光电成像原理及技术__部分答案(北理工)解析

合集下载

光电成像原理与技术第一节

光电成像原理与技术第一节

突破灵敏度的限制
光电成像原理与技术
Ch2(一):什么是光电成像技术? 距离选通三维计算成像技术
光电成像原理与技术
Ch2(一):什么是光电成像技术? 对于电磁场:Maxwell方程组得出结论: 距离选通三维计算成像技术 全部电磁波段都可以成像,像空间两点的距离大 于衍射极限,可分辨出其间的光强分布,也就构成图像 信息。 成像分辨力决定于:
光电成像原理与技术
Ch2(一):什么是光电成像技术? 2、光电成像技术本质:扩展人眼的视觉特性 距离选通三维计算成像技术 80%信息来自于视觉 距离选通三维计算成像应
人眼视觉的局限性: 距离 选通成像技 术展望 距离 选通三 维激光成像技 术 空间 时间 灵敏度 光谱 分辨力
光电成像原理与技术
光电成像原理与技术
Ch2(二):光电成像技术沿革及应用 2、光电成像系统实现的途径及应用 微光(可见光)成像技术 白天应用:CCD,CMOS,各种特殊相机 天文相机:
最古老星系 行星相机
麒麟星座
光电成像原理与技术
Ch2(二):光电成像技术沿革及应用 2、光电成像系统实现的途径及应用 微光(可见光)成像技术 白天应用:CCD,CMOS,各种特殊相机 高速摄影:
光电成像原理与技术
Ch2(二):光电成像技术沿革及应用 2、光电成像系统实现的途径及应用 红外热成像技术 夜视应用:目标侦察、观瞄、导航、制导等军事应用 公安侦察、边海防、海上缉私等公安应用 FLIR公司
光电成像原理与技术
Ch2(二):光电成像技术沿革及应用 2、光电成像系统实现的途径及应用 红外热成像技术 夜视应用:目标侦察、观瞄、导航、制导等军事应用 公安侦察、边海防、海上缉私等公安应用
光电成像原理与技术

2012年《光电技术基础与实验》试题 A卷 (2012)(1)

2012年《光电技术基础与实验》试题 A卷 (2012)(1)
EC EC 施主能级 Ed EV EV EC 带 受主能级 Ea EV
(√)①本征半导体
(√)②N 型半导体
(╳)③P 型半导体
二.填空题(请将答案直接填在空格处,每空 1 分,共 26 分,) 1. 禁带宽度 Eg 越小的光子器件,越 度越高时,光子器件越 电子影响,长波限越 2. _ (容易/不容易)产生热激发,温
10.
光电器件的光谱响应度是
三、请解释下列概念(12 分) (1) 辐射亮度; (2)量子效率; (3)相干探测; (4)作用距离。 四、简答题(请把答案写在答题纸上,共 12 分) 1. (5 分)写出本征光电导、杂质光电导、光伏器件、半导体光电子发射器件 (包括正电子亲和势及负电子亲和势器件)的长波限。
课程代码: OPT04006
北京理工大学 2011-2012 学A 卷)
班级 学号 姓名 成绩
一、 判断正误(请在正确论断前打勾,错误论断前打叉,每小题 1 分,共 27 分) 1.辐射源特性 (√)① 白炽灯辐射为连续光谱 (√)② 相同色温下,灰体与黑体相对光谱功率分布相同 (╳)③ 黑体只吸收,不辐射 (╳)④ 黑体温度越高,峰值波长越长 (╳)⑤ 黑体为线状光谱 2.对于光电导器件 (√)① 光电导与光生载流子浓度成正比。 (√)② 本征光电导长波限为λ 0=hc/Eg (╳)③ 入射光波长大于长波限时,才能产生光电导效应 (√)④ 长波限越大,要求器件工作温度越低。 (╳)⑤ 温度越高,暗电流越小 3.响应时间 (√)① 热探测器比光子探测器响应时间长 (╳)② 光伏探测器比光电导探测器响应时间长 (╳)③ 响应时间越长,带宽越宽 4.光电导器件噪声包括 (╳)① 散粒噪声 (√)② 产生-复合噪声 5.光伏器件噪声包括 (√)① 散粒噪声 (╳)② 产生-复合噪声

光电检测技术课后部分答案

光电检测技术课后部分答案

第一章1.举例说明你知道的检测系统的工作原理激光检测一激光光源的应用用一定波长的红外激光照射第五版人民币上的荧光字,会使荧光字产生一定波长的激光,通过对此激光的检测可辨别钞票的真假。

山于仿制困难,故用于辨伪很准确。

2.简述光电检测系统的组成和特点组成:(1)光学变换:时域变换-------调制振幅,频率,相位,脉宽空域变换-------光学扫描光学参量调制:光强,波长,相位,偏振形成能被光电探测器接收,便于后续电学处理的光学信息。

(2)光电变换,变换电路,前置放大将信息变为能够驱动电路处理系统的电信息(电信号的放大和处理)(3)电路处理放大,滤波,调制,解调,A/D,D/A,微机与接口,控制。

第二章1.试归纳总结原子自发辐射,受激吸收,受激辐射三个过程的基本特征。

自发辐射:处于激发态的原子在激发态能级只能一段很短的时间,就自发地跃迁到较低能级中去,同时辐射出光子。

受激辐射:在外来光的作用下,原子从激发态能级跃迁到低能级,并发射一个与外来光完全相同的光子。

受激吸收:处于低能级的原子,在外来光的作用下,吸收光子的能量向高能级跃迁。

2.场致发光(电致发光)有哪几种形式,各有什么特点结型电致发光(注入式发光):在p-n结结构上面加上正向偏压(即p区接电源正极,n区接电源负极)时,引起电子由n区流入(在物理上称为“注入”)p区,空穴由p区流入n区,发生了电子和空穴复合而产生发光。

粉末电致发光:这是在电场作用下,晶体内部电子与空穴受激复合产生的发光现象。

两电极夹有发光材料薄膜电致发光:薄膜电致发光和粉末电致发光相似,也是在两电极间夹有发光材料,但材料是一层根薄的膜,它和电极直接接触,不混和介质。

3.为什么发光二极管的PN结要加正向电压才能发光加正向偏压时,外加电压削弱内建电场,使空间电荷区变窄,载流子的扩散运动加强,构成少数载流子的注入,产生电子和空穴的复合,从而释放能量,并产生电致发光现象。

4.发光二极管的外量子效率与射出的光子数,电子空穴对数,半导体材料的折射率有关。

(仅供参考)《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案

(仅供参考)《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案
第 1 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 2 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 3 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 4 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 15 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 16 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 17 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 18 页,共 29 页
《光电成像原9 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 5 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 6 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 7 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 8 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 9 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 20 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 21 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 22 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 23 页,共 29 页
《光电成像原理与技术》(北理工版)课后题答案 第 24 页,共 29 页
光电成像原理与技术北理工版课后题答案光电成像原理与技术北理工版课后题答案光电成像原理与技术北理工版课后题答案第10页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第11页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第12页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第13页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第14页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第15页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第16页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第17页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第18页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第19页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第20页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第21页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第22页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第23页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第24页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第25页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第26页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第27页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第28页共29光电成像原理与技术北理工版课后题答案第29页共29

光电成像原理及技术课后题答案(北理工)

光电成像原理及技术课后题答案(北理工)

光电成像原理及技术课后题答案(北理⼯)第⼀章5.光学成像系统与光电成像系统的成像过程各有什么特点?在光电成像系统性能评价⽅⾯通常从哪⼏⽅⾯考虑?答:a、两者都有光学元件并且其⽬的都是成像。

⽽区别是光电成像系统中多了光电装换器。

b、灵敏度的限制,夜间⽆照明时⼈的视觉能⼒很差;分辨⼒的限制,没有⾜够的视⾓和对⽐度就难以辨认;时间上的限制,变化过去的影像⽆法存留在视觉上;空间上的限制,隔开的空间⼈眼将⽆法观察;光谱上的限制,⼈眼只对电磁波谱中很窄的可见光区感兴趣。

6.反映光电成像系统光电转换能⼒的参数有哪些?表达形式有哪些?答:转换系数:输⼊物理量与输出物理量之间的依从关系。

在直视型光电成像器件⽤于增强可见光图像时,被定义为电镀增益G1,光电灵敏度:错误!未找到引⽤源。

或者:8.怎样评价光电成像系统的光学性能?有哪些⽅法和描述⽅式?答,利⽤分辨⼒和光学传递函数来描述。

分辨⼒是以⼈眼作为接收器所判定的极限分辨⼒。

通常⽤光电成像系统在⼀定距离内能够分辨的等宽⿊⽩条纹来表⽰。

光学传递函数:输出图像频谱与输⼊图像频谱之⽐的函数。

对于具有线性及时间、空间不变性成像条件的光电成像过程,完全可以⽤光学传递函数来定量描述其成像特性。

第⼆章6.影响光电成像系统分辨景物细节的主要因素有哪些?答:景物细节的辐射亮度(或单位⾯积的辐射强度);景物细节对光电成像系统接受孔径的张⾓;景物细节与背景之间的辐射对⽐度。

第三章13.根据物体的辐射发射率可见物体分为哪⼏种类型?答:根据辐射发射率的不同⼀般将辐射体分为三类:⿊体,错误!未找到引⽤源。

=1;灰体,错误!未找到引⽤源。

<1,与波长⽆关;选择体,错误!未找到引⽤源。

<1且随波长和温度⽽变化。

14.试简述⿊体辐射的⼏个定律,并讨论其物理意义。

答:普朗克公式:错误!未找到引⽤源。

普朗克公式描述了⿊体辐射的光谱分布规律,是⿊体理论的基础。

斯蒂芬-波尔滋蔓公式:错误!未找到引⽤源。

光电成像原理与技术答案

光电成像原理与技术答案

光电成像原理与技术答案【篇一:光电成像原理与技术总复习】t>一、重要术语光电成像技术、像管、变像管、像增强器、摄像管(器)、明适(响)应、暗适(响)应、人眼的绝对视觉阈、人眼的阈值对比度、人眼的光谱灵敏度(光谱光视效率)、人眼的分辨率、图像的信噪比、凝视、凝视中心、瞥见时间、瞥见孔径、辐射度量、辐射功率、辐射强度、辐亮度、辐照度、辐射出照度、光度量、光能、光能密度、光通量、光亮度、光出射度,照度,发光强度,光亮度;坎(凯)德拉、流明、勒克司、视见函数、朗伯辐射体、气溶胶粒子、云、雾、霾、霭、大气消光、大气散射、大气吸收、大气能见度(能见距离)、大气透明度、电子透镜、光电子图像、亮度增益、等效背景照度、畸变、像管分辨力(率)、正(负)电子亲(素)和势、负电子亲和势、光电发射的极限、电流密度、mcp的饱和电流密度、荧光、磷光、表面态、微光夜视仪、照明系统的光强分布、成像系统的极限分辨力、选通技术、靶、惰性(上升惰性、衰减惰性)、摄像管的分辨力、动态范围、靶网、居里温度、热释电靶的单畴化、ccd的开启电压、ccd的转移效率、界面态“胖0”工作模式、光注入、电注入。

二、几个重要的效应1. 光电转换效应(内/外)2. 热释电能转换效率(应)3. 三环效应4. mcp的电阻效应/充电效应三、几个重要定律1. 朗伯余弦2. 基尔霍夫3. 黑体辐射(共4个)4. 波盖尔15. 斯托列托夫6. 爱因斯坦四、重要结构及其工作原理、特点1. 直视型光电成像器件的基本结构、工作原理2. 非直视型(电视型)光电成像器件的基本结构、工作原理3. 人眼的结构及其图像形成过程4. 大气层的基本构成、结构特点5. 像管的结构及其成像的物理过程6. 光阴极实现辐射图像光电转换的物理过程(光电发射过程)7. 电子光学系统的基本结构及其成像过程8. 荧光屏的结构及其发光过程9. 光谱纤维面板的结构及其成像原理10. 微通道板(mcp的结构及其电子图像的倍增原理)11. 主动红外成像系统结构及其成像过程12. 夜视成像系统结构及其成像过程13. 摄像管的结构及其工作原理14. 光电导摄像管的结构及其工作原理15. 热释电摄像管的结构及其工作原理16. 电子枪的结构及其工作原理17. mos电容器的结构及其电荷存储原理、18. ccd的结构及其电荷传输原理19. 埋沟ccd(bccd)的结构及其工作原理220. 线阵ccd的结构及其成像原理五、关键器件、系统的性能参数1. 表征光电成像器件的性能参数2. 大气辐射传输过程中,影响光电成像系统的因素3. 表征像管的性能参数4. 表征mcp的性能参数5. 微光成像系统的性能影响因素6. 摄像管的主要性能参数7. 热释电靶的主要性能参数8. 表征ccd的物理性能参数六、其他1. 辐射源的辐射能量所集中的波段2. mcp的自饱和特性3. 像管的直流高压电源的要求4. 受激辐射可见光的条件5. 计算第三章、第四章题型及分值分布:1. 术语解释(15分)2. 选择题(20分)3. 简述题(35分)4. 计算题(30分)各章习题:3第一章(29页):4、5、6、7第二章(53页):6、9第三章(84页):2、3、8、9、13、14第四章(106页):1、6第五章(209页):1、3、4、8、10第六章(244页):1、3、5、24、26第七章(295页):1、2、5、6、7、10、12、16、18第八章(366页):1、2、4、6、7整理by:??/???4【篇二:《光电成像原理与技术》教学大纲】英文名称:principle and technology of photoelectric imaging学分:3.5 学时:56(理论学时:56)先修课程:半导体物理、电动力学、应用光学、物理光学一、目的与任务本课程为电子科学与技术专业(光电子方向)的专业教育必修课程。

光电成像理论分析-1-绪论

光电成像理论分析-1-绪论

图5-10 三代像管和四代像管的外形
北京理工大学光电工程系
第9张
2.1.2 红外变像管、紫外变像管、X射线变像管和γ射线变像管 红外变像管、紫外变像管、 射线变像管和γ
近贴X 图5-11 近贴X线像增强器工作原 理示意图
缩小型X 图5-12 缩小型X射线变像管结构示意图 射线转换屏; 光阴极; 聚焦极; 1-X射线转换屏;2-光阴极;3-聚焦极;4-阳 极;5-输出荧光屏
10 lx 信噪比:人眼观察物体需要排出干扰, 信噪比:人眼观察物体需要排出干扰,如果干扰太大将影响到人眼的观察效 图案不同,人眼对信噪比的要求不同(如方波图案: 1.5左右 左右; 果。图案不同,人眼对信噪比的要求不同(如方波图案:1~1.5左右;余弦 图案: 3.5左右 左右) 图案:3~3.5左右) 10-3lx
图5-8 双近贴式二代像管结构示意图 光阴极; 微通道板; 1-光阴极;2-微通道板;3-荧光屏
图5-9 静电聚焦倒像式第二代像管结构示意图 1-光阴极;2-微通道板;3-荧光屏 光阴极; 微通道板;
北京理工大学光电工程系
第8张
7.负电子亲和势光阴极像管(三代像管) 负电子亲和势光阴极像管(三代像管) 负电子亲和势光阴极像管
北京理工大学光电工程系
第16张 16张
摄像管的工作方式
隔行扫描
隔行扫描中,行数必须采用单数,第一场结束于最后一行的一半, 隔行扫描中,行数必须采用单数,第一场结束于最后一行的一半,第二场开 始于图像上方中央,这样就能保证第二场的扫描线正好嵌在第一场扫描线的中间。 始于图像上方中央,这样就能保证第二场的扫描线正好嵌在第一场扫描线的中间。 隔行扫描的一帧图像分为两场,场频50Hz 帧频25Hz 50Hz, 25Hz, 隔行扫描的一帧图像分为两场,场频50Hz,帧频25Hz,故图像信号最高频 率为

光电成像原理与技术Chapter-固体成像器件成像原理及应用

光电成像原理与技术Chapter-固体成像器件成像原理及应用
1
2
V1 V1
t2 t3 t4 t1 t5 t6 t7 t8
2
势阱深度
1
2
1
V2
t t
( a)
(a)
t6 t7 t8
t V1 t V1
( b)
2 V2
势阱深度
1
V2
t1
t5
(b)
二相时钟的脉冲波形
2018/11/11
单时钟脉冲二相CCD (a)φ2断开,(b) φ2开通
8.2. CCD的结构与特性
2018/11/11
3
t t1
1 2
1 2 3 4 5 6 7 8 9 N-Si衬底
Al栅电极
10 SiO2 (a)
1 V 2 0 3 0 t t2 1 V 2 V 3 0
电势
(b)
(c)
1 V / 2 2 V 3 0
1 0 2 V 3 0
VG的大部分压降 Vs 落在半导体表面的空间电荷区上,只 有小部分落到SiO2上。 故而,该形成反型层的空间上没有电子,只有空的电子 势阱,也就是说表面还处在载流子耗尽状态,这种耗尽 层从表面一直延伸到半导体内深处,此状态为“深层耗 尽状态”。 -这实际上是MOS电容器处于热非平衡状态。
Vs深耗 Vs强反
2kT N a Vs ln e ni
xd max
2018/11/11
4 s 0 F eN A

1 2
稳态下的MOS电容器-强反型状态
一旦出现反型层, 耗尽层厚度xd达到最大值,且不随VG而变化。 表面出现强反型状态时对应外加偏压VG为阈值 电压(开启电压),常用Vth表示。 由于反型层中的电子实际上是被限制在表面附 近能量最低的一个狭窄区域,故称为反型层沟 道。 P 型半导体的表面反型层由电子构成,故称 N 型 沟道。

光电成像原理与技术答案

光电成像原理与技术答案

光电成像原理与技术答案【篇一:光电成像原理与技术总复习】t>一、重要术语光电成像技术、像管、变像管、像增强器、摄像管(器)、明适(响)应、暗适(响)应、人眼的绝对视觉阈、人眼的阈值对比度、人眼的光谱灵敏度(光谱光视效率)、人眼的分辨率、图像的信噪比、凝视、凝视中心、瞥见时间、瞥见孔径、辐射度量、辐射功率、辐射强度、辐亮度、辐照度、辐射出照度、光度量、光能、光能密度、光通量、光亮度、光出射度,照度,发光强度,光亮度;坎(凯)德拉、流明、勒克司、视见函数、朗伯辐射体、气溶胶粒子、云、雾、霾、霭、大气消光、大气散射、大气吸收、大气能见度(能见距离)、大气透明度、电子透镜、光电子图像、亮度增益、等效背景照度、畸变、像管分辨力(率)、正(负)电子亲(素)和势、负电子亲和势、光电发射的极限、电流密度、mcp的饱和电流密度、荧光、磷光、表面态、微光夜视仪、照明系统的光强分布、成像系统的极限分辨力、选通技术、靶、惰性(上升惰性、衰减惰性)、摄像管的分辨力、动态范围、靶网、居里温度、热释电靶的单畴化、ccd的开启电压、ccd的转移效率、界面态“胖0”工作模式、光注入、电注入。

二、几个重要的效应1. 光电转换效应(内/外)2. 热释电能转换效率(应)3. 三环效应4. mcp的电阻效应/充电效应三、几个重要定律1. 朗伯余弦2. 基尔霍夫3. 黑体辐射(共4个)4. 波盖尔15. 斯托列托夫6. 爱因斯坦四、重要结构及其工作原理、特点1. 直视型光电成像器件的基本结构、工作原理2. 非直视型(电视型)光电成像器件的基本结构、工作原理3. 人眼的结构及其图像形成过程4. 大气层的基本构成、结构特点5. 像管的结构及其成像的物理过程6. 光阴极实现辐射图像光电转换的物理过程(光电发射过程)7. 电子光学系统的基本结构及其成像过程8. 荧光屏的结构及其发光过程9. 光谱纤维面板的结构及其成像原理10. 微通道板(mcp的结构及其电子图像的倍增原理)11. 主动红外成像系统结构及其成像过程12. 夜视成像系统结构及其成像过程13. 摄像管的结构及其工作原理14. 光电导摄像管的结构及其工作原理15. 热释电摄像管的结构及其工作原理16. 电子枪的结构及其工作原理17. mos电容器的结构及其电荷存储原理、18. ccd的结构及其电荷传输原理19. 埋沟ccd(bccd)的结构及其工作原理220. 线阵ccd的结构及其成像原理五、关键器件、系统的性能参数1. 表征光电成像器件的性能参数2. 大气辐射传输过程中,影响光电成像系统的因素3. 表征像管的性能参数4. 表征mcp的性能参数5. 微光成像系统的性能影响因素6. 摄像管的主要性能参数7. 热释电靶的主要性能参数8. 表征ccd的物理性能参数六、其他1. 辐射源的辐射能量所集中的波段2. mcp的自饱和特性3. 像管的直流高压电源的要求4. 受激辐射可见光的条件5. 计算第三章、第四章题型及分值分布:1. 术语解释(15分)2. 选择题(20分)3. 简述题(35分)4. 计算题(30分)各章习题:3第一章(29页):4、5、6、7第二章(53页):6、9第三章(84页):2、3、8、9、13、14第四章(106页):1、6第五章(209页):1、3、4、8、10第六章(244页):1、3、5、24、26第七章(295页):1、2、5、6、7、10、12、16、18第八章(366页):1、2、4、6、7整理by:??/???4【篇二:《光电成像原理与技术》教学大纲】英文名称:principle and technology of photoelectric imaging学分:3.5 学时:56(理论学时:56)先修课程:半导体物理、电动力学、应用光学、物理光学一、目的与任务本课程为电子科学与技术专业(光电子方向)的专业教育必修课程。

《光电成像系统》习题集附答案

《光电成像系统》习题集附答案

γ = tan ω ′
x = − f e′2 • SD • 10−3 ( mm)
⑧目镜出瞳距离 一般情况下,出瞳距离一般不小于 15mm ⑨目镜的出瞳直径
出瞳直径的确定原则上确保与眼睛瞳孔的耦合。 在暗适应条件下, 眼瞳直径最大约 为 7.6mm,因此,目镜的出瞳直径按 7~8mm 设计即可。
� 视距估算
③确定物镜视场光阑 Df 根据选定的物镜焦距和视场角要求, 在靠近光阴极的前面设置视场光阑, 光阑直径
D f = 2 fo′ tan ω = 21.9 mm
④确定物镜口径 D0 综合考虑能量和体积、重量等关系,参考现有的微光夜视仪的物镜,选取物镜的相 对孔径
Do f o′
=1 1.11
Do = 90mm
光电成像系统习题集
� 微光夜视成像系统总体设计
1. 系统设计目标 ①微光夜视光电成像系统受信噪比和光学系统性能的限制,总体性能涉及光学系统、 像 管以及与人眼的匹配等。 ②设计应根据系统应用的需求,寻求各种参数的最佳化。 2. 夜视光电成像系统性能限定 ①理想夜视系统的极限分辨角
⎡⎛ 2 ( S N ) ⎞ 2 ( 2 − C ) • e ⎛ 1 ⎞ 2 ⎤ 2 2 α 0 = α k + α t = ⎢⎜ +⎜ ⎟ ⎟ ⎥ DC ⎠ π L0τ 0ts ⎝ m0 f 0′ ⎠ ⎥ ⎢ ⎝ ⎣ ⎦
⑤确定目镜焦距 f0' 对于选用的像管,线放大率β=1
γ=
β f o′ f e′
f e′ =
β f o′
100 = 25mm γ = 1× 4
⑥确定目镜视场角
tan ω ω′ = arctan(γ tanω) = arctan(4 tan 6.25� ) = 23.66�

光电成像基本知识深刻复习指南(含答案解析)

光电成像基本知识深刻复习指南(含答案解析)

复习指南注:答案差不多能在书上找到的都标注页数了,实在找不到的或者PPT上的才打在题后面了,用红色和题干区分。

特此感谢为完善本文档所做出贡献的各位大哥。

(页码标的是白廷柱、金伟其编著的光电成像原理与技术一书)1.光电成像系统有哪几部分组成?试述光电成像对视见光谱域的延伸以及所受到的限制(长波限制和短波限制)。

(辐射源,传输介质,光学成像系统,光电转换器件,信息处理装置。

P2-4)答:辐射源,传输介质,光学成像系统,光电转换器件,信息处理装置。

[1]电磁波的波动方程该方程电磁波传递图像信息物空间和像空间的定量关系,通过经典电磁场理论可以处理电磁波全部的成像问题[2]收到的限制:当电磁波的波长增大时,所能获得的图像分辨力将显著降低。

对波长超过毫米量级的电磁波而言,用有限孔径和焦距的成像系统所获得的图像分辨力将会很低。

因此实际上己排除了波长较长的电磁波的成像作用。

目前光电成像对光谱长波阔的延伸仅扩展到亚毫米波成像。

除了衍射造成分辨力下降限制了将长波电磁波用于成像外,用于成像的电磁波也存在一个短波限。

通常把这个短波限确定在X 射线(Roentgen 射线)与y 射线(Gamma 射线)波段。

这是因为波长更短的辐射具有极强的穿透能力,所以,宇宙射线难以在普通条件下聚焦成像。

2.光电成像技术在哪些领域得到广泛的应用?光电成像技术突破了人眼的哪些限制?(P5)答:[1]应用:(1)人眼的视觉特性(2)各种辐射源及目标、背景特性(3)大气光学特性对辐射传输的影响(4)成像光学系统(5)光辐射探测器及致冷器(6)信号的电子学处理(7)图像的显示[2]突破了人眼的限制:(1)可以拓展人眼对不可见辐射的接受能力(2)可以拓展人眼对微弱光图像的探测能力(3)可以捕捉人眼无法分辨的细节( 4)可以将超快速现象存储下来3.光电成像器件可分为哪两大类?各有什么特点?(P8)固体成像器件主要有哪两类?(P9,CCD CMOS)答:[1]直视型:用于直接观察的仪器中,器件本身具有图像的转换、增强及显示等部分,可直接显示输出图像,通常使用光电发射效应,也成像管.[2]电视型:于电视摄像和热成像系统中。

北京理工大学考研《光学工程》复试题——回忆版

北京理工大学考研《光学工程》复试题——回忆版

北京理工大学考研《光学工程》复试题——回忆版第一篇:北京理工大学考研《光学工程》复试题——回忆版专业课笔试应用光学 25分1.光线的概念、光线与波面的关系2.光学系统中常用的基面与基点有哪些,作图表示3照相物镜的相对孔径?显微物镜的数值孔径?4望远镜的工作原理?望远镜的视场放大率、角放大率和垂轴放大率之间的关系5计算题:已知显微物镜的垂轴放大率和共轭距离求物镜的焦距;已知目镜的放大倍数求目镜的焦距;求显微镜的组合焦距3.近视和远视各有什么特点4.计算题高斯公式简单应用5.MTF简单计算电子技术 251.单管放大电路有哪几种基本接法?对电流、电压的放大能力如何2.滤波器的功能及常用滤波器有哪些3.直流负反馈有什么作用?交流负反馈各在什么条件下引入?4.简单的线性运放计算5.画出5V直流电源的连接图(整流,滤波,稳压的连接)6.A/D的转换精度计算1.TTL与COMS的区别2.桥式整流+3端稳压管连线3.直流负反馈和交流负反馈的作用,对电路参数的影响4.A/D,D/A转换的一些基本概念5.时序逻辑电路有什么特点,举3种时序电路常用器件光电技术 251.填空:光电效应光电发射效应内光电效应,光子效应?内光电效应?外光电效应?2.判断题:CCD的构成及传输时的一些参数的影响(4道)光学系统调焦,判断哪些是白噪声3.问答:常用的光电探测系统的组成框图及简要说明4.问答:常用的红外探测器有哪些?说说其原理,并比较其优缺点5.问答:用什么器件或手段能将二维图像信号转为视频信号输出?(摄像器件)计算机基础 251.填空二进制转化为十进制和十六进制2.填空:多媒体中图像的保存及传输时间的计算(3个空)3.问答:微机中常用的总线及功能简单描叙4.问答:微机常用的接口有哪些,并说说其功能5.问答:ROM、EPROM、RAM、DRAM各代表什么含义,有什么区别?1用C语言编程,找出100到200之间的素数2计算机的硬件有哪些?简述其功能3反码,补码的计算,两数相加时是否溢出?数电和模电和应光好好看,微机原理及接口技术和光电器件及理论看看就行面试题什么叫自适应光学?什么叫视场?透镜的参数(孔径,焦距,相对孔径)什么是约翰逊准则?电话是谁发明的?有线电报无线电报是谁发明的?还问过:物光的知识(爱里斑,菲涅尔反射透射,P`S波的振动方向),毕业论文,参加过的科技活动,激光是怎么产生的英语面试自我介绍介绍自己的家乡大学学过的课程其他同学被问的的问题:怎样看待光学工程,天空为什么是蓝色的记得题型是12道题先5道,内容有激光原理、物理光学、电子技术基础、大学物理。

光电成像原理复习指南(含答案)

光电成像原理复习指南(含答案)

复习指南注:答案差不多能在书上找到的都标注页数了,实在找不到的或者PPT上的才打在题后面了,用红色和题干区分。

特此感谢为完善本文档所做出贡献的各位大哥。

(页码标的是白廷柱、金伟其编著的光电成像原理与技术一书)1.光电成像系统有哪几部分组成试述光电成像对视见光谱域的延伸以及所受到的限制(长波限制和短波限制)。

(辐射源,传输介质,光学成像系统,光电转换器件,信息处理装置。

P2-4)答:辐射源,传输介质,光学成像系统,光电转换器件,信息处理装置。

[1]电磁波的波动方程该方程电磁波传递图像信息物空间和像空间的定量关系,通过经典电磁场理论可以处理电磁波全部的成像问题[2]收到的限制:当电磁波的波长增大时,所能获得的图像分辨力将显著降低。

对波长超过毫米量级的电磁波而言,用有限孔径和焦距的成像系统所获得的图像分辨力将会很低。

因此实际上己排除了波长较长的电磁波的成像作用。

目前光电成像对光谱长波阔的延伸仅扩展到亚毫米波成像。

除了衍射造成分辨力下降限制了将长波电磁波用于成像外,用于成像的电磁波也存在一个短波限。

通常把这个短波限确定在X 射线(Roentgen 射线)与y 射线(Gamma 射线)波段。

这是因为波长更短的辐射具有极强的穿透能力,所以,宇宙射线难以在普通条件下聚焦成像。

2.光电成像技术在哪些领域得到广泛的应用光电成像技术突破了人眼的哪些限制(P5) 答:[1]应用:(1)人眼的视觉特性(2)各种辐射源及目标、背景特性(3)大气光学特性对辐射传输的影响(4)成像光学系统(5)光辐射探测器及致冷器(6)信号的电子学处理(7)图像的显示[2]突破了人眼的限制:(1)可以拓展人眼对不可见辐射的接受能力(2)可以拓展人眼对微弱光图像的探测能力(3)可以捕捉人眼无法分辨的细节( 4)可以将超快速现象存储下来3.光电成像器件可分为哪两大类各有什么特点(P8)固体成像器件主要有哪两类(P9,CCD CMOS)~答:[1]直视型:用于直接观察的仪器中,器件本身具有图像的转换、增强及显示等部分,可直接显示输出图像,通常使用光电发射效应,也成像管.[2]电视型:于电视摄像和热成像系统中。

光电知识点总结及答案

光电知识点总结及答案

光电知识点总结及答案光电效应光电效应是指当金属或半导体受到光照射时,由于光子的能量传递给材料内的电子,导致电子从材料中逸出的现象。

光电效应是量子物理的经典实验之一,对于理解光的粒子性质和电子的波动性质具有重要意义。

光电效应的基本原理是根据光子的能量和频率与电子结合能之间的关系来解释的。

当光子的能量大于材料内的电子结合能时,光子能量会将电子激发到足够大的能级,从而导致电子释放。

光电效应在物理学、光电子学、半导体工业等领域具有广泛的应用价值。

光电池光电池是利用光电效应将光能转化为电能的装置。

光电池的工作原理是当光线照射到光电池上时,光子传递能量给半导体内的电子,导致电子从半导体中逸出,并形成电流。

光电池是一种清洁、可再生的能源技术,具有广泛的应用前景。

光电池的种类有很多,包括硅光电池、多晶硅光电池、无机光电池、有机光电池等。

其中,硅光电池是目前应用最广泛的一种,其主要原材料是硅(Si),在光照下能够将光能转化为电能。

有机光电池则采用有机分子作为半导体材料,具有制作成本低、柔性化等特点。

光电二极管光电二极管是一种将光信号转化为电信号的装置,也叫做光探测器。

它是利用半导体材料在光照射下发生光电效应的原理制成的。

当光线照射到光电二极管上时,光子的能量会使电子从半导体中逸出,导致电荷产生,从而产生电流。

光电二极管在光通信、遥感、光电转换等领域都有着重要的应用。

随着电子技术的发展,光电二极管的性能和稳定性也在不断提高,从而推动了光电信号检测和处理技术的进步。

光电子技术光电子技术是指利用光电效应和光电器件进行信息获取、处理和传输的技术。

它涵盖了光纤通信、光电传感、光电显示等诸多领域。

光电子技术的发展极大地推动了信息通信技术和生物医疗技术的进步。

光纤通信是利用光纤作为传输介质的通信技术,具有传输速度快、带宽大、抗干扰能力强等优点,被广泛应用于通信网络中。

光电传感则是利用光电效应将光信号转化为电信号来进行检测和测量。

光电技术课后习题和答案

光电技术课后习题和答案
光电技术第一章参考答案
辐射度量与光度量的根本区别是什么?为什么量子流速率的计算公式中不 能出现光度量? 答:为了定量分析光与物质相互作用所产生的光电效应,分析光电敏感器件的光 电特性,以及用光电敏感器件进行光谱、光度的定量计算,常需要对光辐射给出 相应的计量参数和量纲。辐射度量与光度量是光辐射的两种不同的度量方法。根 本区别在于:前者是物理(或客观)的计量方法,称为辐射度量学计量方法或辐 射度参数,它适用于整个电磁辐射谱区,对辐射量进行物理的计量;后者是生理 (或主观)的计量方法,是以人眼所能看见的光对大脑的刺激程度来对光进行计 算,称为光度参数。因为光度参数只适用于 0.38~0.78um 的可见光谱区域,是对 光强度的主观评价,超过这个谱区,光度参数没有任何意义。而量子流是在整个 电磁辐射,所以量子流速率的计算公式中不能出现光度量。 光源在给定波长λ处,将λ~λ+dλ范围内发射的辐射通量 dΦe,除以该 波长λ的光子能量 hν,就得到光源在λ处每秒发射的光子数,称为光谱量子流 速率。 2 试写出 e 、 M e 、 e 、 Le 等辐射度量参数之间的关系式,说明它们与辐射源的关系。 答:辐(射)能 Qe :以辐射形式发射、传播或接收的能量称为辐(射)能,用 符号 Qe 表示,其计量单位为焦耳(J) 。 辐(射)通量 e :在单位时间内,以辐射形式发射、传播或接收的辐(射)能称 为辐(射)通量,以符号 e 表示,其计量单位是瓦(W) ,即 1
v ,
2
所以发光强度 I v , = 光出射度 M v , =
v ,

= 0.4815/(8.17×10-7)=5.89×105cd
v ,
d 2
2
= 0.4815/(π×(0.001/2)2)=6.13×105lx

光电成像原理与技术第四章课后题答案

光电成像原理与技术第四章课后题答案

光电成像原理与技术第四章课后题答案在光电成像中,传感器的工作原理和光学成像基本相同,只是在特定条件下,传感器产生的光信号有不同的传播方向。

在光电成像中,传感器的信号由光电探测器接收。

通过光电探测器和光电传感器接收到的光信号经过光电探测器和光电传感器所构成的二维网络,然后通过二维网络传输到成像单元中储存信号。

光学成像采用像素(pixels)二维连续成像技术。

像素是指根据光子传播方向和位置,可以直接地将成像过程分为两个部分:光路部分和成像单元(pixels)。

光路部分包括光路光源与反射光(如可见光)相互作用的过程;成像单元是由二个或更多块光路组合而成,用来接收和显示从可见光到近红外所发生的各种波长(包括可见光、红外线和紫外线)传输过来的光信号。

每一个部分都由光源、反射镜和探测器三部分组成。

1.选择正确的光源光源有直接光源和间接光源两种。

直接光源指通过灯管发光的光源,如荧光灯、卤素灯等。

直接光源的亮度一般为400~1000 lm/m2。

间接光源是指利用光的辐射原理来发出光源所需各种光学元件、结构或器件时所采用的光。

例如发光二极管(LED)、激光二极管(Light-Emitting Cables)、红外 CCD灯等。

间接光源既可以直接用在光源上直接显示图像,也可以用在非直接光源上显示图像。

需要注意的是,间接光源与直接光源在工作原理上有许多不同之处。

一方面,间接光源通过光管发光但亮度不高,而直接光源通过光管不发光(如 CCD灯)且亮度可调。

另一方面,直视光源产生成像图像时还会产生一些影响图像亮度的非视场角(如 CCD灯),这会影响图像中感光元件发出的光密度。

2.光源为光电探测器提供良好的照明和热输出光源是光电探测器的直接光源,其作用是通过将光通过光路而将反射光吸收,并通过反射光产生可见光信号。

可见光光子在波长为200~400 nm范围内的波长范围内传播时有一定的散射系数。

所以需要为探测器提供良好的照明,以保证探测器的正常工作。

北京理工大学光学工程专业物理光学课件与习题答案

北京理工大学光学工程专业物理光学课件与习题答案

a0 a0 2
4
rect
b0
a
f , f
a0b0exp
j 0
2
sinc
a0 x
2 f
cos
a0x 2 f
0
2
sinc
b0
y f
E x,
y
a0b0
j f
exp
j
f
x2 y2 2f
0
2
sinc
a0
2
x f
cos
a0x 2 f
④ 对于夫琅和费衍射: E (P) (x, y), E (P) E (P) (x, y) (x, y) (当x y 0) E (P) E (P)(当x and (or) y 0)

(x, y) (x y 0)
L L (x, y)(x y 0以外的一切点)
⑤ 菲涅耳衍射:公式 E (P) E (P) E (P) 仍然成立,但
3.直边夫琅和费衍射
A step
E x, y
1
j f
exp jk
f
x2 2f
y2
f j2
x
1 2
x
f
y
f
1
L
x,
y
4
2
x
2
(当x, y 0)
x, y 当x=y=0
4.位相物体的夫琅和费衍射
A
,
rect
a0 a0 2
4
exp
j0
rect
Hole
Diffraction
pattern pattern
Square holes
Round holes
Moon coronas are due to diffraction.
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

第一章5.光学成像系统与光电成像系统的成像过程各有什么特点?在光电成像系统性能评价方面通常从哪几方面考虑?答:a、两者都有光学元件并且其目的都是成像。

而区别是光电成像系统中多了光电装换器。

b、灵敏度的限制,夜间无照明时人的视觉能力很差;分辨力的限制,没有足够的视角和对比度就难以辨认;时间上的限制,变化过去的影像无法存留在视觉上;空间上的限制,隔开的空间人眼将无法观察;光谱上的限制,人眼只对电磁波谱中很窄的可见光区感兴趣。

6.反映光电成像系统光电转换能力的参数有哪些?表达形式有哪些?答:转换系数:输入物理量与输出物理量之间的依从关系。

在直视型光电成像器件用于增强可见光图像时,被定义为电镀增益G1,光电灵敏度:或者:8.怎样评价光电成像系统的光学性能?有哪些方法和描述方式?答,利用分辨力和光学传递函数来描述。

分辨力是以人眼作为接收器所判定的极限分辨力。

通常用光电成像系统在一定距离内能够分辨的等宽黑白条纹来表示。

光学传递函数:输出图像频谱与输入图像频谱之比的函数。

对于具有线性及时间、空间不变性成像条件的光电成像过程,完全可以用光学传递函数来定量描述其成像特性。

第二章6.影响光电成像系统分辨景物细节的主要因素有哪些?答:景物细节的辐射亮度(或单位面积的辐射强度);景物细节对光电成像系统接受孔径的张角;景物细节与背景之间的辐射对比度。

第三章13.根据物体的辐射发射率可见物体分为哪几种类型?答:根据辐射发射率的不同一般将辐射体分为三类:黑体,=1;灰体,<1,与波长无关;选择体,<1且随波长和温度而变化。

14.试简述黑体辐射的几个定律,并讨论其物理意义。

答:普朗克公式:普朗克公式描述了黑体辐射的光谱分布规律,是黑体理论的基础。

斯蒂芬-波尔滋蔓公式:表明黑体在单位面积上单位时间内辐射的总能量与黑体温度T的四次方成正比。

维恩位移定律:他表示当黑体的温度升高时,其光谱辐射的峰值波长向短波方向移动。

最大辐射定律:一定温度下,黑体最大辐射出射度与温度的五次方成正比。

第五章1、像管的成像包括哪些物理过程?其相应的理论或实验依据是什么?(1)像管的成像过程包括3个过程A、将接收的微弱的可见光图像或不可见的辐射图像转换成电子图像B、使电子图像聚焦成像并获得能量增强或数量倍增C、将获得增强后的电子图像转换成可见的光学图像(2)A过程:外广电效应、斯托列夫定律和爱因斯坦定律B过程:利用的是电子在静电场或电磁复合场中运动规律来获得能量增强;或者利用微通道板中二次电子发射来增加电子流密度来进行图像增强C过程:利用的是荧光屏上的发光材料可以将光电子动能转换成光能来显示光学图像2、像管是怎么分代的?各代的技术改进特点是什么?(1)A、零代微光像增强器技术B、一代级联式像增强器技术C、采用微通道板(MCP)的二代像增强器D、采用负电子亲和势光阴极的三代像增强器E、超二代像增强器F、超三代像增强器G、第四代像增强器(2)①一代和零代的区别在于一代像增强其采用了光学纤维面板将多级耦合起来,形成级联式的像增强器,一般为得到正像,耦合级数多取奇数,通常微三级②二代和一代的根本区别在于:它不是采用多级级联实现光电子图像倍增,而是采用在单级像增强器中设置MCP来实现光电子图像倍增。

③三代和二代近贴式像管类似,其根本区别在于光阴极,但对MCP也提出了更高的性能要求。

二代采用的是表面具有正电子亲和势的多晶薄膜结构的多碱光阴极,三代采用的则是负电子亲和势光阴极,因此三代具有高增益、低噪声的有点。

11、光电发射为什么会存在极限电流密度?试分析并导出连续工作条件下和脉冲工作条件下的极限电流密度表达式。

(1)在工作状态下,像管维持光电发射要依赖于光阴极的真空界面有向内的电场场强,这一电场是由电子光学系统提供的。

光阴极的光电发射将产生空间电荷,此空间电荷所形成的附加电场与电子光学系统的电场方向相反。

随着光电发射电流密度的增大,空间电荷的电场会增加到足以抵消电子光学系统所提供的电场。

如果忽略光电子的初速度,当光阴极画的法向场强为零时,光电发射就要受到限制,这时像管的光电发射将呈饱和状态。

这一电流密度称之为光电发射的极限电流密度。

(2)见P159~P16018、什么样的透镜叫短透镜?导出短透镜的焦距公式并分析其成像性质。

答:(1)把对电子起有效作用的场——透镜的作用区间限于一个有限的空间范围内,称此空间位透镜空间,在此空间内,电子轨迹在场的作用下是连续变化的,而物与像则位于透镜场外,透镜场外的空间位等位空间。

这种做了理想化的电子透镜称为短透镜(或薄透镜)。

(2)短透镜的焦距公式的推导见书P179~P180(包括像方焦距和物方焦距)成像性质:①透镜作用区域较之透镜到物、像距离小得多,比焦距小得多,物、像、焦距均在场外。

②场划分为三个区域,物空间,透镜空间,像空间,在物、像空间,电位固定不变,电子轨迹为直线③Φ’’(z)>0时透镜是会聚的(f为正),φ’’(z)<0时透镜是发散的(f为负),且f与φ’’(z)成反比,即φ’’(z)越大f越小,会聚本领越强20、什么是荧光?什么是磷光?答:晶态磷光体在受电子激发时产生的光发射称为荧光。

停止电子激发后持续产生的光发射称为磷光。

21.荧光屏表面蒸镀铝膜的作用是什么?(P185)在荧光屏的表层上蒸镀一层铝膜,厚度约为0.1um,其作用为:引走积累的负电荷;防止光反馈给光阴极;使荧光屏形成等电位;将光反射到输出方向。

22.受激辐射可见光的条件是什么?(p185)受激辐射可见光的条件是电子跃迁的能级差必须与可见光光子的能量相同。

25.荧光屏的转换效率与哪些因素有关?为什么说图像分辨力和发光效率对荧光粉颗粒度的要求是相互矛盾的?(p192)荧光屏的转换效率与制作荧光屏本身的材料—晶态磷光体的转换效率有关,还与屏的粉层厚度、粒度、入射电子的能量及铝膜的影响等因素有关。

一般,粒度越大转换效率越高。

但是,过厚的荧光屏将降低输出图像的分辨力。

厚度的增加会导致光扩散的增大,分辨力将随之下降。

因此,粒度应该适当。

通常选取颗粒直径与荧光屏厚度相近,这样可获得发光效率与图像分辨力的最佳组合。

26.光纤面板(OFP)的传像原理是什么?像管应用光纤面板有什么优点?(p193)光纤面板是基于光线的全反射原理进行传像的,由于光导纤维的芯料折射率高于皮料的折射率,因此入射角小于全反射临界角的全部光线都只能在内芯中反射。

所以每一根光导纤维能独立地传递光线,且相互之间不串光。

由大量光导纤维所组成的面板则可以传递一幅光学图像。

光纤面板使像增强器获得以下优点:①增加了传递图像的传光效率;②提供了采用准球对称电子光学系统的可能性,从而改善了像质;③可制成锥形光纤面板或光学纤维扭像器。

32.为什么MCP大多采用斜通道或弯曲通道的形式?(196、205)通常MCP不垂直于端面,而具有7°—15°的斜角。

一方面可提高通道内的二次电子发射次数,另一方面也可使正离子不能穿出通道,消除或减少离子反馈。

P2448.夜视成像系统对物镜的基本要求是什么?(p213)夜视成像系统对物镜的基本要求大致有以下几点:①大的同光口径和相对孔径。

②小的渐晕。

③宽光谱范围的色差校正。

④物镜有好的调制传递特性。

⑤最大限度的消除杂散光,杂散光对低信噪比的光电成像的影响比较明显,减小物镜的杂散光可减小像质的变坏。

⑥在红外光学系统中,必须同时可虑聚光系统和扫描系统。

⑦尽可能减小被动红外系统中冷反射所产生的图像缺陷。

第六章9.成像物镜主要分为哪几种类型?各种类型的典型形式是怎样的?答:光电成像系统用物镜系统分为三类:折射系统、反射系统和折反射系统。

(1)光电成像系统中常用折射物镜有双高斯型和匹茲伐型。

双高斯结构是微光成像系统中大相对孔径的基本型,由于这种结构较容易在较宽光谱范围内修正像差,属于基本对称型结构,使轴外像差能自动抵消。

在仪器视场不大的情况下,可用匹茲伐型物镜,其基本结构是两个正光焦度的双胶透镜,结构简单,球差和慧差校正较好,但视场加大时场曲严重。

(2)反射物镜分为单反射镜和双反射镜。

最常见的是双反射镜。

单反射镜分为球面镜喝非球面镜(抛物面、椭球面和双曲面镜)系统。

球面反射镜和抛物面反射镜可单独使用,椭球面和双曲面反射镜由于其光学焦点和几何焦点不重合,慧差大,像质欠佳,通常和其他反射镜组合成双反射镜系统。

(3)把反射镜的主镜和次镜都采用球面镜,而用加入补偿透镜的方法校正球面镜的球差,构成折反射物镜系统。

折反射物镜可实现大口径长焦距,常用的折反射物镜有施密特系统、曼金折反射镜、包沃斯-马克苏托夫系统以及包沃斯-卡塞格伦系统。

10.红外物镜相对于可见光物镜有什么不同?答:(1)大的通光孔径和相对孔径。

限制微光成像系统视见能力的主要因素之一是来自景物的辐射噪声。

加大物镜的孔径能最大限度地接收来自目标的辐射,获得大的靶面照度,即大的通光孔径有利于提高微光系统的信噪比。

(2)小的渐晕。

(3)宽光谱范围的色差校正。

校正色差的光谱范围取决于系统光谱响应波段,对主动红外成像系统为0.65~1.2微米(,对微光成像系统为0.4~0.9微米,对热成像系统为1.5~14微米)。

(4)物镜有好的调制传递特性。

像管为低通滤波器,目前的极限分辨力为30~70lp/mm,通常要求物镜在10lp/mm的空间频率时MTF不低于75%。

(5)最大限度地消除杂散光,杂散光对低信噪比的光电成像的影响比较明显,减小物镜的杂散光可减小像质的变坏。

(6)在红外光学系统中,必须同时考虑聚光系统和扫描系统。

(7)尽可能减小被动红外系统中冷反射所产生的图像缺陷。

11、在直视型成像系统中对目镜的基本要求是什么?答12、像管直流高压电源的特点是什么?其主要包括哪几部分?答:特点(1)提供稳定的直流高压,使像管工作时保持合适的输出亮度;(2)性能稳定,在高低温环境下保证仪器正常工作;(3)实现自动亮度控制(ABC)功能;(4)对于选通系统,应提供选通周期、脉宽以及延时可调的选通电压;(5)对自动快门,能够根据像管电流自动调整工作电压的占空比;(6)防潮、防震、体积小、质量轻、耗电省。

包括以下几个部分:直流低压电源、晶体管变换器、升压变压器、倍压整流电路以及稳压电路。

13、试以二倍压电路为例,说明倍压电路的工作原理。

答:把变压器次级绕组上的交流高压整流并倍压到所需直流高压的过程。

变压器T的次级绕组输出峰值电压为V2的交流,则:(1)正半周:假设T的输出端上负、下正,则D2因反向偏置截止,D1回路导通,对C1充电,在正半周结束前,C1两端电压为V2;(2)负半周:T的输出端上正、下负,则D1因反向偏置截止,D2回路导通,对C2充电,在负半周结束前,C2两端电压为2倍V2,送至输出端口为2倍V2的直流。

相关文档
最新文档