溅射靶材项目立项报告

溅射靶材项目

立项报告

一、项目名称及性质

（一）项目名称

溅射靶材项目

（二）项目建设性质

本项目属于新建项目。

二、公司简介

面对宏观经济增速放缓、结构调整的新常态，公司在企业法人治

理机构、企业文化、质量管理体系等方面着力探索，提升企业综合实力，配合产业供给侧结构改革。同时，公司注重履行社会责任所带来

的发展机遇，积极践行“责任、人本、和谐、感恩”的核心价值观。

多年来，公司一直坚持坚持以诚信经营来赢得信任。

公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念，倡导“诚信尊重”的企业情怀；坚持“品质营造未来，细节决定成败”为质量方针；以

“真诚服务赢得市场，以优质品质谋求发展”的营销思路；以科学发

展观纵观全局，争取实现行业领军、技术领先、产品领跑的发展目标。

公司按照“布局合理、产业协同、资源节约、生态环保”的原则，加强规划引导，推动智慧集群建设，带动形成一批产业集聚度高、创

新能力强、信息化基础好、引导带动作用大的重点产业集群。加强产

业集群对外合作交流，发挥产业集群在对外产能合作中的载体作用。

通过建立企业跨区域交流合作机制，承担社会责任，营造和谐发展环境。

公司在“政府引导、市场主导、社会参与”的总体原则基础上，

坚持优化结构，提质增效。不断促进企业改变粗放型发展模式和管理

方式，补齐生态环境保护不足和区域发展不协调的短板，走绿色、协

调和可持续发展道路，不断优化供给结构，提高发展质量和效益。牢

固树立并切实贯彻创新、协调、绿色、开放、共享的发展理念，以提

质增效为中心，以提升创新能力为主线，降成本、补短板，推进供给

侧结构性改革。

主要经济指标一览表

三、项目提出的理由

（一）提高制造业创新能力。

深入推动以科技创新为核心的全面创新，完善以企业为主体、市场为导向、产学研资用相结合的制造业创新体系，围绕产业链部署创新链，围绕创新链配置资源链，引导企业加大研发投入，加强关键核心技术研发，加强研发机构建设，加速科技成果产业化，激发科技型中小企业创新活力，构建创新生态系统，不断提高关键环节和重点领域的创新能力。

（二）加快制造业供给侧结构性改革。

按照供给侧结构性改革整体部署，发展壮大战略性新兴产业，改造提升传统产业，促进战略性新兴产业与传统产业有序衔接、竞相发力，构建多支柱产业体系，不断增加有效供给。以市场化、法制化方式加快化解过剩产能，盘活“僵尸企业”和空壳公司资产，积极稳妥去除无效供给。

（三）推动制造业开放发展。

充分利用国际国内两个市场两种资源，发挥重点区域的引领带动作用，提高利用内外资水平，深化国际产业合作，推动加工贸易创新发展，完善国际物流通道，吸引全球要素集聚我市，促进本地产品分销全球，打造内陆开放高地新优势。

（四）推进信息化与工业化深度融合。

加快推动新一代信息技术与制造技术融合发展，把智能制造作为

两化深度融合的主攻方向，完善智能制造支撑体系，推进制造过程智

能化，深化制造业与互联网融合，加强互联网基础设施建设，全面提

升企业信息化智能化水平。

（五）强化工业基础能力。

核心基础零部件（元器件）、先进基础工艺、关键基础材料和产

业技术基础（以下统称“四基”）等工业基础能力薄弱，是制约制造

业创新发展和质量提升的症结所在。要坚持问题导向，聚焦汽车、智

能终端、机器人等重点产品，注重需求侧激励，统筹好、引导好、发

挥好整机企业与基础企业双方积极性，加快破解制约制造业发展的瓶颈。

（六）加强质量品牌建设。

提高企业质量控制能力，提升产品质量，完善质量管理机制，夯

实质量发展基础，优化质量发展环境，努力实现制造业质量大幅提升。鼓励企业追求卓越品质，形成具有自主知识产权的名牌产品，不断提

升企业品牌价值和重庆制造整体形象。

靶材：溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高纯度

溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）工艺，是制备晶圆、面板、太阳

能电池等表面电子薄膜的关键材料。

溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布。产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜

环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

溅射靶材的制备工艺主要分熔融铸造法和粉末冶金法两种。熔融

铸造法的优点是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低,密度高,可大

型化，缺点是需要后续加工和热处理工艺降低其孔隙率，难以做到成

分均匀化。粉末冶金法优点是靶材成分均匀，节约原材料，生产效率高；缺点是密度低,杂质含量高。

为推动溅射靶材产业发展，增强产业创新能力和国际竞争力，带

动传统产业改造和产品升级换代，进一步促进国民经济持续、快速、

健康发展，我国推出了一系列支持溅射靶材产业发展的政策。

目前，全球的靶材制造行业，特别是高纯度的靶材市场，呈现寡

头垄断格局，主要由几家美日大企业把持，如日本的三井矿业、日矿

金属、日本东曹、住友化学、日本爱发科，以及美国霍尼韦尔、普莱

克斯等。

国内靶材行业龙头包括有研新材、隆华科技、江丰电子以及阿石创。2018年底，进口靶材免税结束，国家实行对内补贴，对外征税的

模式，拉开靶材行业国产替代的大幕。有研新材、隆华科技、江丰电子、阿石创等靶材龙头企业，在各自的细分领域进行技术突破进而形

成自己的核心优势，使国产替代成为可能

溅射靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等

领域。其中，在溅射靶材应用领域中，半导体芯片对溅射靶材的金属

材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握

生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。因此，半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的，价格也最为昂贵。

显示屏玻璃基板尺寸不断增大，预计带来靶材需求增加。随着各

时代显示屏玻璃基板以及一些设备显示屏的尺寸逐渐增大，显示面板

用溅射靶材的需求预计会不断增大。

半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，也是对靶

材的成分、组织和性能要求最高的领域。具体来讲，半导体芯片的制