蚀刻液提铜简介
废蚀刻铜液制取氧化铜及废液的再生条件研究
（ 工业纯） ； 工业纯） 。 ;57+3 ’(: （ &6 ! 反应原理及工艺流程 采用酸性蚀刻废液与碱性蚀刻废液混和、 过 滤， 沉淀出来的物质经加碱转化后， 洗涤、 干燥、 煅烧等过程得到氧化铜产物； 过滤剩下的滤液经 调整溶液中氯离子浓度、 使它又成 45 值等条件， 为新的蚀刻液， 达到废液回收利用的效果 8 ! 9 。反 应方程式如下， 工艺流程如图 & 所示。
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母液 从表 ! 可以看出， &’ 值控制在 ., " 时， 中残留的 ()! * 浓度最低， 沉淀较完全。
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对去铜后的母液指标的调整 将沉淀铜化合物分离后得到的母液， 通过调
节 &’ 值、 温度、 使得母液成为蚀刻印刷 (7 3 浓度， 电路板的蚀刻液， 达到废液回收利用的效果。
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总结 根据以上一系列实验， 找出了印刷电路板蚀
刻液的再生和回收铜的新方法。 将酸性和碱性蚀
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蚀刻液提铜简介
吃对于芳罔来说从来不是难事。只要痋虓摇一摇爪子,从痋洞里发出几声声响
解决。但传统的加化学药剂，操作成本高，且造 成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高（溶解 性盐类造成），导致废水回用难度加大或者根本 无法回收使用的后续问题。
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一、微蚀液包括过硫酸钠/硫酸体系和双氧 水/硫酸体系，在近几年广泛的运用在 PCB 之表 面处理制程，例如：沉铜（PTH)制程，电镀制程、 内层前处理、绿油前处理、OSP 处理等生产线。
我们目前对过硫酸钠/硫酸和双氧水/硫酸 两种体系的微蚀工序研发设计了不同的循环再
本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液
吃对于芳罔来说从来不是难事。只要痋虓摇一摇爪子,从痋洞里发出几声声响
再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极 少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失 去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工 艺的要求，又可节省生产成本。
蚀刻液再生循环系统有酸性、碱性两大系 统，两大系统又可分为萃取法、直接电解法∩将
蚀刻液提铜简介
PCB 行业制作工序中产生大量微蚀液、蚀刻 液、硝酸铜等含有不同浓度的铜等金属，回收价 值高，且外排废水中也会有少量的铜重金属存 在，如不能合理的进行环保处理，一方面造成资 源的严重浪费，另一方面重金属排放后渗入至土
壤及水源之中，即会对我们赖以生存的自然环境 及自身的健康产生严重的污染和危害。
我们所研发的微蚀刻循环再生设备、蚀刻液 再生循环设备、硝酸铜铜回收设备，是一项专门
铜蚀刻液 单剂
铜蚀刻液单剂1.引言1.1 概述铜蚀刻液是一种用于蚀刻铜材料的化学溶液。
它通常由多种成分组成，如酸性物质、氧化剂和其他辅助剂。
铜蚀刻液的主要作用是将铜材料表面的氧化层、污垢和其他不需要的杂质去除，从而得到清晰、平滑的铜表面。
铜蚀刻液具有广泛的应用领域。
在电子工业中，铜蚀刻液常用于制作电路板和集成电路等器件，以便去除不需要的铜材料，以实现电路的精确化设计。
此外，铜蚀刻液还可以应用于金属加工和艺术品制作等领域。
铜蚀刻液的作用机理是基于化学反应原理的。
通过将酸性物质和氧化剂结合在一起，铜蚀刻液可以产生足够的活性物质，以与铜表面的氧化层发生反应。
这些活性物质能够迅速侵蚀铜表面，并将其溶解掉。
同时，铜蚀刻液中的辅助剂可以起到调节酸碱度和增强溶液稳定性的作用，从而提高蚀刻效果和延长蚀刻液使用寿命。
随着科学技术的不断发展和应用需求的提高，铜蚀刻液的应用前景十分广阔。
特别是在电子行业中，随着集成度和尺寸要求的增加，对高精度蚀刻工艺的需求也越来越迫切。
因此，铜蚀刻液将继续在电子行业中发挥重要作用，并有望在更多领域得到应用。
在未来的发展方向上，铜蚀刻液需要更加环保和高效。
减少对环境的污染和资源的浪费是未来铜蚀刻液发展的重要方向之一。
此外，随着新材料和新工艺的不断涌现，铜蚀刻液需要适应这些变化，并提供更多的选择和解决方案。
总之，铜蚀刻液作为一种重要的化学溶液，在电子工业和金属加工等领域具有广泛应用。
通过准确调控其成分和作用机理，铜蚀刻液可以为各种应用场景提供高效、精确的蚀刻效果。
未来，铜蚀刻液的发展将面临环保和高效两大挑战，但同时也带来了更多的机遇和发展前景。
1.2文章结构1.2 文章结构本文将按照以下结构进行阐述铜蚀刻液单剂的相关内容：1. 引言：在这一部分中，将对铜蚀刻液的概述进行介绍，包括其定义、历史背景以及当前的研究状况。
同时，将简要描述本文的结构和目的。
2. 正文：2.1 铜蚀刻液的成分：本节将详细介绍铜蚀刻液的组成成分，包括溶液中的主要化学物质以及它们的含量和比例。
碱性蚀刻液循环再生系统
碱性蚀刻液循环再生系统
一、技术简介
碱性蚀刻液循环再生系统是专门针对PCB印制线路板厂生产中产生的碱性蚀刻废液而设计的，采用先进的封闭式自体循环和平行式无损分离技术（CSC-PLS）进行金属铜的分离和蚀刻液的回用，经严格有效的工艺过程，实现了溶液的长期循环再生和100%铜回收率的目标，同时将生产运行成本控制到最低。
该系统与蚀刻机在线闭环连接，自动循环运作。
二、设备说明
1、工艺流程
蚀刻机中溢流出的碱性蚀刻废液进入母液罐，再用泵送入电解槽。
调整主机内铜离子浓度、氯离子浓度和碱度至规定标准，然后通电电解。
取出产品电解铜，将溶液泵至再生子液罐，并检测溶液各离子浓度、pH值，根据检测结果调整各成分含量，调整完毕再次检测，合格后泵入子液罐中待PCB厂家使用。
三、环保指标
◆该系统采用封闭式自体循环和无损分离技术（CSC-PLS）实现了废液的100%回用
◆在整个过程中无固体废弃物、废液、废气产生
◆完全符合国家清洁生产、节能减排的环保要求
四、特点及优势
◆本系统采用PLS平行式无损分离技术，整个过程无需使用任何萃取剂、添加剂，真正实现了对废蚀刻液的无损分离，保证了蚀刻液回用的质量。
◆本系统采用CSC封闭式自体循环技术对废蚀刻液进行循环再生，整个过程既不带入其他外来物质，也没有产生有害物质，更不会破坏溶液成分，再生蚀刻液性能可以与新购子液相媲美，特别适用于高精度PCB 板制作。
◆该系统稳定性强，设备操作简便，便于维护。
采用一站式闭环控制系统，使设备运行更加可靠，运行成本为同行业最低。
碱性蚀刻液直接电解工艺说明
一、工程概况➢建设单位：深圳市宇众环保科技有限公司；➢项目：碱性蚀刻液处理系统:30T/月；➢原液：碱性蚀刻液:含铜量110-130g/L；二、设计总导则➢技术设计总导则：本套系统处理工艺是基于充分考虑以下因素的基础上而制定➢原液的铜离子含量；➢废水站处理要求；➢工艺设计的可靠性；➢设备对原液铜离子改变的适应能力；➢操作的简便性；➢投资和运行的费用；➢设备便于保养和清洁的功能；➢处理质量的稳定性；➢本技术总则用于本工程的蚀刻液处理系统。
它提出了该系统的功能设计、制造、性能、安装和调试方面的技术要求。
➢需方即使未规定所有的技术要求和适用标准，供方应提供一套满足本技术方案和所列标准的高质量系统设备及其相应服务。
➢供方应提供高质量的设备。
这些设备应是技术先进、经济上合理、成熟可靠的设备，能满足需方的各项要求。
所有设备的设计、制造和安装应保证工作的可靠性，并保证尽可能的减少维修量。
➢在签订合作协议之后，需方有权提出因规范标准和规程发生变化而产生的一些补充要求，具体项目由双方共同商定。
三、项目介绍在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加。
蚀刻液要达到最佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。
要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度最佳水平，蚀刻用过后的（以下称［用后蚀刻液］）溶液需不断由添加的药剂所取缔。
本系统主要应用直接电解法，可以在回收铜的同时回收蚀刻剂，将大量原本需要排放的［用后蚀刻液］再生还原成为可再次使用的［再生蚀刻液］。
只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被［带走］而失去的部份。
从而取代蚀刻子还可以降低PCB 厂家的生产成本。
使用本系统的主要效益1.再生液可回收利用，节省物料，降低生产成本。
2.再生液可回收利用，降低治理污水成本。
3.响应国家政策，节能减排，污染基本为零排放，。
4.做到清洁生产，降低工厂环保压力。
四、电解原理电解缸的蚀刻液阳极阴极通电后,溶液中的铜离子(Cu)向阴极移动，到达阴极后获得电子而在阴极析出纯铜（亦称氯化铜）。
单液型酸性铜蚀刻液的循环再生与铜回收新工艺开发
用作者简介：王峰（1997-），男，河南邓州人，硕士，高级工程师，专业方向：工商管理。
基金项目：2017年广东省广州市南沙区技术开发项目（2017KF004）王峰，王辉，韩宝森，颜克海，李忠（广州弘高科技股份有限公司，广东广州511458）摘要：PCB 生产过程中的蚀刻液在使用后会产生大量的铜废水，若直接排放不仅会造成严重的资源浪费，还会带来严重的环境污染。
因此，对蚀刻液进行循环再生及铜回收是一项节约成本、降低污染的措施。
传统的蚀刻液循环再生及铜回收工艺一般采用双液型酸性蚀刻液，且工艺回收利用效果不足，资源浪费严重。
本工艺设计采用单液型酸性蚀刻液作为生产线蚀刻液，利用隔膜电解技术对废蚀刻液进行循环再生及铜回收，通过对生产线中ORP 值（氧化还原电位）和铜含量比重进行监控，对不同ORP 值废蚀刻液进行电解处理和调配，可直接循环再生回到生产线形成再生液。
该项工艺设计中设定蚀刻液的工作ORP 值为480~600mv ，铜含量比重为1.25~1.35。
通过实验检测提铜处理前的蚀刻液铜含量为55050mg/kg ，提铜处理后的蚀刻液铜含量为7551mg/kg ，铜回收率达到86.28%。
该工艺不仅有效提高了工作效率和废液循环再生利用，降低环境污染，而且具有重要的理论与应用价值。
关键词：蚀刻液；单液型；隔膜电解；铜回收；循环再生中图分类号：X703文献标志码：A文章编号：1674-0912（2019）08-0029-03印刷电路板（PCB ）是电子信息产业的基础，已经成为电子信息的支柱产业。
然而PCB 产业在生产过程中进行的蚀刻、微蚀刻，会使得基材覆铜板中50%~60%以上的铜被蚀刻变成废的蚀刻液，产生的铜废水具有浓度高、污染严重的问题[1，2]。
因此，在发展PCB 生产的同时，如何进行废水处理、高效利用刻蚀废液中残留的有用成分、去除废液中影响微蚀效果的成分，形成分离铜、微蚀液循环再生利用，变得尤为重要。
传统工艺及现有的铜回收及蚀刻液循环再生工艺技术有以下缺点：（1）采用的双液型酸性蚀刻液使用时有安全性低、成本高的问题[3]；（2）电路板生产过程中产生的微蚀液含有大量铜离子，未能有效回收利用，造成资源浪费[4]；（3）传统工艺的微蚀液中铜离子浓度达到一定值，微蚀刻能力就明显减弱甚至失效，需要换槽，废液需排放，造成资源浪费。
碱性蚀刻液再生循环处理系统介绍
碱性蚀刻液再生循环系统介绍目录一、碱性蚀刻液再生循环系统简介1.1系统工作原理1.2系统工作流程简图二、系统成本分析2.1系统运行成本分析三、项目效益分析四、项目运作4.1系统安装条件4.2工程进度计划4.3运行常用的主要物料4.4系统排放物及其处理一、碱性蚀刻液再生循环系统简介1.1系统工作原理本系统采用多级萃取-反萃及电解再生工艺组合，可实现碱性蚀刻液完全回用零排放，是将碱性蚀刻废液提铜处理和再生利用进行组合的系统设备，可根据需要调整再生液的品质，完全确保PCB企业蚀刻工序产品质量的稳定。
该系统主要由以下部分组成：铜分离系统、铜提取系统、存储及调配系统。
1）铜分离系统：是将废蚀刻液中的铜离子通过铜吸附剂从废液中无损分离吸取铜离子，并将铜离子转移到铜提取系统，释放铜离子后的吸铜剂再回到此系统循环工作。
2）铜提取系统：吸铜剂中的铜离子释放到此系统中，通过电解提取高纯度产品铜。
3）存储及调配系统：系统将已降低铜含量的蚀刻液通过组份调节，使Cu2+、Cl-、PH 值及相关工艺元素达至生产所需要求，待生产所用。
整个系统工作时无排放封闭式循环运行。
系统工作时，只需在碱性蚀刻设备的溢流排出口接一管道，直接将废液引入再生循环设备中，经过系统处理后，再通过自动添加系统循环回到蚀刻工序，整个系统无排放封闭式循环运行，系统设备与生产线对接时，产线不需停机。
1.2系统工作流程简图碱性蚀刻液在线循环技术工艺原理图本项目所用的碱性蚀刻液再生循环系统，已通过市场实际使用认可，可实现PCB碱性蚀刻废液零排放，达到清洁生产的要求：1）碱性蚀刻废液全部转变为循环再生使用的蚀刻新液及金属铜板。
2）由于实现碱性蚀刻废液的零排放，大量原有处理工艺浪费的化工原料被全部循环再生使用，综合处理成本更低，效益大幅提升，更利于污染物总体排放量的控制。
二、系统成本分析2.1系统运行成本分析（废液处理量100吨/月）生产物料成本明细表（元/吨铜）项目名称吨铜耗量价格运营支出/吨铜1 萃取剂16L 220元/L 3520元2 硫酸（98%）100kg 1.6元/ kg 160元3 电费3500度0.7元/度2450元4 水10m35元/ m350元5 液氨0.2吨5500元/吨1100元6 蚀刻盐0.2吨2000元/吨400元7 添加剂20L 15元/L 300元8 阳极片0.33片6000元/片1980元9 阴极片（铜片）5片100元/片（抵后）500元9 设备维护100元10 人工工资3人4500元/人1350元吨铜总成本11910元/吨三、项目效益分析铜价假设为45000元/吨计算（实际价格参照当期上海有色金属交易网报价），以每月100吨废液（含铜10%质量比）为例，对系统作经济效益分析：1)月产铜量：100吨×10%=10吨。
铜蚀刻工艺
铜蚀刻工艺一、引言铜蚀刻工艺是一种常见的金属工艺之一，它可以通过化学反应将铜材料上的一部分表面蚀刻掉，以实现雕刻或印刷的目的。
铜蚀刻工艺在制作艺术品、印刷品、电路板等领域都有广泛的应用。
本文将介绍铜蚀刻工艺的原理、步骤以及应用领域。
二、铜蚀刻工艺的原理铜蚀刻工艺的原理是利用化学反应将铜材料上的一部分表面蚀刻掉。
一般来说，铜蚀刻工艺涉及到两个主要步骤：防蚀和蚀刻。
1. 防蚀防蚀是为了保护不需要被蚀刻的部分。
常用的方法是在铜材料上涂覆一层防蚀剂，例如蜡或者光敏胶。
这样，在蚀刻过程中，防蚀层可以起到屏蔽的作用，保护不需要蚀刻的区域。
2. 蚀刻蚀刻是将铜材料上的一部分蚀刻掉，以形成所需的图案或文案。
蚀刻的主要原理是将铜材料浸泡在蚀刻液中，蚀刻液中的化学物质与铜材料发生反应，使其表面被蚀刻掉。
蚀刻液的选择根据具体需求而定，常见的有氯化铁、硫酸铜等。
三、铜蚀刻工艺的步骤铜蚀刻工艺通常包括以下几个步骤：1. 准备工作需要准备好铜材料和所需的工具材料，例如防蚀剂、蚀刻液、刻刀等。
同时，需要设计并制作好所需的图案或文案。
2. 防蚀在铜材料上涂覆一层防蚀剂，以保护不需要蚀刻的部分。
可以使用刻刀或喷涂的方式进行。
3. 蚀刻将铜材料放入蚀刻液中，待蚀刻液发生化学反应后，将铜材料取出。
蚀刻的时间可以根据需要进行调整，过长或过短都会影响蚀刻效果。
4. 清洗和处理将蚀刻后的铜材料进行清洗，去除蚀刻液和防蚀剂的残留物。
可以使用水或者其他清洁剂进行清洗。
清洗后，可以对铜材料进行上光或者上漆等处理，以增强其表面的光泽度和保护性。
四、铜蚀刻工艺的应用领域铜蚀刻工艺在艺术品制作、印刷品制作以及电路板制作等领域都有广泛的应用。
1. 艺术品制作铜蚀刻工艺可以用于制作各种艺术品，例如雕塑、装饰品等。
通过蚀刻技术，可以将细腻的图案或者纹理刻在铜材料上，增强艺术品的观赏性和独特性。
2. 印刷品制作在印刷品制作中，铜蚀刻工艺可以用于制作印版。
通过蚀刻技术，可以将文字、图案等刻在铜版上，然后将墨水填充到蚀刻的部分，再将印版印在纸张上，实现文字、图案的印刷。
碱性蚀刻液铜回收工艺
碱性蚀刻液铜回收工艺
简介：
碱性蚀刻液是用蚀刻线路板铜的药液，主要成分：氨水+氯化铵+添加剂。
一般生产车间排出的废液含铜量为110~130g/l。
此废液回收价值高，收回方法，其一：萃取电解法。
此法利用萃取剂萃取出铜离子之后，用硫酸铜溶液做电解液进行电解。
其优点在于电解出来的铜纯度高，一般电解出来的铜都可以达到三个九以上。
以下
是萃取电解的工艺流程
注明：
1.萃取槽，萃取剂和原液混合萃取，然后分相，上层为含铜萃液，下层为萃余液。
2.水洗槽1主要是水洗含铜萃液中的氨根离子，称洗氨。
3.反萃槽，是用硫酸溶液将含铜萃液中的铜洗出来，形成硫酸铜溶液即电解液。
4.水洗槽2，主要是用水洗掉萃取液中残留的硫酸根。
称洗硫。
5.隔油缸，油其实是指残留的萃取剂。
6.本工艺，蚀刻液循环，萃取剂循环，电解液循环。
洗水排出处理。
酸性碱性蚀刻液回收铜可行性报告
电子行业蚀刻液回收铜可行性报告深圳市宇众环保科技有限公司目录1.选题意义 (3)2.项目开发 (4)3.先进技术 (4)4.环境影响 (5)5.风险评估 (6)6.酸性废液 (20)（1）功能特点............................................................................. （2）工艺简介............................................................................. （3）设计依据............................................................................. （4）设备图片............................................................................. （5）设备对比............................................................................. （6）运行成本............................................................................. （7）效益分析.............................................................................7.碱性废液 (21)（1）开发理念............................................................................. （2）开发战略............................................................................. （3）开发原理............................................................................. （4）工作原理（即四个循环）................................................ （5）技术分析............................................................................. （6）技术成熟.............................................................................8.平面布置 (22)9.项目实施 (22)10.环境质量 (22)11.产业政策 (23)12.污染防治 (23)13.总量控制 (23)14.公众参与............................................... 错误!未定义书签。
印制电路板生产废液的回收技术
印制电路板生产废液的回收技术从印制电路板生产的污染源的组成中可以看出，在印制电路板生产废液中含有大量的铜，是有回收价值的，另外少量的贵金属更具有回收价值。
因此印制电路板生产废液的回收主要是指铜和金的回收。
对于铜和金的回收技术，大多用化学法和电解法。
但是电解法耗电量大，所以这里主要是介绍化学法回收技术。
1.三氯化铁蚀刻废液中的铜的回收目前有部分印制电路板厂家仍采用三氯化铁蚀刻液进行单面板或不锈钢网板的蚀刻，根据理论计算，当溶液中的Fe+3的消耗达到40%时，溶铜量达到68.5g/L时，蚀刻时间就急剧上升，蚀刻速度变慢，表明此时的三氯化铁蚀刻液已不能使用，需要更换新的三氯化铁蚀刻液。
因此三氯化铁蚀刻废液中的含铜量在50g/L左右，是很有回收价值的。
目前，从三氯化铁蚀刻废液中回收铜的方法很多，其中置换法具有投资少，回收率高、成本低、方法简单、操作方便和见效快等特点。
下面具体介绍一下用工业废铁置换回收铜的方法。
（1）反应原理从电化学原理得知，电极电位负的金属易氧化，电极电位正的金属易还原。
当某一电位负的金属浸到电位正的金属离子的溶液中，电位负的金属将发生溶解，电位正的金属将被还原成金属而“镀”出，这就是金属间的置换反应。
铁的电位是-0.036V,而铜的电位是+3.37V。
铁的电位比铜的电位负，当把铁屑浸到铜离子的溶液中去，就会发生置换反应，铁屑溶解成铁离子，而铜离子被还原成金属铜，在铁屑上产生所谓的“置换铜层”。
Fe+Cu+2-Fe+2+CuI如何使反应彻底进行，是提高铜的回收率的关键。
（2）反应条件1）铜层的剥离：置换反应是在铁屑的表面上进行，随着反应的进行，反应生成的铜层吸附在铁屑表面上，形成包晶，阻塞Gu+2同铁屑的接触，阻碍铁屑的继续反应。
因此要不断地把海绵状的铜从铁屑表面上剥离，才能使置换反应不断地进行下去。
比较好的方法是用25目尼龙网装铁屑并浸泡在蚀刻废液中，不断翻动，互相磨擦，使铜不断剥离，又不断被置换上去。
酸性蚀刻液回收铜设备基本原理及工艺流程
酸性蚀刻液回收铜设备基本原理及工艺流程在线路板的蚀刻过程中，蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高而降低蚀刻效果，要使蚀刻液达到*佳的蚀刻效果，就必须将蚀刻液中的铜离子（Cu2+）、氧化还原值、氯离子（Cl-）和酸当量保持在一个合理稳定的范围内，要持续蚀刻液中上述各种成分的*佳浓度，就需不断添加子液来取代已失去蚀刻能力的『废蚀刻液』。
而该系统则可将原本需要排放的『废蚀刻液』再生成为新
子液即『再生蚀刻液』，它只需添加极少量的稳定剂，避免产生氯气。
酸性蚀刻液回收铜设备工艺简介
采用“离子膜电解铜”工艺。
该工艺是用离子膜将电解槽分隔为阳极区和阴极区；其中阳极区为废蚀刻液再生区，它将降铜后的废蚀刻液中的一价铜离子通过电化学反应生成二价铜离子，使废
蚀刻液获得再生；阴极区为铜回收区，通过离子隔膜有选择性的使溶液中的离子定向迁移，让
溶液中的铜离子得到电子还原成零价铜。
酸性[蚀刻液回收再生系统]设备是一套高新环保型、全封闭式系统，无废水废气及废物排放。
该系统与蚀刻机相互连接后，自动循环运作及铜回收，蚀刻效果稳定；它的性能优越，使用寿命长，能为贵公司创造丰厚的经济效益。
其主要功能和特点表现如下：(1)、将废蚀刻液进行再
生，经再生后的蚀刻液可以循环使用；(2)、将废蚀刻液中的铜离子进行回收,还原成高纯度（含铜量99.95%以上）的电解铜粉，铜回收率100%；(3)、该设备操作维护简单，在安装调试过程
中不影响生产，安装调试完毕即可投入使用。
酸性氯化铜蚀刻液
酸性氯化铜蚀刻液1.特性 <1.适用于生产多层板的内层和印刷－蚀刻板。
所采用的抗蚀剂是网印抗蚀印料、干膜、液体光致抗蚀剂等；也适用于图形电镀金抗蚀层印制板的蚀刻，但不适于锡－铅合金和锡抗蚀剂。
2.蚀刻速率容易控制，蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量。
3.溶铜量大4.蚀刻液容易再生与回收，减少污染。
2. 蚀刻过程的主要化学反应在蚀刻过程中，氯化铜中的Cu2+具有氧化性，能将板面上的铜氧化成Cu1+，其反应如下：蚀刻反应：Cu＋CuCl2→Cu2Cl2形成的Cu2Cl2是不易溶于水的，在有过量Cl-存在下，能形成可溶性的络离子，其反应如下：络合反应：Cu2Cl2＋4Cl-→2[CuCl3]2-随着铜的蚀刻，溶液中的Cu1+越来越多，蚀刻能力很快就会下降，以至最后失去效能。
为了保持蚀刻能力，可以通过各种方式对蚀刻液进行再生，使Cu1+重新转变成Cu2+，继续进行正常蚀刻。
应用酸性蚀刻液进行蚀刻的典型工艺流程如下：印制正相图象的印制板→检查修版→碱性清洗(可选择)→水洗→表面微蚀刻(可选择)→水洗→检查→酸性蚀刻→水洗→酸性清洗例如:5－10％HCl)→水洗→吹干→检查→去膜→|再生水洗→吹干3. 蚀刻液配方蚀刻液配方有多种，1979年版的印制电路手册(Printed Circuits Handbook)中介绍的配方见表10－2。
表10－2 国外介绍的酸性蚀刻液配方组份 1 2 3 4CuCl 2·2H 2O HCl(200Be’)NaCl NH 4Cl H 2O1.42磅 0.6加仑－ －2.2M 30ml/加仑4M －2.2M 0.5N 3M－0.5～2.5M 0.2～0.6 M －2.4～0.5 M添加到1加仑注：1磅＝454克 1加仑(美制)＝3.785升我国采用的蚀刻液配方也有多种，现摘录如下表10－3表10－3 我国采用的酸性蚀刻液配方组份 123CuCl2·2H2O 130-190g/l 200g/l 150-450g/lHCl 150-180ml/l100ml/l- NaCl - 100g/l -NH4Cl - - 饱和H2O蚀刻 液中所采用的氯化物种类不同。
PCB蚀刻废液回收铜制备铜粉的技术综述
PCB蚀刻废液回收铜制备铜粉的技术综述孙云飞;徐策;薛伟;杨祥魁【摘要】蚀刻废液是PCB生产的主要危险废液,废液中含有大量铜离子.文章阐述了PCB蚀刻废液回收铜制备铜粉的研究现状,介绍了蚀刻废液回收铜制备铜粉的工艺和方法,对各工艺方法的经济可行性和环境影响进行了分析,并对蚀刻废液回收铜制备铜粉技术进行了展望.【期刊名称】《印制电路信息》【年(卷),期】2017(025)005【总页数】4页(P63-66)【关键词】蚀刻废液;回收;铜粉;综述【作者】孙云飞;徐策;薛伟;杨祥魁【作者单位】山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远 265400;山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远 265400;山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远 265400;山东金宝电子股份有限公司,铜箔研发中心,山东招远 265400【正文语种】中文【中图分类】TN41印制电路板（PCB）是电子产品的重要组成部分，近年来随着电子工业的发展，印制电路板的生产发展极为迅速，同时也造成了大量电路板蚀刻液的产生[1]。
通常蚀刻废液中的铜含量高达120 g/L ～180 g/L，高浓度的含铜废液污染指数很高，如果直接排放，不仅会危害自然环境和人体健康，而且会造成大量的铜资源浪费[2]-[3]。
根据国家环境保护部发布的《清洁生产标准印制电路板制造业》（HJ 450-2008）中的规定，必须对蚀刻废液进行资源回收和再生利用。
蚀刻废液中的铜通常是以单质铜、氧化铜、硫酸铜及碱式碳酸铜等形式进行回收，其中铜粉是蚀刻废液回收铜的一种常见形式。
由于铜粉具有高导电导热性、比表面积大、表面活性高、耐腐蚀性强、流动性强及小粒径、无磁性等优点，被广泛应用于医疗、化工、国防、冶金等方面，作为高效催化剂、润滑油添加剂、除臭剂、金属磨损表面自修复剂等[4]-[8]。
铜粉作为粉末冶金工业的基础原料之一，在现代工业生产中发挥着不可替代的作用[9]-[11]。
电路板三氯化铁蚀刻液及其它蚀刻液介绍
电路板三氯化铁蚀刻液及其它蚀刻液介绍三氯化铁蚀刻液在印制电路、电子和金属精饰等工业中广泛采用三氯化铁蚀刻铜、铜合金及铁、锌、铝等。
这时由于它的工艺稳定，操作方便，价格便宜。
但是，近些年来，由于它再生困难，污染严重，废液处理困难等而正在被淘汰。
因此，这里只简单地介绍。
三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、金等抗蚀层的印制板的蚀刻。
但不适用于镍、锡、锡－铅合金等抗蚀层。
1.蚀刻时的主要化学反应三氯化铁蚀刻液对铜箔的蚀刻是一个氧化－还原过程。
在铜表面Fe3+使铜氧化成氯化亚铜。
同时Fe3+被还原成Fe2+。
FeCl3＋Cu →FeCl2＋CuClCuCl具有还原性，可以和FeCl3进一步发生反应生成氯化铜。
FeCl3＋CuCl →FeCl2＋CuCl2Cu2+具有氧化性，与铜发生氧化反应：CuCl2＋Cu →2CuCl所以，FeCl3蚀刻液对Cu的蚀刻时靠Fe3+和Cu2+共同完成的。
其中Fe3+的蚀刻速率快，蚀刻质量好；而Cu2+的蚀刻速率慢，蚀刻质量差。
新配制的蚀刻液中只有Fe3+，所以蚀刻速率较快。
但是随着蚀刻反应的进行，Fe3+不断消耗，而Cu2+不断增加。
当Fe3+消耗掉35％时，Cu2+已增加到相当大的浓度，这时Fe3+和Cu2+对Cu的蚀刻量几乎相等；当Fe3+消耗掉50％时，Cu2+的蚀刻作用由次要地位而跃居主要地位，此时蚀刻速率慢，即应考虑蚀刻液的更新。
在实际生产中，表示蚀刻液的活度不是用Fe3+的消耗量来度量，而是用蚀刻液中的含铜量(g/l)来度量。
因为在蚀刻铜的过程中，最初蚀刻时间是相对恒定的。
然而，随着Fe3+的消耗，溶液中含铜量不断增长。
当溶铜量达到60g/l时，蚀刻时间就会延长，当蚀刻液中的Fe3+消耗40％时，溶铜量达到82.40g/1时，蚀刻时间便急剧上升，表明此时的蚀刻液不能再继续使用，应考虑蚀刻液的再生或更新。
一般工厂很少分析和测定蚀刻液中的含铜量，多以蚀刻时间和蚀刻质量来确定蚀刻液的再生与更新。
碱性氯化铜蚀刻液
碱性氯化铜蚀刻液1. 特性1) 适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。
2) 蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制。
3) 蚀刻液可以连续再生循环使用，成本低。
2. 蚀刻过程中的主要化学反应在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应：CuCb + 4NH —Cu(NH)4Cl2在蚀刻过程中，板面上的铜被[Cu(NH3)4] 2+络离子氧化，其蚀刻反应如下：Cu(NH3)4Cl2+Cu —2Cu(NH3)2Cl 所生成的[Cu(NH3)2]1+为CU+的络离子，不具有蚀刻能力。
在有过量NH 和Cl-的情况下，能很快地被空气中的Q所氧化，生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子，其再生反应如下：2Cu(NHhCI + 2NHCI + 2NH + 1/2 Q 2 —2Cu(NH)4Cl2 + HQ从上述反应可看出，每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2 克分子氯化铵。
因此，在蚀刻过程中，随着铜的溶解，应不断补加氨水和氯化铵。
应用碱性蚀刻液进行蚀刻的典型工艺流程如下：镀覆金属抗蚀层的印制板(金、镍、锡铅、锡、锡镍等镀层) —去膜—水洗—吹干—检查修板—碱性蚀刻—用不含Cf的补加液二次蚀刻—水洗—检查—浸亮( 可选择) —水洗—吹干3. 蚀刻液配方蚀刻液配方有多种，1979 年版的印制电路手册(Printed CircuitsHa ndbook)中介绍的配方见表10—4。
表10－4 国外介绍的碱性蚀刻液配方国内目前大多采用下列配方：CuCb • 2H2O 100〜150g/l、NH4CI 100g/l、NH3• HO 670〜700ml/1 2配制后溶液PH值在9.6左右。
溶液中各组份的作用如下:NH I • HO的作用是作为络合剂，使铜保持在溶液里。
NH4Cl 的作用是能提高蚀刻速率、溶铜能力和溶液的稳定性。
(NH4)3PQ的作用是能保持抗蚀镀层及孔内清洁。
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PCB 行业制作工序中产生大量微蚀液、蚀刻 液、硝酸铜等含有不同浓度的铜等金属，回收价 值高，且外排废水中也会有少量的铜重金属存 在，如不能合理的进行环保处理，一方面造成资 源的严重浪费，另一方面重金属排放后渗入至土
壤及水源之中，即会对我们赖以生存的系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液
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再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极 少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失 去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工 艺的要求，又可节省生产成本。
蚀刻液再生循环系统有酸性、碱性两大系 统，两大系统又可分为萃取法、直接电解法∩将
大量原本需要排放的用后蚀刻液还原再生成为 可再次使用的再生蚀刻液。从而减少生产废液的 排放，回用降低生产成本，且可提取出高纯度电 解金属铜。
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近年来随着环保意识的增强，法规对于印制 电路板工厂排放废水的各项指标限制日趋严谨， 因此，印制电路板产业废水处理为达到铜离子的 稳定达标排放标准，均以大量加药的手段来获得
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解决。但传统的加化学药剂，操作成本高，且造 成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高（溶解 性盐类造成），导致废水回用难度加大或者根本 无法回收使用的后续问题。
生设备。
无论是过硫酸钠/硫酸体系还是双氧水/硫 酸体系,我司设备均可把饱和微蚀液处理再生 后，返回生产线继续使用，回用时，不改变原生 产工艺参数；在运行我们设备时可不停机亦可更 换药水，从而达到稳定生产的目的。这两种体系
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再生设备设备不仅可以节省约 30%的物料成本， 还大大降低废水处理成本，且可以电解出金属 铜。
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一、微蚀液包括过硫酸钠/硫酸体系和双氧 水/硫酸体系，在近几年广泛的运用在 PCB 之表 面处理制程，例如：沉铜（PTH)制程，电镀制程、 内层前处理、绿油前处理、OSP 处理等生产线。
我们目前对过硫酸钠/硫酸和双氧水/硫酸 两种体系的微蚀工序研发设计了不同的循环再
我们所研发的微蚀刻循环再生设备、蚀刻液 再生循环设备、硝酸铜铜回收设备，是一项专门
为 PCB（印制电路板）行业的微蚀、蚀刻等工序 而设计，使该工序成为清洁生产、节能减排，并 大幅度降低生产成本的清洁生产设备。微蚀刻液 循环再生设备在使用中不但使微蚀刻工序基本 实现污染零排放，并产出纯度高、价值高的电解 金属铜。
二、蚀刻液再生循环系统
在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液 中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到最佳的蚀刻
效果，每公升蚀刻液需含 120 至 180 克铜及相应 分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。要持续 蚀刻液中上述各种成份的浓度最佳水平，蚀刻用 过后的（以下称[用后蚀刻液]）溶液需不断由添 加的药剂所取缔。