处理来消除聚集物。
然后，使用离心机将样品离心，使颗粒沉淀在薄网格上。
最后，将样品干燥，并用透明胶带密封以保持样品稳定。
3.冻脱水法:这种方法适用于液态或可溶性样品。
首先，将样品溶解在适当的溶剂中，然后将溶液滴到一片透明的TEM样品网格上。
接下来，将样品迅速冷冻，使其形成冻结状态，并使用真空甚至液氮将水从样品中去除。
最后，将样品干燥，并用透明胶带密封以保持样品稳定。
4.薄膜制备法:对于一些材料，可以通过溅射、蒸镀、离子束制备等方法制备薄膜样品。
这种方法适用于需要研究材料的表面结构和形貌的情况。
通过这些技术，可以在TEM样品网格上制备出具有亚纳米尺寸的薄膜。
无论使用哪种方法，请确保样品制备过程中防止氧化或其他污染物的入侵，以保持样品的原始状态。
此外，制备过程中的轻柔操作以及对透明度的注意，也是获得高质量TEM样品的关键。
最后，使用TEM显微镜观察样品前，确保样品在真空或干燥的环境中，以避免图像的模糊或扭曲。
第透射电镜样品制备
2）应在高倍下不显示自身组织，本身 颗粒度要小，以提高样品分辨率；
3）有较好的化学稳定性、导电性和导 热性。
支持膜法
常用的支持膜材料有：
火棉胶、 AC纸（醋酸纤维素膜）、碳等。 上述材料除了单独能做支持膜材料外，还可以在火棉胶等塑
料支持膜上再镀上一层碳膜，以提高其强度和耐热性。镀碳后 的支持膜称为加强膜。
Ion Milling 2）表面复型和萃取复型： 1）间接反映样品表面形貌； 3、AC纸（醋酸纤维素膜）的制备 一层厚度为数十纳米的碳膜。 2）表面复型和萃取复型： 从大块试样上，通过各种特殊方法，制备出能使电子穿过的薄区。
TEM Sample Preparation
Dimple Grinding 3）中间复型为塑料（较厚）较易剥离 离子减薄成套制样设备：
TEM Sample Preparation TEM的样品制备方法:
过的薄区。 Disk Grinding
原 理：在一定的真空条件下，氩气在高压下发生电离，氩离子流以一定的入射角轰击样品，当离子的能量高于样品材料表面原子的结 合能时，样品表层原子发生溅射。 面展平，多余的用滤纸吸掉， 将粉末溶液滴在支持膜上； 金相组织观察、断口形貌、形变
为了增加衬度可在倾斜 15-45°的方向上喷镀一层 重金属，如Cr、Au等。
复型法
二级复型的特点：
优点： 1） 制样简便； 2）不破坏试样表面 3）中间复型为塑料（较厚）较易剥离 4）观察膜为碳膜，导电性好（如投影重金
属）。
缺点：
1）间接反映样品表面形貌； 2）易引入假像，如气泡、皱折等； 3）不能提供材料的内部信息；
分辨率低（10－20nm），电子束照射下易 分解和破裂。
碳一级复型
样品放入真空镀膜装置中， 在垂直方向上向样品表面蒸镀 一层厚度为数十纳米的碳膜。 把样品放入配好的分离液中进 行电解或化学分离。
透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种利用电子束穿透样品而观察样品结构的高分辨率显微镜。
为了获得高质量的透射电子显微镜图像，样品制备是非常重要的一步。
下面将介绍几种常见的透射电镜样品制备方法。
1.薄片制备法：薄片制备法是最常用的透射电镜样品制备方法之一、首先，将待观察的材料切割成薄片，通常使用切片机或者离心切片机进行切割。
然后，将薄片放置在网格上，并用显微镊夹持住。
接下来，使用离心机将网格和薄片一起离心，以去除多余的液体。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
2.离解法：离解法适用于那些不易制备成薄片的样品。
首先，将待观察的样品制备成溶液或者悬浮液。
然后，将溶液滴在碳膜覆盖的网格上。
接下来，使用离心机将网格和溶液一起离心，使溶液在网格上均匀分布。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
3.冻结法：冻结法适用于那些需要观察生物样品或者水溶液的样品。
首先，将待观察的样品制备成溶液或者悬浮液。
然后，在液氮中冷冻样品，使其迅速冻结成冰。
接下来，使用离心机将冰冻样品离心，以去除多余的液体。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
4.脂溶法：脂溶法适用于那些不溶于水的样品。
首先，将待观察的样品制备成脂溶液。
然后，将脂溶液滴在碳膜覆盖的网格上。
接下来，使用离心机将网格和脂溶液一起离心，使脂溶液在网格上均匀分布。
最后，将网格放入透射电镜中进行观察。
除了以上几种常见的透射电镜样品制备方法，还有一些特殊的方法，如原位制备法、离子切割法等。
这些方法可以根据实际需求选择使用。
总结起来，透射电镜样品制备是透射电子显微镜观察样品结构的关键步骤。
合适的样品制备方法可以保证获得高质量的透射电镜图像。
不同的样品制备方法适用于不同类型的样品，研究人员可以根据实际情况选择合适的方法进行样品制备。
材料分析方法-15 透射电镜样品的制备
常用方法：胶粉混合法和支持膜分散粉末法 常用支持膜的材料见下表
Grid
Figure 1. Top: Overhead view of a grid, showing the mesh. Bottom: Side view of a carbon coated grid showing the relative
注意：磨制过程中，要平稳，用力不要过大，注意冷却。
研磨薄片用的支座
三脚抛光器
②化学减薄 将切好的试片放入配制好的化学试剂中，使其表面
腐蚀而减薄。
优点： • 表面无机械硬化层 • 速度快 • 厚度可控制在20-50 μm，有利于终减薄
（3） 终减薄
①电解减薄
目前使用最广、效率最高、操作最简便的方法是双喷电解抛光 法。
等离子体激发--主要发生在金属中。当入射电子通过电子云时，金属中自由
电子基体发生振动，这种振动在10-15s内就消失了，且该振动局限在纳米范围 内，这就是等离子体激发（Plasma excitation）。等离子体激发是入射电子引 起的，因此入射电子要损失能量，这种能量损失随材料的不同而不同。利用 测量特征能量损失谱进行分析，就是能量分析显微术。若选择有特征能量的 电子成像，就是能量损失电子显微术。
薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同，在制备过 程中，组织结构不变化；
❖ 样品相对于电子束必须有足够的透明度；
薄膜样品应有一定强度和刚度，在制备、夹持和操作 过程中不会引起变形和损坏；
在样品制备过程中不允许表面产生氧化和腐蚀。
平面样品制备的工艺过程
（1）切（取）薄片样品
从实物或大块试样上切割厚度一般厚 约200-300 μm的薄片，切割方法一般 分两类 。
透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法透射电镜（Transmission Electron Microscope，TEM）是一种能够观察物质内部微观结构的高分辨率显微镜，广泛应用于材料科学、生物学、纳米技术等领域。
而透射电镜样品的制备质量直接影响到后续的观察结果。
因此，制备高质量的透射电镜样品至关重要。
下面将介绍一些常用的透射电镜样品制备方法。
首先，对于生物样品的制备，常用的方法是冷冻切片技术。
这种方法能够保持生物样品的原始结构，避免了传统化学固定和脱水过程中可能引起的伪形态。
在冷冻切片过程中，样品被快速冷冻，并在低温下切割成极薄的切片，然后通过透射电镜观察。
这种方法适用于观察生物细胞、组织等样品。
其次，对于材料样品的制备，常用的方法是机械切割和离子蚀刻。
机械切割是指利用超薄切片机或离心切片机将材料切割成极薄的切片，然后通过透射电镜观察。
而离子蚀刻则是利用离子束对材料进行加工，形成极薄的样品。
这两种方法适用于观察金属、陶瓷、半导体等材料样品。
另外，对于纳米材料的制备，常用的方法是原位制备技术。
这种方法通过在透射电镜下直接在样品表面进行原位制备，如原位成膜、原位合成等，可以观察到纳米材料的生长过程和结构特征。
这种方法适用于观察纳米颗粒、纳米线、纳米片等样品。
总的来说，透射电镜样品的制备方法多种多样，选择合适的制备方法需要根据具体样品的性质和要求来确定。
在制备过程中，需要注意样品的预处理、切割、薄化等步骤，确保样品的质量和结构完整。
通过精心制备的透射电镜样品，可以获得清晰、准确的观察结果，为后续的科研工作提供可靠的数据支持。
在透射电镜样品制备过程中，还需要注意操作规范、安全防护等问题，确保实验过程安全可靠。
同时，不同样品的制备方法可能存在差异，需要根据具体情况进行调整和改进。
希望本文介绍的透射电镜样品制备方法能够为相关科研工作者提供一些参考和帮助，促进透射电镜技术的应用和发展。
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No.1 扫描电镜样品制备方法
样品在2.5%的戊二醛溶液中4℃固定过夜，然后按下列步骤处理样品：✧倒掉固定液，用0.1M，pH7.0的磷酸缓冲液漂洗样品三次，每次15min；
✧用1%的锇酸溶液固定样品1-2h；
✧倒掉固定液，用0.1M，pH7.0的磷酸缓冲液漂洗样品三次，每次15min；
✧用梯度浓度（包括30%,50%，70%，80%，90%和95%五种浓度）的乙
醇溶液对样品进行脱水处理，每种浓度处理15min，再用100%的乙醇处理两次，每次20 min。
✧用乙醇与醋酸异戊酯的混合液（V/V=1/1）处理样品30min，再用纯醋酸
异戊酯处理样品1-2h。
✧临界点干燥。
✧镀膜，观察。
处理好的样品在Hitachi TM-1000型扫描电镜中观察。
1.Double fixation: The specimen was first fixed with
2.5% glutaraldehyde in
phosphate buffer (pH7.0) for more than 4hours; washed three times in the phosphate buffer; then postfixed with 1% OsO4 in phosphate buffer (pH7.0) for 1hour and washed three times in the phosphate buffer.
2.Dehydration: The specimen was first dehydrated by a graded series of
ethanol (30%,50%, 70%, 80%, 90%, 95% and 100%) for about 15 to 20 minutes at each step, transferred to the mixture of alcohol and iso-amyl acetate (v:v=1:1) for about 30 minutes, then transferred to pure iso-amyl acetate for about 1hour. In the end, the specimen was dehydrated in Hitachi Model HCP-2 critical point dryer with liquid CO2.
3.Coating and observation: The dehydrated specimen was coated with
gold-palladium and observed in Philips Model TM-1000 SEM.
No.2 Negative staining of bacterium
The bacterium suspension was stained by 1 to 2%solution of phosphotungstic acid (PTA) in a pH range of 6.5 to 7.0 for 15 to 30 seconds. Then, the bacterium was observed in TEM of Model JEM1230.
No.3透射电镜样品制备方法
样品在2.5%的戊二醛溶液中4℃固定过夜，然后按下列步骤处理样品：✧倒掉固定液，用0.1M，pH7.0的磷酸缓冲液漂洗样品三次，每次15min；
✧用1%的锇酸溶液固定样品1-2h；
✧倒掉固定液，用0.1M，pH7.0的磷酸缓冲液漂洗样品三次，每次15min；
✧用梯度浓度（包括30%,50%，70%，80%，90%和95%五种浓度）的乙
醇溶液对样品进行脱水处理，每种浓度处理15min，再用100%的乙醇
处理一次，每次20min；最后过度到纯丙酮处理20min。
✧用包埋剂与丙酮的混合液（V/V=1/1）处理样品1h；
✧用包埋剂与丙酮的混合液（V/V=3/1）处理样品3h；
✧纯包埋剂处理样品过夜；
将经过渗透处理的样品包埋起来，70℃加热过夜，即得到包埋好的样品。
样品在Reichert超薄切片机中切片，获得70-90nm的切片，该切片经柠檬酸铅溶液和醋酸双氧铀50%乙醇饱和溶液各染色15min，即可在Hitachi H-7650型透射电镜中观察。
1.Double fixation: The specimen was first fixed with
2.5% glutaraldehyde in phosphate buffer (pH7.0) for more than 4hours; washed three times in the phosphate buffer; then postfixed with 1% OsO4 in phosphate buffer (pH7.0) for 1hour and washed three times in the phosphate buffer.
2.Dehydration: The specimen was first dehydrated by a graded series of ethanol (30%,50%, 70%, 80%, 90%, 95% and 100%) for about 15 to 20 minutes at each step, transferred to absolute acetone for 20 minutes.
3. Infiltration: The specimen was placed in 1:1 mixture of absolute acetone and the final Spurr resin mixture for 1hour at room temperature, then transferred to 1:3 mixture of absolute acetone and the final resin mixture for 3hours and to final Spurr resin mixture for overnight.
4.Embedding and ultrathin sectioning: Specimen was placed in capsules
contained embedding medium and heated at 70℃for about 9hours. The specimen sections were stained by uranyl acetate and alkaline lead citrate for
15 minutes respectively and observed in TEM of Model H-7650.
直接观察的扫描样品
1、样品粘附在样品台上，在Eiko IB5型离子溅射仪中喷镀4-5min。
2、样品在日本Hitachi TM-1000型扫描电镜中观察。
The specimen was coated with gold-palladium in Eiko Model IB5 ion coater for 4-5min and then observed in Hitachi Model TM-1000 SEM.。